JP2956311B2 - 電子写真用感光体 - Google Patents
電子写真用感光体Info
- Publication number
- JP2956311B2 JP2956311B2 JP25534291A JP25534291A JP2956311B2 JP 2956311 B2 JP2956311 B2 JP 2956311B2 JP 25534291 A JP25534291 A JP 25534291A JP 25534291 A JP25534291 A JP 25534291A JP 2956311 B2 JP2956311 B2 JP 2956311B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- groups
- represented
- bonded
- atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子写真用感光体に関す
るものである。さらに詳しくは有機系の光導電性物質を
含有する感光層を有する高感度の電子写真用感光体に関
するものである。
るものである。さらに詳しくは有機系の光導電性物質を
含有する感光層を有する高感度の電子写真用感光体に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、電子写真感光体の感光層にはセレ
ン、硫化カドミウム、酸化亜鉛等の無機系の光導電性物
質が広く用いられていた。しかしながら、セレン、硫化
カドミウムは毒物として回収が必要であり、セレンは熱
により結晶化するため耐熱性に劣り、硫化カドミウム、
酸化亜鉛は耐湿性に劣り、また酸化亜鉛は耐刷性がない
などの欠点を有しており、新規な感光体の開発の努力が
続けられている。最近は、有機系の光導電性物質を電子
写真用感光体の感光層に用いる研究が進み、そのいくつ
かが実用化された。有機系の光導電性物質は無機系のも
のに比し、軽量である、成膜が容易である、感光体の製
造が容易である、種類によっては透明な感光体を製造で
きる等の利点を有する。
ン、硫化カドミウム、酸化亜鉛等の無機系の光導電性物
質が広く用いられていた。しかしながら、セレン、硫化
カドミウムは毒物として回収が必要であり、セレンは熱
により結晶化するため耐熱性に劣り、硫化カドミウム、
酸化亜鉛は耐湿性に劣り、また酸化亜鉛は耐刷性がない
などの欠点を有しており、新規な感光体の開発の努力が
続けられている。最近は、有機系の光導電性物質を電子
写真用感光体の感光層に用いる研究が進み、そのいくつ
かが実用化された。有機系の光導電性物質は無機系のも
のに比し、軽量である、成膜が容易である、感光体の製
造が容易である、種類によっては透明な感光体を製造で
きる等の利点を有する。
【０００３】最近は、電荷キャリヤーの発生と移動の機
能を別々の化合物に分担させる、いわゆる機能分離型の
感光体が高感度化に有効であることから、開発の主流と
なっており、このタイプによる有機系感光体の実用化も
行なわれている。電荷キャリヤー移動媒体としては、ポ
リビニルカルバゾールなどの高分子光導電性化合物を用
いる場合と低分子光導電性化合物をバインダーポリマー
中に分散溶解する場合とがある。
能を別々の化合物に分担させる、いわゆる機能分離型の
感光体が高感度化に有効であることから、開発の主流と
なっており、このタイプによる有機系感光体の実用化も
行なわれている。電荷キャリヤー移動媒体としては、ポ
リビニルカルバゾールなどの高分子光導電性化合物を用
いる場合と低分子光導電性化合物をバインダーポリマー
中に分散溶解する場合とがある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】特に、有機系の低分子
光導電性化合物は、バインダーとして皮膜性、可とう
性、接着性などのすぐれたポリマーを選択することがで
きるので容易に機械的特性の優れた感光体を得ることが
できる（例えば、特開昭６０−１９６７６７号公報、特
開昭６０−２１８６５２号公報、特開昭６０−２３３１
５６号公報、特開昭６３−４８５５２号公報、特開平１
−２６７５５２号公報参照）。しかしながら、高感度な
感光体を作るのに適した化合物を見出すことが困難であ
った。
光導電性化合物は、バインダーとして皮膜性、可とう
性、接着性などのすぐれたポリマーを選択することがで
きるので容易に機械的特性の優れた感光体を得ることが
できる（例えば、特開昭６０−１９６７６７号公報、特
開昭６０−２１８６５２号公報、特開昭６０−２３３１
５６号公報、特開昭６３−４８５５２号公報、特開平１
−２６７５５２号公報参照）。しかしながら、高感度な
感光体を作るのに適した化合物を見出すことが困難であ
った。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは高感度およ
び高耐久性の電子写真用感光体を提供する有機系の低分
子光導電性化合物について鋭意研究したところ特定のビ
スヒドラゾン系化合物が好適であることを見出し本発明
に至った。即ち、本発明の要旨は、導電性支持体上に下
記一般式〔Ｉ〕
び高耐久性の電子写真用感光体を提供する有機系の低分
子光導電性化合物について鋭意研究したところ特定のビ
スヒドラゾン系化合物が好適であることを見出し本発明
に至った。即ち、本発明の要旨は、導電性支持体上に下
記一般式〔Ｉ〕
【０００６】
【化４】
【０００７】（式中、Ｑ1 は下記一般式〔III 〕〜〔VI
I 〕で示されるいずれかの基を表わし；Ｑ2 は下記一般
式〔IV〕〜〔VIII〕で示されるいずれかの基を表わし；
I 〕で示されるいずれかの基を表わし；Ｑ2 は下記一般
式〔IV〕〜〔VIII〕で示されるいずれかの基を表わし；
【０００８】
【化５】
【０００９】Ｘは、置換基を有していてもよい脂肪族連
結基を表わし、連結基主鎖中に酸素原子または炭素−炭
素二重結合が介在していてもよく；Ａｒ1およびＡｒ2
はそれぞれ置換基を有していてもよいアルキル基又はア
リール基又は複素環基であり、これらは互いに同一でも
異なっていてもよく；Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 お
よびＲ9 はそれぞれ水素原子、置換基を有していてもよ
いアルキル基、ハロゲン原子、または置換基を有してい
てもよいアルコキシ基を表わし、これらは互いに同一で
も異なっていてもよく；Ｒ6およびＲ8 はそれぞれ水素
原子、置換基を有していてもよいアルキル基、または置
換基を有していてもよいアリール基を表わし、これらは
互いに同一でも異なっていてもよく；Ｒ7 およびＲ10は
それぞれ置換基を有していてもよいアリール基もしくは
複素環基を表わし；点線１は同一窒素原子に結合した２
つのフェニル基が点線で示す如く結合して下記一般式
〔IX〕又は〔XI〕で、点線２は同一窒素原子に結合した
２つのフェニル基が点線で示す如く結合して、下記一般
式〔Ｘ〕又は〔XII 〕で
結基を表わし、連結基主鎖中に酸素原子または炭素−炭
素二重結合が介在していてもよく；Ａｒ1およびＡｒ2
