JP2003262971A - 電子写真感光体の製造方法、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 繰り返し使用に伴う電気特性の低下を十分に
防止することのできる高い耐久性と高い解像品質を有す
るの製造方法並び電子写真感光体、プロセスカートリッ
ジ及び電子写真装置の提供。 【解決手段】 導電性支持体層３と、顔料を含む感光層
６と、導電性支持体層と感光層との間に配置される下引
層４と、を有しており、かつ、下引層には、加水分解性
の官能基を有する有機金属化合物を用いて表面処理され
た金属酸化物粒子が含有されている電子写真感光体１０
０の製造方法であって、表面処理された金属酸化物粒子
として１．０×１０^-6≦（Ｉ１／Ｉ２）≦１．０×１０
^-3 で表される条件を満たすものを用いて下引層を形成
する。Ｉ１は表面処理された金属酸化物粒子に対する蛍
光Ｘ線分析から得られる有機金属化合物を構成する金属
元素の特性Ｘ線強度、Ｉ２は表面処理された金属酸化物
粒子を構成する金属元素の特性Ｘ線強度を示す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真感光体の
製造方法、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び
電子写真装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年電子写真感光体は、高速、かつ高印
字品質が得られるという利点を有するため、複写機及び
レーザービームプリンター等の分野において多く利用さ
れている。これら電子写真装置において用いられる電子
写真感光体として、従来からのセレン、セレンーテルル
合金、セレンーヒ素合金、硫化カドミウム等無機光導電
材料を用いた電子写真感光体に比べ、安価で製造性及び
安全性の点で優れた利点を有するフタロシアニン系の顔
料等の有機光導電材料を電荷発生物質として含有した電
子写真感光体が主流を占める様になってきている。

【０００３】このような感光体の中でも、露光により電
荷を発生する電荷発生層と電荷を輸送する電荷輸送層と
からなる感光層を有する機能分離型感光体は、感度・帯
電性及びその繰り返し安定性等、電子写真特性の点で優
れており、種々の構成の提案が成され、実用化されてい
る。

【０００４】この機能分離型感光体の場合、現在ではア
ルミニウム基材等の導電性支持体層上に下引層を形成
し、その後、下引層上に電荷発生層及び電荷輸送層を順
次形成する場合が多い。

【０００５】特に、近年、電子写真装置においては、コ
ロトロンに代わりオゾン発生が少ない接触帯電方式の帯
電装置が用いられるようになってきている。そして、電
子写真装置に搭載されている感光体の感光層における電
荷発生物質（顔料）の分散状態が不均一である場合、導
電性支持体層の表面に凹凸や汚れがある場合、導電性支
持体層上に塗工により形成される下引層や感光層が塗膜
むら等により厚さが塗工された領域の全域にわたり均一
でない場合、或いは、感光層中に異物が混入している場
合等、感光体に局所的な欠陥部位がある場合に、接触帯
電時に感光体の欠陥部位に局所的に高電場がかかり、電
気的なピンホールを生じ、これが画質欠陥となるという
問題があった。

【０００６】また、上記のピンホールリークは、電子写
真装置の作動中において、該装置を構成する部材から発
生するカーボンファイバーやキャリア粉等の導電性の異
物やゴミが感光体に接触又は感光体中に貫入することに
よっても発生する場合があった。

【０００７】上述した画像の画質欠陥の発生を防止して
感光体の繰り返し使用に対する画質の安定性や環境安定
性の改善するためには、感光層の性能向上のみならず感
光層の下地となる下引層の性能向上も必要とされてお
り、繰り返し使用による電荷蓄積性の少ない下引層の実
現が求められている。

【０００８】そのため、導電性支持体層（基材）の欠陥
を隠蔽しつつ残留電位の上昇等を改善して安定な電気特
性を得るために、導電性微粉末を含有させた層を導電性
支持体層上に形成した感光体を形成する方法の検討が行
われている。

【０００９】このような方法としては、例えば、アルミ
ニウム基材等の導電性支持体層上に導電性微粉末を含有
させた層を形成し、更にこの導電性微粉末を含有させた
層上に従来の下引層と同様の構成を有する層を形成した
２層構造の下引層を有する感光体を形成する方法が、例
えば、特開平３−４５９６１号公報に提案されている。
この方法の場合は、導電性微粉末を含有させた層に導電
性支持体層の表面の凹凸や汚れ等の欠陥の隠蔽を行わせ
るとともに電気抵抗の調整を行わせ、従来の下引層と同
様の構成を有する層にブロッキング（電荷注入制御）機
能を持たせている。

【００１０】また別の方法としては、導電性支持体層上
に導電性微粉末を含有させた層のみを下引き層として形
成し、この層に上述のブロッキング機能と抵抗調整機能
とを両有させた構成を有する感光体を形成する方法があ
り、例えば、このような感光体及びその製造方法は、特
開平９−２５８４６９号公報、特開平９−９６９１６号
公報及び特開２００１−７５２９６号公報に開示されて
いる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の電子写真感光体は、繰返し使用に耐え得る十分な
電気特性を得ることが未だ不十分であり、電子写真感光
体を繰り返し使用するときに、残留電位の上昇によって
画像上に黒点等のかぶりが発生する問題があった。

【００１２】すなわち、上述の特開平３−４５９６１号
公報に記載の２層構造の下引層を有する電子写真感光体
はリーク耐性に劣るため先に述べたピンホールリークが
生じ易く、そのため感光体の帯電性が低下し、繰返し使
用にともなって画像濃度が低下する問題があった。更
に、この場合、２層構造のため感光体の製造に手間とコ
ストがかかっていた。

【００１３】また、上述の特開平９−２５８４６９号公
報、特開平９−９６９１６号公報及び特開２００１−７
５２９６号公報に記載の電子写真感光体は、下引層は単
層の構造であるため感光体の製造プロセスを簡略化する
ことができコストも低減できるが、抵抗制御の機能と電
荷注入制御の機能を１つの層に合わせて備える必要があ
り、下引層の構成材料を選択する上での制約があった。

【００１４】また、下引層のリーク耐性を高めてピンホ
ールリークの発生を防止する観点からは、下引層の層厚
を厚くすること（以下、厚膜化という）が有効である
が、厚膜化するためには良好な電気特性を得るため下引
層の電気抵抗を低減する必要がある。しかし、電気抵抗
を低減すると、電荷のブロッキング機能が低下し、カブ
リ等の画質欠陥の発生を増大させる傾向にある。また、
層厚の大きな下引層は形成することが困難となったり、
形成後の機械的強度が不十分となるという問題があっ
た。更に、下引層の層厚を大きくすると感光体の感度が
低下する問題があった。

【００１５】そのため、これまで酸化チタン粒子などの
導電性の金属酸化物粒子を含有させた下引層の層厚は
０．０１〜２０μｍ程度の範囲にとどまっており、例え
ば、特開平９−２５８４６９号公報、特開平９−９６９
１６号公報及び特開２００１−７５２９６号公報に記載
の電子写真感光体の下引層の層厚は上述の理由から２０
μｍよりも大きくすることは好ましくないとされてい
る。

【００１６】本発明は上記従来技術の有する課題に鑑み
てなされたものであり、繰り返し使用に伴う電気特性の
低下を十分に防止することのできる高い耐久性と高い解
像品質を有する電子写真感光体の製造方法並びにこれに
より得られる電子写真感光体、プロセスカートリッジ及
び電子写真装置を提供することを目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、下引層中の金属酸
化物微粒子の分散状態は下引層の膜抵抗に大きな影響を
与えており、所望の膜抵抗値を有する良好な電気特性を
有する下引層を得るには金属酸化物微粒子の分散状態を
コントロールすることが重要であることを見出した。

【００１８】例えば、金属酸化物微粒子を上記の表面処
理を行わずに下引層中に分散させる場合、下引層の膜抵
抗値は置かれている環境により変動が大きく、例えば、
多湿条件下では膜抵抗値の低下が発生し、低湿条件下で
は膜抵抗値の上昇が発生する。このように、置かれてい
る環境によって下引層の膜抵抗値が大きく変動すると、
これを備える電子写真感光体の、画像品質、画質維持性
及びリーク耐性に重大な欠陥を与えることになる。

【００１９】更に、本発明者らは、金属酸化物粒子を加
水分解性の官能基を有する有機金属化合物により表面処
理する際の金属酸化物粒子と表面処理剤となる有機金属
化合物との混合比が、下引層中の金属酸化物微粒子の分
散状態に大きな影響を及ぼしており、ひいては、下引層
の電気特性、これを備える電子写真感光体の電気特性に
大きな影響をおよぼしていることを見出した。

【００２０】そして本発明者らは、上記の金属酸化物粒
子と有機金属化合物との混合比と電子写真感光体の電気
特性とについて、これまで当業者が着目していなかった
表面処理後の金属酸化物粒子に対する蛍光Ｘ線分析デー
タに着目して検討したところ、表面処理に用いられた有
機金属化合物を構成する金属元素の特性Ｘ線強度Ｉ１
と、表面処理された金属酸化物粒子を構成する金属元素
の特性Ｘ線強度Ｉ２との比「Ｉ１／Ｉ２」が特定の範囲
の条件を満たす構成を有する金属酸化物粒子（表面処理
済みのもの）を選択的に用いた場合に、下引層中の金属
酸化物微粒子の分散状態を容易に向上させることができ
ることを見出した。そしてこの場合に、下引層の膜抵抗
値の環境変動を充分に抑制でき、下引層の電気特性及び
これを備えた電子写真感光体の電気特性を容易かつ再現
性よく向上させることができることを本発明者らは見出
し、本発明に到達した。

【００２１】すなわち、本発明は、導電性支持体層と、
顔料を含む感光層と、導電性支持体層と感光層との間に
配置される下引層と、を有しており、かつ、下引層に
は、加水分解性の官能基を有する有機金属化合物を用い
て表面処理された金属酸化物粒子が含有されている電子
写真感光体の製造方法であって、下記式（１）で表され
る条件を満たす前記表面処理された金属酸化物粒子を用
いて下引層を形成すること、を特徴とする電子写真感光
体の製造方法を提供する。 １．０×１０^-6≦（Ｉ１／Ｉ２）≦１．０×１０^-3・・・（１） ［式（１）中、Ｉ１は、表面処理された金属酸化物粒子
に対する蛍光Ｘ線分析から得られる有機金属化合物を構
成する金属元素の特性Ｘ線強度を示し、Ｉ２は、表面処
理された金属酸化物粒子を構成する金属元素の特性Ｘ線
強度を示す。］

【００２２】なお、本明細書中では、加水分解性の官能
基を有する有機金属化合物（以下、「加水分解性有機金
属化合物」という）を用いて表面処理された後の金属酸
化物粒子を「金属酸化物粒子Ａ」という。また、金属酸
化物粒子Ａに対して表面処理される前の金属酸化物粒子
を「金属酸化物粒子Ｂ」という。従って、金属酸化物粒
子Ａは、金属酸化物粒子Ｂの表面の一部又は全部に加水
分解性有機金属化合物を原料とする被膜が形成された状
態の粒子を示す。そのため、金属酸化物粒子Ａに対して
行われる蛍光Ｘ線分析から得られる金属酸化物粒子Ａを
構成する全ての金属元素の特性Ｘ線には、金属酸化物粒
子Ｂを構成していた金属元素の特性Ｘ線と、加水分解性
有機金属化合物を構成していた金属元素の特性Ｘ線とが
含まれる。

【００２３】ここで、本発明において、「特性Ｘ線強度
Ｉ２」とは、金属酸化物粒子Ａに対して行われる蛍光Ｘ
線分析から得られる金属酸化物粒子Ａを構成する全ての
金属元素の特性Ｘ線のうち金属酸化物粒子Ｂを構成して
いた金属元素の特性Ｘ線の強度を示す。なお、金属酸化
物粒子Ｂを構成する金属元素が複数種ある場合には、各
金属元素の特性Ｘ線強度の総和が特性Ｘ線強度Ｉ２とな
る。また、金属酸化物粒子Ｂとして複数種の金属酸化物
粒子を原料とする場合にも各金属酸化物粒子を構成する
各金属元素の特性Ｘ線強度の総和が特性Ｘ線強度Ｉ２と
なる。

