JP3016296B2

JP3016296B2 - 電子写真感光体

Info

Publication number: JP3016296B2
Application number: JP3335447A
Authority: JP
Inventors: 一郎竹川; 清和真下; 泰生坂口; 秀美額田; 孝一山本
Original assignee: Fuji Xerox Co Ltd; Fujifilm Business Innovation Corp
Current assignee: Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date: 1991-11-26
Filing date: 1991-11-26
Publication date: 2000-03-06
Anticipated expiration: 2015-03-06
Also published as: JPH05142802A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体に関
し、さらに詳しくは、かぶりなどの欠陥が少なく、繰り
返し使用による画質劣化が少なく、耐久性に優れた電子
写真感光体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、電子写真感光体は、高速、かつ、
高印字品質が得られると言う利点を有するため、複写機
及びレーザービームプリンター等の分野において著しく
利用されている。これらの電子写真複写装置において用
いた電子写真感光体として、従来からのセレン、セレン
−テルル合金、セレン−ひ素合金、硫化カドミウム等の
無機光導電材料を用いた電子写真感光体に比べ、安価で
製造性及び廃棄性の点で優れた利点を有する有機光導電
材料を用いた電子写真感光体の研究が活発化している。
なかでも、露光により電荷を発生する電荷発生層と電荷
を輸送する電荷輸送層とを積層する機能分離型有機感光
体は、感度、帯電性及び繰り返し安定性等の電子写真特
性の点で優れており、種々の提案がなされて、実用化さ
れている。

【０００３】従来提案されている電子写真感光体におい
て、電荷発生層は、機械的強度或いは接着性の向上の目
的で、電荷発生材料を結着樹脂中に分散して用いる方法
が一般的である。その場合、電荷発生材料によって生成
されたキャリアが、電荷発生層中を移動し、電荷輸送層
に注入されるために、電子写真特性は、電荷発生層中に
用いる結着樹脂によって大きく影響を受けることが知ら
れている。また、塗布液の安定性や塗膜の均一性に関し
て主な要因である顔料の分散性は、用いる結着樹脂に大
きく依存することが知られている。従来、電荷発生層に
用いる結着樹脂に関しては、種々のものが知られてお
り、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（例えば、特
開平１−３０７７５９号公報参照）やポリビニルブチラ
ール樹脂（例えば特開昭６３−２１０８４６号公報参
照）を用いることも知られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、電荷発
生層における結着樹脂の選択について、一般的な法則
は、現在のところ見出だされておらず、各々の電荷発生
材料との組合わせにおいて、最適な結着樹脂を見出だす
というのが現状である。本発明は、上記のような実情に
鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、高感度
で、かつ、繰り返し安定性が高い電子写真感光体を提供
することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、種々の材
料について検討した結果、分散性に優れ、安定性が高い
塗布液を得ることに成功し、それを電荷発生層形成用に
用いることによって、上記の目的が達成できることを見
出だし、本発明を完成するに至った。

【０００６】すなわち、本発明は、導電性支持体上に、
電荷発生層、電荷輸送層を順次積層してなる電子写真感
光体において、電荷発生層の結着樹脂として、少なくと
も塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂及びポリビニル
ブチラール樹脂の両者を含有し、かつ、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体樹脂１００重量部に対するポリビニル
ブチラール樹脂の含有量が２０〜５０重量部の範囲にあ
ることを特徴とする。

【０００７】本発明の電子写真感光体において、導電性
支持体としては、アルミニウム、鋼、鉄、亜鉛、ニッケ
ルなどの金属ドラム、及びシート、紙、プラスチックま
たはガラス上にアルミニウム、銅、金、銀、白金、パラ
ジウム、チタン、ニッケル−クロム、ステンレス鋼、銅
−インジウム等の金属或いは酸化インジウム、酸化錫等
の導電性金属化合物を蒸着、スパッタリングなどの気相
形成法によって堆積させるか、金属箔をラミネートする
か、又はカーボンブラック、酸化インジウム、酸化錫−
酸化アンチモン粉、酸化チタン、金属粉、よう化銅等を
結着樹脂中に分散し、塗布することなどによって導電処
理したドラム状、シート状或いはプレート状の基材な
ど、公知の材料を用いることができる。さらに必要に応
じて、導電性支持体の表面は、白ぬけ、黒点の発生防
止、レーザー露光時の干渉縞の発生防止等の目的で、各
種の処理を行うことができる。例えば、表面の陽極酸化
処理、化学酸化処理、エッチング処理、着色処理等や、
サンドブラストニング、液体ホーニング、バイト切削、
バフ研磨等による粗面化等があげられる。

