JP3021971B2 - イメージセンサ - Google Patents

イメージセンサ

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JP3021971B2
JP3021971B2 JP4154072A JP15407292A JP3021971B2 JP 3021971 B2 JP3021971 B2 JP 3021971B2 JP 4154072 A JP4154072 A JP 4154072A JP 15407292 A JP15407292 A JP 15407292A JP 3021971 B2 JP3021971 B2 JP 3021971B2
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弘之 三宅
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Fujifilm Business Innovation Corp
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    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L27/14643Photodiode arrays; MOS imagers
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/60Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise
    • H04N25/63Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise applied to dark current
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/701Line sensors

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、イメージスキャナーや
ファクシミリ等に用いられるイメージセンサに係り、特
に画像の読取信号の出力を安定化させ、正確な画像読取
りを行うことができるイメージセンサに関する。
【0002】
【従来の技術】従来のイメージセンサで、特に密着型イ
メージセンサは、原稿等の画像情報を1対1に投影し、
電気信号に交換するものがある。この場合、投影した画
像を多数の画素(受光素子)に分割し、各受光素子で発
生した電荷を薄膜トランジスタスイッチング素子(TF
T)を使って特定のブロック単位で配線間の容量に一次
蓄積して、電気信号として数百KHzから数百MHzま
での速度で時系列的に順次読み出すTFT駆動型イメー
ジセンサがある。このTFT駆動型イメージセンサは、
TFTの動作により単一の駆動用ICで読取りが可能と
なるので、イメージセンサを駆動する駆動用ICの個数
を少なくすることができるものである。
【0003】TFT駆動型イメージセンサは、例えば、
その等価回路図を図11に示すように、原稿幅とほぼ同
じ長さに複数の受光素子11″をライン状に配列した受
光素子アレイ11と、各受光素子11″に1:1に対応
する複数個の第1の薄膜トランジスタTTi,j (i=1〜N,
j=1〜n)と各受光素子11″に1:1に対応する複数個
の第2の薄膜トランジスタTRi,j (i=1〜N, j=1〜n)か
ら成る電荷転送部12と、マトリックス状の多層配線1
3とから構成されている。尚、第1の薄膜トランジスタ
TTi,j は電荷転送用の薄膜トランジスタであり、第2
の薄膜トランジスタTRi,j は受光素子11″に残留す
る電荷をリセットするリセット用の薄膜トランジスタで
ある。
【0004】そして、受光素子アレイ11は、N個のブ
ロックの受光素子群に分割され、一つの受光素子群を形
成するn個の受光素子11″はフォトダイオードPi,j
(i=1〜N, j=1〜n)により等価的に表すことができる。各
受光素子11″は各第1の薄膜トランジスタTTi,j の
ドレイン電極にそれぞれ接続され、更に各第2の薄膜ト
ランジスタTRi,j のドレイン電極にもそれぞれ接続さ
れている。また第2の薄膜トランジスタTRi,j のソー
ス電極は接地されており、第1の薄膜トランジスタTT
i,j のソース電極はマトリックス状に接続された多層配
線のマトリックス配線13を介して受光素子毎にn本の
共通信号線14にそれぞれ接続され、更に共通信号線1
4は駆動用IC15に接続されている。
【0005】また、各第1の薄膜トランジスタTTi,j
のゲ−ト電極及び各第2の薄膜トランジスタTRi,j の
ゲ−ト電極は、ブロック毎に導通するようにゲ−トパル
ス発生回路16に接続されている。各受光素子11″で
発生する光電荷は一定時間受光素子の寄生容量と薄膜ト
ランジスタのドレイン・ゲ−ト間のオーバーラップ容量
に蓄積された後、薄膜トランジスタTTi,j を電荷転送
用のスイッチとして用いてブロック毎に順次マトリック
ス配線13の配線容量CLi(i=1〜n)に転送蓄積される。
【0006】すなわち、ゲートパルス発生回路16から
ゲ−ト線GTi (i=1〜n)を経由して先ずはゲートパルス
φGT1 が伝達され、第1ブロック内の第1の薄膜トラ
ンジスタTT1,1 〜TT1,n をオンにし、第1ブロック
の各受光素子11″で発生した電荷が各配線容量CLiに
転送蓄積される。そして、各配線容量CLiに蓄積された
電荷により各共通信号線14の電位が変化し、この電位
値を駆動用IC15内のアナログスイッチSWi (i=1〜
n)(図示せず)を順次オンして時系列的に出力線17に
抽出する。
【0007】さらに、ゲートパルス発生回路16からゲ
−ト線GRi (i=1〜n)を経由してゲートパルスφGR1
が伝達され、第1ブロック内の第2の薄膜トランジスタ
TR1,1 〜TR1,n をオンにし、各受光素子の寄生容量
と薄膜トランジスタのドレイン・ゲ−ト間のオーバーラ
ップ容量に残留された未転送電荷(残留電荷)をリセッ
トする。
【0008】そして、ゲートパルスφGT2 〜φGTn
により第2〜第Nブロックの第1の薄膜トランジスタT
T2,1 〜TT2,n からTTN,1 〜TTN,n までがそれぞ
れオンして、ブロック毎に受光素子側の電荷が転送さ
れ、ゲートパルスφGR2 〜φGRn により第2〜第N
ブロックの第2の薄膜トランジスタTR2,1 〜TR2,n
からTRN,1 〜TRN,n までがそれぞれオンして、ブロ
ック毎に受光素子側の残留電荷がリセットされ、更に共
通信号線14に転送された電荷によって変化した電位を
順次読み出すことにより原稿の主走査方向の1ラインの
画像信号を得、ローラ等の原稿送り手段(図示せず)に
より原稿を移動させて前記動作を繰り返し、原稿全体の
画像信号を得るものである(特開平2−265362号
公報参照)。
【0009】また、受光素子と第1及び第2の薄膜トラ
ンジスタの具体的な構成について図12の平面説明図を
使って説明する。受光素子11″から引き出された配線
30aは、第1の薄膜トランジスタTT及び第2の薄膜