【００２４】また、本発明において、「特性Ｘ線強度Ｉ
１」とは、金属酸化物粒子Ａに対して行われる蛍光Ｘ線
分析から得られる金属酸化物粒子Ａを構成する全ての金
属元素の特性Ｘ線のうち、加水分解性有機金属化合物を
構成していた金属元素の特性Ｘ線の強度を示す。なお、
加水分解性有機金属化合物を構成する金属元素が複数種
ある場合には、各金属元素の特性Ｘ線強度の総和が特性
Ｘ線強度Ｉ１となる。また、複数種の加水分解性有機金
属化合物を原料とする場合にも各金属酸化物粒子を構成
する各金属元素の特性Ｘ線強度の総和が特性Ｘ線強度Ｉ
１となる。更に、本発明において、加水分解性有機金属
化合物を構成する金属元素にはケイ素も含まれるものと
する。

【００２５】本発明の電子写真感光体の製造方法によれ
ば、上述の式（１）の条件は、下引層の電気特性の向上
に直接影響する表面処理後の金属酸化物粒子Ａの組成及
び構造に基づく条件であるので、式（１）の条件を満た
す金属酸化物粒子Ａのみを選択的に下引層に含有させる
ことにより、下引層中の金属酸化物粒子Ａの分散状態を
容易且つ充分に均一にすることができる。そのため、繰
り返し使用に伴う電荷蓄積性の少ない優れた下引層を構
成することができる。更に、この下引層を用いることに
より、繰り返し使用に伴う電気特性の低下を十分に防止
することのできる高い耐久性と高い解像品質を有する電
子写真感光体を容易かつ確実に製造することができる。

【００２６】これまで、金属酸化物Ａの表面一部又は全
部に形成された被膜の組成や構造は未だ充分に解明され
ていないため、下引層中に含有させた場合に均一に分散
することができる金属酸化物粒子Ａの組成や構造を明確
に決定できていなかった。そのため、従来の電子写真感
光体の製造方法においては、得られた下引層の電気特性
及び電子写真感光体の電気特性の結果を金属酸化物Ａの
製造条件、つまり、金属酸化物粒子Ｂの表面処理条件
（例えば、金属酸化物粒子Ｂと加水分解性有機金属化合
物との混合比等）にフィードバックし、最適の電気特性
が得られたときの処理条件を決定していた。

【００２７】すなわち、従来の電子写真感光体の製造方
法では、金属酸化物粒子Ｂの表面処理条件をコントロー
ルするのみであったので、下引層に含有させたときに良
好に分散する金属酸化物粒子Ａを選択的に得ることがで
きず、所望の電気特性を有する下引層及び電子写真感光
体を再現性よく製造することができなかった。

【００２８】これに対して、本発明では、式（１）の条
件に基づいて金属酸化物粒子Ａを選択して使用するた
め、下引層に含有させたときの金属酸化物粒子Ａの分散
状態を直接コントロールして、良好な状態にすることが
できるので、従来よりも所望の電気特性を有する下引層
及び電子写真感光体を再現性よく確実に製造することが
できる。

【００２９】また、金属酸化物粒子Ａの蛍光Ｘ線分析は
比較的容易にでき、式（１）の条件を満たす金属酸化物
粒子Ａを選択して使用することも容易にできるので、電
子写真感光体の製造方法によれば、所望の電気特性を有
する下引層及び電子写真感光体を容易に製造することが
できる。

【００３０】更に、本発明の製造方法により得られる電
子写真感光体は、金属酸化物微粒子Ａが下引層中に均一
に分散させており、下引層の膜抵抗値の環境変動を充分
に抑制できるため、下引層を容易に厚膜化することがで
きる。例えば、下引層の層厚を例えば１５μｍ以上に調
節して形成することができる。このような厚膜化によ
り、下引層のリーク耐性を高めてピンホールリークの発
生を有効に抑制することが容易にできる。また、このよ
うな厚膜化により、電子写真感光体を使用中に異物が感
光層に付着しても、これが下引層を貫いて導電性支持体
層にまで混入することを有効に防止することができる。
従って、このような下引層を容易に厚膜化することがで
きるという観点からも、本発明の製造方法によれば、繰
り返し使用に伴う電気特性の低下を充分に防止すること
のできる高い耐久性と高い解像品質を有する電子写真感
光体を得ることができる。

【００３１】ここで、本発明において、Ｉ１／Ｉ２が
１．０×１０^-6未満となると、下引層から感光層（電荷
発生層）への電荷注入を抑制できなくなるためカブリな
どの画質欠陥の発生を防止できなくなる。一方、Ｉ１／
Ｉ２が１．０×１０^-3を超えると、下引層の抵抗値が高
くなりすぎるため、下引層の残留電位の上昇を充分に防
止できなくなる。

【００３２】また、本発明は、導電性支持体層と、顔料
を含む感光層と、導電性支持体層と感光層との間に配置
される下引層と、を有する電子写真感光体であって、下
引層には、加水分解性の官能基を有する有機金属化合物
を用いて表面処理された金属酸化物粒子が含有されてお
り、表面処理された金属酸化物粒子が、下記式（１）で
表される条件を満たしていること、を特徴とする電子写
真感光体を提供する。 １．０×１０^-6≦（Ｉ１／Ｉ２）≦１．０×１０^-3・・・（１） ［式（１）中、Ｉ１は、表面処理された金属酸化物粒子
に対する蛍光Ｘ線分析から得られる有機金属化合物を構
成する金属元素の特性Ｘ線強度を示し、Ｉ２は、表面処
理された金属酸化物粒子を構成する金属元素の特性Ｘ線
強度を示す。］

【００３３】本発明の電子写真感光体は、先に述べた本
発明の製造方法により製造されるため、繰り返し使用に
伴う電気特性の低下を十分に防止することのできる高い
耐久性と高い解像品質を有する。

【００３４】更に、本発明は、上述の本発明の電子写真
感光体と、帯電手段、現像手段、クリーニング手段又は
除電手段の少なくとも一つの手段とを一体に有し、電子
写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセ
スカートリッジを提供する。

【００３５】これにより、本発明のプロセスカートリッ
ジは、繰り返し使用するときに画像上に黒点等のかぶり
が発生してしまうことなく高い解像品質を得ることがで
きる。

【００３６】更に、本発明は、上述の本発明の電子写真
感光体と、電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯
電手段により帯電される電子写真感光体を露光して静電
潜像を形成する露光手段と、静電潜像をトナーにより現
像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を被転
写媒体に転写する転写手段と、を備えることを特徴とす
る電子写真装置を提供する。

【００３７】これにより、本発明の電子写真装置は、繰
り返し使用するときにコピー画像上に黒点等のかぶりが
発生してしまうことなく高い解像品質を長期間維持する
ことができる。

【００３８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図
中、同一又は相当部分には同一符号を付することとす
る。

【００３９】なお、本発明の電子写真感光体の製造方法
は、電子写真感光体の下引層を形成する工程において、
金属酸化物粒子Ｂに表面処理した後、得られる金属酸化
物粒子Ａのうちの式（１）の件を満たす金属酸化物粒子
Ａを選択的に使用すればよく、下引層以外の電子写真感
光体の他の構成要素の製造工程における手順やその際の
条件は特に限定されず、例えば、公知の技術を用いるこ
とができる。そのため、本発明の電子写真感光体の製造
方法の好適な実施形態については、その腰部となる下引
層の形成工程の説明を以下の本発明の電子写真感光体の
各実施形態の下引層の説明において行うこととする。

【００４０】［第一実施形態］図１は、本発明の電子写
真感光体の第一実施形態を示す断面図である。図１に示
すように、電子写真感光体１００は、導電性支持体層３
と、下引層４と、感光層６とから構成されている。この
電子写真感光体１００は、先に述べた本発明の電子写真
感光体の製造方法により製造されるものである。

【００４１】導電性支持体層３は、導電性を有していれ
ば特に限定されるものはなく、例えば、アルミニウム、
銅、鉄、亜鉛、ニッケル等の金属ドラムを使用すること
ができる。また、ポリマー製シート、紙、プラスチッ
ク、又はガラス上に、アルミニウム、銅、金、銀、白
金、パラジウム、チタン・ニッケルークロム・ステンレ
ス鋼・銅ーインジウム等の金属を蒸着することによって
導電処理したドラム状・シート状・プレート状のもの使
用できる。

【００４２】更には、ポリマー製シート、紙、プラスチ
ック、又はガラス上に、酸化インジウム・酸化錫などの
導電性金属化合物を蒸着するか、又は金属箔をラミネー
トすることによって導電処理したドラム状・シート状・
プレート状の物のもの使用できる。また、この他にも、
カーボンブラック・酸化インジウム・酸化錫ー酸化アン
チモン粉・金属粉・沃化銅等をバインダー樹脂に分散
し、ポリマー製シート、紙、プラスチック、又はガラス
上に塗布することによって導電処理したドラム状・シー
ト状・プレート状の物なども使用することができる。

【００４３】ここで、金属パイプ基材を導電性支持体層
３として用いる場合、その表面は素管のままであって
も、事前に鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、
センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニン
グ、着色処理などの処理を行なうことが好ましい。表面
処理を行ない基材表面を粗面化することによりレーザー
ビームのような可干渉光源を用いた場合に発生しうる感
光体内での干渉光による木目状の濃度斑を防止すること
ができる。

【００４４】下引層４は、先に述べたように、加水分解
性有機金属化合物を用いて金属酸化物粒子Ｂを表面処理
することにより得られた金属酸化物粒子Ａと、バインダ
ー樹脂とを含んでいる。そして、下引層４は、感光層６
の帯電時において、導電性支持体層３から感光層６への
電荷の注入を阻止する機能を有する。また、この下引層
４は、感光層６を導電性支持体層３に対して一体的に接
着保持せしめる接着層としても機能する。更に、この下
引層４は、導電性支持体層３の光反射を防止する機能を
有する。

【００４５】下引層４の層厚は可能な限り厚い方が外部
からの貫入物質の効果を阻止しやすくなりリーク耐性が
向上する一方、層厚が、例えば、１０μｍ以下のような
薄膜では十分なリーク耐性を有しない。先に述べたよう
に、本発明の製造方法によれば下引層４を容易に厚膜化
することができる。下引層４のリーク耐性を高めてピン
ホールリークの発生を効果的に防止する観点から、下引
層４の層厚は１５〜５０μｍであることが好ましく、２
０〜５０μｍであることがより好ましい。ここで、下引
層４の層厚が５０μｍを超えると、金属酸化物粒子等の
含有物質の分散性を良好に保つことが困難となり、残留
電荷の増加による画質低下が生じる傾向が大きくなる。
またこの場合、層厚を均一にすることも困難となる傾向
が大きくなり、製造コストも増大するおそれがある。

【００４６】但し、十分なリーク耐性を有しており上述
のリーク欠陥の発生が懸念されないような場合には、下
引層の層厚は１５μｍより薄く設定することが可能であ
り、この場合には０．１μｍ程度の薄膜まで適用可能で
ある。

【００４７】また、本発明の電子写真感光体の下引層に
使用されるバインダー樹脂は、ポリビニルブチラールな
どのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼ
イン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポ
リウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、
アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテ
ート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹
脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アルキッド樹脂、フ
ェノール樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メ
ラミン樹脂、ウレタン樹脂などの公知の高分子樹脂化合
物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリア
ニリン等の導電性樹脂などを用いることができる。中で
も上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好ましく用いられ、特
にフェノール樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹
脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが
好ましく用いられる。なお、金属酸化物微粒子Ｂとバイ
ンダ樹脂との配合比率は所望の電子写真感光体の特性を
得られる範囲で任意に設定できる。

【００４８】下引層４の電気抵抗値は１０⁴〜１０¹³Ω
ｃｍであることが好ましく、１０⁸〜10¹³Ωcmであるこ
とがより好ましく、10⁹〜10¹²Ωcmであることが更に好
ましい。抵抗値が１０⁴Ωｃｍ未満であると、十分なリ
ーク耐性を得ることが困難となる傾向が大きくなり、１
０¹³Ωｃｍを超えると、残留電位上昇を引き起こしてし
まう傾向が大きくなる。下引層４の電気抵抗値は金属酸
化物粒子Ａ自体の電気抵抗値とその添加量を変化させる
こと、金属酸化物粒子Ａのバインダー樹脂中への分散状
態を変化させることで制御することができる。