【０００８】上記導電性支持体上には、必要に応じて、
バリアー機能或いは接着性機能を有する下引き層を設け
てもよい。下引き層を構成する材料としては、ポリビニ
ルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアル
コール、カゼイン、ポリアミド、セルロース、ゼラチ
ン、ポリウレタン、ポリエステル等の樹脂や、酸化アル
ミニウム等の金属酸化物を使用することができる。

【０００９】電荷発生層は、電荷発生材料を結着樹脂及
び有機溶剤の混合物に分散し、塗布することによって形
成される。電荷発生材料としては、非晶質セレン、三方
晶等の結晶性セレン、セレン−テルル合金、セレン−ひ
素合金、その他のセレン化合物及びセレン合金、アモル
ファスシリコン、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機系光導
電体、α型、β型、γ型、η型、ｘ型等の無金属フタロ
シアニン、α型、β型、ε型等の銅フタロシアニン、α
型、β型、Ｙ型、ｍ型等のチタニルフタロシアニン、バ
ナジルフタロシアニン、クロルインジウムフタロシアニ
ン等の各種フタロシアニン系顔料、スクエアリウム系顔
料、アントアントロン系顔料、ペリレン系顔料、アゾ系
顔料、アントラキノン系顔料、ピレン系顔料、ピリリウ
ム塩、チアピリリウム塩等の有機顔料及び染料が用いら
れる。

【００１０】電荷発生層における結着樹脂のうち、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂としては、塩化ビニル
と酢酸ビニルの共重合比が塩化ビニル−酢酸ビニル＝９
５／５〜５０／５０の範囲のものが使用される。また、
塩化ビニル及び酢酸ビニル以外に、共重合体全体の１０
％までの量の第３の共重合体成分が含まれていてもよ
い。その様な共重合体成分としては、ビニルアルコー
ル、無水マレイン酸等があげられる。本発明において使
用される塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂の分子量
は、３０００〜８００００の範囲のものが好ましい。

【００１１】使用される塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体樹脂の具体例としては、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビ
ニルアルコール、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイ
ン酸、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール−無
水マレイン酸、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール−無水マレイン酸−マレイン酸があげられる。ま
た、ポリビニルブチラール樹脂は、ポリ酢酸ビニル樹脂
をけん化して得られるポリビニルアルコールに、ブチル
アルデヒドを反応させることによって得られるものであ
って、ビニルブチラール−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル共重合体になっている。ポリビニルブチラール樹脂
は、分子量重合度２００〜３００の範囲のものが好まし
く、また、ポリビニルブチラール樹脂のブチラール化度
は、６０〜８１．６モル％であり、アセチル基は７モル
％以下のものが好ましく使用される。

【００１２】塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂とポ
リビニルブチラール樹脂は、混合して用いられるが、塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂１００重量部に対し
て、２０〜５０重量部のポリビニルブチラール樹脂を混
合することにより、特に優れた感度と繰り返し安定性が
得られる。また、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂
を単独で用いる場合に比べて、ポリビニルブチラール樹
脂を混合した場合には、液の分散性が向上し、かつ、液
の経時安定性が向上する。塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体樹脂及びポリビニルブチラール樹脂は、それぞれ１
種或いは２種以上を用いても構わない。電荷発生材料と
結着樹脂との配合比（重量比）は、２０：１〜１：１０
の範囲が望ましい。特に好ましくは１０：１〜３：７の
範囲である。

【００１３】顔料を分散する方法としては、結着樹脂を
溶剤に溶解した液に、顔料を添加し、ペイントシェイカ
ー、ボールミル、サンドグラインドミル、アトライター
等の分散装置を用いて分散する方法が用いられる。電荷
発生層の塗布溶剤としては、ヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の炭化水素類、メチレンクロライド、
１，２−ジクロルエタン、１，１，２−トリクロロエタ
ン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ア
セトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル等のエス
テル類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタ
ノール、シクロヘキサノール、ペンタノール、エチレン
グリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、酢
酸セロソルブ等のアルコール及びその誘導体、テトラヒ
ドロフラン、１，４−ジオキサン、フラン、フルフラー
ル等のエーテル、アセタール類、ピリジンやアミン類等
の単独或いは混合溶媒が用いられる。また、電荷発生層
の膜厚は、一般には０．０１〜５μｍ、好ましくは、
０．０５〜２．０μｍの範囲に設定される。