はそれぞれ置換基を有していてもよいアルキル基又はア
リール基又は複素環基であり、これらは互いに同一でも
異なっていてもよく；Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 お
よびＲ9 はそれぞれ水素原子、置換基を有していてもよ
いアルキル基、ハロゲン原子、または置換基を有してい
てもよいアルコキシ基を表わし、これらは互いに同一で
も異なっていてもよく；Ｒ6およびＲ8 はそれぞれ水素
原子、置換基を有していてもよいアルキル基、または置
換基を有していてもよいアリール基を表わし、これらは
互いに同一でも異なっていてもよく；Ｒ7 およびＲ10は
それぞれ置換基を有していてもよいアリール基もしくは
複素環基を表わし；点線１は同一窒素原子に結合した２
つのフェニル基が点線で示す如く結合して下記一般式
〔IX〕又は〔XI〕で、点線２は同一窒素原子に結合した
２つのフェニル基が点線で示す如く結合して、下記一般
式〔Ｘ〕又は〔XII 〕で
【００１０】
【化６】
【００１１】表わされる構造をとることもできることを
示す。）で表わされるビスヒドラゾン系化合物を含有す
る感光層を有することを特徴とする電子写真用感光体に
存する。以下、本発明を詳細に説明する。
示す。）で表わされるビスヒドラゾン系化合物を含有す
る感光層を有することを特徴とする電子写真用感光体に
存する。以下、本発明を詳細に説明する。
【００１２】本発明の電子写真用感光体は、感光層中に
前記一般式〔Ｉ〕で表わされるビスヒドラゾン系化合物
を含有する。前記一般式〔Ｉ〕において、Ｑ1 は下記一
般式〔III 〕〜〔VII 〕で示されるいずれかの基を表わ
し；Ｑ2 は下記一般式〔IV〕〜〔VIII〕で示されるいず
れかの基を表わす。
前記一般式〔Ｉ〕で表わされるビスヒドラゾン系化合物
を含有する。前記一般式〔Ｉ〕において、Ｑ1 は下記一
般式〔III 〕〜〔VII 〕で示されるいずれかの基を表わ
し；Ｑ2 は下記一般式〔IV〕〜〔VIII〕で示されるいず
れかの基を表わす。
【００１３】
【化７】
【００１４】Ｘはメチル基、エチル基等の低級アルキル
基、メトキシ基、エトキシ基等の低級アルコキシ基、塩
素原子、臭素原子等のハロゲン原子及びフェニル基、ナ
フチル基等のアリール基等の置換基を有していてもよい
脂肪族連結基を表わし、これらのアルキル基、アルコキ
シ基およびアリール基は置換基を有していてもよく、置
換基としては、水酸基；塩素原子、臭素原子、よう素原
子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキル基；メトキシ、
エトキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基；アリル基；
ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラ
ルキル基；フェノキシ基、トリロキシ基等のアリールオ
キシ基；ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等のア
リールアルコキシ基；フェニル基、ナフチル基等のアリ
ール基；スチリル基、ナフチルビニル基等のアリールビ
ニル基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジア
ルキルアミノ基；ジフェニルアミノ基、ジナフチルアミ
ノ基等のジアリールアミノ基；ジベンジルアミノ基、ジ
フェネチルアミノ基等のジアラルキルアミノ基；ジピリ
ジルアミノ基、ジチエニルアミノ基等のジ複素環アミノ
基；ジアリルアミノ基又、上記のアミノ基の置換基を組
み合せたジ置換アミノ基等があげられる。
基、メトキシ基、エトキシ基等の低級アルコキシ基、塩
素原子、臭素原子等のハロゲン原子及びフェニル基、ナ
フチル基等のアリール基等の置換基を有していてもよい
脂肪族連結基を表わし、これらのアルキル基、アルコキ
シ基およびアリール基は置換基を有していてもよく、置
換基としては、水酸基；塩素原子、臭素原子、よう素原
子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキル基；メトキシ、
エトキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基；アリル基；
ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラ
ルキル基；フェノキシ基、トリロキシ基等のアリールオ
キシ基；ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等のア
リールアルコキシ基；フェニル基、ナフチル基等のアリ
ール基；スチリル基、ナフチルビニル基等のアリールビ
ニル基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジア
ルキルアミノ基；ジフェニルアミノ基、ジナフチルアミ
ノ基等のジアリールアミノ基；ジベンジルアミノ基、ジ
フェネチルアミノ基等のジアラルキルアミノ基；ジピリ
ジルアミノ基、ジチエニルアミノ基等のジ複素環アミノ
基；ジアリルアミノ基又、上記のアミノ基の置換基を組
み合せたジ置換アミノ基等があげられる。
【００１５】また、連結基主鎖中に酸素原子または炭素
−炭素二重結合が介在していてもよい。炭素のみの連結
基主鎖の場合、構成炭素数は１〜９が好適であり、又場
合によっては連結基鎖中のＳｐ3 炭素上でシクロヘキサ
ン環等の炭化水素環を形成していてもよい。又、連結基
主鎖中に酸素原子が介在する場合、エーテル結合の形を
とり構成炭素鎖長は１〜９が好適である。
−炭素二重結合が介在していてもよい。炭素のみの連結
基主鎖の場合、構成炭素数は１〜９が好適であり、又場
合によっては連結基鎖中のＳｐ3 炭素上でシクロヘキサ
ン環等の炭化水素環を形成していてもよい。又、連結基
主鎖中に酸素原子が介在する場合、エーテル結合の形を
とり構成炭素鎖長は１〜９が好適である。
【００１６】Ａｒ1 およびＡｒ2 は、それぞれ、メチル
基、エチル基、プロピル基等のアルキル基；フェニル
基、ナフチル基、アントラセニル基等のアリール基；ピ
ロリル基、チオフェニル基、フリル基、カルバゾリル基
等の複素環基を表し、これらは、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、特にフェニル基が好ましい。これらのア
ルキル基、アリール基、および複素環基は置換基を有し
ていてもよく、置換基としては、水酸基；塩素原子、臭
素原子、よう素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキル
基；メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等のアルコキ
シ基；アリル基；ベンジル基、ナフチルメチル基、フェ
ネチル基等のアラルキル基；フェノキシ基、トリロキシ
基等のアリールオキシ基；ベンジルオキシ基、フェネチ