【００４９】金属酸化物粒子Ｂは、酸化錫、酸化チタン
及び酸化亜鉛からなる群から選択される少なくとも１種
の粒子であることが好ましい。

【００５０】金属酸化物粒子Ｂの粒径は、平均粒子径が
１００ｎｍ以下がであることが好ましい。なお、ここで
いう粒径とは、平均１次粒径を意味する。金属酸化物粒
子Ｂとしては、粉体抵抗値が１０²〜１０¹¹Ωcmである
ものが利用可能であるが、下引層４の優れたリーク耐性
を得る観点から、特に、粉体抵抗値が１０⁴〜１０¹⁰Ω・
cmであるものが好ましい。１０²Ωcm未満であると、十
分なリーク耐性が得られず、１０¹¹Ωcmを超えると残留
電位の上昇がおこる傾向が大きくなる。

【００５１】また、金属酸化物微粒子Ｂの比表面積は電
子写真特性に大きく影響するため、金属酸化物微粒子Ｂ
の比表面積は１０ｍ²／ｇ以上であることが好ましい。
比表面積値が１０ｍ²／ｇ未満であると、下引層４の帯
電性の低下を招きやすくなる傾向が大きくなる。

【００５２】使用環境における温度や湿度の変動による
下引層４の電気抵抗値の変動を抑制する観点から、金属
酸化物粒子Ｂは加水分解性有機金属化合物で表面処理さ
れ、金属酸化物粒子Ａとされている。表面処理により金
属酸化物粒子Ａとすることにより、下引層４の電気抵抗
に大きな影響を与える金属酸化物粒子の分散状態を上述
の好適な電気抵抗値を得るのに適した状態に容易にコン
トロールすることができる。

【００５３】ここで、表面処理とは、金属酸化物粒子Ｂ
の表面に加水分解性有機金属化合物を吸着させ、そこで
加水分解性有機金属化合物の加水分解性を有する基を加
水分解反応させる処理を示す。また、加水分解性有機金
属化合物を用いた金属酸化物粒子Ｂの表面処理は、金属
酸化物微粒子Ｂの全体を覆う処理でもよく、一部分を覆
う処理でもよい。

【００５４】本発明において、加水分解性有機金属化合
物としては、下記一般式（Ｉ）で表されものが好まし
い。 ＲｐＭＹｑ …（Ｉ）

【００５５】ただし、式（ＩＩ）中、Ｒは有機基、Ｍは
金属元素またはケイ素、Ｙは加水分解性の官能基を示
し、p、qはそれぞれ1〜４の整数を示し、pとqとの総和
はＭの原子価に相当する。

【００５６】有機基Ｒとしては、例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基等のアルキ
ル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、シクロヘ
キシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、ナフチル
基等のアルール基、トリル基等のアルカリール基、ベン
ジル基、フェニルエチル基等のアリールアルケニル基、
スチリル基等のアリールアルケニル基、フリル基、チエ
ニル基、ピロジニル基、イミダゾリル基等の複素環残基
等の有機化合物残基であれば特に限定されるものではな
い。加水分解性有機金属化合物中の有機基Ｒは、上記の
有機化合物残基の中から選択される１種でもよく、２種
以上であってもよい。

【００５７】また、加水分解性の官能基Ｙとしては、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、シ
クロヘキシルオキシ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ
基等のエーテル基、アセトキシ基、プロピオニルアキシ
基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、ベンゾイルオ
キシ基、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニ
ルオキシ基、ベンジルオキシカルボニル基等のエステル
基、塩素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。

【００５８】更に、Ｍとしては、アルカリ金属以外であ
れば特に制限されるものではなく、珪素、ジルコニウ
ム、チタニウム、アルミニウム、バナジウム、クロム、
マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ガリウ
ム、ゲルマニウム、ルテニウム、ロジウム、パラジウ
ム、インジウム、錫、白金等の金属が挙げられる。

【００５９】そして、上記の有機基Ｒや加水分解性の官
能基Ｙを有する加水分解性有機金属化合物としては、上
記の有機基や加水分解性の官能基を置換したシランカッ
プリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミネー
ト系カップリング剤及び有機ジルコニウム化合物からな
る群から選択される少なくとも１種であることが好まし
く、シランカップリング剤であることがより好ましい。
そして、これらの加水分解性有機金属化合物は単独また
は２種以上混合して用いることができる。

【００６０】シランカップリング剤としては、例えば、
ビニルトリメトキシシラン、γ-メタクリルオキシプロ
ピル-トリス(β-メトキシエトキシ)シラン、β-(3,4-エ
ポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリ
アセトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-
β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、N-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチル
メトキシシラン、N,N-ビス(β-ヒドロキシエチル)-γ-
アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-クロルプロピ
ルトリメトキシシラン等が挙げられる。

【００６１】チタネート系カップリング剤としては、例
えば、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、
ビス（ジオクチルピロホフェート）、イソプロピルトリ
（Ｎ―アミノエチルーアミノエチル）チタネート等が挙
げられる。

【００６２】アルミネート系カップリング剤としては、
例えば、アセトアルコキシアルイニウムジイソプロピレ
ート等が挙げられる。

【００６３】また、上記の加水分解性有機金属化合物の
中ではシランカップリング剤を用いることが好ましく、
メルカプト基を有するシランカップリング剤を用いるこ
とがより好ましく、γ-メルカプトプロピルトリメトキ
シシランが好ましく用いられる。

【００６４】また、加水分解性有機金属化合物の使用量
は先に述べたように、式（１）の件を満たす金属酸化物
粒子Ａを得ることが可能な量を、表面処理に使用する加
水分解性有機金属化合物や金属酸化物粒子Ｂなどの組み
合わせ、表面処理反応の温度、表面処理に使用する装置
や調製する金属酸化物粒子Ａのスケールなどの表面処理
条件に合わせて最適化して設定する。

【００６５】次に、金属酸化物粒子Ｂの表面処理方法に
ついて説明する。加水分解性有機金属化合物による金属
酸化物粒子Ｂの表面処理の方法は特に限定されず、例え
ば、乾式法、湿式法、気相法など公知の方法を使用して
よい。

【００６６】なお、本発明においては、例えば、金属酸
化物粒子Ｂを表面処理した後、得られる金属酸化物粒子
Ａの中から、式（１）の件を満たす金属酸化物粒子Ａを
分離してもよいが、例えば、可能な場合には、式（１）
の件を満たす金属酸化物粒子Ａを得るための再現性の良
い金属酸化物粒子Ｂの表面処理条件を容易に最適化して
予め把握しておくことができる場合には、その最適化し
た金属酸化物粒子Ｂの表面処理条件により得られた金属
酸化物粒子Ａの全てを下引層の形成に使用してもよい。

【００６７】例えば、乾式法に基づいて表面処理を行う
場合の手順の一例を説明する。先ず、表面処理前に金属
酸化物粒子Ｂを１００〜１５０℃の温度で予備乾燥し、
表面吸着水を除去する。この表面吸着水を処理前に除去
することによって、金属酸化物粒子Ｂ表面に均一に加水
分解性有機金属化合物を吸着させることができる。この
とき、金属酸化物粒子Ｂはせん断力の大きなミキサで攪
拌しながら予備乾燥させてもよい。

【００６８】次に、加水分解性有機金属化合物を金属酸
化物粒子Ｂの表面に吸着させる。このとき、金属酸化物
粒子Ｂをせん断力の大きなミキサで攪拌しながら、加水
分解性有機金属化合物を乾燥空気や窒素ガスとともに噴
霧させるか、あるいは、加水分解性有機金属化合物を溶
剤（有機溶媒、水等）に溶解させた液を乾燥空気や窒素
ガスとともに噴霧させる。これにより、金属酸化物粒子
Ｂの表面に加水分解性有機金属化合物が均一吸着させら
れる。

【００６９】加水分解性有機金属化合物を金属酸化物粒
子Ｂの表面に吸着させる際の温度は、50℃以上の温度で
行われることが好ましい。また、溶剤を使用する場合に
は溶剤の沸点付近の温度で行うことが好ましい。

【００７０】そして、その後、１００℃以上の温度で焼
き付け処理を行う。これにより、加水分解性有機金属化
合物の加水分解反応を十分に進行させることができる。
焼き付け処理は１５０〜２５０℃の温度で行うことが好
ましい。１５０℃未満であると、十分に加水分解性有機
金属化合物の加水分解反応を十分に進行させることがで
きなくなるおそれがある。２５０℃を超えると加水分解
性有機金属化合物の分解が起こるおそれがある。

【００７１】次に、必要に応じて、表面処理後の金属酸
化物粒子Ａを粉砕する。これにより、金属酸化物粒子Ａ
の凝集体を粉砕することができるので、下引層４中にお
ける金属酸化物粒子の分散性を向上させることができ
る。

【００７２】次に、湿式法に基づいて表面処理を行う場
合の手順の一例を説明する。先ず、金属酸化物微粒子Ｂ
を溶剤中に、超音波、サンドミルやアトライター、ボー
ルミルなどを用いて分散させ、次に、これに加水分解性
有機金属化合物を含む液を添加して攪拌し、表面処理反
応を進行させる。その後、この液から蒸留により溶剤を
留去する。また、溶剤除去後に得られる固形物をさらに
１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。また、乾式法
と同様にこの湿式法においても、表面処理前に金属酸化
物微粒子Ｂの表面吸着水を除去してもよい。この表面吸
着水除去方法としては、乾式法と同様に加熱乾燥による
除去の他に、表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しなが
ら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法等が挙
げられる。

【００７３】下引層４には、その電気特性の向上、使用
環境における形状安定性の向上、画質向上のために、他
の添加物を含有させることができる。

【００７４】例えば、クロラニル、ブロモアニル、アン
トラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメ
タン系化合物、2,4,7-トリニトロフルオレノン、2,4,5,
7-テトラニトロ-9-フルオレノン等のフルオレノン化合
物、2-(4-ビフェニル)-5-(4-t-ブチルフェニル)-1,3,4-
オキサジアゾール、2,5-ビス(4-ナフチル)-1,3,4-オキ
サジアゾール、2,5-ビス(4-ジエチルアミノフェニル)1,
3,4オキサジアゾールなどのオキサジアゾール系化合
物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、3,3',5,
5'テトラ-t-ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン
化合物などの電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の
電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニ
ウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チ
タニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物等
の公知の材料を含有させることができる。

【００７５】チタニウムキレート化合物としては、例え
ば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブ
チルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2
-エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネ
ート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチ
レングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、
チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、
チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタ
ンステアレートなどが挙げられる。

【００７６】アルミニウムキレート化合物としては、例
えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシア
ルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレー
ト、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロ
ピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテー
ト)などが挙げられる。なお、これらの化合物は単独に
あるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として
用いることができる。

【００７７】また、接触帯電時の電流リークの一因とな
る、外部からの導電性粉等の異物が感光体を貫くことを
防止し、耐久性の高い下引層４を形成する観点から、下
引層４の硬度を高くすることが有効であり、硬度の指標
として下引層４のビッカース硬度を３０以上好ましくは
３５以上とすることが好ましい。

【００７８】また、モアレ像防止の観点から、下引層４
の表面粗さは、使用される露光用レーザー波長λとした
場合に、1/4ｎ（ｎは上層の屈折率）〜λに調整されて
いることが好ましい。なお、ここでいう表面とは、下引
層４の感光層６の側の表面である。また、この表面粗さ
調整のために下引層４中に樹脂粒子を添加してもよい。
樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメチ
ルメタクリレート樹脂（PMMA）の粒子等を用いることが
できる。

【００７９】更に、表面粗さ調整のために下引層４の表
面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サ
ンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等を用
いることもできる。

【００８０】次に下引層４の形成方法（下引層４の形成
工程）について説明する。この下引層４は、上述の金属
酸化物粒子Ｂを少なくとも１種以上の加水分解性金属化
合物を用いて表面処理した後にえられる金属酸化物Ａの
うち、式（１）の条件を満たす粒子を先に述べたバイン
ダー樹脂中に分散させて得られる塗布液を導電性支持体
層３上に塗布することにより形成することができる。

【００８１】下引層４の形成用の塗布液を調整するため
の溶媒としては公知の有機溶剤、例えばアルコール系、
芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンア
ルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択
することができる。

