JP2000330313A

JP2000330313A - 電子写真感光体及びその製造方法

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Publication number: JP2000330313A
Application number: JP11233614A
Authority: JP
Inventors: Masahiko Hozumi; 正彦穂積; Koichi Yahagi; 浩一矢作; Hiroshi Yamamoto; 浩史山本; Katsumi Nukada; 克己額田; Hitoshi Takimoto; 整滝本; Wataru Yamada; 渉山田; Masaharu Shirai; 正治白井
Original assignee: Fuji Xerox Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date: 1998-10-08
Filing date: 1999-08-20
Publication date: 2000-11-30

Abstract

(57)【要約】【課題】電子写真感光体の表面強度が強く、磨耗が少
なく長時間使用時の信頼性を向上させた電子写真感光体
とその製造方法の提供。【解決手段】１）表面層が、微粒子とブロック型イソ
シアネートで架橋された結着樹脂とを含有する電子写真
感光体、および、２）表面層が微粒子と結着樹脂と水酸
基またはカルボキシル基を有する電荷輸送材料とを含有
し、結着樹脂と水酸基またはカルボキシル基を有する電
荷輸送材料との少なくともいずれかがブロック型イソシ
アネートで架橋されている電子写真感光体である。結着
樹脂は、ポリアミド樹脂、またはポリビニルアルコール
が好ましく用いられる。これらの電子写真感光体は、ア
ルコール溶剤を含有する塗布液を用いて浸漬塗布によっ
て製造される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複写機、プリンタ
ー及びファクシミリ等の装置に使用される電子写真用感
光体及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真方式の複写機やプリンターに用
いる感光体は、可視光に対する汎色性の感度、あるいは
半導体レーザ光に対する近赤外感度を有することが要請
されると共に、近年ますます高い信頼性と安価なコスト
を同時に実現することを求められている。これらの要請
に応えるものとしては、現在有機感光体が最も有力な技
術である。

【０００３】有機感光体は、たとえば、導電性基体上に
フタロシアニン等の光導電性顔料をバインダー樹脂中に
分散した電荷発生層を設け、その上に電荷輸送層を積層
した構造を有する。電荷輸送層は、ポリカーボネート樹
脂のような熱可塑性樹脂中にベンジジン誘導体のような
低分子の電荷輸送材料を分子分散させたものを用いるの
が一般的である。しかし、低分子の電荷輸送材料を分散
した電荷輸送層は、クリーニングブレードによる機械的
ストレスで磨耗しやすく、長時間使用時の信頼性が十分
でないという問題点があった。

【０００４】また、近年、従来の非接触のコロトロン帯
電方式と比較して飛躍的にオゾン発生量の少ない接触帯
電方式が注目されている。この、接触帯電方式は帯電ロ
ールや帯電フィルム等を感光体に接触させて帯電を行う
ものであり、確かにオゾン発生の絶対量が非接触のコロ
トロン帯電方式と比べて格段に少ないものの、放電領域
が感光体表面に近接しているため、感光体に与える放電
ストレスが非接触のコロトロン帯電方式より強く、放電
生成物が感光体の表面に付着しやすくなったり、感光体
磨耗量も大きくなり、感光体の摩耗による帯電性の低
下、感度の変化、画質上かぶりや黒線の発生等の問題を
引きおこす為、非接触コロトロン帯電方式と比較して感
光体の寿命が短くなる場合が多い。このような事情か
ら、感光体表面強度を上げ、磨耗を少なくして長時間使
用時の信頼性を向上させることが有機感光体の重要な課
題となっている。

【０００５】感光体表面を強化する方法としては、平均
粒径が使用する光の波長より小さい導電性の微粒子を分
散した表面層で感光層を保護する方法が有力である（特
公昭６３−４０３１１号公報参照）。ところが、この導
電性微粒子を分散した表面層を有する感光体において、
画質上ゴーストが発生することがあり問題であった。ま
た、このような表面層の結着樹脂としては、熱可塑性樹
脂では、強度が充分でない為不適当である。また、熱硬
化性樹脂を用いる場合、その溶解性から塗布溶剤とし
て、一般的には芳香族炭化水素系溶剤、酢酸エステル系
溶剤、ハロゲン化炭化系溶剤等の樹脂溶解性の強い溶剤
を用いざるをえない。これら溶剤は、同時に感光層樹脂
も溶解してしまうため、塗布方法としては、浸漬塗布法
のように大量の溶剤が、感光層に影響する方法は採用で
きない。さらに、熱硬化性樹脂では、塗布液状態でも硬
化反応は進行しポットライフが短いという問題もある。
そこで、塗布方法は、感光層の溶解の影響とポットライ
フの影響の少ないスプレーコーティング法などに限定さ
れてしまっていた。

【０００６】しかしながら、近年では、電子写真感光体
の塗布法としては、塗膜均一性で優れた浸漬塗布法を用
いることが一般的であり、塗布工程の自動化や設備費用
の観点から、感光体の各層の塗布方法は、浸漬塗布法で
統一することが望まれていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の技術
における上記の課題に鑑みたもので、その目的は、画質
上ゴーストの発生がなく、かつ電子写真感光体の表面強
度が強く、従来の非接触帯電方式だけでなく、接触帯電
方法においても、磨耗が少なく長時間使用時の信頼性を
向上させた電子写真感光体を提供する事である。さら
に、その電子写真感光体として、全層浸漬塗布方法が可
能である電子写真感光体の製造方法を提供することであ
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記した目的は、表面層
が微粒子とブロック型イソシアネートで架橋された結着
樹脂とを含有することを特徴とする電子写真感光体によ
って達成される。また、上記した目的は、表面層が、微
粒子、結着樹脂、及び水酸基またはカルボキシル基を有
する電荷輸送材料を含有し、結着樹脂と電荷輸送材料の
少なくとも一方がブロック型イソシアネートで架橋され
ていることを特徴とする電子写真感光体によって達成さ
れる。結着樹脂は、ポリアミド樹脂、またはポリビニル
アルコール成分を有する樹脂であることが望ましい。更
に上記した目的は、アルコール溶剤を含んだ表面塗布液
を用いて浸漬塗布により表面層を形成することを特徴と
する電子写真感光体の製造方法によって達成される。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明の電子写真用感光体は、導電
性基体上に、少なくとも感光層及び表面層が順次形成さ
れてなるものである。感光層は、単層あるいは、電荷発
生層と電荷輸送層との組み合わせのどちらかでも良い。