【００１４】電荷輸送層は、結着樹脂中に電荷輸送材料
が分散または溶解してなり、そして電荷輸送材料として
は、下記に示されるものが例示できる。２，５−ビス
（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサ
ジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−
トリフェニル−ピラゾリン、１−〔ピリジル−（２）〕
−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジ
エチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導
体、トリフェニルアミン、ジベンジルアニリン等の芳香
族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ′ジフェニル−Ｎ，Ｎ′
−ビス（３−メチフェニル）−［１，１−ビフェニル］
−４，４′−ジアミン等の芳香族第３級ジアミノ化合
物、３−（４′−ジメチルアミノフェニル）−５，６−
ジ−（４′−メトキシフェニル）−１，２，４−トリア
ジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチル
アミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾ
ン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル
−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−
２，３−ジ−（ｐ−メトキシフェニル）−ベンゾフラン
等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビ
ニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリン等のα−スチルベ
ン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等
のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール
等のポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール誘導体、ポリ−γ−
カルバゾールエチルグルタナート誘導体、更にはｐ−ベ
ンゾキノン、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノ
ン等のキノン系化合物、ナフトシアノキノジメタン系化
合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオ
レノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系
化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の
電子吸引性物質、或いは以上に示した化合物からなる基
を主鎖または側鎖に有する重合体等があげられる。これ
等の電荷輸送材料は、１種または２種以上を組み合わせ
て使用できる。

【００１５】電荷輸送層に用いられる結着樹脂の例とし
ては、アクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ビスフェノールＡ型或いはビスフェノールＺ型
のポリカーボネート樹脂、ポリスチレン、アクリロニト
リル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエ
ン共重合体、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマ
ール、ポリスルホン、ポリアクリルアミド、ポリアミ
ド、塩素化ゴム等の絶縁性樹脂、或いはポリビニルカル
バゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン
等の有機光導電性ポリマー等があげられる。

【００１６】電荷輸送層は、上記した電荷輸送材料及び
結着樹脂とを適当な溶媒に溶解させた溶液を塗布し、乾
燥することによって形成することができる。電荷輸送層
の形成に使用される溶媒としては、例えば、ベンゼン、
トルエン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセ
トン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロ
ロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコ
ール、ジエチルエーテル等の環状或いは直鎖状エーテ
ル、或いはこれ等混合溶剤等を用いることができる。電
荷輸送材料と上記結着樹脂との配合比は、１０：１〜
１：５の範囲が好ましい。また、電荷輸送層の膜厚は、
一般に５〜５０μｍ、好ましくは１０〜３０μｍの範囲
に設定される。

【００１７】複写機中で発生するオゾンや酸化性ガス、
或いは光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、電
荷輸送層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加
剤を添加することができる。例えば、酸化防止剤として
は、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフ
ェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノ
ン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれ等の誘
導体、有機硫黄化合物、有機りん化合物等があげられ
る。光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾト
リアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリ
ジン等の誘導体があげられる。

【００１８】また、感度の向上、残留電位の低減、繰り
返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種
の電子受容性物質を含有させることができる。本発明の
電子写真感光体に使用可能な電子受容性物質としては、
例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水
マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル
酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタ
ン、ｏ−ジニトロベンゼン、m-ジニトロベンゼン、クロ
ラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレ
ノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安
息香酸、フタル酸等をあげることができる。これ等のう
ち、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ₂
等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好
ましい。

【００１９】塗工には、浸漬塗布法、スプレー塗布
法、、スピン塗布法、ビード塗布法、ブレード塗布法、
ローラー塗布法、カーテン塗布法等の塗布法を用いて行
なうことができる。乾燥は、室温での指触乾燥の後に、
加熱乾燥するのが好ましい。加熱乾燥は、３０℃〜２０
０℃の温度で５分〜２時間の範囲の時間で、静止または
送風下で行なうことができる。