【００８２】例えば、メタノール、エタノール、n-プロ
パノール、iso-プロパノール、n-ブタノール、ベンジル
アルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ア
セトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、
クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いる
ことができる。

【００８３】また、これらの分散に用いる溶剤は単独あ
るいは２種以上混合して用いることができる。混合する
際、使用される溶剤としては、混合溶剤としてバインダ
ー樹脂を溶かす事ができる溶剤であれば、いかなるもの
でも使用することが可能である。

【００８４】金属酸化物粒子Ａをバインダー樹脂中に分
散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動
ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミ
ル、ペイントシェーカーなどの方法を用いることができ
る。さらにこの下引層を設けるときに用いる塗布方法と
しては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーテ
ィング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング
法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング
法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いるこ
とができる。

【００８５】次に、感光層６について説明する。図１に
示すように、感光層６は電荷発生層１と電荷輸送層２と
から構成されている。

【００８６】電荷発生層１に含有される顔料（電荷発生
物質）は特に限定されず、公知の顔料を使用することが
できる。

【００８７】赤外光を利用する感光体では、例えば、フ
タロシアニン顔料、スクアリリウム顔料、ビスアゾ顔
料、トリスアゾ顔料、ペリレン顔料、ジチオケトピロロ
ピロール顔料を使用することができる。また、可視光レ
ーザを利用する感光体では、例えば、縮合多環顔料、ビ
スアゾ顔料、ペリレン顔料、トリゴナルセレン、色素増
感した金属酸化物等を使用することができる。

【００８８】上述した顔料の中では、優れた画像を得ら
れることから、フタロシアニン系顔料を使用することが
好ましい。これにより、特に高感度で、繰り返し使用し
ても良好な画質を安定して得ることのできる電子写真感
光体を構成することが容易にできる。

【００８９】フタロシアニン顔料は一般に数種の結晶型
を有しており、目的にあった感度が得られる結晶型であ
るならば、これらのいずれの結晶型でも用いることがで
きる。特に、フタロシアニン顔料の中でも下記式（１）
〜（６）に示されるフタロシアニン顔料が好ましく用い
られる。

【００９０】

【化１】

【００９１】上記の式（１）〜（６）中、クロロガリウ
ムフタロシアニンとしては、Cukα線を用いたX線回折ス
ペクトルにおいて、ブラッグ角度(2θ±0.2°)の値が7.
4°,16.6°,25.5°,28.3°である位置に回折ピークを少
なくとも有するものが好ましい。また、チタニルフタロ
シアニンとしては、Cukα線を用いたX線回折スペクトル
において、ブラッグ角度(2θ±0.2°)の値が9.6°,24.1
°,27.3°である位置に回折ピークを少なくとも有し、
最大ピークを27.3°に有するものが好ましい。

【００９２】また、下記式（１）〜（６）に示されるフ
タロシアニン顔料以外に、式（４）の配位中心となるＧ
ａに結合しているＣｌ原子を−ＯＨ基に置換したヒドロ
キシガリウムフタロシアニンも好ましい。このようなヒ
ドロキシガリウムフタロシアニンとしては、Cukα線を
用いたX線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度(2θ
±0.2°)の値が7.5°,9.9°,12.5°,16.3°,18.6°, 2
5.1°,28.1°である位置に回折ピークを少なくとも有す
るものが好ましい。

【００９３】更に、このような顔料は、公知の方法で製
造される顔料結晶を、自動乳鉢、遊星ミル、振動ミル、
CFミル、ローラーミル、サンドミル、ニーダー等で機械
的に乾式粉砕するか、乾式粉砕後、溶剤と共にボールミ
ル、乳鉢、サンドミル、ニーダー等を用いて湿式粉砕処
理を行うことによって製造することができる。

【００９４】上記の湿式粉砕処理において使用される溶
剤としては、芳香族類(トルエン、クロロベンゼン等)、
アミド類(ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン
等)、脂肪族アルコール類(メタノール、エタノール、ブ
タノール等)、脂肪族多価アルコール類(エチレングリコ
ール、グリセリン、ポリエチレングリコール等)、芳香
族アルコール類(ベンジルアルコール、フェネチルアル
コール等)、エステル類(酢酸エステル、酢酸ブチル
等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン等)、ジ
メチルスルホキシド、エーテル類(ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン等)、さらには数種の混合系、水と
これら有機溶剤の混合系が挙げられる。

【００９５】また、この溶剤は、顔料結晶に対して、１
〜２００質量部、好ましくは１０〜１００質量部の範囲
で使用する。更に、処理温度は、０℃〜溶剤の沸点、好
ましくは１０〜６０℃の範囲で行う。また、粉砕の際に
食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いることもできる。

【００９６】そして磨砕助剤は顔料に対し0.5〜20倍、
好ましくは1〜10倍用いればよい。また、公知の方法で
製造される顔料結晶を、アシッドペースティングあるい
はアシッドペースティングと前述したような乾式粉砕あ
るいは湿式粉砕を組み合わせることにより、結晶制御す
ることもできる。

【００９７】アシッドペースティングに用いる酸として
は、硫酸が好ましく、濃度（質量パーセント濃度）７０
〜１００%、好ましくは９５〜１００%のものが使用さ
れ、溶解温度は、−２０〜１００℃好ましくは−２０〜
６０℃の範囲に設定される。濃硫酸の量は、顔料結晶の
重量に対して、１〜１００倍、好ましくは３〜５０倍の
範囲に設定される。析出させる溶剤としては、水あるい
は、水と有機溶剤の混合溶剤、アンモニア水等が任意の
量で用いられる。析出させる温度については特に制限は
ないが、発熱を防ぐために、氷等で冷却することが好ま
しい。

【００９８】また、顔料の含有量は、電荷発生層１の全
質量に対して、１０〜９０質量％であることが好まし
く、４０〜７０質量％であることがより好ましい。顔料
の含有量がそれぞれ上記の数値範囲の下限値未満となる
と、十分な感度が得られにくくなる。一方、顔料の含有
量がそれぞれ上記の数値範囲の上限値を超えると、帯電
性の低下、感度の低下などの弊害が発生する傾向が大き
くなる。

【００９９】電荷発生層１に含有されるバインダー樹脂
は、絶縁性樹脂であれば特に限定されるものではなく、
広範な絶縁性樹脂から選択して使用することができる。
例えば、好ましいバインダー樹脂としては、ポリビニル
アセタール樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノールA
とフタル酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポ
リエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル-酢酸ビ
ニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリア
クリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロー
ス樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリ
ビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の
絶縁性樹脂をあげることができる。

【０１００】電荷発生層１用のバインダー樹脂として
は、顔料の分散性の観点から、特にポリビニルアセター
ル樹脂及び塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が好ましく
用いられる。なお、上記のバインダー樹脂は、単独ある
いは2種以上を混合して用いてもよい。

【０１０１】また、顔料とバインダー樹脂との配合比
(質量比)は、電荷発生層１の場合、10:1〜1:10の範囲が
好ましい。顔料の質量に対してバインダー樹脂の質量が
上記の配合比で示される値未満となると、成膜性が悪く
なる等の弊害が発生する傾向が大きくなる。一方、顔料
の質量に対してバインダー樹脂の質量が上記の配合比で
示される値を超えると、膜中の含有量が相対的に少なく
なるため十分な感度が得られなくなる傾向が大きくな
る。

【０１０２】更に、電荷発生層１を形成するための塗布
液に含まれる有機溶剤は、バインダー樹脂を溶かす事が
できる溶剤であり、かつ、顔料（電荷発生物質）の結晶
型を変化させる影響を及ぼさないものであれば特に限定
されるものではなく、公知の有機溶剤を使用することが
できる。

【０１０３】例えば、アルコール系、芳香族系、ハロゲ
ン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エー
テル系、エステル系等から任意で選択することができ
る。具体的には、例えば、メタノール、エタノール、n-
プロパノール、iso-プロパノール、n-ブタノール、ベン
ジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソル
ブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロ
ホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤
を用いることができる。そして、これらの有機溶剤は単
独あるいは2種以上混合して用いることができる。

【０１０４】この電荷発生層１には、その電気特性の向
上、画質向上などのために下引層４の説明において記載
したものと同じ他の添加剤を添加することもできる。

【０１０５】更に、電荷発生層１の層厚は、良好な電気
特性と画質を与えるために、０．０５〜５μｍであるこ
とが好ましく、０．１〜１μｍであることがより好まし
い。電荷発生層１の厚みが０．０５μｍ未満であると、
十分な感度を与えることができない。一方、電荷発生層
１の厚みが５μｍを超えると、帯電性の不良などの弊害
を生じさせ易い。

【０１０６】電荷発生層１は、顔料（電荷発生物質）、
有機溶剤、バインダー樹脂、添加剤（例えば、顔料の分
散助剤等）等を混合して塗布液を調製し、これを下引層
４上に塗布して更に乾燥させることにより形成すること
ができる。また、電荷発生層１は、電荷発生物質を下引
層４上に真空蒸着することによっても形成することがで
きる。

【０１０７】電荷発生層１の形成用の塗布液を調製する
には、顔料、バインダー樹脂、有機溶剤、その他の添加
剤（例えば、顔料の分散助剤等）等とともに混合する。
顔料を液中に高分散させる方法としては、ロールミル、
ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミ
ル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの分散方法
を用いることができる。

【０１０８】更に、成膜性の観点から、電荷発生層１を
形成するための塗布液に含まれる顔料などの分散粒子の
粒子径は、0.5μm以下であることが好ましく、0.3μm以
下であることがより好ましく、0.15μm以下であること
が更に好ましい。分散粒子の粒子径が0.5μmを超える
と、電荷発生層１の成膜性が悪くなり、画質欠陥を生じ
易い。

【０１０９】電荷発生層１の形成用の塗布液を下引層４
上に塗布する場合の塗布方法としては、ブレードコーテ
ィング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコー
ティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング
法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティン
グ法等の通常の方法を用いることができる。

【０１１０】次に電荷輸送層２について説明する。電荷
輸送層２に含有される電荷輸送物質は、特に限定される
ものではなく、公知の物質を使用することができる。

【０１１１】例えば、2,5-ビス(p-ジエチルアミノフェ
ニル)-1,3,4-オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘
導体、1,3,5-トリフェニル-ピラゾリン、1-[ピリジル-
(2)]-3-(p-ジエチルアミノスチリル)-5-(p-ジエチルア
ミノスチリル)ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリ
フェニルアミン、トリ(P-メチル)フェニルアミン、N,
N’-ビス(3,4-ジメチルフェニル)ビフェニル-4-アミ
ン、ジベンジルアニリン、9,9-ジメチル-N,N’-ジ(p-ト
リル)フルオレノン-2-アミン等の芳香族第3級アミノ化
合物、N,N’-ジフェニル-N,N’-ビス(3-メチルフェニ
ル)-[1,1-ビフェニル]-4,4’-ジアミン等の芳香族第3級
ジアミノ化合物、3-(4’ジメチルアミノフェニル)-5,6-
ジ-(4’-メトキシフェニル)-1,2,4-トリアジン等の1,2,
4-トリアジン誘導体、4-ジエチルアミノベンズアルデヒ
ド-1,1-ジフェニルヒドラゾン、4-ジフェニルアミノベ
ンズアルデヒド-1,1-ジフェニルヒドラゾン、[p-(ジエ
チルアミノ)フェニル](1-ナフチル)フェニルヒドラゾン
などのヒドラゾン誘導体、2-フェニル-4-スチリル-キナ
ゾリン等のキナゾリン誘導体、6-ヒドロキシ-2,3-ジ(p-
メトキシフェニル)-ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導
体、p-(2,2-ジフェニルビニル)-N,N’-ジフェニルアニ
リン等のα-スチルベン誘導体、エナミン誘導体、N-エ
チルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ-N-ビ
ニルカルバゾール及びその誘導体等の正孔輸送物質、ク
ロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系
化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7-ト
リニトロフルオレノン、2,4,5,7-テトラニトロ-9-フル
オレノン等のフルオレノン化合物、2-(4-ビフェニル)-5
-(4-t-ブチルフェニル)-1,3,4-オキサジアゾール、2,5-
ビス(4-ナフチル)-1,3,4-オキサジアゾール、2,5-ビス
(4-ジエチルアミノフェニル)1,3,4オキサジアゾール等
のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チ
オフェン化合物、3,3',5,5'テトラ-t-ブチルジフェノキ
ノン等のジフェノキノン化合物などの電子輸送物質等が
挙げられる。