【００１０】導電性基体としては、電子写真感光体にお
いて使用されるものであれば、如何なるものでも使用で
きる。例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ステ
ンレス鋼等の金属類、およびアルミニウム、チタニウ
ム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウ
ム、酸化錫、酸化インジウム、ＩＴＯ等の薄膜を設けた
プラスチックフィルム等、或いは導電性付与剤を塗布、
または含浸させた紙、およびプラスチックフィルム等が
あげられる。これらの導電性支持体は、ドラム状、シー
ト状等、適宜の形状のものとして使用されるが、これら
に限定されるものではない。さらに、必要に応じて導電
性支持体の表面は、画質に影響のない範囲で各種の処理
を行うことができる。例えば、表面の酸化処理、薬品処
理或いは着色処理など、または、砂目立て、液体ホーニ
ング等の乱反射処理を行うことができる。

【００１１】導電性基体の上には、所望に応じて下引き
層が形成されてもよい。下引き層に用いられる結着剤と
して、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリ
ビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セ
ルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエス
テル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビ
ニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢
酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリ
コーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒ
ド樹脂、メラミン樹脂等の高分子樹脂化合物のほかに、
ジルコニウム、チタン、アルミニウム、マンガン、シリ
コン等を含有する有機金属化合物等が主として用いられ
る。これらの化合物は単独に或いは複数の化合物の混合
或いは重縮合物として用いることができる。また、これ
らの化合物は、下引き層に用いられる結着樹脂とともに
用いても良い。

【００１２】シリコンを含有する有機金属化合物の例と
しては、例えば、ビニルメトキシシラン、ビニルトリエ
トキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メタクリル
オキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（ア
ミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシ
エチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、
γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等である。これ
らの中でも特に好ましく用いられるシラン化合物は、ビ
ニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシ
エトキシシラン）、γ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメトキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエ
チル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル
−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メチル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロルプロピ
ルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤があげ
られる。

【００１３】チタンを含有する有機金属化合物の例とし
ては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマル
ブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ
（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルア
セトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタン
オクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウ
ム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエス
テル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキ
シチタンステアレート等があげられる。

【００１４】アルミニウムを含有する有機金属化合物の
例としては、アルミニウムイソプピレート、モノブトキ
シアルミニウムイソプロピレート、アルミニウムブチレ
ート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプ
ロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテ
ート）等があげられる。

【００１５】下引き層中には、干渉縞発生を防止する目
的や電気特性を向上する目的などにより、各種の有機ま
たは無機微粉末を混合することができる。特に、酸化チ
タン、酸化亜鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、鉛白、リトポン等
の白色顔料、アルミナ、炭酸カルシム、硫酸バリウム等
の体質顔料としての無機顔料、或いはテフロン樹脂粒
子、ベンゾクアナミン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子、シ
リコン単結晶微粉末等が有効である。添加する微粉末と
しては、粒径が０．０１μｍ〜２μｍの範囲のものが用
いられる。粒径が大きすぎると下引き層の凹凸が激しく
なり、電気的に部分的な不均一性が大きくなって、画質
欠陥を生じやすくなる。また、小粒径すぎると十分な光
散乱効果が得られない。上記微粉末は必要に応じて添加
されるが、添加される場合には下引き層の固形分に対し
て、１０〜８０重量％、より好ましくは３０〜７０重量
％の範囲で添加される。

【００１６】下引き層の膜厚を厚くすると、導電性基体
の凹凸の隠蔽性が高まるため、一般に画質欠陥は低減す
る方向にあるが、電気的な繰り返し安定性も悪くなるた
め、下引き層は、膜厚としては０．１〜５μｍの範囲に
あることが望ましい。下引き層塗布液の形成において、
上記微粉末は樹脂成分を溶解した溶液中に添加して分散
処理が行われる。微粉末を樹脂中に分散させる方法とし
ては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アト
ライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェー
カー等による方法を用いることができる。

【００１７】この下引き層上に形成される感光層は、基
本的には単層構造であっても、電荷発生層と電荷輸送層
とに機能分離された積層構造であってもよい。積層構造
の場合、電荷発生層と電荷輸送層の積層順序はいずれが
上層であってもよい。電荷発生層は電荷発生材料を結着
樹脂中に分散し塗布することにより形成される。電荷発
生材料としては、無金属フタロシアニン、チタニルフタ
ロシアニン、銅フタロシアニン、錫フタロシアニン、ガ
リウムフタロシアニン等の各種フタロシアニン顔料、ス
クエアリウム系、アントアントロン系、ペリレン系、ア
ゾ系、アントラキノン系、ピレン系、ピリリウム塩、チ
アピリリウム塩等の各種有機顔料および染料が用いられ
る。また、これらの有機顔料は一般に数種の結晶型を有
しており、特にフタロシアニン顔料ではα、β等をはじ
めとして各種の結晶型が知られているが、目的に適合し
た感度が得られる顔料であるならば、これらのいずれの
結晶型でも用いることができる。

【００１８】電荷発生層には、電荷発生材料の凝集防
止、分散性向上、電気特性の向上等、各種の目的でシラ
ンカップリング剤や有機金属アルコキシドを加えること
ができる。電荷発生層における結着樹脂としては、以下
のものを例示することができる。すなわち、ビスフェノ
ールＡタイプ或いはビスフェノールＺタイプ等のポリカ
ーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹、ア
クリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン脂、ポ
リビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合
体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸脂、シリ
コーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール
−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド脂、ポ
リ−Ｎ−ビニルカルアバゾール等である。これ等の結着
樹脂は、単独あるいは２種以上混合して用いることが可
能である。電荷発生材料と結着樹脂との配合比（重量
比）は、１０：１〜１：１０の範囲が望ましい。また、
電荷発生層の厚みは、一般には０．０１〜５μｍ、好ま
しくは０．０５〜２．０μｍの範囲に設定される。電荷
発生材料を樹脂中に分散させる方法としては、ロールミ
ル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サン
ドミル、コロイドミル等の方法を用いることができる。