ルオキシ基等のアリールアルコキシ基；フェニル基、ナ
フチル基等のアリール基；スチリル基、ナフチルビニル
基等のアリールビニル基、ジメチルアミノ基、ジエチル
アミノ基等のジアルキルアミノ基；ジフェニルアミノ
基、ジナフチルアミノ基等のジアリールアミノ基；ジベ
ンジルアミノ基、ジフェネチルアミノ基等のジアラルキ
ルアミノ基；ジピリジルアミノ基、ジチエニルアミノ基
等のジ複素環アミノ基；ジアリルアミノ基又、上記のア
ミノ基の置換基を組み合せたジ置換アミノ基等があげら
れる。
基、エチル基、プロピル基等のアルキル基；フェニル
基、ナフチル基、アントラセニル基等のアリール基；ピ
ロリル基、チオフェニル基、フリル基、カルバゾリル基
等の複素環基を表し、これらは、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、特にフェニル基が好ましい。これらのア
ルキル基、アリール基、および複素環基は置換基を有し
ていてもよく、置換基としては、水酸基；塩素原子、臭
素原子、よう素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキル
基；メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等のアルコキ
シ基；アリル基；ベンジル基、ナフチルメチル基、フェ
ネチル基等のアラルキル基；フェノキシ基、トリロキシ
基等のアリールオキシ基；ベンジルオキシ基、フェネチ
ルオキシ基等のアリールアルコキシ基；フェニル基、ナ
フチル基等のアリール基；スチリル基、ナフチルビニル
基等のアリールビニル基、ジメチルアミノ基、ジエチル
アミノ基等のジアルキルアミノ基；ジフェニルアミノ
基、ジナフチルアミノ基等のジアリールアミノ基；ジベ
ンジルアミノ基、ジフェネチルアミノ基等のジアラルキ
ルアミノ基；ジピリジルアミノ基、ジチエニルアミノ基
等のジ複素環アミノ基；ジアリルアミノ基又、上記のア
ミノ基の置換基を組み合せたジ置換アミノ基等があげら
れる。
【００１７】Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 およびＲ9
は水素原子；塩素原子，臭素原子，沃素原子等のハロゲ
ン原子；メチル基，エチル基，プロピル基等のアルキル
基；メトキシ基，エトキシ基，プロピルオキシ基等のア
ルコキシ基を表わし、これらは互いに同一でも異なって
いてもよい。これらのアルキル基，アルコキシ基は置換
基を有していてもよく、置換基としては、水酸基；塩素
原子、臭素原子、よう素原子等のハロゲン原子；メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等の
アルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等の
アルコキシ基；アリル基；ベンジル基、ナフチルメチル
基、フェネチル基等のアラルキル基；フェノキシ基、ト
リロキシ基等のアリールオキシ基；ベンジルオキシ基、
フェネチルオキシ基等のアリールアルコキシ基；フェニ
ル基、ナフチル基等のアリール基；スチリル基、ナフチ
ルビニル基等のアリールビニル基、ジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基等のジアルキルアミノ基；ジフェニル
アミノ基、ジナフチルアミノ基等のジアリールアミノ
基；ジベンジルアミノ基、ジフェネチルアミノ基等のジ
アラルキルアミノ基；ジピリジルアミノ基、ジチエニル
アミノ基等のジ複素環アミノ基；ジアリルアミノ基又、
上記のアミノ基の置換基を組み合せたジ置換アミノ基等
があげられる。
は水素原子；塩素原子，臭素原子，沃素原子等のハロゲ
ン原子；メチル基，エチル基，プロピル基等のアルキル
基；メトキシ基，エトキシ基，プロピルオキシ基等のア
ルコキシ基を表わし、これらは互いに同一でも異なって
いてもよい。これらのアルキル基，アルコキシ基は置換
基を有していてもよく、置換基としては、水酸基；塩素
原子、臭素原子、よう素原子等のハロゲン原子；メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等の
アルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等の
アルコキシ基；アリル基；ベンジル基、ナフチルメチル
基、フェネチル基等のアラルキル基；フェノキシ基、ト
リロキシ基等のアリールオキシ基；ベンジルオキシ基、
フェネチルオキシ基等のアリールアルコキシ基；フェニ
ル基、ナフチル基等のアリール基；スチリル基、ナフチ
ルビニル基等のアリールビニル基、ジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基等のジアルキルアミノ基；ジフェニル
アミノ基、ジナフチルアミノ基等のジアリールアミノ
基；ジベンジルアミノ基、ジフェネチルアミノ基等のジ
アラルキルアミノ基；ジピリジルアミノ基、ジチエニル
アミノ基等のジ複素環アミノ基；ジアリルアミノ基又、
上記のアミノ基の置換基を組み合せたジ置換アミノ基等
があげられる。
【００１８】Ｒ6 およびＲ8 は水素原子；メチル基、エ
チル基、プロピル基等のアルキル基；フェニル基、ナフ
チル基、アントラセニル基等のアリール基を表し、これ
らは互いに同一でも異なっていてもよく、特に、水素原
子または、メチル基が好ましい。これらのアルキル基お
よびアリール基は、置換基を有していてもよく、置換基
としては、水酸基；塩素原子、臭素原子、よう素原子等
のハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基等のアルキル基；メトキシ基、エト
キシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基；アリル基；ベン
ジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキ
ル基；フェノキシ基、トリロキシ基等のアリールオキシ
基；ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等のアリー
ルアルコキシ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール
基；スチリル基、ナフチルビニル基等のアリールビニル
基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキ
ルアミノ基；ジフェニルアミノ基、ジナフチルアミノ基
等のジアリールアミノ基；ジベンジルアミノ基、ジフェ
ネチルアミノ基等のジアラルキルアミノ基；ジピリジル
アミノ基、ジチエニルアミノ基等のジ複素環アミノ基；
ジアリルアミノ基又、上記のアミノ基の置換基を組み合
せたジ置換アミノ基等があげられる。
チル基、プロピル基等のアルキル基；フェニル基、ナフ
チル基、アントラセニル基等のアリール基を表し、これ
らは互いに同一でも異なっていてもよく、特に、水素原