【０１１２】更には、電荷輸送物質は、以上例示した化
合物の基本構造を主鎖又は側鎖に有する重合体等も挙げ
られる。そして、これらの電荷輸送材料は、1種又は2種
以上を組み合せて使用することもできる。

【０１１３】また、電荷輸送層２に含有されるバインダ
ー樹脂は特に限定されるものではなく、公知のものを使
用することができるが、電機絶縁性のフィルムを形成す
ることが可能な樹脂が好ましい。

【０１１４】例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエス
テル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビ
ニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹
脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレンーブタジエン
共重合体、塩化ビニリデンーアクリロニトリル共重合
体、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル-酢酸
ビニル-無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂。シリ
コン−アルキッド樹脂、フェノールーホルムアルデヒド
樹脂、スチレンーアルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−カルバゾ
ール、ポリビニルブチラール、ポリビニルフォルマー
ル、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルア
ルコール、エチルセルロース、フェノール樹脂、ポリア
ミド、カルボキシーメチルセルロース、塩化ビニリデン
系ポリマーワックス、ポリウレタン等が挙げられる。

【０１１５】そして、これらのバインダー樹脂は、単独
又は2種類以上混合して用いることができる。特に、ポ
リカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹
脂、アクリル樹脂が電荷輸送物質との相溶性、溶剤への
溶解性、強度の点で優れているので好ましく用いられ
る。

【０１１６】また、バインダー樹脂と電荷輸送物質との
配合比(質量比)は電気特性低下、膜強度低下に考慮しつ
つ任意に設定することができる。この電荷輸送層２の層
厚は5〜50μmであることが好ましく、10〜35μmである
ことがより好ましい。が適当である。

【０１１７】電荷輸送層２は、電荷輸送物質、有機溶
剤、バインダー樹脂等を混合して塗布液を調製し、これ
を電荷発生層１上に塗布して更に乾燥させることにより
形成することができる。

【０１１８】電荷輸送層２の形成用の塗布液を調製する
には、電荷輸送物質、有機溶剤、バインダー樹脂等とと
もに混合する。電荷輸送物質を液中に高分散させる方法
としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、
アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシ
ェーカーなどの分散方法を用いることができる。

【０１１９】更に、成膜性の観点から、電荷輸送層２を
形成するための塗布液に含まれる顔料などの分散粒子の
粒子径は、0.5μm以下であることが好ましく、0.3μm以
下であることがより好ましく、0.15μm以下であること
が更に好ましい。分散粒子の粒子径が0.5μmを超える
と、電荷輸送層２の成膜性が悪くなり、画質欠陥を生じ
易い。

【０１２０】更に、電荷輸送層２の形成用の塗布液に用
いる溶剤としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、
トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは2種以上混
合して用いることができる。

【０１２１】電荷輸送層２の塗布方法としては、ブレー
ドコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプ
レーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコー
ティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコ
ーティング法等の通常の方法を用いることができる。

【０１２２】［第二実施形態］図２は、本発明の電子写
真感光体の第二実施形態を示す断面図である。図２に示
す電子写真感光体１１０は、感光層６を単層構造とした
以外は図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成
を有する。

【０１２３】図２に示す感光層６は、図１に示した電荷
発生層１と電荷輸送層２に含有される電荷発生物質と電
荷輸送物質をはじめとする物質を合わせて含有する層で
ある。

【０１２４】感光層６がこのように単層型の場合には、
顔料の含有量は、感光層６の全質量に対して、０．１〜
５０質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であ
ることがより好ましい。また、顔料の含有量が上記の数
値範囲の下限値未満となると、十分な感度が得られにく
くなる。一方、顔料の含有量が上記の数値範囲の上限値
を超えると、帯電性の低下、感度の低下などの弊害が発
生する傾向が大きくなる。

【０１２５】また、このように感光層６が単層型の場
合、バインダー樹脂としては、正孔輸送性材料との相溶
性の観点から、特にポリカーボネート樹脂及びメタクリ
ル樹脂が好ましく用いられる。更に、これらの樹脂のポ
リ-N-ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、
ポリビニルピレン、ポリシランなどの有機光導電性ポリ
マーの中から選択して使用してもよい。なお、上記のバ
インダー樹脂は、単独あるいは2種以上を混合して用い
てもよい。

【０１２６】この感光層６も、上述した電荷輸送物質、
上述した電荷輸送物質、上述した有機溶剤、バインダー
樹脂等を混合して塗布液を調製し、上述と同様の方法に
より導電性支持体層３上に塗布して更に乾燥させること
により形成することができる。

【０１２７】［第三実施形態］図３は、本発明の電子写
真感光体の第三実施形態を示す断面図である。図３に示
す電子写真感光体１２０は、感光層６上に保護層５を備
えること以外は図１に示した電子写真感光体１００と同
様の構成を有する。

【０１２８】保護層５は、電子写真感光体１２０の帯電
時の電荷輸送層２の化学的変化を防止したり、感光層６
の機械的強度をさらに改善する為に用いられる。この保
護層５は、導電性材料を適当なバインダー樹脂中に含有
させた塗布液を感光層６上に塗布することにより形成さ
れる。

【０１２９】この導電性材料は特に限定されるものでは
なく、例えば、N,N'-ジメチルフェロセン等のメタロセ
ン化合物、N,N'-ジフェニル-N,N'-ビス(3-メチルフェニ
ル)-[1,1'-ビフェニル]-4,4'-ジアミン等の芳香族アミ
ン化合物、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化ア
ンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化インジウム、酸化
錫とアンチモン、硫酸バリウムと酸化アンチモンとの固
溶体の担体、上記金属酸化物の混合物、酸化チタン、酸
化スズ、酸化亜鉛又は硫酸バリウムの単一粒子中に上記
の金属酸化物を混合したもの、或いは、酸化チタン、酸
化スズ、酸化亜鉛又は硫酸バリウムの単一粒子中に上記
の金属酸化物を被覆したものが挙げられる。

【０１３０】この保護層５に用いるバインダー樹脂とし
ては、ポリアミド樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルケト
ン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、
ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等の公知の樹脂
が用いられる。また、これらは必要に応じて互いに架橋
させて使用することもできる。

【０１３１】保護層５の厚みは１〜２０μmであること
が好ましく、２〜１０μmであることがより好ましい。
この保護層５を形成するための塗布液の塗布方法として
は、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティン
グ法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、
ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、
カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることが
できる。

【０１３２】また、保護層５を形成するための塗布液に
用いる溶剤としては、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼ
ン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは2種以
上混合して用いることができるが、できるだけこの塗布
液が塗布される感光層６を溶解しにくい溶剤を用いるこ
とが好ましい。

【０１３３】［第四実施形態］図４は、本発明の電子写
真感光体の第二実施形態を示す断面図である。図４に示
す電子写真感光体１３０は、感光層６を単層構造とし、
感光層６上に保護層５を備える以外は図２に示した電子
写真感光体１１０と同様の構成を有する。

【０１３４】［第五実施形態］図５は、本発明の電子写
真感光体の第五実施形態を示す断面図である。図５に示
す電子写真感光体１４０は、感光層６と下引層４との間
に中間層４２を備える以外は図１に示した電子写真感光
体１００と同様の構成を有する。この中間層４２は、感
光体１４０の電気特性の向上、画質の向上、感光層６の
接着性向上のために設けられている。

【０１３５】この中間層４２の構成材料は特に限定され
ず、合成樹脂、有機物質或いは無機物質の粉末、電子輸
送性物質等から任意に選択することができる。

【０１３６】中間層４２の合成樹脂としては、ポリビニ
ルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコ
ール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹
脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、
メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、
ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無
水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アル
キッド樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラ
ミン樹脂等の高分子樹脂化合物、ジルコニウムキレート
化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレ
ート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタ
ニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を
用いることができる。

【０１３７】そして、これらの化合物は単独にあるいは
複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いるこ
とができる。更にこれらの中でも、ジルコニウムキレー
ト化合物、シランカップリング剤は残留電位が低く環境
による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位
の変化が少ないなど性能上優れている。

【０１３８】上記のシランカップリング剤の例としては
ビニルトリメトキシシラン、γ-メタクリルオキシプロ
ピル-トリス(β-メトキシエトキシ)シラン、β-(3,4-エ
ポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリ
アセトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-
β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、N-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチル
メトキシシラン、N,N-ビス(β-ヒドロキシエチル)-γ-
アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-クロルプロピ
ルトリメトキシシランなどが挙げられる。

【０１３９】これらの中でも特に好ましく用いられるシ
リコン化合物としては、ビニルトリエトキシシラン、ビ
ニルトリス(2-メトキシエトキシシラン)、3-メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキ
シル)エチルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)3
-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチ
ル)3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-3-アミノ
プロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラ
ン等のシランカップリング剤が挙げられる。

【０１４０】ジルコニウムキレート化合物としては、ジ
ルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチ
ル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセ
トネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジ
ルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジル
コニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジル
コニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフ
テン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステア
リン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、
メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレート
ジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウ
ムブトキシド等が挙げられる。

【０１４１】チタニウムキレート化合物としては、テト
ライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタ
ネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2-エチル
ヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、
ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレング
リコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタン
ラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタン
トリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステ
アレート等が挙げられる。

【０１４２】アルミニウムキレート化合物としては、ア
ルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウ
ムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエ
チルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレー
ト、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が
挙げられる。

【０１４３】中間層４２中には、電気特性の向上や光散
乱性の向上などの目的により、各種の有機化合物の微粉
末もしくは無機化合物の微粉末を添加することができ
る。特に、酸化チタン、酸化亜鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、
鉛白、リトポン等の白色顔料やアルミナ、炭酸カルシウ
ム、硫酸バリウム等の体質顔料としての無機顔料やテフ
ロン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、スチレン樹
脂粒子などが有効である。

【０１４４】添加微粉末の粒径は０．０１〜２μｍのも
のが用いられる。微粉末は必要に応じて添加されるが、
その添加量は中間層４２の固形分の総質量に対して、質
量比で１０〜９０質量％であることが好ましく、３０〜
８０質量％であることがより好ましい。

【０１４５】また、中間層４２中には、先に説明した電
子輸送性物質、電子輸送性顔料等を含有させることも低
残留電位化や環境安定性の観点から有効である。更に、
中間層４２の厚みは０．０１〜３０μｍであることが好
ましく、０．０５〜２５μｍであることがより好まし
い。

【０１４６】また、中間層４２を形成するための塗布液
の調製する際に、微粉末状の物質を添加する場合には樹
脂成分を溶解した溶液中に添加して分散処理が行われ
る。この分散処理方法としては、ロールミル、ボールミ
ル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロ
イドミル、ペイントシェーカーなどの方法を用いること
ができる。

【０１４７】更に、この中間層４２は導電性支持体層３
上に中間層４２を形成するための塗布液を塗布し、乾燥
させることにより形成することができる。このときの塗
布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバ
ーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コー
ティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコー
ティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を
用いることができる。

【０１４８】［第六実施形態］図６は、本発明の電子写
真感光体の第六実施形態を示す断面図である。図６に示
す電子写真感光体１５０は、感光層６を単層構造とし、
感光層６と下引層４との間に中間層４２を備える以外は
図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有す
る。

【０１４９】そして、中間層４２は、上述の図５に示し
た感光体１４０と同様の構成を有する。

【０１５０】［第七実施形態］図７は、本発明の電子写
真感光体の第七実施形態を示す断面図である。

【０１５１】図７に示す電子写真感光体１６０は、感光
層６上に保護層５を設け、感光層６と下引層４との間に
中間層４２を備える以外は図１に示した電子写真感光体
１００と同様の構成を有する。

【０１５２】そして、中間層４２は、上述の図５に示し
た感光体１４０の中間層４２と同様の構成を有する。ま
た、保護層５も上述の図３に示した感光体１２０の保護
層５と同様の構成を有する。