【００１９】電荷輸送層に用いられる電荷輸送材料とし
ては、下記に示すものが例示できる。２，５−ビス（ｐ
−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジア
ゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリ
フェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３
−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチ
ルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、
トリフェニルアミン、トリ（ｐ−メチルフェニル）アミ
ニル−４−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３
級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビ
ス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］
４，４′−ジアミン等の方向族第３級ジアミノ化合物、
３−（４′−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−
（４′−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン
等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミ
ノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン等
のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キ
ナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，
３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベン
ゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−
Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導
体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカル
バゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよび
その誘導体などの正孔輸送物質；クロラニル、ブロアン
トラキノン等のキノン系化合物、テトラアノキノジメタ
ン系化合物，２，４，７−トリニトロフルオレノン、
２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等の
フルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン
化合物等の電子輸送物質；および上記した化合物からな
る基を主鎖または側鎖に有する重合体などがあげられ
る。これらの電荷輸送材料は、１種または２種以上を組
み合わせて使用することができる。

【００２０】電荷輸送層に用いられる結着樹脂の例とし
ては、アクリル樹脂、ポリアリレート、ポリエステル樹
脂、ビスフェノールＡタイプ或いはビスフェノールＺタ
イプ等のポリカーボネート樹脂、ポリスチレン、アクリ
ロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル・ブ
タジエン共重合体、ポリビニルブチラール、ポリビニル
ホルマール、ポリスルホン、ポリアクリルアミド、ポリ
アミド、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、およびポリビニルカ
ルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレ
ン等の有機光導電性ポリマー等があげられる。電荷輸送
層は、上に示した電荷輸送物質および結着樹脂とを適当
な溶媒に溶解させた溶液を塗布し乾燥することによって
形成することができる。電荷輸送層の形成に使用される
溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、クロルベ
ンゼン等の芳香族炭化水素系、アセトン、２−ブタノン
等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチ
レン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエー
テル等の環状或いは直鎖状エーテル、或いはこれらの混
合溶剤などを用いることができる。電荷輸送材料と上記
結着樹脂との配合比は１０：１〜１：５が好ましい。ま
た、電荷輸送層の膜厚は一般に５〜５０μｍ、好ましく
は１０〜４０μｍの範囲に設定される。

【００２１】電子写真装置中で発生するオゾンや酸化性
ガス、或いは光・熱による感光体の劣化を防止する目的
で、感光層中に酸化防止剤・光安定剤・熱安定剤などの
添加剤を添加することができる。例えば、酸化防止剤と
しては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パ
ラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキ
ノン、スピロクロマン、スピロインダノンおよびそれら
の誘導体、有機硫黄化合物、有機リン化合物等があげら
れる。光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾ
アゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペン等
の誘導体があげられる。

【００２２】感光層の上には表面層が設けられる。この
表面層は、２つのタイプがあり、第１は、表面層が微粒
子とブロック型イソシアネートで架橋された結着樹脂と
を少なくとも含有するタイプであり、第２は、表面層
が、微粒子、結着樹脂、及び水酸基を有する電荷輸送材
料を少なくとも含有し、結着樹脂と電荷輸送材料の少な
くとも一方がブロック型イソシアネートで架橋されてい
るタイプである。

【００２３】ここで微粒子としては、無機系微粒子及び
／または有機系微粒子を使用することができる。無機系
微粒子には、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化アル
ミニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、三酸化タングステ
ン、酸化錫、酸化チタン、酸化アンチモン、酸化ビスマ
ス、酸化インジウム、酸化カルシウム、硫酸バリウム、
チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン
酸バリウム、チッ化臭素、ピロリン酸第二鉄、ピロリン
酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネ
シウム、ステアリン酸アルミニウム等の微粒子が挙げら
れる。これらの無機微粒子の中でも、酸化錫、酸化アン
チモン、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ビスマス、酸化イ
ンジウム、それらの混合物および複合酸化物等の粉末等
の導電性微粒子が得られる画質の点で特に好ましい。

【００２４】有機ケイ微粒子としては、四フッ化エチレ
ン、三フッ化塩化エチレン、フッ化ビニリデン、シリコ
ーン樹脂、ポリメチルメタアクリレート等の微粒子が挙
げられる。

【００２５】電子写真感光体の表面層に含有される微粒
子の平均粒径は、０．０１μｍ〜２μｍが好ましく、よ
り好ましくは０．０１μｍ〜１μｍ，さらに好ましくは
０．０１μｍ〜０．３μｍである。また、微粒子は、１
０¹⁰Ω以下の抵抗値を有する導電性微粒子であることが
画質の点から望ましい。微粒子の平均粒径が０．０１μ
ｍ未満になると、分散により微粒子化するのに膨大な時
間がかかり製造上好ましくない。また、微粒子の平均粒
径が２．０μｍを超えると、画質上の解像度が劣ってし
まう。

【００２６】前記第１のタイプの表面層の場合、この表
面層に使用される結着樹脂は、ブロック型イソシアネー
トにより架橋されるものであればいかなるものでも使用
可能であり、側鎖にヒドロキシ基等の官能基を有する樹
脂が好ましく、具体的にはポリアミド樹脂、またはポリ
ビニルアルコール成分を有する樹脂が好ましい。

【００２７】前記第２のタイプの表面層の場合、この表
面層に使用される結着樹脂は、必ずしもブロック型イソ
シアネートにより架橋されるものである必要はなく、こ
の場合、水酸基またはカルボキシル基を有する電荷輸送
材料がブロック型イソシアネートにより架橋される。な
お、結着樹脂および水酸基またはカルボキシル基を有す
る電荷輸送材料のいずれもがブロック型イソシアネート
により架橋されることがより望ましい。結着樹脂がブロ
ック型イソシアネートにより架橋される樹脂の場合、こ
の結着樹脂は、前記第１のタイプの表面層における結着
樹脂と同様でよい。