子または、メチル基が好ましい。これらのアルキル基お
よびアリール基は、置換基を有していてもよく、置換基
としては、水酸基；塩素原子、臭素原子、よう素原子等
のハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基等のアルキル基；メトキシ基、エト
キシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基；アリル基；ベン
ジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキ
ル基；フェノキシ基、トリロキシ基等のアリールオキシ
基；ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等のアリー
ルアルコキシ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール
基；スチリル基、ナフチルビニル基等のアリールビニル
基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキ
ルアミノ基；ジフェニルアミノ基、ジナフチルアミノ基
等のジアリールアミノ基；ジベンジルアミノ基、ジフェ
ネチルアミノ基等のジアラルキルアミノ基；ジピリジル
アミノ基、ジチエニルアミノ基等のジ複素環アミノ基；
ジアリルアミノ基又、上記のアミノ基の置換基を組み合
せたジ置換アミノ基等があげられる。
【００１９】Ｒ7 およびＲ10はフェニル基、ナフチル
基、アントラセニル基等のアリール基；ピロリル基、チ
オフェニル基、フリル基、カルバゾリル基等の複素環基
を表し、これらは、互いに同一でも異なっていてもよ
く、特に、フェニル基またはナフチル基が好ましい。こ
れらのアリール基、および複素環基は置換基を有してい
てもよく、置換基としては、水酸基；塩素原子、臭素原
子、よう素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキル
基；メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等のアルコキ
シ基；アリル基；ベンジル基、ナフチルメチル基、フェ
ネチル基等のアラルキル基；フェノキシ基、トリロキシ
基等のアリールオキシ基；ベンジルオキシ基、フェネチ
ルオキシ基等のアリールアルコキシ基；フェニル基、ナ
フチル基等のアリール基；スチリル基、ナフチルビニル
基等のアリールビニル基、ジメチルアミノ基、ジエチル
アミノ基等のジアルキルアミノ基；ジフェニルアミノ
基、ジナフチルアミノ基等のジアリールアミノ基；ジベ
ンジルアミノ基、ジフェネチルアミノ基等のジアラルキ
ルアミノ基；ジピリジルアミノ基、ジチエニルアミノ基
等のジ複素環アミノ基；ジアリルアミノ基又、上記のア
ミノ基の置換基を組み合せたジ置換アミノ基等があげら
れる。
基、アントラセニル基等のアリール基；ピロリル基、チ
オフェニル基、フリル基、カルバゾリル基等の複素環基
を表し、これらは、互いに同一でも異なっていてもよ
く、特に、フェニル基またはナフチル基が好ましい。こ
れらのアリール基、および複素環基は置換基を有してい
てもよく、置換基としては、水酸基；塩素原子、臭素原
子、よう素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキル
基；メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等のアルコキ
シ基；アリル基；ベンジル基、ナフチルメチル基、フェ
ネチル基等のアラルキル基；フェノキシ基、トリロキシ
基等のアリールオキシ基；ベンジルオキシ基、フェネチ
ルオキシ基等のアリールアルコキシ基；フェニル基、ナ
フチル基等のアリール基；スチリル基、ナフチルビニル
基等のアリールビニル基、ジメチルアミノ基、ジエチル
アミノ基等のジアルキルアミノ基；ジフェニルアミノ
基、ジナフチルアミノ基等のジアリールアミノ基；ジベ
ンジルアミノ基、ジフェネチルアミノ基等のジアラルキ
ルアミノ基；ジピリジルアミノ基、ジチエニルアミノ基
等のジ複素環アミノ基；ジアリルアミノ基又、上記のア
ミノ基の置換基を組み合せたジ置換アミノ基等があげら
れる。
【００２０】点線１は同一窒素原子に結合した２つのフ
ェニル基が点線で示す如く結合して下記一般式〔IX〕又
は〔XI〕で、点線２は同一窒素原子に結合した２つのフ
ェニル基が点線で示す如く結合して、下記一般式〔Ｘ〕
又は〔XII 〕で
ェニル基が点線で示す如く結合して下記一般式〔IX〕又
は〔XI〕で、点線２は同一窒素原子に結合した２つのフ
ェニル基が点線で示す如く結合して、下記一般式〔Ｘ〕
又は〔XII 〕で
【００２１】
【化８】
【００２２】表わされる構造をとることもできる。）以
下に一般式〔Ｉ〕で表わされるビスヒドラゾン系化合物
についてその代表例を挙げるが、本発明に用いるビスヒ
ドラゾン系化合物はその要旨を越えない限りこれら具体
例に限定されるものではない。
下に一般式〔Ｉ〕で表わされるビスヒドラゾン系化合物
についてその代表例を挙げるが、本発明に用いるビスヒ
ドラゾン系化合物はその要旨を越えない限りこれら具体
例に限定されるものではない。
【００２３】なお、下記例示において、記載のない限
り、Ａｒ1 及びＡｒ2 はいずれもフェニル基、Ｒ1 ，Ｒ
2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 ，Ｒ6 ，Ｒ8 及びＲ9 はいずれも
水素原子、Ｑ1 は一般式〔III 〕、Ｑ2 は一般式〔VII
I〕、Ｒ7 及びＲ10はいずれもフェニル基であって、−
Ｃ（Ｒ6 ）＝Ｎ−Ｑ1 及び−Ｃ（Ｒ8 ）＝Ｎ−Ｑ2 のベ
ンゼン核に対する結合位置は、窒素原子と結合している
ベンゼン核の炭素原子を１とし、その隣の炭素原子を２
とし、順次３，４，５，６とするとき４の位置であるも
のとする。
り、Ａｒ1 及びＡｒ2 はいずれもフェニル基、Ｒ1 ，Ｒ
2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 ，Ｒ6 ，Ｒ8 及びＲ9 はいずれも
水素原子、Ｑ1 は一般式〔III 〕、Ｑ2 は一般式〔VII
I〕、Ｒ7 及びＲ10はいずれもフェニル基であって、−
Ｃ（Ｒ6 ）＝Ｎ−Ｑ1 及び−Ｃ（Ｒ8 ）＝Ｎ−Ｑ2 のベ
ンゼン核に対する結合位置は、窒素原子と結合している
ベンゼン核の炭素原子を１とし、その隣の炭素原子を２
とし、順次３，４，５，６とするとき４の位置であるも
のとする。
【００２４】又、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 及びＲ
9 のベンゼン核に対する結合位置は、窒素原子と結合し
ているベンゼン核の炭素原子を１とし、その隣の炭素原
子を２とし、順次３，４，５，６とする。例えばＲ1 が
メチル基であってベンゼン核の２の位置に結合している
場合、Ｒ1 ：２−メチル基、と表わす。
9 のベンゼン核に対する結合位置は、窒素原子と結合し
ているベンゼン核の炭素原子を１とし、その隣の炭素原