【０１５３】［第八実施形態］図８は、本発明の電子写
真感光体の第七実施形態を示す断面図である。

【０１５４】図８に示す電子写真感光体１７０は、感光
層６上に保護層５を設け、感光層６を単層構造とし、感
光層６と下引層４との間に中間層４２を備える以外は図
１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有す
る。

【０１５５】そして、中間層４２は、上述の図５に示し
た感光体１４０の中間層４２と同様の構成を有する。ま
た、保護層５も上述の図３に示した感光体１２０の保護
層５と同様の構成を有する。更に、感光層６も上述の図
２（ｂ）に示した感光体１１０の感光層６と同様の構成
を有する。

【０１５６】以上、本発明の電子写真感光体の好適な実
施形態について詳細に説明したが、本発明の電子写真感
光体は上記実施形態に限定されるものではない。

【０１５７】例えば、本発明の電子写真感光体の感光層
には、図１、図３及び図５に示した感光体１００、１２
０及び１３０のように２層からなる構成の場合、図２、
図２（ｂ）及び図６に示した感光体１１０、１３０及び
１５０のように単層構造の場合の何れにおいても、電子
写真装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光
・熱による感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤
・光安定剤・熱安定剤などの添加剤を添加してもよい。

【０１５８】例えば、酸化防止剤としてはヒンダードフ
ェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミ
ン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマ
ン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化
合物、有機燐化合物などが挙げられる。

【０１５９】酸化防止剤の具体的な化合物例として、フ
ェノール系酸化防止剤では2,6-ジ-t-ブチル-4-メチル
フェノール、スチレン化フェノール、n-オクタデシル-3
-(3',5'-ジ-t-ブチル 4'-ヒドロキシフェニル)-プロピ
オネート、2,2'-メチレン-ビス-(4-メチル-6-t-ブチル
フェノール)、2-t-ブチル-6-(3'-t-ブチル-5'-メチル-
2'-ヒドロキシベンジル)-4-メチルフェニル アクリレー
ト、4,4'-ブチリデン-ビス-(3-メチル-6-t-ブチル-フェ
ノール)、4,4'-チオ-ビス-(3-メチル 6-t-ブチルフェノ
ール)、1,3,5-トリス(4-t-ブチル-3-ヒドロキシ-2,6-ジ
メチル ベンジル)イソシアヌレート、テトラキス-[メチ
レン-3-(3',5'-ジ-t-ブチル-4'-ヒドロキシ-フェニル)
プロピオネート]-メタン、3,9-ビス[2-[3-(3-t-ブチル-
4-ヒドロキシ-5-メチル フェニル)プロピオニルオキシ]
-1,1-ジメチル エチル]-2,4,8,10-テトラオキサスピロ
[5,5]ウンデカンなどが挙げられる。

【０１６０】ヒンダードアミン系化合物としては、ビス
(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)セバケート、ビ
ス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)セバケー
ト、1-[2-[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)
プロピオニルオキシ]エチル]-4-[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4
-ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]-2,2,6,6-テ
トラメチルピペリジン、8-ベンジル-7,7,9,9-テトラメ
チル-3-オクチル-1,3,8-トリアザスピロ[4,5]ウンデカ
ン-2,4-ジオン、4-ベンゾイルオキシ-2,2,6,6-テトラメ
チルピペリジン、コハク酸ジメチル-1-(2-ヒドロキシエ
チル)-4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン
重縮合物、ポリ[[6-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)イミ
ノ-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイミル][(2,2,6,6-テトラ
メチル-4-ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,3,6,6
-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ]]、2-(3,5-ジ-t-
ブチル-4-ヒドロキシベンジル)-2-n-ブチルマロン酸ビ
ス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)、N,N'-ビス
(3-アミノプロピル)エチレンジアミン-2,4-ビス[N-ブチ
ル-N-(1,2,2,6,6,-ペンタメチル-4ピペリジル)アミノ]-
6-クロロ-1,3,5-トリアジン縮合物などが挙げられる。

【０１６１】有機イオウ系酸化防止剤としては、ジラウ
リル-3,3'-チオジプロピオネート、ジミリスチル-3,3'-
チオジプロピオネート、ジステアリル-3,3'-チオジプロ
ピオネート、ペンタエリスリトール-テトラキス-(β-ラ
ウリル-チオプロピオネート)、ジトリデシル-3,3'-チオ
ジプロピオネート、2-メルカプト ベンズイミダゾール
などが挙げられる。有機燐系酸化防止剤としてトリスノ
ニルフェニル フォスフィート、トリフェニル フォスフ
ィート、トリス(2,4-ジ-t-ブチル フェニル)-フォスフ
ィートなどが挙げられる。

【０１６２】有機硫黄系および有機燐系酸化防止剤は2
次酸化防止剤と言われフェノール系あるいはアミン系な
どの1次酸化防止剤と併用することにより相乗効果を得
ることができる。

【０１６３】光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベ
ンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメ
チルピペリジン系などの誘導体が挙げられる。例えば、
ベンゾフェノン系光安定剤としては、2-ヒドロキシ-4-
メトキシ ベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-オクトキシ
ベンゾフェノン、2,2'-ジ-ヒドロキシ-4-メトキシ ベ
ンゾフェノンなどが挙げられる。

【０１６４】ベンゾトリアゾール系系光安定剤として
は、2-(-2'-ヒドロキシ-5'メチル フェニル-)-ベンゾト
リアゾール、2-[2'-ヒドロキシ-3'-(3'',4'',5'',6''-
テトラ-ヒドロフタルイミド-メチル)-5'-メチルフェニ
ル]-ベンゾトリアゾール、2-(-2'-ヒドロキシ-3'-t-ブ
チル 5'-メチルフェニル-)-5-クロロ ベンゾトリアゾー
ル、2-(2'-ヒドロキシ-3'-t-ブチル 5'-メチルフェニル
-)-5-クロロ ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-
3',5'-t-ブチルフェニル-)-ベンゾトリアゾール、2-(2'
-ヒドロキシ-5'-t-オクチル フェニル)-ベンゾトリアゾ
ール、2-(2'-ヒドロキシ 3',5'-ジ-t-アミル フェニル
-)-ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。

【０１６５】その他の化合物としては、2,4,ジ-t-ブチ
ルフェニル 3',5'-ジ-t-ブチル-4'-ヒドロキシベンゾエ
ート、ニッケル ジブチル-ジチオカルバメートなどがあ
る。

【０１６６】また、感光層６には、感度の向上、残留電
位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として少
なくとも1種の電子受容性物質を含有させることができ
る。

【０１６７】使用可能な電子受容性物質としては、例え
ば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン
酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラ
シアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o-ジニト
ロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニ
トロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリ
ン酸、o-ニトロ安息香酸、p-ニトロ安息香酸、フタル酸
などが挙げられる。

【０１６８】これらのうち、フルオレノン系、キノン系
や、−Cl,−CN,−NO₂等の電子吸引性置換基を有するベ
ンゼン誘導体が特に好ましく用いられる。更に、本発明
の感光層形成用塗布液には、塗膜の平滑性向上のための
レベリング剤としてシリコーンオイルを微量添加するこ
ともできる。

【０１６９】以上説明した本発明の本発明の電子写真感
光体は、近赤外光もしくは可視光に発光するレーザービ
ームプリンター、デイジタル複写機、LEDプリンター、
レーザーファクシミリなどの電子写真装置や、このよう
な電子写真装置に備えれられるプロセスカートリッジに
搭載することができる。また、本発明の電子写真感光体
は一成分系、二成分系の正規現像剤あるいは反転現像剤
とも合わせて用いることができる。また本発明の電子写
真感光体は帯電ローラーや帯電ブラシを用いた接触帯電
方式の電子写真装置に搭載されても電流リークの発生が
少ない良好な特性が得られる。

【０１７０】次に、本発明の本発明の電子写真感光体を
搭載した電子写真装置及びプロセスカートリッジについ
て説明する。

【０１７１】図９は、本発明の電子写真装置の好適な一
実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。図９
に示す電子写真装置２００は、電子写真感光体７と、電
子写真感光体７をコロナ放電方式により帯電させるコロ
トロンやスコロトロンなどの帯電手段８と、帯電手段８
に接続された電源９と、帯電手段８により帯電される電
子写真感光体７を露光して静電潜像を形成する露光手段
１０と、露光手段１０により形成された静電潜像をトナ
ーにより現像してトナー像を形成する現像手段１１と、
現像手段１１により形成されたトナー像を被転写媒体に
転写する転写手段１２と、クリーニング装置１３と、除
電器１４と、定着装置１５とを備える。

【０１７２】また、図１０は、図９に示す本発明の電子
写真装置の別の実施形態の基本構成を概略的に示す断面
図である。

【０１７３】図１０に示す電子写真装置２１０は、電子
写真感光体７を接触方式により帯電させる帯電手段８を
備えていること以外は、図９に示した電子写真装置２０
０と同様の構成を有する。特に、直流電圧に交流電圧を
重畳した接触式の帯電手段を採用する電子写真装置にお
いては、優れた耐摩耗性を有するため、好ましく使用で
きる。なお、この場合には、除電器１４が設けられてい
ないものもある。

【０１７４】帯電手段（帯電用部材）８は、感光体７の
表面に接触するように配置され、感光体に電圧を均一に
印加し、感光体表面を所定の電位に帯電させるものであ
る。帯電手段８にはアルミニウム、鉄、銅などの金属、
ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェンなどの
導電性高分子材料、ポリウレタンゴム、シリコーンゴ
ム、エピクロロヒドリンゴム、エチレンプロピレンゴ
ム、アクリルゴム、フッソゴム、スチレンーブタジエン
ゴム、ブタジエンゴム等のエラストマー材料にカーボン
ブラック、沃化銅、沃化銀、硫化亜鉛、炭化けい素、金
属酸化物などの金属酸化物粒子を分散したものなどを用
いることができる。

【０１７５】この金属酸化物の例としてはZｎO、SnO₂、
TiO₂、In₂O₃、MoO₃等、あるいはこれらの複合酸化物が
挙げられる。また、帯電手段８にはエラストマー材料中
に過塩素酸塩を含有させて導電性を付与したものを使用
しても良い。

【０１７６】更に、帯電手段８にはその表面に被覆層を
設けてもよい。被覆層を形成する材料としては、N-アル
コキシメチル化ナイロン、セルロース樹脂、ビニルピリ
ジン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポリビニル
ブチラール、メラミン等が単独、あるいは併用して用い
られる。また、エマルジョン樹脂系材料、たとえば、ア
クリル樹脂エマルジョン、ポリエステル樹脂エマルジョ
ン、ポリウレタン、特にソープフリーのエマルジョン重
合により合成されたエマルジョン樹脂を用いることも出
来る。

【０１７７】これらの樹脂にはさらに抵抗率を調整する
ために、導電剤粒子を分散してもよいし、劣化を防止す
るために酸化防止剤を含有させることもできる。また、
被覆層を形成する時の成膜性を向上させるために、エマ
ルジョン樹脂にレベリング剤または界面活性剤を含有さ
せることもできる。また、この接触帯電用部材の形状と
しては、ローラー型、ブレード型、ベルト型、ブラシ
型、などが挙げられる。

【０１７８】さらに、帯電手段８の電気抵抗値は、好ま
しくは10²〜10¹⁴Ωcm、さらに好ましくは10²〜10¹²Ωcm
の範囲が良い。また、この接触帯電用部材への印加電圧
は、直流、交流いずれも用いることができる。又、直流
＋交流の形で印加することもできる。

【０１７９】図１１は図９に示す本発明の電子写真装置
の更に別の実施形態の基本構成を概略的に示す断面図で
ある。図１１に示す電子写真装置２２０は中間転写方式
の電子写真装置であり、ハウジング４００内において４
つの電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄが中間転写ベル
ト４０９に沿って相互に並列に配置されている。

【０１８０】ここで、電子写真装置２２０に搭載されて
いる電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄは、それぞれ本
発明の電子写真感光体である。例えば、先に述べた電子
写真感光体１００、電子写真感光体１１０、電子写真感
光体１２０、電子写真感光体１３０、電子写真感光体１
４０、電子写真感光体１５０、電子写真感光体１６０、
電子写真感光体１７０のいずれかが搭載されていてもよ
い。