トランジスタTRのドレイン電極41に接続されてい
る。つまり、ドレイン電極41は第1及び第2の薄膜ト
ランジスタの共通の電極となっており、これはイメージ
センサの副走査方向の面積を小さくするためである。そ
して、第1の薄膜トランジスタTTにおいてはソース電
極42Tがマトリックス配線13に引き出されて共通信
号線14に接続しており、ゲート電極25Tにオーバー
ラップするようにドレイン電極41とソース電極42T
が形成されている。また、第2の薄膜トランジスタTR
においてはソース電極42Rが第1及び第2の薄膜トラ
ンジスタを遮光する遮光層30に接続し、この遮光層3
0がグランドレベルの電位(グランド電位)等の一定電
位に接続されており、ゲート電極25Rにオーバーラッ
プするようにドレイン電極41とソース電極42Rが形
成されている。
【0010】次に、上記従来のイメージセンサにおける
画像信号の読取り方法について、図13のタイミングチ
ャート図を使って説明する。図13(a)に示すよう
に、第1の薄膜トランジスタTTのドレイン電極では、
光電荷蓄積時に暗状態では電位は徐々に上昇し、また明
状態では大きく上昇し、第1の薄膜トランジスタTTが
オンすると、フィードスルー電圧分急峻に上昇する。フ
ィードスルー電圧分とは、ソース及びドレイン電極がゲ
ート電極にオーバーラップしているためにオーバーラッ
プ容量を保有し、この容量によって大きなゲートパルス
がゲート電極に与えられると瞬間的に全体の電位が上昇
し、またゲートパルスがオフになると瞬間的に全体の電
位が下降する電圧分のことであり、フィードスルー電圧
の大きさは、ゲートパルスのオン・オフの差であるゲー
ト電圧スイングにソース又はドレイン電極に接続される
容量に対するオーバーラップ容量の割合を掛けた値とし
て表される。
【0011】そして、第1の薄膜トランジスタTTのソ
ース電極の電位に対して平衡状態となるようにドレイン
電極から電荷が転送され、ドレイン電極の電位は下降
し、第1の薄膜トランジスタTTがオフになるとフィー
ドスルー電圧分急峻に下降する。この時の電位が残留電
荷分となる。更に、第2の薄膜トランジスタTRがオン
すると再びフィードスルー電圧分急峻に上昇し、グラン
ド電位になるまで電荷が転送されて電位は下降し、第2
の薄膜トランジスタTRがオフするとフィードスルー電
圧分急峻に下降する。この時の電位が新たな光電荷蓄積
の始まりとなるものである。
【0012】一方、図13(b)に示すように、第1の
薄膜トランジスタTTのソース電極では、光電荷蓄積時
に電位は一定で、電荷転送用の第1の薄膜トランジスタ
TTがオンするとフィードスルー電圧分急峻に上昇す
る。この時、ドレイン電極の電位に対して平衡状態にな
るように電荷が転送されて電位は上昇し、第1の薄膜ト
ランジスタTTがオフするとフィードスルー電圧分急峻
に下降する。この時の電位は転送された電荷量を反映し
ており、この電位を検出するものである。
【0013】そして、MOSトランジスタが負電圧によ
りオンになり、フィードスルー電圧分急峻に下降し、グ
ランド電位になるまで電荷が転送され電位は下降する。
この時のリセットはMOSトランジスタのオン抵抗が薄
膜トランジスタの場合と比べて小さいのでフィードスル
ー電圧による下降と重なる。そして、MOSトランジス
タがオフとなり、フィードスルー電圧分急峻に上昇す
る。この時の電位が最初の段階の電位で、この電位を基
準電位として検知し、前記検出電位との差がセンサ出力
となるものである。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のイメージセンサでは、製造過程におけるアライメン
トのずれが発生すると、電荷転送用の第1の薄膜トラン
ジスタTTのドレイン電極側の光電荷蓄積の始まり電位
(光電荷蓄積の開始電位)に対して正又は負方向に大き
くオフセットができてしまい、従って第1の薄膜トラン
ジスタTTのソース電極側の出力についてもオフセット
が正又は負方向に大きくできることになり、暗状態(Da
rk)時の出力が0(ゼロ)に近付かず、また出力を増幅
するアンプのレンジが大きくなるため、出力のバラツキ
が大きくなってセンサ出力が不安定になるという問題点
があった。
【0015】具体的には、図12に示す構成のイメージ
センサの場合、第1及び第2の薄膜トランジスタにおけ
るゲート電極に対するソース電極とドレイン電極とのオ
ーバーラップの状態がアライメントのずれによって変化
すると各オーバーラップ容量が変化し、そのため第1の
薄膜トランジスタTTでのフィードスルー電圧分と第2
の薄膜トランジスタTRでのフィードスルー電圧分とが
異なったものとなり、正又は負方向に大きくオフセット
ができてしまうことになっていた。
【0016】例えば、図12のイメージセンサにおい
て、第1の薄膜トランジスタTTのゲート電極25Tと
第2の薄膜トランジスタTRのゲート電極25Rは同一
のクロム層(Cr1 )で形成されるものであり、また両
薄膜トランジスタのドレイン電極41とソース電極42
T,42Rは同一のクロム層(Cr2 )で形成されるも
のであるから、図中において、ゲート電極25T,25
Rに対してドレイン電極41とソース電極42T,42
Rのオーバーラップ状態が左側にずれたとした場合、つ
まり、第1の薄膜トランジスタTTにおいてゲート電極
25Tとドレイン電極41とのオーバーラップ部分が大
きくなり、ゲート電極25Tとソース電極42Tとのオ
ーバーラップ部分が小さくなり、同時に第2の薄膜トラ
ンジスタTRにおいてゲート電極25Rとドレイン電極
41とのオーバーラップ部分が小さくなり、ゲート電極
25Rとソース電極42Rとのオーバーラップ部分が大
きくなった場合について以下具体的に説明する。
【0017】上記のような場合、両薄膜トランジスタの
ドレイン電極側におけるフィードスルー電圧分は、図1
3(c)に示すように、ドレイン電極41とのオーバー
ラップ部分が大きい第1の薄膜トランジスタTTで大き
くなり、ドレイン電極41とのオーバーラップ部分が小
さい第2の薄膜トランジスタTRで小さくなり、従っ
て、第2の薄膜トランジスタTRによるリセット後の電
位が図13(a)と比較して低くならず、ドレイン電極
側の光電荷蓄積の開始電位に対して正方向に大きくオフ
セットができることになり、図13(d)に示すよう
に、第1の薄膜トランジスタTTのソース電極側での出
力も正方向に大きくオフセットを有するものとなってい
た。つまり、暗状態での暗出力が大きくなっていた。
【0018】逆に、図12中において、ゲート電極25
T,25Rに対してドレイン電極41とソース電極42
T,42Rのオーバーラップ状態が右側にずれたとした
場合には、第2の薄膜トランジスタTRにおけるフィー
ドスルー電圧分が大きくなり、今度は第1の薄膜トラン
ジスタTTのソース電極側での出力が負方向に大きくオ
フセットを有するようになっていた。従って、上記のよ
うなアライメントのずれが出力のバラツキを引き起こ
し、出力を不安定なものにするという問題があった。
【0019】本発明は上記実情に鑑みて為されたもの
で、出力オフセットを小さくし、かつ出力のバラツキを