【００２８】ここでポリアミド樹脂としては、アルコー
ル溶剤に可溶の共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイ
ロンが用いられる。共重合ナイロンにはナイロン６、ナ
イロン６６，ナイロン６１０，ナイロン１２等を種々に
組み合わせた共重合ナイロンが挙げられ、さらにそれら
をメトキシメチル化したものも使用可能である。また、
ポリビニルアルコール成分を有する樹脂としては、ポリ
酢酸ビニルを鹸化したポリビニルアルコール（ポリビニ
ルアルコールとポリ酢酸ビニルの共重合樹脂）、さらに
それを脂肪族アルデヒドでアセタール化したポリビニル
アセタール（ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニルと
ポリビニルアセタールの３元共重合樹脂）などが用いら
れる。ポリビニルアセタールには、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルブチラールなどが含まれる。

【００２９】前記第１のタイプの表面層の場合、電荷輸
送材料は特に制約はないが、水酸基またはカルボキシル
基を有する電荷輸送材料が好ましく、前記第２のタイプ
の表面層の場合、電荷輸送材料は水酸基またはカルボキ
シル基を有することがより好ましい。水酸基またはカル
ボキシル基を有する電荷輸送材料は、アルコールに溶解
する点から浸漬塗布液の形成に好適である。

【００３０】水酸基またはカルボキシル基を有する電荷
輸送材料としては、下記構造式（Ｉ）または構造式（Ｉ
Ｉ）のいづれかで表される化合物の少なくとも１種が挙
げられる。構造式（Ｉ）

【００３１】

【化４】

【００３２】（式中、Ｒは下記一般式 (１)または(２)
で表される構造を示し、Ｄは水酸基またはカルボキシル
基を示す。Ｔは炭素数1〜10の枝分かれしてもよい2価の
炭化水素基を示す。ｎは0または1、ｍは１から４の整数
を示す。）

【００３３】

【化５】

【００３４】（Ar₁〜Ar₇は、それぞれ独立に炭素数6〜2
0の置換、あるいは、未置換のアリール基を示し、 Xは2
価の基を示す。）構造式(ＩＩ）

【００３５】

【化６】

【００３６】（式中、Ｒ₅は水素、又は、炭素数１〜５
の範囲のアルキル基を表し、Ｘは水素、炭素数１〜５の
範囲のアルキル基、フェニル基、又は、置換基としてハ
ロゲン原子、炭素数１〜５の範囲のアルキル基若しくは
ハロゲン原子で置換されたアルキル基、又は炭素数１〜
５の範囲のアルコキシ基で置換されたフェニル基を表
し、Ｔは脂肪族部分の炭素数１〜１０の枝分かれしても
よい２価の炭化水素基を表し、ｎは０または１、Ａ
ｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ₃はフェニル基、ナフチル基、又
は、アントラセン基であり、複数個のハロゲン基、炭素
数１〜５の範囲の複数個のアルキル基、炭素数１〜５の
範囲の複数個のアルコキシ基で置換されていてもよ
い。）

【００３７】前記一般式（１）及び前記一般式（２）の
中のAr₁〜Ar₇としては、具体的には以下の構造のものが
挙げられる。

【００３８】

【化７】

【００３９】前記のR₁〜R₇はそれぞれ独立に水素、炭
素数１〜５の置換、あるいは、未置換のアルキル基、炭
素数１〜５の置換、あるいは、未置換のアルコキシ基、
ハロゲン、炭素数１〜１４の置換あるいは、未置換のア
リール基を示し、複数個置換してもよい。

【００４０】Tとしては具体的には以下の構造（Ｔ−１
〜Ｔ−３２）が挙げられる。

【化８】

【００４１】Xとしては、以下の基(1)〜(7)から選択さ
れたものが挙げられる。

【００４２】

【化９】

【００４３】前記の基(1)〜(7)中R₈は、水素原子、炭素
数1〜4のアルキル基、置換または未置換のフェニル基、
置換または未置換のアラルキル基を表し、R₉〜R₁₄は、
水素原子、炭素数1〜4の置換、あるいは、未置換のアル
キル基、炭素数1〜4の置換、あるいは、未置換のアルコ
キシ基、炭素数6〜15の置換、あるいは、未置換のフェ
ニル基、炭素数6〜15の置換、あるいは、未置換のアラ
ルキル基、ハロゲンを表し、aは、0または 1の整数を意
味する。

【００４４】なお、Xとしては、下記構造式(IV)、(V)、
(VI)で示される構造のものが、特に好ましい。

【００４５】

【化１０】

【００４６】前記基(1)〜(7)中のVは下記の基(8)〜(２
１)から選択されたものが挙げられる。

【化１１】 b，ｅは、1〜10の整数を意味し、cは、1〜3の整数を意
味し、ｈは０または１の整数を意味する。ｖは前記の同
義である。

【００４７】また、構造式（Ｉ）としては下記の構造式
（Ａ）又は構造式（Ｂ）も挙げられる。。

【００４８】構造式（Ａ）

【化１２】

【００４９】（Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃は水素原子、ハロゲン
原子、炭素数１〜５の範囲のアルキル基、炭素数１〜５
の範囲のアルコキシ基、又は、炭素数１〜２の範囲のア
ルキル基で置換されたアミノ基を表し、Ｔは脂肪族部分
の炭素数１〜１０の枝分かれしてもよい２価の炭化水素
基を表し、ｎは０又は１である。）

【００５０】構造式（Ｂ）

【化１３】

【００５１】（式中、Ｒ₄は水素原子、ハロゲン原子、
炭素数１〜５の範囲のアルキル基、炭素数１〜５の範囲
のアルコキシ基、フェニル基、又は、置換基としてハロ
ゲン原子、炭素数１〜５の範囲のアルキル基若しくはハ
ロゲン原子で置換されたアルキル基、又は炭素数１〜５
の範囲のアルコキシ基で置換されたフェニル基を表し、
Ｔは脂肪族部分の炭素数１〜１０の枝分かれしてもよい
２価の炭化水素基を表し、ｎは０又は１を表す。）