【００２０】

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明がこれらの実施例によって限定されるも
のではない。実施例１４０ｍｍφのアルミニウムパイプを液体ホーニング処理
によりＲａ＝０．１μｍに粗面化した基体上に、ポリア
ミド樹脂（ラッカマイドＬ５００３、東レ（株）製）１
０重量部、メチルアルコール１５０重量部、及び水４０
重量部からなる塗布液を塗布し、乾燥して、膜厚１μｍ
の下引き層を形成した。電荷発生材料として、以下の方
法で作成されたＣｕＫａ特性Ｘ線（波長１．５４１オン
グストローム）に対してブラッグ角２θ＝２７．３°±
０．２°に最も強いピークを有するチタニルフタロシア
ニン顔料を準備した。すなわち、１，３−ジイミノイソ
インドリン３重量部、及びチタニウムブトキシド１．７
重量部を、１−クロロナフタレン２０重量部中で１９０
℃において５時間反応させた後、生成物を濾過し、アン
モニア水、水、アセトンで洗浄し、チタニルフタロシア
ニン４．０重量部を得た。このチタニルフタロシアニン
２．０重量部を９７％硫酸１００重量部に０℃で溶解し
た後、氷冷したメタノール４００重量部と水４００重量
部の混合溶媒中に注ぎ、析出した結晶を濾過し、メタノ
ール、希アンモニア水、次いで水で洗浄した後、得られ
た含水チタニウムフタロシアニンケーキを水２０重量
部、及びモノクロロベンゼン２重量部の混合溶媒中で５
０℃において１時間撹拌した。その後、濾過し、メタノ
ール、水で洗浄し、乾燥して１．６重量部のチタニルフ
タロシアニンを得た。得られたチタニルフタロシアニン
は、０．０５〜０．０８μｍの均一な粒径であり、得ら
れた結晶の粉末Ｘ線回折パターンは、２７．３°に最も
強いピークを示した。

【００２１】このようにして得られたチタニルフタロシ
アニン１５重量部、ポリビニルブチラール樹脂（エスレ
ックＢＭ−Ｓ、積水化学（株）製）３重量部、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、
ユニオンカーバイド社製、塩化ビニル８６重量％−酢酸
ビニル１３重量％−マレイン酸１重量％）７重量部、及
び酢酸イソアミル３００重量部からなる混合物をサンド
ミルにて５時間分散した。得られた塗布液を上記下引き
層上に塗布、乾燥して、膜厚０．２μｍの電荷発生層を
形成した。次に、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビ
ス（３−メチフェニル）−［１，１−ビフェニル］−
４，４′−ジアミン４重量部とビスフェノールＺポリカ
ーボネート樹脂（分子量４００００）６重量部とを、ク
ロルベンゼン８０重量部に加えて溶解し、塗布、乾燥す
ることにより、膜厚２２μｍの電荷輸送層を形成し、３
層からなる電子写真感光体を作製した。

【００２２】

【００２３】比較例１電荷発生層の結着樹脂の総量は、実施例１の場合と同一
にし、結着樹脂の全てをポリビニルブチラール樹脂（エ
スレックＢＭ−Ｓ、積水化学（株）製）に変更した以外
は、実施例１と同様の条件で電子写真感光体を作製し
た。

【００２４】比較例２電荷発生層の結着樹脂の総量は、実施例１の場合と同一
にし、結着樹脂の全てを塩化ビニル−酢酸ビニル−マレ
イン酸共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、ユニオンカーバイド社
製）に変更した以外は、実施例１と同様の条件で電子写
真感光体を作製した。

【００２５】比較例３電荷発生層の結着樹脂を、ポリビニルブチラール樹脂
（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学（株）製）７重量部、
塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体樹脂（Ｖ
ＭＣＨ、ユニオンカーバイド社製）３重量部に変更した
以外は、実施例１と同様の条件で電子写真感光体を作製
した。上記実施例１及び比較例１〜３において作製され
た電子写真感光体を、それぞれレーザービームプリンタ
ー（ＸＰ−１１、富士ゼロックス（株）製）に装着し、
スコロトロン帯電器のグリッド電圧を調整し、現像器位
置での未露光時の表面電位を８００Ｖに設定した。レー
ザーへの印加電圧を調整することにより、全面均一露光
時の表面電位が４００Ｖ及び１００Ｖになるときの光量
を求め、感度の指標とした。また、露光時の表面電位が
１００Ｖになるように光量を調整した状態で１００Ｋサ
イクルの走行試験を実施した。得られた結果を表１に示
す。

【００２６】

【表１】

【００２７】実施例２表面切削処理によりＲａ＝０．０９μｍに粗面化した４
０ｍｍφのアルミニウムパイプ基材上に、有機ジルコニ
ウム化合物及び有機シラン化合物の混合物（ＺＣ５４０
／Ａ１１１０の２／１モル組成）１０重量部、ｎ−ブチ
ルアルコール１５０重量部、及びエチルアルコール４０
重量部からなる塗布液を塗布、乾燥して、膜厚０．２μ
ｍの下引き層を形成した。次に、電荷発生材料として下
記構造式（Ｉ）で示されるフッ素置換ヒドロキシスクエ
アリウム化合物１５重量部、ポリビニルブチラール樹脂
（エスレックＢＸ−１、積水化学（株）製）３重量部、
塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体樹脂（Ｖ
ＭＣＣ、ユニオンカーバイド社製、塩化ビニル８３重量
％−酢酸ビニル１６重量％−マレイン酸１重量％）７重
量部、及び酢酸ｎ−ブチル３００重量部からなる混合物
を、ペイントシェイカーにて２時間分散処理した。得ら
れた塗布液を上記下引き層上に塗布し、乾燥して、膜厚
０．１５μｍの電荷発生層を形成した。