子を２とし、順次３，４，５，６とする。例えばＲ1 が
メチル基であってベンゼン核の２の位置に結合している
場合、Ｒ1 ：２−メチル基、と表わす。
【００２５】又、次の置換基が結合される位置は、次の
ような番号で表わす。
ような番号で表わす。
【００２６】
【化９】
【００２７】上記のナフチル基、チエニル基又はフリル
基が置換基を有する場合は、上記の式に示されている番
号でその置換基の結合位置を表わす。例えば、Ｒ7 が、
ナフチル基の４の位置にメチル基が結合した置換基を有
するナフチル基であって、２の位置で結合している場
合、Ｒ7 ：２−（４−メチル）ナフチル基、と表わす。
又、Ｘが下記の構造である場合、
基が置換基を有する場合は、上記の式に示されている番
号でその置換基の結合位置を表わす。例えば、Ｒ7 が、
ナフチル基の４の位置にメチル基が結合した置換基を有
するナフチル基であって、２の位置で結合している場
合、Ｒ7 ：２−（４−メチル）ナフチル基、と表わす。
又、Ｘが下記の構造である場合、
【００２８】
【化１０】
【００２９】Ｘ；−ＣＨ2 −〔シクロヘキサン環〕−Ｃ
Ｈ2 − と表わす。 化合物例 １． Ｘ ； −ＣＨ2 − ２． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 − ３． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 − ４． Ｘ ； −ＣＨ2 −ＣＨ2 ＝ＣＨ2 −ＣＨ2 − ５． Ｘ ； −ＣＨ2 ＯＣＨ2 − Ａｒ1 及びＡｒ2 ； メチル基 Ｒ6 及びＲ8 ； フェニル基 Ｒ5 及びＲ9 ； ４−メチル基 ６． Ｘ ； −ＣＨ2 −〔シクロヘキサン環〕−ＣＨ2 − Ｒ1 及びＲ2 ； ３−クロロ基 Ｒ6 及びＲ8 ； メチル基 Ｒ7 及びＲ10； ３−クロロ基 ７． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ2 − Ｒ7 及びＲ10； １−ナフチル基 ８． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 − Ｒ7 及びＲ10； １−（４−メチル）ナフチル基 ９． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＣＨ2 − Ｒ1 及びＲ2 ； ２−メトキシ基 Ｒ7 及びＲ10； １−ナフチル基 10． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 − Ａｒ1 及びＡｒ2 ； ２−（５−メチル）チエニル基 Ｑ1 及びＱ2 ； 〔IV〕 11． Ｘ ； −ＣＨ2 ＯＣＨ2 − Ｒ3 及びＲ4 ； ３−メトキシ基 Ｑ1 及びＱ2 ； 〔Ｖ〕
Ｈ2 − と表わす。 化合物例 １． Ｘ ； −ＣＨ2 − ２． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 − ３． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 − ４． Ｘ ； −ＣＨ2 −ＣＨ2 ＝ＣＨ2 −ＣＨ2 − ５． Ｘ ； −ＣＨ2 ＯＣＨ2 − Ａｒ1 及びＡｒ2 ； メチル基 Ｒ6 及びＲ8 ； フェニル基 Ｒ5 及びＲ9 ； ４−メチル基 ６． Ｘ ； −ＣＨ2 −〔シクロヘキサン環〕−ＣＨ2 − Ｒ1 及びＲ2 ； ３−クロロ基 Ｒ6 及びＲ8 ； メチル基 Ｒ7 及びＲ10； ３−クロロ基 ７． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ2 − Ｒ7 及びＲ10； １−ナフチル基 ８． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 − Ｒ7 及びＲ10； １−（４−メチル）ナフチル基 ９． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＣＨ2 − Ｒ1 及びＲ2 ； ２−メトキシ基 Ｒ7 及びＲ10； １−ナフチル基 10． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 − Ａｒ1 及びＡｒ2 ； ２−（５−メチル）チエニル基 Ｑ1 及びＱ2 ； 〔IV〕 11． Ｘ ； −ＣＨ2 ＯＣＨ2 − Ｒ3 及びＲ4 ； ３−メトキシ基 Ｑ1 及びＱ2 ； 〔Ｖ〕
【００３０】 12． Ｘ ； −ＣＨ2 −〔シクロヘキサン環〕−ＣＨ2 − Ａｒ1 及びＡｒ2 ； メチル基 Ｑ1 及びＱ2 ； 〔VI〕 13． Ｘ ； −ＣＨ2 − Ｒ1 及びＲ2 ； ３−メチル基 Ｑ1 及びＱ2 ； 〔VII 〕 14． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ2 − Ａｒ1 及びＡｒ2 ； メチル基 点線１ ； 〔IX〕 点線２ ； 〔Ｘ〕 Ｒ7 及びＲ10； ４−メトキシフェニル基 15． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＣＨ2 − Ａｒ1 及びＡｒ2 ； メチル基 点線１ ； 〔XI〕 点線２ ； 〔XII 〕 Ｒ7 及びＲ10； ２−チエニル基 16． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 − Ａｒ1 及びＡｒ2 ； ２−フリル基 Ｒ7 及びＲ10； ２−フリル基 17． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 − Ｒ10 ； １−ナフチル基 18． Ｘ ； −ＣＨ2 ＯＣＨ2 − Ａｒ1 ； メチル基 Ｒ3 ； ３−クロロ基 Ｒ6 ； メチル基 点線２ ； 〔Ｘ〕 Ａｒ2 ； メチル基 19． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ2 − Ｒ3 及びＲ4 ； ３−メチル基 Ｒ6 ； フェニル基 Ｑ1 ； 〔IV〕 Ｒ8 ； メチル基 Ｑ2 ； 〔VI〕 20． Ｘ ； −ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 − Ｑ1 ； 〔VII 〕 Ｒ10 ； １−（４−クロロ）ナフチル基
【００３１】前記一般式〔Ｉ〕で表わされるビスヒドラ
ゾン系化合物は公知の方法を用いて製造できる。例え
ば、アリールアミン系化合物を原料として用いて、公知
なカルボニル導入反応を行ない、次いで所望のヒドラジ
ン類との脱水反応を行なう事により目的の化合物を得る
方法である。
ゾン系化合物は公知の方法を用いて製造できる。例え
ば、アリールアミン系化合物を原料として用いて、公知
なカルボニル導入反応を行ない、次いで所望のヒドラジ
ン類との脱水反応を行なう事により目的の化合物を得る
方法である。
【００３２】（Ａ−１） 一般式〔Ｉ〕中、Ｒ6 および
Ｒ8が水素原子である場合、下記の様に一般式〔XIII〕