小さくして出力を安定化できるイメージセンサを提供す
ることを目的とする。
【0020】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
請求項1に記載のイメージセンサは、光電変換を行う受
光素子と、前記受光素子に蓄積された光電荷を転送する
第1のスイッチング素子と、転送された電荷による電位
変化を出力として読み取る読取手段と、前記転送後に前
記受光素子に残留する電荷をリセットする第2のスイッ
チング素子と、前記第1のスイッチング素子にパルスを
出力する第1のパルス発生回路と、前記第2のスイッチ
ング素子にパルスを出力する第2のパルス発生回路とを
有し、アライメントずれによって生じる前記第1のスイ
ッチング素子における電荷転送時のフィードスルー電圧
及び前記第2のスイッチング素子におけるリセット時の
フィードスルー電圧による前記出力のオフセットに対し
て、前記オフセットを補償するように、前記第1のパル
ス発生回路から出力されるパルスの電圧値と第2のパル
ス発生回路から出力されるパルスの電圧値の大小関係を
定めたことを特徴としている。
【0021】請求項2に記載のイメージセンサは、請求
項1において、前記第1のスイッチング素子における電
荷転送時のフィードスルー電圧分がアライメントずれが
ゼロである場合、すなわち、アライメントずれがない場
合に比較して大きく、前記第2のスイッチング素子にお
けるリセット時のフィードスルー電圧分がアライメント
ずれがない場合に比較して小さくなる場合、前記第1の
スイッチング素子に出力されるパルスの電圧値に対して
第2のスイッチング素子に出力されるパルスの電圧値を
高くしたことを特徴としている。
【0022】請求項3に記載のイメージセンサは、請求
項1において、前記第1のスイッチング素子における電
荷転送時のフィードスルー電圧分がアライメントずれが
ゼロである場合、すなわち、アライメントずれがない場
合に比較して小さく、前記第2のスイッチング素子にお
けるリセット時のフィードスルー電圧分がアライメント
ずれがない場合に比較して大きくなる場合、前記第1の
スイッチング素子に出力されるパルスの電圧値に対して
第2のスイッチング素子に出力されるパルスの電圧値を
低くしたことを特徴としている。
【0023】請求項4に記載のイメージセンサは、光電
変換を行う受光素子と、前記受光素子に蓄積された光電
荷を転送する第1のスイッチング素子と、前記転送後に
前記受光素子に残留する電荷をリセットする第2のスイ
ッチング素子とを有し、前記第1のスイッチング素子及
び前記第2のスイッチング素子がゲート電極、ソース電
極及びドレイン電極を具備し、前記各々のスイッチング
素子を副走査方向にソース電極とドレイン電極の配置方
向が同じになるように配置したことを特徴としている。
【0024】請求項5に記載のイメージセンサは、主走
査方向に並設された光電変換を行う受光素子と、前記受
光素子に対応し受光素子に蓄積された光電荷を転送する
第1のスイッチング素子と、前記転送後に前記受光素子
に残留する電荷をリセットする第2のスイッチング素子
とを有し、前記第1のスイッチング素子及び前記第2の
スイッチング素子がゲート電極、ソース電極及びドレイ
ン電極を具備し、前記各々のスイッチング素子のソース
電極及びドレイン電極がゲート電極にオーバーラップす
る構成でオーバーラップ容量が形成され、ゲート電極に
対するソース電極及びドレイン電極のパターンのアライ
メントずれが、主走査方向の一方向にのみ生じるように
設定されている場合に、アライメントずれによりオーバ
ーラップ容量が増加する側のスイッチング素子における
オーバーラップ面積の副走査方向の長さに対して、アラ
イメントずれによりオーバーラップ容量が減少する側の
スイッチング素子におけるオーバーラップ面積の副走査
方向の長さを長く形成したことを特徴としている。
【0025】請求項6に記載のイメージセンサは、請求
項5において、第1のスイッチング素子におけるオーバ
ーラップ容量より第2のスイッチング素子におけるオー
バーラップ容量を大きく形成し、ゲート電極の主走査方
向の長さをLとし、ソース電極及びドレイン電極の副走
査方向の長さをWとしたとき、第1のスイッチング素子
におけるW/Lを9とすると、第2のスイッチング素子
におけるW/Lを12〜15としたことを特徴としてい
る。
【0026】請求項7に記載のイメージセンサは、光電
変換を行う受光素子と、前記受光素子に蓄積された光電
荷を転送する第1のスイッチング素子と、転送された電
荷による電位変化を出力として読み取る読取手段と、前
記転送後に前記受光素子に残留する電荷をリセットする
第2のスイッチング素子とを有し、前記第1のスイッチ
ング素子及び前記第2のスイッチング素子がゲート電
極,ソース電極,ドレイン電極を具備し、アライメント
ずれによって生じる前記第1のスイッチング素子におけ
る電荷転送時のフィードスルー電圧及び前記第2のスイ
ッチング素子におけるリセット時のフィードスルー電圧
による前記出力のオフセットに対して、前記第2のスイ
ッチング素子のソース電極に前記オフセットを補償する
電位を供給することを特徴としている。
【0027】請求項8に記載のイメージセンサは、請求
項7において、前記第2のスイッチング素子におけるリ
セット時のフィードスルー電圧が前記第1のスイッチン
グ素子における電荷転送時のフィードスルー電圧に対し
て小さくなっている場合、前記第2のスイッチング素子
のソース電極に供給される電位をグランド電位より低く
したことを特徴としている。
【0028】請求項9に記載のイメージセンサは、請求
項7において、前記第2のスイッチング素子におけるリ
セット時のフィードスルー電圧が前記第1のスイッチン
グ素子における電荷転送時のフィードスルー電圧に対し
て大きくなっている場合、前記第2のスイッチング素子
のソース電極に供給される電位をグランド電位より高く
したことを特徴としている。
【0029】
【作用】請求項1記載の発明によれば、第1のパルス発
生回路から光電荷転送用の第1のスイッチング素子に出
力されるパルスの電圧値と第2のパルス発生回路からリ
セット用の第2のスイッチング素子に出力されるパルス
の電圧値とが異なるイメージセンサとしているので、第
1のスイッチング素子又は第2のスイッチング素子での
フィードスルー電圧分を制御でき、画像信号の出力の正
又は負方向のオフセットを調整できる。
【0030】請求項2記載の発明によれば、第2のスイ
ッチング素子に出力されるパルスの電圧値を第1のスイ
ッチング素子に出力されるパルスの電圧値より高くした
請求項1記載のイメージセンサとしているので、アライ
メントのずれによる第2のスイッチング素子でのフィー
ドスルー電圧分が小さくなる場合に該フィードスルー電
圧分を大きくでき、画像信号の出力の正方向のオフセッ
トを調整できる。
【0031】請求項3記載の発明によれば、第2のスイ
ッチング素子に出力されるパルスの電圧値を第1のスイ
ッチング素子に出力されるパルスの電圧値より低くした
請求項1記載のイメージセンサとしているので、アライ
メントのずれによる第2のスイッチング素子でのフィー