【００５２】構造式（Ａ）で表される化合物としては、
例えば［表１］に例示された化合物が挙げられる。

【００５３】

【表１】

【００５４】構造式（Ｂ）で表される化合物としては、
例えば［表２］に例示された化合物が挙げられる。

【００５５】

【表２】

【００５６】構造式（ＩＩ）で表される化合物中のＡｒ
₁の具体例としては、［表３］に例示されたものが挙げ
られる。

【００５７】

【表３】

【００５８】構造式（ＩＩ）で表される化合物中のＡｒ
₂およびＡｒ₃の具体例としては、［表４］に例示された
ものが挙げられる。

【００５９】

【表４】

【００６０】また、構造式（ＩＩ）で表される化合物の
具体例は、［表５］に例示されたものが挙げられる。

【００６１】

【表５】

【００６２】さらに構造式（Ｉ）中のＤがカルボキシル
基で表される化合物の場合、一般式（１）で表される化
合物の具体例としては、［表６］及び［表７］に例示さ
れた化合物１〜化合物１０が挙げられる。

【００６３】

【表６】

【００６４】

【表７】

【００６５】また、構造式（Ｉ）中のＤがカルボキシル
基で表される化合物の場合、一般式（２）で表される化
合物の具体例としては、［表８］〜［表１６］に例示さ
れた化合物１１〜化合物１００が挙げられる。

【００６６】

【表８】

【００６７】

【表９】

【００６８】

【表１０】

【００６９】

【表１１】

【００７０】

【表１２】

【００７１】

【表１３】

【００７２】

【表１４】

【００７３】

【表１５】

【００７４】

【表１６】

【００７５】ブロック型イソシアネートは、ポリイソシ
アネート化合物に、ある種の活性水素を有する化合物を
反応させて得られる常温では安定なものであり、これを
一定の条件下に加熱するとブロック剤が解離して、もと
の活性なイソシアネート基が再生されるものである。こ
のようなブロック型イソシアネートのベースとなるポリ
イソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネ
ート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタン-4,4'-ジイソシアネ
ート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（Ｈ
ＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ジ
シクロヘキシルメタンジイソシアネート（水添ＭＤ
Ｉ）、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート等
が挙げられ、具体的にはＨＤＩのイソシアヌネート体、
ＩＰＤＩのイソシアヌネート体、水添ＭＤＩのプレポリ
マー、ＴＤＩのプレポリマー、自己架橋型ＰＵＲ（ＭＤ
Ｉ系）のものが挙げられる。

【００７６】なお、このイソシアネートと反応させるブ
ロック剤としては、アルコール類、フェノールやクレゾ
ール等のフェノール類、カプロラクタム等のラクタム
類、メチルエチルケトオキシムやアセトオキシム等のオ
キシム類、マロン酸ジエチル、アセト酢酸エチル等のβ
-ジケトン類等が挙げられる。これらのブロック剤は解
離温度で選択される。

【００７７】表面層の膜厚は０．５〜２０μｍ、特に２
〜1０μｍであることが望ましい。表面層のが０．５μ
ｍ未満では、磨耗による耐久性が劣り、２０μｍを超え
ると、画質上の解像度が劣り好ましくない。表面層中の
導電性微粒子の含有量は5〜90wt%、好ましくは30〜80wt
%の範囲が適当である。

【００７８】

【実施例】（実施例１）４重量部のポリビニルブチラー
ル樹脂（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）を溶解し
たｎ−ブチルアルコール１７０重量部に、有機ジルコニ
ウム化合物（アセチルアセトンジルコニウムブチレー
ト）３０重量部および有機シラン化合物（γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン）３重量部を添加して混合撹
拌し、下引き層形成用の塗布液を得た。この塗布液を、
ホーニング処理により粗面化された３０ｍｍφのＥＤ管
アルミニウム基体の上に浸漬塗布し、室温で５分間風乾
を行った後、基体を１０分間で５０℃に昇温し、５０
℃、８５％ＲＨ（露点４７℃）の恒温恒湿槽中に入れ
て、２０分間加湿硬化促進処理を行った。その後、熱風
乾燥機に入れて１７０℃で１０分間乾燥を行って下引き
層を形成した。

【００７９】次に電荷発生材料として、塩化ガリウムフ
タロシアニンを用い、その１５重量部、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバ
イト社製）１０重量部およびｎ−ブチルアルコール３０
０重量部からなる混合物をサンドミルにて４時間分散し
た。得られた分散液を、上記下引き層上に浸漬塗布し、
乾燥して、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。次
に、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチ
ルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−
ジアミン４部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂
（分子量４０，０００）６重量部とをクロルベンゼン８
０重量部を加えて溶解した。得られた溶液を上記電荷発
生層の上に浸漬塗布し、乾燥することにより、膜厚２5
μｍの電荷輸送層を形成した。

【００８０】次に、導電性微粒子であるSb₂O₅ドープSnO
₂粒子（Ｔ−１、三菱マテリアル社製）８重量部を、ポ
リアミド樹脂（プラタボンドMX1602、エルフアトケムジ
ャパン社製）６重量部をｎ−ブチルアルコール５０重量
部に溶解した液に混ぜ、サンドミルにて４時間分散し
た。得られた分散液にブロック型イソシアネート（スミ
ジュールＢＬ３１７５、住友バイエルウレタン社製）８
重量部を加えた液を用いて浸漬塗布を行い、160℃１時
間の乾燥硬化処理を施し７μmの表面層を、上記電荷輸
送層の上に形成した。

【００８１】ところで、表面層塗布液の液粘度は、イソ
シアネート硬化剤として、ブロック型を使用している
為、常温（２０〜２５℃）においては経時１ヶ月でも大
きな変化はなく安定であった。また、本発明の電子写真
感光体は、表面層塗布溶剤に電荷輸送層樹脂を溶解しな
いアルコールを使用している為、上記のように全層浸漬
塗布により層形成ができ、効率的に感光体作製が行え
た。

【００８２】得られた電子写真感光体を接触帯電方式で
あるプリンター（Laser Press 4161の改造機、富士ゼロ
ックス社製）に装填し、２８℃８５％ＲＨの高温高湿環
境にて、A4サイズ、モノクロで30000枚プリントの画質
維持性と感光体摩耗量の評価をおこなった。画質につい
ては、初期から30000枚まで良好なプリントが得られ
た。感光体摩耗量は５μmであった。

【００８３】（比較例１）実施例１において、表面層を
設けなかったこと以外は、実施例１と同様にして感光体
を作製し、評価も同様に行った。得られた画質について
は26000枚時点で確認したところプリントサンプルの端
部にかぶりが生じていた。また、感光体の磨耗を調べた
ところ、電荷輸送層の端部分では、磨耗量が２２μmと
大きかった。上記のかぶりの原因は、この磨耗によるも
のと考えられる。