【０１８１】電子写真感光体１ａ〜４０１ｄのそれぞれ
は所定の方向（紙面上は反時計回り）に回転可能であ
り、その回転方向に沿って帯電ロール４０２ａ〜４０２
ｄ、現像装置４０４ａ〜４０４ｄ、１次転写ロール４１
０ａ〜４１０ｄ、クリーニングブレード１５ａ〜１５ｄ
が配置されている。現像装置４０４ａ〜４０４ｄのそれ
ぞれにはトナーカートリッジ４０５ａ〜４０５ｄに収容
されたブラック、イエロー、マゼンタ、シアンの４色の
トナーが供給可能であり、また、１次転写ロール４１０
ａ〜４１０ｄはそれぞれ中間転写体９を介して電子写真
感光体１ａ〜４０１ｄに当接している。

【０１８２】更に、ハウジング４００内の所定の位置に
はレーザ光源（露光手段）４０３が配置されており、レ
ーザ光源４０３から出射されたレーザー光を帯電後の電
子写真感光体１ａ〜４０１ｄの表面に照射することが可
能となっている。これにより、電子写真感光体１ａ〜４
０１ｄの回転工程において帯電、露光、現像、１次転
写、クリーニングの各工程が順次行われ、各色のトナー
像が中間転写ベルト４０９上に重ねて転写される。

【０１８３】中間転写ベルト４０９は駆動ロール４０
６、バックアップロール４０８及びテンションロール４
０７により所定の張力をもって支持されており、これら
のロールの回転によりたわみを生じることなく回転可能
となっている。また、２次転写ロール４１３は、中間転
写体９を介してバックアップロール４０８と当接するよ
うに配置されている。バックアップロール４０８と２次
転写ロール４１３との間を通った中間転写ベルト４０９
はクリーニングブレード１４により清浄面化された後、
次の画像形成プロセスに繰り返し供される。

【０１８４】また、ハウジング４００内の所定の位置に
はトレイ（被転写媒体トレイ）４１１が設けられてお
り、トレイ４１１内の紙などの被転写媒体が移送ロール
４１２により中間転写ベルト４０９と２次転写ロール４
１３との間、さらには相互に当接する２個の定着ロール
４１４の間に順次移送された後、ハウジング４００の外
部に排紙される。

【０１８５】更に、図１２は、本発明のプロセスカート
リッジの好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断
面図である。プロセスカートリッジ３００は、電子写真
感光体７とともに、帯電手段８、現像手段１１、クリー
ニング装置（クリーニング手段）１３、露光のための開
口部１８、及び除電器１４を取り付けレール１６を用い
て組み合せ、そして一体化したものである。

【０１８６】そして、このプロセスカートリッジ３００
は、転写手段１２と、定着装置１５と、図示しない他の
構成部分とからなる電子写真装置本体に対して着脱自在
としたものであり、電子写真装置本体とともに電子写真
装置を構成するものである。

【０１８７】

【実施例】以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の内
容をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例
に何ら限定されるものではない。

【０１８８】以下に示す手順により図１に示した電子写
真感光体１００と同様の構成を有する実施例１〜実施例
４、比較例１〜比較例６の電子写真感光体を作製した。

【０１８９】なお、各電子写真感光体の下引層を作製す
る際、金属酸化物粒子Ａの蛍光Ｘ線分析は蛍光Ｘ線分析
装置（商品名：システム３３７０Ｅ，理学電気社製）を
用いて以下の条件で行った。すなわち、Ｘ線源のターゲ
ット：Ｒｈ，Ｘ線源への印加電圧：５０ｋＶ，電流値：
５０ｍＡとし、光学系の分光結晶には、測定対象となる
金属酸化物粒子Ａ中の検出元素の種類に応じてＬｉＦ，
ＴＡＰ，ＰＥＴ，Ｇｅを使用した。また、検出器はシン
チレーションカウンターとフォトカウンターを用いた。
更に、分光器の走査はスキップスキャン法を用い、１ス
テップあたり０．０５度の角度に設定して特性Ｘ線強度
の測定を行った。

【０１９０】また、金属酸化物粒子Ｂ或いは金属酸化物
粒子Ａの比表面積の測定は、流動式比表面積自動測定装
置フローソーブII２３００型（島津製作所社製）を用
い、測定対象となる金属酸化物粒子２００ｍｇを２００
℃、３０分脱ガス処理を行った後、ＢＥＴ１点法にて比
表面積値を測定した。

【０１９１】（実施例１）以下の手順にて図１に示した
電子写真感光体１００と同様の構成を有する感光体を作
製した。

【０１９２】酸化スズ（商品名：Ｓ１，三菱マテリアル
製，比表面積：５０ｍ²／ｇ）：１００質量部をトルエ
ン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤
（商品名：Ａ１１００，日本ユニカー社製）：１５質量
部を添加し、５時間攪拌した。その後、トルエンを減圧
蒸留にて留去し、１００℃で２時間焼き付けを行った。

【０１９３】得られた表面処理後の酸化スズに対して上
述の蛍光Ｘ線分析をおこなった結果、「Ｓｉの特性Ｘ線
強度Ｉ１／Ｓｎの特性Ｘ線強度Ｉ２」は２．０×１０^-4
であった。また、表面処理後の酸化スズの比表面積は６
０ｍ²／ｇであった。

【０１９４】次に、表面処理後の酸化スズ：３５質量部
と、硬化剤（ブロック化イソシアネート スミジュール3
175，住友バイエルンウレタン社製） ：１５質量部と、
ブチラール樹脂 BM-1 (積水化学社製)：６質量部と、メ
チルエチルケトン：４４質量部とを混合し、1mmφのガ
ラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い
分散液を得た。

【０１９５】得られた分散液に触媒としてジオクチルス
ズジラウレート：０．００５質量部と、シリコーンオイ
ルＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニングシリコーン社
製）：０．０１質量部とを添加し、下引層用塗布液を得
た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３
４０ｍｍ、厚さ１ｍｍのアルミニウム基材（導電性支持
体層）上に塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行
い厚さ２０μｍの下引層を形成した。

【０１９６】次に、下引層上に２層構造の感光層を形成
した。まず、電荷発生物質としてのCukα線を用いたＸ
線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．２°)が少
なくとも７．４゜，１６．６゜，２５．５゜，２８．３
゜の位置に回折ピークを有する塩化ガリウムフタロシア
ニン：１５質量部、バインダー樹脂となる塩化ビニル・
酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社
製）１０質量部、ｎ-ブチルアセテート：３００質量部
からなる混合物を、1mmφのガラスビーズを用いてサン
ドミルにて４時間分散した。

【０１９７】得られた分散液を電荷発生層形成用の塗布
液として下引層上に浸漬塗布し、乾燥して、層厚が０．
２μｍの電荷発生層を形成した。

【０１９８】さらに、N,N'-シ゛フェニル-N,N'-ヒ゛ス(3-メチルフェニ
ル)-[1、1']ヒ゛フェニル-4,4'-シ゛アミン：４質量部と、ビスフェノ
ールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量４万）：
６質量部とをクロロベンゼン：８０質量部に加えて溶解
した。得られた分散液を電荷輸送層形成用の塗布液とし
て電荷発生層上に浸漬塗布し、１３０℃、４０分の乾燥
を行うことにより層厚が２５μmの電荷輸送層を形成し
た。

【０１９９】（実施例２）以下の手順にて図１に示した
電子写真感光体１００と同様の構成を有する感光体を作
製した。

【０２００】酸化チタン（商品名：TAF５００J，富士チ
タン社製，比表面積：１８ｍ²／ｇ）：１００質量部を
ミキサ中で攪拌しながら、これにトルエン１０質量部と
シランカップリング剤（商品名：KBM503，信越化学社
製）：２質量部との混合液を添加し、１０分間攪拌し
た。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、１７０℃
で２時間焼き付けを行った。

【０２０１】得られた表面処理後の酸化チタンに対して
上述の蛍光Ｘ線分析をおこなった結果、「Ｓｉの特性Ｘ
線強度Ｉ１／Ｔｉの特性Ｘ線強度Ｉ２」は２．０×１０
^-4であった。また、表面処理後の酸化スズの比表面積は
２０ｍ²／ｇであった。

【０２０２】次に、表面処理後の酸化チタン：５０質量
部と、硬化剤（ブロック化イソシアネート スミジュー
ル3175，住友バイエルンウレタン社製） ：１５質量部
と、ブチラール樹脂 BM-1 (積水化学社製)：６質量部
と、メチルエチルケトン：６０質量部とを混合し、1mm
φのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間の分散
を行い分散液を得た。

【０２０３】得られた分散液に触媒としてジオクチルス
ズジラウレート：０．００５質量部と、シリコーンオイ
ルＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニングシリコーン社
製）：０．０１質量部とを添加し、下引層用塗布液を得
た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３
４０ｍｍ、厚さ１ｍｍのアルミニウム基材（導電性支持
体層）上に塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行
い厚さ２０μｍの下引層を形成した。

【０２０４】次に、実施例１と同様の手順で電荷発生層
と電荷輸送層とを順次形成し、電子写真感光体を作製し
た。

【０２０５】（実施例３）以下の手順にて図１に示した
電子写真感光体１００と同様の構成を有する感光体を作
製した。

【０２０６】酸化亜鉛（平均粒子径７０μｍ，テイカ社
製試作品，比表面積：１５ｍ²／ｇ）：１００質量部を
トルエン５００質量部と撹拌混合し、これにシランカッ
プリング剤（商品名：KBM６０３，信越化学社製）：
１．５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、トル
エンを減圧蒸留にて留去し、１５０℃で２時間焼き付け
を行った。

【０２０７】得られた表面処理後の酸化亜鉛に対して上
述の蛍光Ｘ線分析をおこなった結果、「Ｓｉの特性Ｘ線
強度Ｉ１／Ｚｎの特性Ｘ線強度Ｉ２」は１．５×１０^-5
であった。また、表面処理後の酸化スズの比表面積は１
５ｍ²／ｇであった。

【０２０８】次に、表面処理後の酸化亜鉛：６０質量部
と、硬化剤（ブロック化イソシアネート スミジュール3
175，住友バイエルンウレタン社製） ：１５質量部と、
ブチラール樹脂 BM-1 (積水化学社製)：１５質量部と、
メチルエチルケトン：８５質量部とを混合した。得られ
た液：８質量部とメチルエチルケトン：２５質量部とを
混合し、1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて
２時間の分散を行い分散液を得た。

【０２０９】得られた分散液に触媒としてジオクチルス
ズジラウレート：０．００５質量部と、シリコーンオイ
ルＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニングシリコーン社
製）：０．０１質量部とを添加し、下引層用塗布液を得
た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３
４０ｍｍ、厚さ１ｍｍのアルミニウム基材（導電性支持
体層）上に塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行
い厚さ２０μｍの下引層を形成した。

【０２１０】次に、下引層上に２層構造の感光層を形成
した。まず、電荷発生物質としてのCukα線を用いたＸ
線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．２°)が少
なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０
゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタ
ロシアニン：１５質量部、バインダー樹脂となる塩化ビ
ニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカ
ー社製）１０質量部、ｎ-ブチルアセテート：３００質
量部からなる混合物を、1mmφのガラスビーズを用いて
サンドミルにて４時間分散した。

【０２１１】得られた分散液を電荷発生層形成用の塗布
液として下引層上に浸漬塗布し、乾燥して、層厚が０．
２μｍの電荷発生層を形成した。次に、実施例１と同様
の手順で電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作製し
た。

【０２１２】（実施例４）以下の手順にて図１に示した
電子写真感光体１００と同様の構成を有する感光体を作
製した。

【０２１３】酸化亜鉛（商品名：ＭＺ３００，テイカ社
製，比表面積：４０ｍ²／ｇ）：１００質量部をトルエ
ン５００質量部と攪拌混合し、これにシランカップリン
グ剤（商品名：KBM４０３，信越化学社製）：５質量部
を添加し、２時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸
留にて留去し、１５０℃で２時間焼き付けを行った。

【０２１４】得られた表面処理後の酸化亜鉛に対して上
述の蛍光Ｘ線分析をおこなった結果、「Ｓｉの特性Ｘ線
強度Ｉ１／Ｚｎの特性Ｘ線強度Ｉ２」は５．０×１０^-5
であった。また、表面処理後の酸化スズの比表面積は３
０ｍ²／ｇであった。