ドスルー電圧分が大きくなる場合に該フィードスルー電
圧分を小さくでき、画像信号の出力の負方向のオフセッ
トを調整できる。
【0032】請求項4記載の発明によれば、第1のスイ
ッチング素子及び第2のスイッチング素子を副走査方向
にソース電極とドレイン電極の配置方向が同じになるよ
う配置したイメージセンサとしているので、アライメン
トのずれがあっても両スイッチング素子が同様のずれと
なるため、フィードスルー電圧分の変化分も同程度とな
り、アライメントのずれによる画像信号の出力のバラツ
キを最小にできる。
【0033】請求項5記載の発明によれば、ゲート電極
に対するソース電極及びドレイン電極のパターンのアラ
イメントずれが、主走査方向の一方向にのみ生じるよう
に設定した場合に、アライメントずれによりオーバーラ
ップ容量が増加する側のスイッチング素子におけるオー
バーラップ面積の副走査方向の長さに対して、アライメ
ントずれによりオーバーラップ容量が減少する側のスイ
ッチング素子におけるオーバーラップ面積の副走査方向
の長さを長く形成したので、アライメントずれによりフ
ィードスルー電圧分が本来小さくなる側のオーバーラッ
プ面積を大きくしているので、出力信号のバラツキを抑
制することができる。
【0034】請求項6記載の発明によれば、ゲート電極
の主走査方向の長さをLとし、ソース電極及びドレイン
電極の副走査方向の長さをWとしたとき、第1のスイッ
チング素子におけるW/Lを9とすると、第2のスイッ
チング素子におけるW/Lを12〜15とした請求項5
記載のイメージセンサとしているので、アライメントの
ずれによる第2のスイッチング素子でのフィードスルー
電圧分が本来小さくなる場合に、第2のスイッチング素
子のオーバーラップ容量が大きくなるため、該フィード
スルー電圧分を大きくでき、画像信号の出力の正方向の
オフセットを調整できる。
【0035】請求項7記載の発明によれば、第2のスイ
ッチング素子のソース電極に供給されるリセット用の電
位をグランド電位以外の電位としたイメージセンサとし
ているので、第2のスイッチング素子のフィードスルー
電圧分が小さい場合にはグランド電位よりリセット用の
電位を低くし、該フィードスルー電圧分が大きい場合に
はグランド電位よりリセット用の電位を高くすることに
より、画像信号の出力の正又は負方向のオフセットを調
整できる。
【0036】請求項8記載の発明によれば、第2のスイ
ッチング素子のソース電極に供給されるリセット用の電
位をグランド電位より低くした請求項7記載のイメージ
センサとしているので、第2のスイッチング素子のフィ
ードスルー電圧分が小さい場合には画像信号の出力の正
方向のオフセットを調整できる。
【0037】請求項9記載の発明によれば、第2のスイ
ッチング素子のソース電極に供給されるリセット用の電
位をグランド電位より高くした請求項7記載のイメージ
センサとしているので、第2のスイッチング素子のフィ
ードスルー電圧分が大きい場合には画像信号の出力の負
方向のオフセットを調整できる。
【0038】
【実施例】本発明の一実施例について図面を参照しなが
ら説明する。図1は、本発明の一実施例に係るイメージ
センサの一画素分の等価回路図であり、図2は、本実施
例のイメージセンサ全体の等価回路図であり、図3は、
図1の各節点のタイミングチャート図であり、図4は、
受光素子、電荷転送部及び配線部の一部の平面説明図で
あり、図5は、図4のA−A′部分の断面説明図であ
り、図6は、図4のB−B′部分の断面説明図である。
【0039】本実施例(実施例1)のイメージセンサの
一画素分の回路構成は、図1に示すように、受光素子で
あるフォトダイオードPと、その寄生容量Cpと、電荷
転送用の第1の薄膜トランジスタ(TFT)TTと、リ
セット用の第2の薄膜トランジスタ(TFT)TRと、
配線容量CL と、電位検出用のアンプ18と、配線のリ
セットを行うMOSトランジスタ19とから構成されて
いる。尚、アンプ18とMOSトランジスタ19とは駆
動用IC15内に設けられている。そして、第1の薄膜
トランジスタTTのゲート電極とドレイン電極との間に
はオーバーラップ容量CGD(TT)が、ゲート電極とソース
電極との間にはオーバーラップ容量CGS(TT)が形成さ
れ、第2の薄膜トランジスタTRのゲート電極とドレイ
ン電極との間にはオーバーラップ容量CGD(TR)が、ゲー
ト電極とソース電極との間にはオーバーラップ容量CGS
(TR)が形成され、第1の薄膜トランジスタTTのゲート
電極にはゲートパルスφGTが与えられ、第2の薄膜ト
ランジスタTRのゲート電極にはゲートパルスφGRが
与えられるようになっている。
【0040】また、図1及び図2に示すように、フォト
ダイオードPの受光素子11″は、n個を1つのブロッ
クとし、Nブロックで受光素子アレイ11を形成してい
る。そして、受光素子11″のフォトダイオードPは第
1の薄膜トランジスタTTのドレイン電極にそれぞれ接
続され、更に第2の薄膜トランジスタTRのドレイン電
極にもそれぞれ接続されている。そして、第2の薄膜ト
ランジスタTRのソース電極は接地され、第1の薄膜ト
ランジスタTTのソース電極はマトリックス配線13を
介して共通信号線14に接続し、更に駆動用IC15内
の電荷検出用のアンプ18と配線リセット用のMOSト
ランジスタ19に接続されている。
【0041】そして、第1の薄膜トランジスタTTのゲ
−ト電極はブロック単位に転送用ゲート信号線GTを介
して第1のゲートパルス発生回路16に接続され、第2
の薄膜トランジスタTRのゲ−ト電極はブロック単位に
リセット用ゲート信号線GRを介して第2のゲートパル
ス発生回路16′に接続されている。ここでは、第1の
ゲートパルス発生回路16から発生するゲートパルスφ
GTの電圧値と第2のゲートパルス発生回路16′から
発生するゲートパルスφGRの電圧値とを異なる電圧値
に設定することができ、異なる電圧値でイメージセンサ
を駆動できるようになっている。
【0042】実施例1の受光素子11″の構成は、図4
及び図5に示すように、ガラスまたはセラミック等の絶
縁性の基板21上に受光素子11″の下部の共通電極と
なるクロム(Cr)等による帯状の金属電極22と、各
受光素子11″毎(ビット毎)に分割形成された水素化
アモルファスシリコン(a−Si:H)から成る光導電
層23と、同様に分割形成された酸化インジウム・スズ
(ITO)から成る上部の透明電極24とが順次積層す
るサンドイッチ型を構成している。尚、ここでは下部の
金属電極22は主走査方向に帯状に形成され、金属電極
22上の光導電層23及び透明電極24が離散的に分割
して個別電極となるよう形成されることにより、光導電
層23を金属電極22と透明電極24とで挟んだ部分が
各受光素子11″を構成し、その集まりが受光素子アレ
イ11を形成している。そして、金属電極22には、一
定の電圧VB が印加されている。
【0043】また、離散的に分離形成されたそれぞれの
透明電極24の一端にはアルミニウム(Al)等の配線
30aの一方が接続され、その配線30aの他方が電荷
転送部12の第1の薄膜トランジスタTTi,j (i=1〜N,
j=1〜n)及び第2の薄膜トランジスタTRi,j (i=1〜N,