（一般式〔XIII〕および〔XIV 〕中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，
Ｒ3 ，Ｒ 4 ，Ａｒ1 ，Ａｒ2 、Ｘおよび点線１，点線２
は一般式〔Ｉ〕におけると同一の意義を有する。）で表
わされるアミン系化合物を
Ｒ8が水素原子である場合、下記の様に一般式〔XIII〕
（一般式〔XIII〕および〔XIV 〕中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，
Ｒ3 ，Ｒ 4 ，Ａｒ1 ，Ａｒ2 、Ｘおよび点線１，点線２
は一般式〔Ｉ〕におけると同一の意義を有する。）で表
わされるアミン系化合物を
【００３３】
【化１１】
【００３４】オキシ塩化リンの存在下に、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド等のホル
ミル化剤と反応させると一般式〔XIV 〕で示されるアル
デヒド体が得られる。（ウイルスマイヤー反応） ホルミル化剤を大過剰に用いて反応溶媒を兼ねることも
できるが、ｏ−ジクロルベンゼン、ベンゼン等の反応に
不活性な溶媒を用いる事もできる。
チルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド等のホル
ミル化剤と反応させると一般式〔XIV 〕で示されるアル
デヒド体が得られる。（ウイルスマイヤー反応） ホルミル化剤を大過剰に用いて反応溶媒を兼ねることも
できるが、ｏ−ジクロルベンゼン、ベンゼン等の反応に
不活性な溶媒を用いる事もできる。
【００３５】（Ａ−２）次いで得られた一般式〔XIV 〕
の化合物を下記一般式〔XV〕ａ，ｂで表わされるヒドラ
ジン類と脱水縮合反応する事により一般式〔Ｉ〕で表わ
されるビスヒドラゾンを製造できる。ここで〔XV〕ａ，
ｂのＲ7 とＲ5 、Ｒ9 とＲ10が窒素原子を含んで前記の
一般式〔IV〕，〔Ｖ〕，〔VI〕，〔VII 〕で示される複
素環を形成していてもよい。
の化合物を下記一般式〔XV〕ａ，ｂで表わされるヒドラ
ジン類と脱水縮合反応する事により一般式〔Ｉ〕で表わ
されるビスヒドラゾンを製造できる。ここで〔XV〕ａ，
ｂのＲ7 とＲ5 、Ｒ9 とＲ10が窒素原子を含んで前記の
一般式〔IV〕，〔Ｖ〕，〔VI〕，〔VII 〕で示される複
素環を形成していてもよい。
【００３６】
【化１２】
【００３７】脱水縮合反応は必要によっては５０℃〜１
５０℃の加熱下、メタノール、エタノール、テトラヒド
ロフラン、セロソルブ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ベンゼン、トルエン等の反応に不活性な溶剤の中、
所望により反応促進剤としてパラトルエンスルホン酸、
塩酸、酢酸ナトリウム等の助剤を用いてもよい。（ヒド
ラゾン化反応） なお、〔XV〕ａ，〔XV〕ｂは単独でも混合してもよく
又、場合によっては段階的に反応させてもよい。
５０℃の加熱下、メタノール、エタノール、テトラヒド
ロフラン、セロソルブ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ベンゼン、トルエン等の反応に不活性な溶剤の中、
所望により反応促進剤としてパラトルエンスルホン酸、
塩酸、酢酸ナトリウム等の助剤を用いてもよい。（ヒド
ラゾン化反応） なお、〔XV〕ａ，〔XV〕ｂは単独でも混合してもよく
又、場合によっては段階的に反応させてもよい。
【００３８】（Ｂ−１） 一般式〔Ｉ〕中、Ｒ6 および
Ｒ8が水素原子以外の場合、下記の様に一般式〔XIII〕
（一般式〔XIII〕および〔XVI 〕中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，
Ｒ3 ，Ｒ 4 ，Ｒ6 ，Ｒ8 ，Ａｒ1 ，Ａｒ2 、Ｘおよび点
線１，点線２は、前示一般式〔Ｉ〕におけると同一の意
義を有し、Ｒ6 とＲ8 は、同一でも異なっていてもよ
い。）で表わされるアリールアミン系化合物を
Ｒ8が水素原子以外の場合、下記の様に一般式〔XIII〕
（一般式〔XIII〕および〔XVI 〕中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，
Ｒ3 ，Ｒ 4 ，Ｒ6 ，Ｒ8 ，Ａｒ1 ，Ａｒ2 、Ｘおよび点
線１，点線２は、前示一般式〔Ｉ〕におけると同一の意
義を有し、Ｒ6 とＲ8 は、同一でも異なっていてもよ
い。）で表わされるアリールアミン系化合物を
【００３９】
【化１３】
【００４０】塩化アルミニウム、塩化鉄、塩化亜鉛等の
ルイス酸存在下、ニトロベンゼン、ジクロルメタン、四
塩化炭素等の溶媒中、一般式Ｃｌ−ＣＯ−Ｒ6 もしくは
Ｃｌ−ＣＯ−Ｒ8 で表わされる酸塩化物と反応させるこ
とにより一般式〔XVI 〕で表わされるケトン体が得られ
る。Ｒ6 およびＲ8 は互いに同一でも異なっていてもよ
く、Ｒ6 ≠Ｒ8 の場合は加える酸塩化物を混合、もしく
は段階的に加わえる事によって達成される。
ルイス酸存在下、ニトロベンゼン、ジクロルメタン、四
塩化炭素等の溶媒中、一般式Ｃｌ−ＣＯ−Ｒ6 もしくは
Ｃｌ−ＣＯ−Ｒ8 で表わされる酸塩化物と反応させるこ
とにより一般式〔XVI 〕で表わされるケトン体が得られ
る。Ｒ6 およびＲ8 は互いに同一でも異なっていてもよ
く、Ｒ6 ≠Ｒ8 の場合は加える酸塩化物を混合、もしく
は段階的に加わえる事によって達成される。
【００４１】（Ｂ−２） 〔XVI 〕→〔Ｉ〕は（Ａ−
２）と同様の反応で達成される。これらの反応におい
て、場合によっては、各工程終了後、あるいは、全工程
終了後、再結晶精製、昇華精製、カラム精製等の公知な
精製手段により高純度体を得る事も可能である。
２）と同様の反応で達成される。これらの反応におい
て、場合によっては、各工程終了後、あるいは、全工程
終了後、再結晶精製、昇華精製、カラム精製等の公知な
精製手段により高純度体を得る事も可能である。
【００４２】本発明の電子写真用感光体は、上記一般式
〔Ｉ〕で表わされるビスヒドラゾン系化合物を１種また
は２種以上含有する感光層を有する。一般式〔Ｉ〕で表
わされるビスヒドラゾン系化合物は有機光導電体として
きわめてすぐれた性能を示す。特に荷電移動媒体として
用いた場合には高感度で耐久性にすぐれた感光体を与え
る。
〔Ｉ〕で表わされるビスヒドラゾン系化合物を１種また
は２種以上含有する感光層を有する。一般式〔Ｉ〕で表
わされるビスヒドラゾン系化合物は有機光導電体として
きわめてすぐれた性能を示す。特に荷電移動媒体として
用いた場合には高感度で耐久性にすぐれた感光体を与え
る。
【００４３】電子写真用感光体の感光層の形態としては
種々のものが知られているが、本発明の電子写真用感光
体の感光層としてはそのいずれであってもよい。例えば
バインダー中にヒドラゾン系化合物と必要に応じ増感剤
となる色素や電子吸引性化合物を添加した感光層、光を
吸収すると極めて高い効率で電荷キャリヤーを発生する
光導電性粒子とヒドラゾン系化合物をバインダー中に添
加した感光層、ヒドラゾン系化合物とバインダーからな