【００８４】(実施例２）ＥＤ管アルミニウム基体の上
に電荷輸送層までは実施例１と同様にして各層を形成し
た。次に導電性微粒子であるSnO₂粒子（Ｓ−１、三菱マ
テリアル社製）９重量部およびポリアミド樹脂（ダイア
ミドＸ１８７４Ｍ、ダイセルヒュルス社製）６重量部を
ｎ−ブチルアルコール５０重量部に溶解した液に混ぜ、
サンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にブロ
ック型イソシアネート（コロネート２５０７、日本ポリ
ウレタン社製）８重量部を加えた液を用いて浸漬塗布を
行い、160℃１時間の乾燥硬化処理を施し７μmの表面層
を、上記電荷輸送層の上に形成した。得られた感光体の
評価を実施例１と同様に行った。画質については、初期
から30000 枚まで良好なプリントが得られた。また、感
光体の磨耗量は6μｍであった。

【００８５】(比較例２）ＥＤ管アルミニウム基体の上
に電荷輸送層までは実施例１と同様にして各層を形成し
た。次に導電性微粒子であるSb₂O₅ドープSnO₂粒子（Ｔ
−１、三菱マテリアル社製）９重量部を、ポリアミド樹
脂（プラタボンドMX1602、エルフアトケムジャパン社
製）６重量部をｎ−ブチルアルコール５０重量部に溶解
した液に混ぜ、サンドミルにて４時間分散した。得られ
た分散液を用いて浸漬塗布を行い160℃１時間の乾燥硬
化処理を施し上記電荷輸送層の上に７μmの表面層を形
成した。得られた感光体の評価を実施例１と同様に行っ
た。画質については、初期から10000 枚の時点で確認し
たプリントサンプルに濃度むらが生じていた。得られた
感光体の磨耗を調べたところ，表面層が部分的に摩滅し
て電荷輸送層が露出しているところがあった。濃度むら
の原因は、表面層が部分的に摩滅しているためと考えら
れる。

【００８６】(実施例３）電荷輸送層までは実施例１と
同様にして各層を形成した。次に、導電性微粒子である
Sb₂O₅ドープSnO₂粒子（Ｔ−１、三菱マテリアル社製）
９重量部を、ポリビニルアセタール樹脂（エスレックＫ
Ｓ−１、積水化学社製）６重量部をｎ−ブチルアルコー
ル５０重量部に溶解した液に混ぜ、サンドミルにて４時
間分散した。得られた分散液にブロック型イソシアネー
ト（コロネート２５０７、日本ポリウレタン社製）８重
量部を加えた液を用いて浸漬塗布を行い、160℃１時間
の乾燥硬化処理を施し上記電荷輸送層の上に７μmの表
面層を形成した。

【００８７】ところで、表面層塗布液の液粘度は、イソ
シアネート硬化剤として、ブロック型を使用している
為、常温（２０〜２５℃）においては経時１ヶ月でも大
きな変化はなく安定であった。また、本発明の電子写真
感光体は、表面層塗布溶剤に電荷輸送層樹脂を溶解しな
いアルコールを使用している為、上記のように全層浸漬
塗布により層形成ができ、効率的に感光体作製が行え
た。得られた感光体に対し、実施例１と同様な評価を行
ったところ、画質については、画質については、初期か
ら30000 枚まで良好なプリントが得られた。また、感光
体の磨耗量は４．５μｍであった。

【００８８】（実施例４）ＥＤ管アルミニウム基体上に
電荷輸送層までは実施例１と同様にして各層を形成し
た。次に、導電性微粒子であるSnO₂粒子（Ｓ−１、三菱
マテリアル社製）１４重量部を、ポリビニルブチラール
樹脂（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）６重量部を
ｎ−ブチルアルコール５０重量部に溶解した液に混ぜ、
サンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にブロ
ック型イソシアネート（スミジュールＢＬ３１７５、住
友バイエルウレタン社製）８重量部を加えた液を用いて
浸漬塗布を行い、160℃１時間の乾燥硬化処理を施し上
記電荷輸送層の上に７μmの表面層を形成した。得られ
た感光体に対し、実施例１と同様な評価を行ったとこ
ろ、画質については、初期から30000 枚まで良好なプリ
ントが得られた。また、感光体の磨耗量は４μｍであっ
た。

【００８９】(比較例３）ＥＤ管アルミニウム基体の上
に電荷輸送層までは実施例１と同様にして各層を形成し
た。次に導電性微粒子であるSb₂O₅ドープSnO₂粒子（Ｔ
−１、三菱マテリアル社製）９重量部を、ポリビニルア
セタール樹脂（エスレックＫＳ−１、積水化学社製）６
重量部をｎ−ブチルアルコール５０重量部に溶解した液
に混ぜ、サンドミルにて４時間分散した。得られた分散
液を用いて浸漬塗布を行い160℃１時間の乾燥硬化処理
を施し上記電荷輸送層の上に７μmの表面層を形成し
た。得られた感光体の評価を実施例１と同様に行った。
画質については、初期から8000枚の時点で確認したとこ
ろプリントサンプルに濃度むらが生じていた。得られた
感光体の磨耗を調べたところ，表面層が部分的に摩滅し
て電荷輸送層が露出しているところがあった。濃度むら
の原因は、表面層が残っている部分と摩滅した部分が混
在しているためと考えられる。

【００９０】(実施例５）４重量部のポリビニルブチラ
ール樹脂（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）を溶解
したｎ−ブチルアルコール１７０重量部に、有機ジルコ
ニウム化合物（アセチルアセトンジルコニウムブチレー
ト）３０重量部および有機シラン化合物（γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン）３重量部を添加して混合撹
拌し、下引き層形成用の塗布液を得た。この塗布液を、
ホーニング処理により粗面化された８４ｍｍφのアルミ
ニウム基体の上に浸漬塗布し、室温で５分間風乾を行っ
た後、基体を１０分間で５０℃に昇温し、５０℃、８５
％ＲＨ（露点４７℃）の恒温恒湿槽中に入れて、２０分
間加湿硬化促進処理を行った。その後、熱風乾燥機に入
れて１７０℃で１０分間乾燥を行った。電荷発生材料と
して、塩化ガリウムフタロシアニンを用い、その１５重
量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣ
Ｈ、日本ユニオンカーバイト社製）１０重量部およびｎ
−ブチルアルコール３００重量部からなる混合物をサン
ドミルにて４時間分散した。得られた分散液を、上記下
引き層上に浸漬塗布し、乾燥して、膜厚０．２μｍの電
荷発生層を形成した。