j=1〜n)のドレイン電極41T及び41Rに接続されて
いる。また、受光素子11″において、水素化アモルフ
ァスシリコンの代わりに、CdSe(カドミウムセレ
ン)等を光導電層とすることも可能である。このよう
に、光導電層23と透明電極24を個別化したのは、a
−Si:Hの光導電層23が共通層であると、特定の受
光素子11″で起こる光電変換作用が隣接する受光素子
11″に対して干渉を引き起こすことがあるので、この
干渉を少なくするためである。
【0044】また、電荷転送部12を構成する第1及び
第2の薄膜トランジスタの構成は、図4及び図6に示す
ように、前記基板21上にゲ−ト電極25としてのクロ
ム(Cr1 )層、ゲ−ト絶縁層26としてのシリコン窒
化膜(SiNx )、半導体活性層27としての水素化ア
モルファスシリコン(a−Si:H)層、ゲ−ト電極2
5に対向するよう設けられたチャネル保護層29として
のシリコン窒化膜(SiNx )、オ−ミックコンタクト
層28としてのn+ 水素化アモルファスシリコン(n+
a−Si:H)層、ドレイン電極41とソース電極42
としてのクロム(Cr2 )層、その上に層間絶縁層とし
ポリイミド層、更にその上に配線層30a又はチャネル
保護層29の上部においてはa−Si:H層の遮光用と
してのアルミニウム層30とを順次積層した逆スタガ構
造のトランジスタである。
【0045】遮光用のアルミニウム層30は、チャネル
保護層29を透過してa−Si:H層に光が入り込んで
光電変換作用を引き起こすのを防ぐために設けられてい
る。そして、ドレイン電極41には受光素子11″の透
明電極24からの配線30aが接続されている。ここで
オ−ミックコンタクト層28はドレイン電極41に接触
する部分の層28aとソース電極42に接触する部分の
層28bとに分割して形成されている。また、ドレイン
電極41とソース電極42としてのクロム(Cr2 )層
はそのオ−ミックコンタクト層28の28a部分と28
b部分をそれぞれ覆うように形成されている。このCr
2 層は、配線層のアルミニウムの蒸着又はスパッタ法に
よる着膜時のダメージを防ぎ、オ−ミックコンタクト層
28のn+ a−Si:Hの特性を保持する役割を果たし
ている。
【0046】そして、ソース電極42からアルミニウム
層の配線43を介して、マトリックス配線13のクロム
(Cr1 )層の個別配線44に接続され、さらにアルミ
ニウム層の共通信号線14に接続される。共通信号線1
4は駆動用IC(図示せず)に接続される構成となって
いる。
【0047】次に、実施例1のイメージセンサにおける
動作について説明する。受光素子11″で発生する光電
荷は一定時間受光素子の寄生容量Cpと第1及び第2の
薄膜トランジスタのドレイン・ゲ−ト間のオーバーラッ
プ容量CGD(TT)及びCGD(TR)に蓄積された後、第1の薄
膜トランジスタTTを電荷転送用のスイッチとして用い
て第1のゲートパルス発生回路16からのゲートパルス
φGTによりオン状態になり配線容量CL に転送蓄積さ
れる。そして、配線容量CL に蓄積された電荷により共
通信号線14の電位が変化し、第1の薄膜トランジスタ
TTがオフ状態になった後に、この電圧値を駆動用IC
15内のアンプ18により増幅して出力する。電圧検知
後、MOSトランジスタ19により、配線容量CLはリ
セットされ、リセット終了後の電位を基準電圧として検
知する。
【0048】さらに、ゲートパルスφGRが第2のゲー
トパルス発生回路16′から与えられて第2の薄膜トラ
ンジスタTRがオンし、第1及び第2の薄膜トランジス
タのドレイン電極における電位がグランド電位になるた
め、受光素子11″の寄生容量Cpと第1及び第2の薄
膜トランジスタのドレイン・ゲ−ト間のオーバーラップ
容量CGD(TT)及びCGD(TR)に残された未転送電荷(残留
電荷)がリセットされる。
【0049】上記動作時における各接点の電位変化を図
3のタイミングチャート図を使って説明する。製造プロ
セス上のアライメントのずれがない場合には、本来、第
1の薄膜トランジスタTTのドレイン電極側の電位変化
は、図3(a)に示すようになり、また第2の薄膜トラ
ンジスタTRのソース電極側の電位変化は、図3(b)
に示すようになるものであるが、アライメントずれが発
生した場合、例えば、第1の薄膜トランジスタTTにお
けるゲート電極に対するドレイン電極のオーバーラップ
面積が大きく、第2の薄膜トランジスタTRにおけるゲ
ート電極に対するドレイン電極のオーバーラップ面積が
小さいような場合、図3(c)に示すように、第1の薄
膜トランジスタTTのドレイン電極側の電位は、電荷転
送時にフィードスルー電圧分が大きくなるものの、リセ
ット時にはフィードスルー電圧分が小さくなり、従っ
て、図3(d)に示すように、第1の薄膜トランジスタ
TTのソース電極側で出力の正方向のオフセットが大き
くなるものである。
【0050】そこで、図2に示す実施例1のイメージセ
ンサにおいて、第1のゲートパルス発生回路16の電圧
値より第2のゲートパルス発生回路16′の電圧値を大
きくして、図3(e)に示すように、第2の薄膜トラン
ジスタTRにおけるフィードスルー電圧分を大きくし、
電荷蓄積の開始電位を低くすることにより、図3(f)
に示すように、第1の薄膜トランジスタTTのソース電
極側の出力の正方向のオフセットを抑えるよう調整する
ものである。従って、暗状態においては、図3(f)に
示すように、出力がほぼゼロとなってオフセットがなく
なっている。
【0051】上記では、出力の正方向に現れるオフセッ
トを調整する方法を説明したが、負方向のオフセットが
現れる場合、つまり、アライメントずれが発生した場合
で、例えば、第1の薄膜トランジスタTTにおけるゲー
ト電極に対するドレイン電極のオーバーラップ面積が小
さく、第2の薄膜トランジスタTRにおけるゲート電極
に対するドレイン電極のオーバーラップ面積が大きいよ
うな場合には、電荷転送時におけるフィードスルー電圧
分は小さくなり、リセット時のフィードスルー電圧分は
大きくなるため、負方向のオフセットが現れる。この場
合は、第2のゲートパルス発生回路16′の電圧値より
第1のゲートパルス発生回路16の電圧値を大きくし
て、第1の薄膜トランジスタTTにおけるフィードスル
ー電圧分を大きくすることにより、第1の薄膜トランジ
スタTTのソース電極側の出力の負方向のオフセットを
抑えるよう調整するものである。
【0052】上記実施例1では、第1の薄膜トランジス
タTTと第2の薄膜トランジスタTRのサイズ・特性は
出力オフセットが小さくなるよう同一のものとしている
が、異なるサイズ・特性の2つの薄膜トランジスタを用
いることもできる。要するに、電荷転送時の第1の薄膜
トランジスタTTのフィードスルー電圧分とリセット時
の第2の薄膜トランジスタTRのフィードスルー電圧分
とを可変にして調整できるものであればよい。尚、両薄
膜トランジスタのサイズ・特性が同一である場合のイメ
ージセンサの各値は、薄膜トランジスタのW(ソース・
ドレイン電極の副走査方向の長さ)/L(ゲート電極の
主走査方向の長さ)が8〜18程度、寄生容量Cpが約
1pF、配線容量CL が10〜100pF程度である。