る電荷移動層と光を吸収すると極めて高い効率で電荷キ
ャリアーを発生する光導電性粒子からなるあるいはこれ
とバインダーからなる電荷発生層とを積層した感光層等
が挙げられる。
種々のものが知られているが、本発明の電子写真用感光
体の感光層としてはそのいずれであってもよい。例えば
バインダー中にヒドラゾン系化合物と必要に応じ増感剤
となる色素や電子吸引性化合物を添加した感光層、光を
吸収すると極めて高い効率で電荷キャリヤーを発生する
光導電性粒子とヒドラゾン系化合物をバインダー中に添
加した感光層、ヒドラゾン系化合物とバインダーからな
る電荷移動層と光を吸収すると極めて高い効率で電荷キ
ャリアーを発生する光導電性粒子からなるあるいはこれ
とバインダーからなる電荷発生層とを積層した感光層等
が挙げられる。
【００４４】これらの感光層中には、一般式〔Ｉ〕で表
わされるビスヒドラゾン系化合物と共に、有機光導電体
としてすぐれた性能を有する公知の他のヒドラゾン化合
物、スチルベンゼン系化合物を混合してもよい。本発明
においては上記一般式〔Ｉ〕で表わされるビスヒドラゾ
ン系化合物を電荷発生層と電荷移動層の二層からなる感
光層の電荷移動層中に用いる場合に、特に感度が高く残
留電位が小さく、かつ、繰返し使用した場合に、表面電
位の変動や感度の低下、残留電位の蓄積等が少なく耐久
性にすぐれた感光体を得ることができる。
わされるビスヒドラゾン系化合物と共に、有機光導電体
としてすぐれた性能を有する公知の他のヒドラゾン化合
物、スチルベンゼン系化合物を混合してもよい。本発明
においては上記一般式〔Ｉ〕で表わされるビスヒドラゾ
ン系化合物を電荷発生層と電荷移動層の二層からなる感
光層の電荷移動層中に用いる場合に、特に感度が高く残
留電位が小さく、かつ、繰返し使用した場合に、表面電
位の変動や感度の低下、残留電位の蓄積等が少なく耐久
性にすぐれた感光体を得ることができる。
【００４５】本発明の電子写真用感光体は常法に従って
上記一般式〔Ｉ〕で表わされるビスヒドラゾン系化合物
をバインダーと共に適当な溶剤中に溶解し、必要に応じ
光を吸収すると極めて高い効率で電荷キャリヤーを発生
する光導電性粒子、増感染料、電子吸引性化合物、ある
いは、可塑剤、顔料その他の添加剤を添加して得られる
塗布液を導電性支持体上に塗布、乾燥し、通常、数μ〜
数十μの膜厚の感光層を形成させることにより製造する
ことができる。電荷発生層と電荷移動層の二層からなる
感光層の場合は、電荷発生層の上に上記塗布液を塗布す
るか、上記塗布液を塗布して得られる電荷移動層の上に
電荷発生層を形成させることにより、製造することがで
きる。
上記一般式〔Ｉ〕で表わされるビスヒドラゾン系化合物
をバインダーと共に適当な溶剤中に溶解し、必要に応じ
光を吸収すると極めて高い効率で電荷キャリヤーを発生
する光導電性粒子、増感染料、電子吸引性化合物、ある
いは、可塑剤、顔料その他の添加剤を添加して得られる
塗布液を導電性支持体上に塗布、乾燥し、通常、数μ〜
数十μの膜厚の感光層を形成させることにより製造する
ことができる。電荷発生層と電荷移動層の二層からなる
感光層の場合は、電荷発生層の上に上記塗布液を塗布す
るか、上記塗布液を塗布して得られる電荷移動層の上に
電荷発生層を形成させることにより、製造することがで
きる。
【００４６】塗布液調製用の溶剤としてはテトラヒドロ
フラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素；Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、
ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒；酢酸
エチル、蟻酸メチル、メチルセロソルブアセテート等の
エステル類；ジクロロエタン、クロロホルム等の塩素化
炭化水素などのヒドラゾン系化合物を溶解させる溶剤が
挙げられる。勿論これらの中からバインダーを溶解する
ものを選択する必要がある。また、バインダーとして
は、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エ
ステル、メタクリル酸エステル、ブタジエン等のビニル
化合物の重合体及び共重合体、ポリビニルアセタール、
ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリ
フェニレンオキサイド、ポリウレタン、セルロースエス
テル、セルロースエーテル、フェノキシ樹脂、けい素樹
脂、エポキシ樹脂等スチレン系化合物と相溶性のある各
種ポリマーが挙げられる。バインダーの使用量は通常ヒ
ドラゾン系化合物に対し、０．５〜３０重量倍、好まし
くは０．７〜１０重量倍の範囲である。
フラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素；Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、
ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒；酢酸
エチル、蟻酸メチル、メチルセロソルブアセテート等の
エステル類；ジクロロエタン、クロロホルム等の塩素化
炭化水素などのヒドラゾン系化合物を溶解させる溶剤が
挙げられる。勿論これらの中からバインダーを溶解する
ものを選択する必要がある。また、バインダーとして
は、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エ
ステル、メタクリル酸エステル、ブタジエン等のビニル
化合物の重合体及び共重合体、ポリビニルアセタール、
ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリ
フェニレンオキサイド、ポリウレタン、セルロースエス
テル、セルロースエーテル、フェノキシ樹脂、けい素樹
脂、エポキシ樹脂等スチレン系化合物と相溶性のある各
種ポリマーが挙げられる。バインダーの使用量は通常ヒ
ドラゾン系化合物に対し、０．５〜３０重量倍、好まし
くは０．７〜１０重量倍の範囲である。
【００４７】上記感光層に添加される光導電性粒子、染
料色素、電子吸引性化合物としてはいずれも周知のもの
が使用できる。光を吸引すると極めて高い効率で電荷キ
ャリヤーを発生する光導電性粒子としてはセレン、セレ
ン−テルル合金、セレン−ヒ素合金、硫化カドミウム、
アモルファスシリコン等の無機光導電性粒子；金属含有
フタロシアニン、ペリノン系樹脂、チオインジゴ系染
料、キナクリドン系顔料、ペリレン系顔料、アントラキ
ノン系顔料、アゾ系顔料、ビスアゾ系顔料、トリスアゾ
系顔料、テトラキス系アゾ顔料、シアニン系顔料等の有
機光導電性粒子が挙げられる。（特に、金属含有フタロ
シアニンと組み合わせるとレーザー光に対する感度が向
上した感光体が得られる。）染料としては、例えばメチ
ルバイオレット、ブリリアントグリーン、クリスタルバ
イオレット等のトリフェニルメタン染料、メチレンブル
ーなどのチアジン染料、キニザリン等のキノン染料及び