【００９１】次に、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−
ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニ
ル］−４，４′−ジアミン４部とビスフェノールＺポリ
カーボネート樹脂（分子量４０，０００）６重量部とを
クロルベンゼン８０重量部を加えて溶解した。得られた
溶液を上記電荷発生層の上に浸漬塗布し、乾燥すること
により、膜厚２５μｍの電荷輸送層を形成した。

【００９２】次に、導電性微粒子であるSb₂O₅ドープSnO
₂粒子（Ｔ−１、三菱マテリアル社製）１２重量部を、
ポリアミド樹脂（プラタボンドMX1602、エルフアトケム
ジャパン社製）８重量部をｎ−ブチルアルコール２００
部に溶解した液に混ぜ、サンドミルにて６時間分散し
た。得られた分散液に、構造式（Ｄ）の電荷輸送材料を
４重量部とブロック型イソシアネート（コロネート250
7、日本ポリウレタン工業社製）１５重量部を加えた液
を用いて浸漬塗布を行い、160℃１時間の乾燥硬化処理
を施し6.5μmの表面層を、上記電荷輸送層の上に形成し
た。ところで、表面層塗布液の液粘度は、イソシアネー
ト硬化剤として、ブロック型を使用している為、常温
（２０〜２５℃）においては経時１ヶ月でも大きな変化
はなく安定であった。また、本発明の電子写真感光体
は、表面層塗布溶剤に電荷輸送層樹脂を溶解しないアル
コールを使用している為、上記のように全層浸漬塗布に
より層形成ができ、効率的に感光体作製が行えた。

【００９３】

【化１４】（ここでＲ₄=Ｈ、n=0、Ｔの置換位置は３である）

【００９４】以上により得られた電子写真感光体を接触
帯電方式であるプリンター（富士ゼロックス製 Color
Laser Wind 3310の改造機）にて、２８℃８５％ＲＨの
高温高湿環境にて、A4サイズ、モノクロで30000枚プリ
ントの画質維持性と感光体摩耗量の評価をおこなった。
画質については、初期から30000枚まで良好なプリント
が得られた。感光体摩耗量は1.5μmであった。

【００９５】（実施例６）電荷輸送層までは、実施例５
と同様にして電子写真感光体を作製した。次に、導電性
微粒子であるSnO₂粒子（Ｓ−１、三菱マテリアル社製）
1２重量部を、ポリビニルブチラール樹脂（エスレック
ＢＨ−Ｓ、積水化学社製）７重量部をｎ−ブチルアルコ
ール１００部に溶解した液に混ぜ、サンドミルにて６時
間分散した。得られた分散液に、構造式（Ｅ）の電荷輸
送材料を５重量部、ブロック型イソシアネート（スミジ
ュールBL3175、住友バイエルウレタン社製）１４重量部
を加えた液を用いて浸漬塗布を行い、160℃１時間の乾
燥硬化処理を施し６.5μmの表面層を、上記電荷輸送層
の上に形成した。評価は、実施例１と同様に実施した。
画質については、初期から30000枚まで良好なプリント
が得られた。感光体摩耗量は２μｍであった。

【００９６】

【化１５】（ここで、Ｒ₁=H，Ｒ₂=H，Ｒ₃=H、n=0、Ｔの置換位置は
３である）

【００９７】実施例５および実施例６においては、実施
例１〜実施例４に比較して感光体表面の磨耗量が少な
い。この理由は、実施例５および実施例６では電荷輸送
材料および結着樹脂がいずれもブロック型イソシアネー
トにより架橋されているため、実施例１〜実施例４に比
較して感光体表面強度が高くなっているものと考えられ
る。

【００９８】（実施例７）４重量部のポリビニルブチラ
ール樹脂（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）を溶解
したｎ−ブチルアルコール１７０重量部に、有機ジルコ
ニウム化合物（アセチルアセトンジルコニウムブチレー
ト）３０重量部および有機シラン化合物（γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン）３重量部を添加して混合撹
拌し、下引き層形成用の塗布液を得た。この塗布液を、
ホーニング処理により粗面化された８４ｍｍφのアルミ
ニウム基体の上に浸漬塗布し、室温で５分間風乾を行っ
た後、基体を１０分間で５０℃に昇温し、５０℃、８５
％ＲＨ（露点４７℃）の恒温恒湿槽中に入れて、２０分
間加湿硬化促進処理を行った。その後、熱風乾燥機に入
れて１７０℃で１０分間乾燥を行った。電荷発生材料と
して、塩化ガリウムフタロシアニンを用い、その１５重
量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣ
Ｈ、日本ユニオンカーバイト社製）１０重量部およびｎ
−ブチルアルコール３００重量部からなる混合物をサン
ドミルにて４時間分散した。得られた分散液を、上記下
引き層上に浸漬塗布し、乾燥して、膜厚０．２μｍの電
荷発生層を形成した。

【００９９】次に、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−
ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニ
ル］−４，４′−ジアミン４部とビスフェノールＺポリ
カーボネート樹脂（分子量４０，０００）６重量部とを
クロルベンゼン８０重量部を加えて溶解した。得られた
溶液を上記電荷発生層の上に浸漬塗布し、乾燥すること
により、膜厚２5μｍの電荷輸送層を形成した。

【０１００】次に、導電性微粒子であるSb₂O₅ドープSnO
₂粒子（Ｔ−１、三菱マテリアル社製）１２重量部を、
ポリアミド樹脂（プラタボンドMX1602、エルフアトケム
ジャパン社製）８重量部をｎ−ブチルアルコール２００
部に溶解した液に混ぜ、サンドミルにて１２時間分散し
た。得られた分散液に、下記の構造式（Ｆ）の電荷輸送
材料を４重量部とブロック型イソシアネート（コロネー
ト2507、日本ポリウレタン工業社製）１５重量部を加え
た液を用いて浸漬塗布を行い、150℃１時間の乾燥硬化
処理を施し6μmの表面層を、上記電荷輸送層の上に形成
した。ところで、表面層塗布液の液粘度は、イソシアネ
ート硬化剤として、ブロック型を使用している為、常温
（２０〜２５℃）においては経時１ヶ月でも大きな変化
はなく安定であった。また、本発明の電子写真感光体
は、表面層塗布溶剤に電荷輸送層樹脂を溶解しないアル
コールを使用している為、上記のように全層浸漬塗布に
より層形成ができ、効率的に感光体作製が行えた。