【0053】実施例1のイメージセンサ及びその駆動方
法によれば、電荷転送用の第1の薄膜トランジスタTT
又はリセット用の第2の薄膜トランジスタTRにおける
フィードスルー電圧分を第1又は第2のゲートパルス発
生回路16,16′から各ゲート電極に与えられるゲー
トパルスの大きさを可変にすることで調整して画像信号
の出力の正又は負方向のオフセットを抑えることができ
るので、暗状態での出力をゼロに近付けることができ、
更に出力のバラツキを小さくしてセンサ出力を安定化さ
せることができる効果がある。
【0054】また、フィードスルー電圧分を調整するの
に、ゲートパルスの大きさを可変にするのではなく、意
図的に設計段階からゲート電極に対するドレイン電極又
はソース電極のオーバーラップ面積を同一にせず、どち
らかのオーバーラップ面積を大きく又は小さくすること
で、出力のオフセットを抑えるようにすることもでき
る。これは、ゲート電極に対するソース電極及びドレイ
ン電極のパターンのアライメントずれを、主走査方向の
一方向にのみ生じるように意図的に設定することを伴っ
て実現できる。例えば、アライメントずれが発生して何
の調整も行わないない場合に、図3(c)(d)に示す
ような電位変化になる場合、図7(a)の平面概略図に
示すように、第1の薄膜トランジスタTTのW(ソース
・ドレイン電極の副走査方向の長さ)を90〜135μ
mとし、L(ゲート電極の主走査方向の長さ)を10〜
15μmとすると、図7(b)の平面概略図に示すよう
に、第2の薄膜トランジスタTRのLは10〜15μm
と第1の薄膜トランジスタTTのLと同じとして、第2
の薄膜トランジスタTRのWは120〜150μmにす
れば、第2の薄膜トランジスタTRのオーバーラップ面
積が小さくなる方向にアライメントずれを意図的に発生
させ、図3(e)(f)に示すような出力とすることが
できる。そして、更に、実施例1と組み合わせれば、出
力のオフセットを有効に抑えることができる。
【0055】尚、実施例1のイメージセンサは、図4の
平面説明図に示したように、図11の平面説明図に示し
た従来のイメージセンサと比較して、第1及び第2の薄
膜トランジスタのドレイン電極を両薄膜トランジスタで
共通として2つの薄膜トランジスタを主走査方向に並設
した構成とするのではなく、イメージセンサの副走査方
向に2つの薄膜トランジスタを個別に配置し、具体的に
は受光素子アレイ11側にリセット用の第2の薄膜トラ
ンジスタTRを設け、マトリックス配線13側に電荷転
送用の第1の薄膜トランジスタTTを設けた構成として
いる。
【0056】上記のようなイメージセンサの構成とする
ことで、第1及び第2の薄膜トランジスタのドレイン電
極41T,41Rがゲート電極25T,25Rに対して
同一方向に位置することになり、またソース電極42
T,42Rがゲート電極25T,25Rに対して同一方
向に位置することになるので、製造プロセスにおいてア
ライメントのずれが発生しても、両薄膜トランジスタで
ゲート電極に対するソース・ドレイン電極が同じ程度の
オーバーラップ状態となるため、第1及び第2の薄膜ト
ランジスタで起こるフィードスルー電圧分は等しくな
り、従ってアライメントずれによる出力のバラツキの影
響を最小にすることができる効果がある。
【0057】次に、別の実施例(実施例2)について、
図8〜図10を使って説明する。図8は、実施例2のイ
メージセンサの一画素分の等価回路図であり、図9は、
実施例2のイメージセンサ全体の等価回路図であり、図
10は、図8の各節点のタイミングチャート図である。
尚、図1〜図3と同様の構成をとる部分については同一
の符号を付して説明する。
【0058】実施例2のイメージセンサの構成は、基本
的には実施例1のイメージセンサと同様であるが、相違
する点は、図8において、電荷転送用の第1の薄膜トラ
ンジスタTT又はリセット用の第2の薄膜トランジスタ
TRに与えられるゲートパルスは可変ではなく、両者同
一のゲートパルスとなっている点である。従って、図9
においても、ゲートパルス発生回路16は1つあれば足
りる。
【0059】更に、実施例2のイメージセンサの特徴的
な構成は、第2の薄膜トランジスタTRのソース電極が
グランド電位に接続されているのではなく、外部の可変
電圧源(図示せず)に接続され、特定の一定電位VR
(リセット電位VR )に接続されている点である。つま
り、第2の薄膜トランジスタTRがオンすると、ドレイ
ン電極の電位はリセット電位VR と平衡になるように残
留電荷を転送させるようになっている。このリセット電
位VR は外部の可変電圧源により任意の電位に設定でき
るものである。
【0060】次に、リセット電位VR の設定の仕方につ
いて図10を使って説明する。図10(a)は、製造プ
ロセス上のアレイメントのバラツキにより、リセット用
の第2の薄膜トランジスタTRのフィードスルー電圧が
電荷転送用の第1の薄膜トランジスタTTのフードスル
ー電圧に対して小さくなっている場合に、リセット電位
VR の設定を可変にすることで出力のオフセットを小さ
くし、出力の安定化を図るようにしたタイミングチャー
ト図である。
【0061】この場合、リセット電位VR をグランド電
位(GND)に比べて負方向に設定しているので、第2
の薄膜トランジスタTRがオンしてリセットが為される
と、第2の薄膜トランジスタTRのドレイン電極(第1
の薄膜トランジスタTTのドレイン電極でもある)側の
電位が、図10(a)に示すように、電位VR まで下が
り、そして第2の薄膜トランジスタTRがオフすると、
フィードスルー電圧分急峻に下降して電荷蓄積開始の電
位となる。もし、リセット電位VR がグランド電位と等
しくなっていれば、電荷蓄積開始の電位はかなり高いも
のとなってしまい、ドレイン電極における出力の正方向
のオフセットが大きくなり、更に第1の薄膜トランジス
タTTのソース電極での暗状態のオフセットも正方向に
大きくなってしまうことになる。従って、グランド電位
>リセット電位VR とすることで、図10(b)のタイ
ミングチャート図に示すように、第1の薄膜トランジス
タTTのソース電極での出力のオフセットは小さくな
り、更に暗状態での出力をゼロに近付けることができ
る。
【0062】また、図10(c)は、製造プロセス上の
アレイメントのバラツキにより、リセット用の第2の薄
膜トランジスタTRのフィードスルー電圧が電荷転送用
の第1の薄膜トランジスタTTのフードスルー電圧に対
して大きくなっている場合に、リセット電位VR の設定
を可変にすることで出力のオフセットを小さくし、出力
の安定化を図るようにしたタイミングチャート図であ
る。
【0063】この場合、リセット電位VR をグランド電
位(GND)に比べて正方向に設定しているので、第2
の薄膜トランジスタTRがオンしてリセットが為される
と、第2の薄膜トランジスタTRのドレイン電極側の電
位が、図10(c)に示すように、電位VR までしか下
がらず、そして第2の薄膜トランジスタTRがオフする
と、フィードスルー電圧分急峻に下降して電荷蓄積開始
の電位となる。もし、リセット電位VR がグランド電位
と等しくなっていれば、電荷蓄積開始の電位はかなり低