【０２１５】次に、表面処理後の酸化亜鉛：６０質量部
と、硬化剤（ブロック化イソシアネート スミジュール3
175，住友バイエルンウレタン社製） ：１５質量部と、
ブチラール樹脂 BM-1 (積水化学社製)：１５質量部と、
メチルエチルケトン：８５質量部とを混合した。得られ
た液：３８質量部とメチルエチルケトン：２５質量部と
を混合し、1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルに
て２時間の分散を行い分散液を得た。

【０２１６】得られた分散液に触媒としてジオクチルス
ズジラウレート：０．００５質量部と、シリコーンオイ
ルＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニングシリコーン社
製）：０．０１質量部とを添加し、下引層用塗布液を得
た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３
４０ｍｍ、厚さ１ｍｍのアルミニウム基材（導電性支持
体層）上に塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行
い厚さ２０μｍの下引層を形成した。

【０２１７】次に、下引層上に２層構造の感光層を形成
した。まず、電荷発生物質としてのCukα線を用いたＸ
線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．２°)が少
なくとも２７．３゜の位置に回折ピークを有するオキシ
チタニルフタロシアニン：１５質量部、バインダー樹脂
となる塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣ
Ｈ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ-ブチルアセテ
ート：３００質量部からなる混合物を、1mmφのガラス
ビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。

【０２１８】得られた分散液を電荷発生層形成用の塗布
液として下引層上に浸漬塗布し、乾燥して、層厚が０．
２μｍの電荷発生層を形成した。次に、実施例１と同様
の手順で電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作製し
た。

【０２１９】（比較例１）実施例１で用いた金属酸化物
微粒子を表面処理しないで使用したこと以外は、実施例
１と同様にして電子写真感光体を作製した。

【０２２０】（比較例２）実施例２で用いた金属酸化物
微粒子を表面処理しないで使用したこと以外は、実施例
２と同様にして電子写真感光体を作製した。

【０２２１】（比較例３）実施例３で用いた金属酸化物
微粒子を表面処理しないで使用したこと以外は、実施例
３と同様にして電子写真感光体を作製した。

【０２２２】（比較例４）実施例４で用いた金属酸化物
微粒子を表面処理しないで使用したこと以外は、実施例
４と同様にして電子写真感光体を作製した。

【０２２３】（比較例５）実施例３で用いたシランカッ
プリング剤（商品名：KBM503，信越化学社製）の添加量
を３０質量部にかえたこと以外は、実施例３と同様にし
て電子写真感光体を作製した。

【０２２４】得られた表面処理後の酸化亜鉛に対して上
述の蛍光Ｘ線分析をおこなった結果、「Ｓｉの特性Ｘ線
強度Ｉ１／Ｚｎの特性Ｘ線強度Ｉ２」は２．０×１０^-3
であった。また、表面処理後の酸化スズの比表面積は１
５ｍ²／ｇであった。

【０２２５】（比較例６）実施例４で用いたシランカッ
プリング剤（商品名：KBM503，信越化学社製）の添加量
を０．０５質量部にかえたこと以外は、実施例４と同様
にして電子写真感光体を作製した。

【０２２６】得られた表面処理後の酸化亜鉛に対して上
述の蛍光Ｘ線分析をおこなった結果、「Ｓｉの特性Ｘ線
強度Ｉ１／Ｚｎの特性Ｘ線強度Ｉ２」は５．０×１０^-8
であった。また、表面処理後の酸化スズの比表面積は３
０ｍ²／ｇであった。

【０２２７】［電子写真感光体の電子写真特性評価試
験］ （１）使用初期の特性評価（初期電位測定） 実施例１〜実施例４及び比較例１〜比較例６の電子写真
感光体を図９と同様の構造を有するレーザープリンタ−
スキャナー（商品名：XP-15の改造機、富士ゼロックス
社製）に搭載し、それぞれの電子写真感光体の電子写真
特性を以下のように評価した。

【０２２８】常温常湿（２０℃、４０％ＲＨ）環境下、
グリッド印加電圧−７００Ｖのスコロトロン帯電器で各
電子写真感光体を帯電させたときの各電子写真感光体の
表面の電位Ａ［Ｖ］を測定した。次に、７８０ｎｍの半
導体レーザーを用いて、帯電させてから1秒後の各電子
写真感光体に１０ｍＪ/ｍ²の光を照射して放電を行わ
せ、このときの各電子写真感光体の表面の電位Ｂ［Ｖ］
を測定した。続いて、放電させてから３秒後各電子写真
感光体に５０ｍＪ/ｍ²の赤色ＬＥＤ光を照射して除電を
行い、このときの各電子写真感光体の表面の電位Ｃ
［Ｖ］を測定した。

【０２２９】ここで、電位Ａの値が高いほど、電子写真
感光体の受容電位が高いので、コントラストを高く取る
ことができることになる。また、電位Ｂの値が低いほど
高感度な電子写真感光体であることになる。更に、電位
Ｃの値が低いほど残留電位が少なく、画像メモリーやい
わゆるかぶりが少ない電子写真感光体と評価される。こ
れらの結果を表１に示す。

【０２３０】（２）繰り返し使用後の特性評価 上記の操作を1万回繰り返し、帯電、露光後の電位Ａ〜
電位Ｃの測定を行った。これらの結果を表１に示す。

【０２３１】（３）使用環境の変化に対する安定性評価 上記の操作を低温低湿（10℃、15％ＲＨ）、高温高湿
（28℃、85%ＲＨ）の２つの異なる環境下で行い、帯
電、露光後の電位Ａ〜電位Ｃの測定を行った。そして、
これらの異なる環境間での電位Ａ〜電位Ｃの値の変動量
（ΔＡ、ΔＢ、ΔＣ）を測定し、使用環境の変化に対す
る各電子写真感光体の安定性評価を行った。これらの結
果を表１に示す。

【０２３２】（４）１万枚プリント後の画質評価 実施例１〜実施例４及び比較例１〜比較例６の電子写真
感光体を図１１と同様の構造を有する接触帯電装置、中
間転写装置を有するフルカラープリンター（商品名：Do
cu Print C620、富士ゼロックス社製）に搭載し、１万
枚の紙への連続プリントテストを行った。

【０２３３】そして、１万枚プリント後の画質を、「異
常なし」；良好な画質が得られた、「全面かぶり発
生」；紙面全体に微細な黒点がみられる、「黒点発
生」；紙面に大きな黒点がみられる、とした評価基準の
もとで評価した。これらの結果を表１に示す。

【０２３４】

【表１】

【０２３５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の電子写真
感光体の製造方法によれば、繰り返し使用に伴う電気特
性の低下を十分に防止することのできる高い耐久性と高
い解像品質を得ることができる電子写真感光体を提供す
ることができる。そして、このような電子写真感光体を
備えることにより、長期にわたり繰り返し使用しても高
い解像品質を得ることのできるプロセスカートリッジ並
びに電子写真装置を提供することできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の電子写真感光体の第一実施形態を示す
断面図である。

【図２】本発明の電子写真感光体の第二実施形態を示す
断面図である。

【図３】本発明の電子写真感光体の第三実施形態を示す
断面図である。

【図４】本発明の電子写真感光体の第四実施形態を示す
断面図である。

【図５】本発明の電子写真感光体の第五実施形態を示す
断面図である。

【図６】本発明の電子写真感光体の第六実施形態を示す
断面図である。

【図７】本発明の電子写真感光体の第七実施形態を示す
断面図である。

【図８】本発明の電子写真感光体の第八実施形態を示す
断面図である。

【図９】本発明の電子写真装置の好適な一実施形態の基
本構成を概略的に示す断面図である。

【図１０】図９に示す本発明の電子写真装置の別の実施
形態の基本構成を概略的に示す断面図である。

【図１１】図９に示す本発明の電子写真装置の更に別の
実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。

【図１２】本発明のプロセスカートリッジの好適な一実
施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。

【符号の説明】

１…電荷発生層、３…導電性支持体層、４…下引層、５
…保護層、６…感光層、７…電子写真感光体、８…帯電
手段、９…電源、１０…露光手段、１１…現像手段、１
２…転写手段、１３…クリーニング装置、１４…除電
器、１６…取り付けレール、１８…露光のための開口
部、４２…中間層、１００，１１０，１２０，１３０，
１４０，１５０，１６０，１７０…電子写真感光体、２
００…電子写真装置、２１０…電子写真装置、３００…
プロセスカートリッジ、４００・・・ハウジング、４０１
ａ〜４０１ｄ・・・電子写真感光体、４０２ａ〜４０２ｄ・
・・帯電ロール、４０３・・・レーザ光源（露光装置）、４
０４ａ〜４０４ｄ・・・現像装置、４０５ａ〜４０５ｄ・・・
トナーカートリッジ、４０６・・・駆動ロール、４０７・・・
テンションロール、４０８・・・バックアップロール、４
０９・・・中間転写ベルト、４１０ａ〜４１０ｄ・・・１次転
写ロール、４１１・・・トレイ（被転写体トレイ）、４１
２・・・移送ロール、４１３・・・２次転写ロール、４１４・・
・定着ロール。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 相田 美智子 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 江角 鉄也 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 山田 貴史 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 竹川 一郎 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 Ｆターム(参考） 2H068 AA44 BA58 CA22 CA29 CA37 FA01 FA19 FA27 FC11

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性支持体層と、顔料を含む感光層
   と、前記導電性支持体層と前記感光層との間に配置され
   る下引層と、を有しており、かつ、前記下引層には、加
   水分解性の官能基を有する有機金属化合物を用いて表面
   処理された金属酸化物粒子が含有されている電子写真感
   光体の製造方法であって、 下記式（１）で表される条件を満たす前記表面処理され
   た金属酸化物粒子を用いて前記下引層を形成すること、 を特徴とする電子写真感光体の製造方法。 １．０×１０^-6≦（Ｉ１／Ｉ２）≦１．０×１０^-3・・・（１） ［式（１）中、Ｉ１は、前記表面処理された金属酸化物
   粒子に対する蛍光Ｘ線分析から得られる前記有機金属化
   合物を構成する金属元素の特性Ｘ線強度を示し、 Ｉ２は、前記表面処理された金属酸化物粒子を構成する
   金属元素の特性Ｘ線強度を示す。］
2. 【請求項２】 前記下引層の層厚を１５〜５０μｍに調
   節することを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光
   体の製造方法。
3. 【請求項３】 導電性支持体層と、顔料を含む感光層
   と、前記導電性支持体層と前記感光層との間に配置され
   る下引層と、を有する電子写真感光体であって、 前記下引層には、加水分解性の官能基を有する有機金属
   化合物を用いて表面処理された金属酸化物粒子が含有さ
   れており、 前記表面処理された金属酸化物粒子が、下記式（１）で
   表される条件を満たしていること、を特徴とする電子写
   真感光体。 １．０×１０^-6≦（Ｉ１／Ｉ２）≦１．０×１０^-3・・・（１） ［式（１）中、 Ｉ１は、前記表面処理された金属酸化物粒子に対する蛍
   光Ｘ線分析から得られる前記有機金属化合物を構成する
   金属元素の特性Ｘ線強度を示し、 Ｉ２は、前記表面処理された金属酸化物粒子を構成する
   金属元素の特性Ｘ線強度を示す。］
4. 【請求項４】 前記下引層の層厚が１５〜５０μｍであ
   ることを特徴とする請求項３に記載の電子写真感光体。
5. 【請求項５】 請求項３又は４に記載の電子写真感光体
   と、 帯電手段、現像手段、クリーニング手段又は除電手段の
   少なくとも一つの手段とを一体に有し、電子写真装置本
   体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリ
   ッジ。
6. 【請求項６】 請求項３又は４に記載の電子写真感光体
   と、 前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、 前記帯電手段により帯電される前記電子写真感光体を露
   光して静電潜像を形成する露光手段と、 前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成す
   る現像手段と、 前記トナー像を被転写媒体に転写する転写手段と、を備
   えることを特徴とする電子写真装置。
7. 【請求項７】 前記転写手段の転写方式が、前記トナー
   像を中間転写体に１次転写し、該中間転写体上の１次転
   写像を前記被転写媒体に２次転写する中間転写方式であ
   ることを特徴とする特徴とする請求項６に記載の電子写
   真装置。