【０１０１】

【化１６】

【０１０２】以上により得られた電子写真感光体を接触
帯電方式であるプリンター（富士ゼロックス製 Color
Laser Wind 3310の改造機）にて、２８℃８５％ＲＨの
高温高湿環境にて、A4サイズ、モノクロで50000枚プリ
ントの画質維持性と感光体摩耗量の評価をおこなった。
画質については、初期から50000枚まで良好なプリント
が得られた。感光体摩耗量は2.5μmであった。

【０１０３】（実施例８）電荷輸送層までは、実施例７
と同様にして電子写真感光体を作製した。次に、導電性
微粒子であるSnO₂粒子（Ｓ−１、三菱マテリアル社製）
1２重量部を、ポリビニルブチラール樹脂（エスレック
ＢＨ−Ｓ、積水化学社製）８重量部をｎ−ブチルアルコ
ール１５０部に溶解した液に混ぜ、サンドミルにて１２
時間分散した。得られた分散液に、構造式（Ｇ）の電荷
輸送材料を３重量部、ブロック型イソシアネート（スミ
ジュールBL3175、住友バイエルウレタン社製）１１重量
部を加えた液を用いて浸漬塗布を行い、150℃１時間の
乾燥硬化処理を施し6μmの表面層を、上記電荷輸送層の
上に形成した。評価は、実施例１と同様に実施した。画
質については、初期から50000枚まで良好なプリントが
得られた。感光体摩耗量は３μmであった。

【０１０４】

【化１７】

【０１０５】

【発明の効果】請求項１に記載の電子写真感光体によれ
ば、表面層が微粒子とブロック型イソシアネートで架橋
された結着樹脂とを含有するので、接触式帯電方式との
組み合わせにおいても、極めて良好な耐摩耗性を有し、
画像ゴーストの発生もなく長時間使用時でも良好な画質
のプリントが得ることができる。請求項２に記載の電子
写真感光体によれば、表面層が、微粒子、結着樹脂、及
び水酸基またはカルボキシル基を有する電荷輸送材料を
含有し、結着樹脂と電荷輸送材料の少なくとも一方がブ
ロック型イソシアネートで架橋されているので、請求項
１に記載の電子写真感光体の効果を有すると共にさらに
表面の耐磨耗性が高くなり、電子写真感光体の長期期間
使用時の信頼性が高まる。さらに、請求項５に記載の本
発明の電子写真感光体の製造方法によれば、全層浸漬塗
布方式により電子写真感光体を作製可能であり、塗布工
程の自動化や設備費用の低減することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者山本浩史神奈川県南足柄市竹松1600番地富士ゼロックス株式会社内 (72)発明者額田克己神奈川県南足柄市竹松1600番地富士ゼロックス株式会社内 (72)発明者滝本整神奈川県南足柄市竹松1600番地富士ゼロックス株式会社内 (72)発明者山田渉神奈川県南足柄市竹松1600番地富士ゼロックス株式会社内 (72)発明者白井正治神奈川県南足柄市竹松1600番地富士ゼロックス株式会社内Ｆターム(参考） 2H068 AA03 AA04 AA05 BA03 BA12 BA60 BB15 BB28 BB57 EA16 FA01 FA03

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】表面層が微粒子とブロック型イソシアネ
ートで架橋された結着樹脂とを含有することを特徴とす
る電子写真感光体。
【請求項２】表面層が、微粒子、結着樹脂、及び水酸
基またはカルボキシル基を有する電荷輸送材料を含有
し、結着樹脂と電荷輸送材料の少なくとも一方がブロッ
ク型イソシアネートで架橋されていることを特徴とする
電子写真感光体。
【請求項３】結着樹脂が、ポリアミド樹脂、またはポ
リビニルアルコール成分を有する樹脂であることを特徴
とする請求項１または請求項２に記載の電子写真感光
体。
【請求項４】電荷輸送材料が、下記構造式（Ｉ）また
は構造式（ＩＩ）のいづれかで表される化合物の少なく
とも１種であることを特徴とする請求項２に記載の電子
写真感光体。構造式（Ｉ）【化１】（式中、Ｒは下記一般式 (１)または(２)で表される構
造を示し、Ｄは水酸基またはカルボキシル基を示す。Ｔ
は炭素数1〜10の枝分かれしてもよい2価の炭化水素基を
示す。ｎは0または1、ｍは１から４の整数を示す。）【化２】（Ar₁〜Ar₇は、それぞれ独立に炭素数6〜20の置換、あ
るいは、未置換のアリール基を示し、 Xは2価の基を示
す。）構造式(ＩＩ）【化３】（式中、Ｒ₅は水素、又は、炭素数１〜５の範囲のアル
キル基を表し、Ｘは水素、炭素数１〜５の範囲のアルキ
ル基、フェニル基、又は、置換基としてハロゲン原子、
炭素数１〜５の範囲のアルキル基若しくはハロゲン原子
で置換されたアルキル基、又は炭素数１〜５の範囲のア
ルコキシ基で置換されたフェニル基を表し、Ｔは脂肪族
部分の炭素数１〜１０の枝分かれしてもよい２価の炭化
水素基を表し、ｎは０または１、Ａｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ
₃はフェニル基、ナフチル基、又は、アントラセン基で
あり、複数個のハロゲン基、炭素数１〜５の範囲の複数
個のアルキル基、炭素数１〜５の範囲の複数個のアルコ
キシ基で置換されていてもよい。）
【請求項５】請求項１ないし請求項４のいずれかに記
載の電子写真感光体の表面層を、アルコール溶剤を含ん
だ塗布液を用いて浸漬塗布により形成することを特徴と
する電子写真感光体の製造方法。