いものとなってしまい、ドレイン電極における出力の負
方向のオフセットが大きくなり、更に第1の薄膜トラン
ジスタTTのソース電極での暗状態のオフセットも負方
向に大きくなってしまうことになる。従って、グランド
電位<リセット電位VR とすることで、図10(d)の
タイミングチャート図に示すように、第1の薄膜トラン
ジスタTTのソース電極での出力のオフセットは小さく
なり、更に暗状態での出力をゼロに近付けることができ
る。
【0064】上記のようなリセット電位VR を可変とす
る調整は、設計上又は実験上予め設定しておくこともで
きるし、またリセット電位VR を可変にするボリューム
等を設けておいて、出力のオフセットが最小になるよう
に調整可能としておくこともできる。
【0065】実施例2のイメージセンサ及びその駆動方
法によれば、リセット用の第2の薄膜トランジスタTR
におけるリセット電位VR を可変にすることで電荷蓄積
開始の電位を調整して画像信号の出力の正又は負方向の
オフセットを抑えることができるので、暗状態での出力
をゼロに近付けることができ、更に出力のバラツキを小
さくしてセンサ出力を安定化させることができる効果が
ある。
【0066】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、第1のパ
ルス発生回路から光電荷転送用の第1のスイッチング素
子に出力されるパルスの電圧値と第2のパルス発生回路
からリセット用の第2のスイッチング素子に出力される
パルスの電圧値とが異なるイメージセンサとしているの
で、第1のスイッチング素子又は第2のスイッチング素
子でのフィードスルー電圧分を制御でき、画像信号の出
力の正又は負方向のオフセットを調整して、出力を安定
化させることができる効果がある。
【0067】請求項2記載の発明によれば、第2のスイ
ッチング素子に出力されるパルスの電圧値を第1のスイ
ッチング素子に出力されるパルスの電圧値より高くした
請求項1記載のイメージセンサとしているので、アライ
メントのずれによる第2のスイッチング素子でのフィー
ドスルー電圧分が小さくなる場合に該フィードスルー電
圧分を大きくでき、画像信号の出力の正方向のオフセッ
トを調整して、出力を安定化させることができる効果が
ある。
【0068】請求項3記載の発明によれば、第2のスイ
ッチング素子に出力されるパルスの電圧値を第1のスイ
ッチング素子に出力されるパルスの電圧値より低くした
請求項1記載のイメージセンサとしているので、アライ
メントのずれによる第2のスイッチング素子でのフィー
ドスルー電圧分が大きくなる場合に該フィードスルー電
圧分を小さくでき、画像信号の出力の負方向のオフセッ
トを調整して、出力を安定化させることができる効果が
ある。
【0069】請求項4記載の発明によれば、第1のスイ
ッチング素子及び第2のスイッチング素子を副走査方向
にソース電極とドレイン電極の配置方向が同じになるよ
う配置したイメージセンサとしているので、アライメン
トのずれがあっても両スイッチング素子が同様のずれと
なるため、フィードスルー電圧分の変化分も同程度とな
り、アライメントのずれによる画像信号の出力のバラツ
キを最小にでき、出力を安定化させることができる効果
がある。
【0070】請求項5記載の発明によれば、ゲート電極
に対するソース電極及びドレイン電極のパターンのアラ
イメントずれが、主走査方向の一方向にのみ生じるよう
に設定した場合に、アライメントずれによりオーバーラ
ップ容量が増加する側のスイッチング素子におけるオー
バーラップ面積の副走査方向の長さに対して、アライメ
ントずれによりオーバーラップ容量が減少する側のスイ
ッチング素子におけるオーバーラップ面積の副走査方向
の長さを長く形成したので、アライメントずれによりフ
ィードスルー電圧分が本来小さくなる側のオーバーラッ
プ面積を大きくしてフィードスルー電圧分を大きくで
き、出力信号のバラツキを抑制して出力を安定化させる
ことができる効果がある。
【0071】請求項6記載の発明によれば、ゲート電極
の主走査方向の長さをLとし、ソース電極及びドレイン
電極の副走査方向の長さをWとしたとき、第1のスイッ
チング素子におけるW/Lを9とすると、第2のスイッ
チング素子におけるW/Lを12〜15とした請求項5
記載のイメージセンサとしているので、アライメントの
ずれによる第2のスイッチング素子でのフィードスルー
電圧分が本来小さくなる場合に、第2のスイッチング素
子のオーバーラップ容量が大きくなるため、該フィード
スルー電圧分を大きくでき、画像信号の出力の正方向の
オフセットを調整して、出力を安定化させることができ
る効果がある。
【0072】請求項7記載の発明によれば、第2のスイ
ッチング素子のソース電極に供給されるリセット用の電
位をグランド電位以外の電位としたイメージセンサとし
ているので、第2のスイッチング素子のフィードスルー
電圧分が小さい場合にはグランド電位よりリセット用の
電位を低くし、該フィードスルー電圧分が大きい場合に
はグランド電位よりリセット用の電位を高くすることに
より、画像信号の出力の正又は負方向のオフセットを調
整でき、出力を安定化させることができる効果がある。
【0073】請求項8記載の発明によれば、第2のスイ
ッチング素子のソース電極に供給されるリセット用の電
位をグランド電位より低くした請求項7記載のイメージ
センサとしているので、第2のスイッチング素子のフィ
ードスルー電圧分が小さい場合には画像信号の出力の正
方向のオフセットを調整でき、出力を安定化させること
ができる効果がある。
【0074】請求項9記載の発明によれば、第2のスイ
ッチング素子のソース電極に供給されるリセット用の電
位をグランド電位より高くした請求項7記載のイメージ
センサとしているので、第2のスイッチング素子のフィ
ードスルー電圧分が大きい場合には画像信号の出力の負
方向のオフセットを調整でき、出力を安定化させること
ができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例に係るイメージセンサの一
画素分の等価回路図である。
【図2】 本実施例(実施例1)のイメージセンサ全体
の等価回路図である。
【図3】 図1の各節点のタイミングチャート図であ
る。
【図4】 実施例1のイメージセンサの受光素子、電荷
転送部及び配線部の一部の平面説明図である。
【図5】 図4のA−A′部分の断面説明図である。
【図6】 図4のB−B′部分の断面説明図である。
【図7】 別の実施例の薄膜トランジスタの平面概略図
である。
【図8】 実施例2のイメージセンサの一画素分の等価
回路図である。
【図9】 実施例2のイメージセンサ全体の等価回路図
である。
【図10】 図8の各節点のタイミングチャート図であ
る。
【図11】 従来のイメージセンサ全体の等価回路図で
ある。
【図12】 従来のイメージセンサの受光素子、電荷転
送部及び配線部の一部の平面説明図である。
【図13】 従来の電荷転送のタイミングチャート図で
ある。
【符号の説明】
11…受光素子、 12…電荷転送部、 13…マトリ
ックス配線、 14…共通信号線、 15…駆動用I