【００２８】

【化１】次に、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メ
チフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−
ジアミン４重量部とビスフェノールＺポリカーボネート
樹脂（分子量４００００）６重量部とを、クロルベンゼ
ン８０重量部に加えて溶解し、塗布、乾燥することによ
り、膜厚２１μｍの電荷輸送層を形成し、３層からなる
電子写真感光体を作製した。

【００２９】

【００３０】比較例４電荷発生層の結着樹脂の総量は、実施例２の場合と同一
にし、結着樹脂の全てをポリビニルブチラール樹脂（エ
スレックＢＸ−１、積水化学（株）製）に変更した以外
は、実施例２と同様の条件で電子写真感光体を作製し
た。

【００３１】比較例５電荷発生層の結着樹脂の総量は、実施例２の場合と同一
にし、結着樹脂の全てを塩化ビニル−酢酸ビニル−マレ
イン酸共重合体樹脂（ＶＭＣＣ、ユニオンカーバイド社
製）に変更した以外は、実施例２と同様の条件で電子写
真感光体を作製した。

【００３２】比較例６電荷発生層の結着樹脂を、ポリビニルブチラール樹脂
（エスレックＢＸ−１、積水化学（株）製）７重量部、
塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体樹脂（Ｖ
ＭＣＣ、ユニオンカーバイド社製）３重量部に変更した
以外は、実施例２と同様の条件で電子写真感光体を作製
した。上記実施例２及び比較例４〜６において作製され
た電子写真感光体を、それぞれレーザービームプリンタ
ー（ＸＰ−１１、富士ゼロックス（株）製）に装着し、
スコロトロン帯電器のグリッド電圧を調整し、現像器位
置での未露光時の表面電位を８００Ｖに設定した。レー
ザーへの印加電圧を調整することにより、全面均一露光
時の表面電位が４００Ｖ及び１００Ｖになるときの光量
を求め、感度の指標とした。また、露光時の表面電位が
１００Ｖになるように光量を調整した状態で１００Ｋサ
イクルの走行試験を実施した。また、実施例２及び比較
例４〜６において作製された電荷発生層の塗布液の分散
性を目視で観察した。得られた結果を表２に示す。

【００３３】

【表２】

【００３４】

【発明の効果】本発明においては、上記のように塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体樹脂とポリビニルブチラール
樹脂との特定の組合わせよりなる電荷発生層形成用塗布
液を用いるから、この塗布液は電荷発生材料の分散性に
優れ、また安定性が高く、したがって、それを用いて形
成される本発明の電子写真感光体は、高感度で、かつ、
繰り返し安定性が高いという効果を生じる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者額田秀美神奈川県南足柄市竹松1600番地富士ゼロックス株式会社竹松事業所内 (72)発明者山本孝一神奈川県南足柄市竹松1600番地富士ゼロックス株式会社竹松事業所内 (56)参考文献特開平１−279252（ＪＰ，Ａ) 特開平１−277241（ＪＰ，Ａ) 特開平３−33862（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03G 5/05 101 G03G 5/06 371 G03G 5/06 384

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性支持体上に、電荷発生層、電荷輸
送層を順次積層してなる電子写真感光体において、電荷
発生層の結着樹脂として、少なくとも塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体樹脂及びポリビニルブチラール樹脂の両
者を含有し、かつ、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹
脂１００重量部に対するポリビニルブチラール樹脂の含
有量が２０〜５０重量部の範囲にあることを特徴とする
電子写真感光体。
【請求項２】塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂が
３重量％以下のマレイン酸成分を含有することを特徴と
する請求項１記載の電子写真感光体。
【請求項３】電荷発生材料としてＣｕＫａ特性Ｘ線
（波長１．５４オングストローム）に対してブラッグ角
２θ＝２７．３°±０．２°に最も強い回折ピークを有
するチタニルフタロシアニン顔料を含有することを特徴
とする請求項１記載の電子写真感光体。
【請求項４】電荷発生材料として、スクエアリウム顔
料を含有することを特徴とする請求項１記載の電子写真
感光体。