C、 16,16′…ゲートパルス発生回路、17…出
力線、 18…アンプ、 19…リセット用MOSトラ
ンジスタ、 21…絶縁性基板、 22…金属電極、
23…光導電層、 24…透明電極、25…ゲ−ト電
極、 26…ゲ−ト絶縁層、 27…半導体活性層、
28…オ−ミックコンタクト層、 29…チャネル保護
層、 30…アルミニウム層、41…ドレイン電極、
42…ソース電極、 43…アルミニウム配線層、 4
4…個別配線、 P…フォトダイオード、 Cp…寄生
容量、 TT…転送用の第1の薄膜トランジスタ、 T
R…リセット用の第2の薄膜トランジスタ、 CL …配
線容量、 GT…転送用ゲ−ト信号線、 GR…リセッ
ト用ゲ−ト信号線

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光電変換を行う受光素子と、前記受光素子
    に蓄積された光電荷を転送する第1のスイッチング素子
    と、転送された電荷による電位変化を出力として読み取
    る読取手段と、前記転送後に前記受光素子に残留する電
    荷をリセットする第2のスイッチング素子と、前記第1
    のスイッチング素子にパルスを出力する第1のパルス発
    生回路と、前記第2のスイッチング素子にパルスを出力
    する第2のパルス発生回路とを有し、アライメントずれによって生じる前記第1のスイッチン
    グ素子における電荷転送時のフィードスルー電圧及び前
    記第2のスイッチング素子におけるリセット時のフィー
    ドスルー電圧による前記出力のオフセットに対して、 前記オフセットを補償するように、前記第1のパルス発
    生回路から出力されるパルスの電圧値と第2のパルス発
    生回路から出力されるパルスの電圧値の大小関係を定め
    ことを特徴とするイメージセンサ。
  2. 【請求項2】前記第1のスイッチング素子における電荷
    転送時のフィードスルー電圧分がアライメントずれがゼ
    ロである場合に比較して大きく、前記第2のスイッチン
    グ素子におけるリセット時のフィードスルー電圧分がア
    ライメントずれがゼロである場合に比較して小さくなる
    場合、 前記 第1のスイッチング素子に出力されるパルスの電圧
    値に対して第2のスイッチング素子に出力されるパルス
    の電圧値を高くしたことを特徴とする請求項1記載のイ
    メージセンサ。
  3. 【請求項3】前記第1のスイッチング素子における電荷
    転送時のフィードスルー電圧分がアライメントずれがゼ
    ロである場合に比較して小さく、前記第2のスイッチン
    グ素子におけるリセット時のフィードスルー電圧分がア
    ライメントずれがゼロである場合に比較して大きくなる
    場合、 前記 第1のスイッチング素子に出力されるパルスの電圧
    値に対して第2のスイッチング素子に出力されるパルス
    の電圧値を低くしたことを特徴とする請求項1記載のイ
    メージセンサ。
  4. 【請求項4】光電変換を行う受光素子と、前記受光素子
    に蓄積された光電荷を転送する第1のスイッチング素子
    と、前記転送後に前記受光素子に残留する電荷をリセッ
    トする第2のスイッチング素子とを有し、前記第1のス
    イッチング素子及び前記第2のスイッチング素子がゲー
    ト電極、ソース電極及びドレイン電極を具備し、前記各
    々のスイッチング素子を副走査方向にソース電極とドレ
    イン電極の配置方向が同じになるように配置したことを
    特徴とするイメージセンサ。
  5. 【請求項5】主走査方向に並設された光電変換を行う受
    光素子と、前記受光素子に対応し受光素子に蓄積された
    光電荷を転送する第1のスイッチング素子と、前記転送
    後に前記受光素子に残留する電荷をリセットする第2の
    スイッチング素子とを有し、前記第1のスイッチング素
    子及び前記第2のスイッチング素子がゲート電極、ソー
    ス電極及びドレイン電極を具備し、前記各々のスイッチ
    ング素子のソース電極及びドレイン電極がゲート電極に
    オーバーラップする構成でオーバーラップ容量が形成さ
    れ、ゲート電極に対するソース電極及びドレイン電極のパタ
    ーンのアライメントずれが、主走査方向の一方向にのみ
    生じるように設定されている場合に、 アライメントずれによりオーバーラップ容量が増加する
    側のスイッチング素子におけるオーバーラップ面積の副
    走査方向の長さに対して、アライメントずれによりオー
    バーラップ容量が減少する側のスイッチング素子におけ
    るオーバーラップ面積の副走査方向の長さを長く形成し
    たこと を特徴とするイメージセンサ。
  6. 【請求項6】第1のスイッチング素子におけるオーバー
    ラップ容量より第2のスイッチング素子におけるオーバ
    ーラップ容量を大きく形成し、 ゲート電極の主走査方向の長さをLとし、ソース電極及
    びドレイン電極の副走査方向の長さをWとしたとき、第
    1のスイッチング素子におけるW/Lを9とすると、第
    2のスイッチング素子におけるW/Lを12〜15とし
    たことを特徴とする請求項5記載のイメージセンサ。
  7. 【請求項7】光電変換を行う受光素子と、前記受光素子
    に蓄積された光電荷を転送する第1のスイッチング素子
    と、転送された電荷による電位変化を出力として読み取
    る読取手段と、前記転送後に前記受光素子に残留する電
    荷をリセットする第2のスイッチング素子とを有し、 前記第1のスイッチング素子及び前記第2のスイッチン
    グ素子がゲート電極,ソース電極,ドレイン電極を具備
    し、アライメントずれによって生じる前記第1のスイッチン
    グ素子における電荷転送時のフィードスルー電圧及び前
    記第2のスイッチング素子におけるリセット時のフィー
    ドスルー電圧による前記出力のオフセットに対して、 前記第2のスイッチング素子のソース電極に前記オフセ
    ットを補償する電位を供給する ことを特徴とするイメー
    ジセンサ。
  8. 【請求項8】前記第2のスイッチング素子におけるリセ
    ット時のフィードスルー電圧が前記第1のスイッチング
    素子における電荷転送時のフィードスルー電圧に対して
    小さくなっている場合、 前記 第2のスイッチング素子のソース電極に供給される
    電位をグランド電位より低くしたことを特徴とする請求
    項7記載のイメージセンサ。
  9. 【請求項9】前記第2のスイッチング素子におけるリセ
    ット時のフィードスルー電圧が前記第1のスイッチング
    素子における電荷転送時のフィードスルー電圧に対して
    大きくなっている場合、 前記 第2のスイッチング素子のソース電極に供給される
    電位をグランド電位より高くしたことを特徴とする請求
    項7記載のイメージセンサ。
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