シアニン染料やビリリウム塩、チアビリリウム塩、ベン
ゾビリリウム塩等が挙げられる。また、ヒドラゾン系化
合物と電荷移動錯体を形成する電子吸引性化合物として
は、例えばクロラニル、２，３−ジクロロ−１，４−ナ
フトキノン、１−ニトロアントラキノン、１−クロロ−
５−ニトロアントラキノン、２−クロロアントラキノ
ン、フェナントレンキノン等のキノン類；４−ニトロベ
ンズアルデヒド等のアルデヒド類；９−ベンゾイルアン
トラセン、インダンジオン、３，５−ジニトロベンゾフ
ェノン、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，
４，５，７−テトラニトロフルオレノン、３，３′，
５，５′−テトラニトロベンゾフェノン等のケトン類；
無水フタル酸、４−クロロナフタル酸無水物等の酸無水
物；テトラシアノエチレン、テレフタラルマロノニトリ
ル、９−アントリルメチリデンマロノニトリル、４−ニ
トロベンザルマロノニトリル、４−（ｐ−ニトロベンゾ
イルオキシ）ベンザルマロノニトリル等のシアノ化合
物；３−ベンザルフタリド、３−（α−シアノ−ｐ−ニ
トロベンザル）フタリド、３−（α−シアノ−ｐ−ニト
ロベンザル）−４，５，６，７−テトラクロロフタリド
等のフタリド類等の電子吸引性化合物があげられる。
料色素、電子吸引性化合物としてはいずれも周知のもの
が使用できる。光を吸引すると極めて高い効率で電荷キ
ャリヤーを発生する光導電性粒子としてはセレン、セレ
ン−テルル合金、セレン−ヒ素合金、硫化カドミウム、
アモルファスシリコン等の無機光導電性粒子；金属含有
フタロシアニン、ペリノン系樹脂、チオインジゴ系染
料、キナクリドン系顔料、ペリレン系顔料、アントラキ
ノン系顔料、アゾ系顔料、ビスアゾ系顔料、トリスアゾ
系顔料、テトラキス系アゾ顔料、シアニン系顔料等の有
機光導電性粒子が挙げられる。（特に、金属含有フタロ
シアニンと組み合わせるとレーザー光に対する感度が向
上した感光体が得られる。）染料としては、例えばメチ
ルバイオレット、ブリリアントグリーン、クリスタルバ
イオレット等のトリフェニルメタン染料、メチレンブル
ーなどのチアジン染料、キニザリン等のキノン染料及び
シアニン染料やビリリウム塩、チアビリリウム塩、ベン
ゾビリリウム塩等が挙げられる。また、ヒドラゾン系化
合物と電荷移動錯体を形成する電子吸引性化合物として
は、例えばクロラニル、２，３−ジクロロ−１，４−ナ
フトキノン、１−ニトロアントラキノン、１−クロロ−
５−ニトロアントラキノン、２−クロロアントラキノ
ン、フェナントレンキノン等のキノン類；４−ニトロベ
ンズアルデヒド等のアルデヒド類；９−ベンゾイルアン
トラセン、インダンジオン、３，５−ジニトロベンゾフ
ェノン、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，
４，５，７−テトラニトロフルオレノン、３，３′，
５，５′−テトラニトロベンゾフェノン等のケトン類；
無水フタル酸、４−クロロナフタル酸無水物等の酸無水
物；テトラシアノエチレン、テレフタラルマロノニトリ
ル、９−アントリルメチリデンマロノニトリル、４−ニ
トロベンザルマロノニトリル、４−（ｐ−ニトロベンゾ
イルオキシ）ベンザルマロノニトリル等のシアノ化合
物；３−ベンザルフタリド、３−（α−シアノ−ｐ−ニ
トロベンザル）フタリド、３−（α−シアノ−ｐ−ニト
ロベンザル）−４，５，６，７−テトラクロロフタリド
等のフタリド類等の電子吸引性化合物があげられる。
【００４８】更に、本発明の電子写真用感光体の感光層
は成膜性、可撓性、機械的強度を向上させるために周知
の可塑性を含有していてもよい。そのために上記塗布液
中に添加する可塑剤としては、フタル酸エステル、りん
酸エステル、エポキシ化合物、塩素化パラフィン、塩素
化脂肪酸エステル、メチルナフタレンなどの芳香族化合
物などが挙げられる。ヒドラゾン系化合物を電荷移動層
中の電荷移動媒体として用いる場合の塗布液は、前記組
成のものでもよいが、光導電性粒子、染料色素、電子吸
引性化合物等は除くか、少量の添加でよい。この場合の
電荷発生層としては上記光導電性粒子と必要に応じバイ
ンダーポリマーや有機光導電性物質、染料色素、電子吸
引性化合物等の溶媒に溶解乃至分散させて得られる塗布
液を塗布乾燥した薄層、あるいは前記光導電性粒子を蒸
着等の手段により製膜とした層が挙げられる。
は成膜性、可撓性、機械的強度を向上させるために周知
の可塑性を含有していてもよい。そのために上記塗布液
中に添加する可塑剤としては、フタル酸エステル、りん
酸エステル、エポキシ化合物、塩素化パラフィン、塩素
化脂肪酸エステル、メチルナフタレンなどの芳香族化合
物などが挙げられる。ヒドラゾン系化合物を電荷移動層
中の電荷移動媒体として用いる場合の塗布液は、前記組
成のものでもよいが、光導電性粒子、染料色素、電子吸
引性化合物等は除くか、少量の添加でよい。この場合の
電荷発生層としては上記光導電性粒子と必要に応じバイ
ンダーポリマーや有機光導電性物質、染料色素、電子吸
引性化合物等の溶媒に溶解乃至分散させて得られる塗布
液を塗布乾燥した薄層、あるいは前記光導電性粒子を蒸
着等の手段により製膜とした層が挙げられる。
【００４９】このようにして形成される感光体にはま
た、必要に応じ、接着層、中間層、透明絶縁層等を有し
ていてもよいことはいうまでもない。感光層が形成され
る導電性支持体としては周知の電子写真感光体に採用さ
れているものがいずれも使用できる。具体的には例えば
アルミニウム、ステンレス、銅等の金属ドラム、シート
あるいはこれらの金属箔のラミネート物、蒸着物が挙げ
られる。更に、金属粉末、カーボンブラック、ヨウ化
銅、高分子電解質等の導電性物質を適当なバインダーと
ともに塗布して導電処理したプラスチックフィルム、プ
ラスチックドラム、紙、紙管等が挙げられる。また、金
属粉末、カーボンブラック、炭素繊維等の導電性物質を
含有し、導電性となったプラスチックのシートやドラム
が挙げられる。
た、必要に応じ、接着層、中間層、透明絶縁層等を有し
ていてもよいことはいうまでもない。感光層が形成され
る導電性支持体としては周知の電子写真感光体に採用さ
れているものがいずれも使用できる。具体的には例えば
アルミニウム、ステンレス、銅等の金属ドラム、シート
あるいはこれらの金属箔のラミネート物、蒸着物が挙げ
られる。更に、金属粉末、カーボンブラック、ヨウ化
銅、高分子電解質等の導電性物質を適当なバインダーと
ともに塗布して導電処理したプラスチックフィルム、プ
ラスチックドラム、紙、紙管等が挙げられる。また、金
属粉末、カーボンブラック、炭素繊維等の導電性物質を
含有し、導電性となったプラスチックのシートやドラム
が挙げられる。
【００５０】
【実施例】つぎに、本発明を実施例により更に具体的に
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の製
造例、実施例に限定されるものではない。なお、実施例
中「部」とあるのは「重量部」を示す。 （製造例１）ビス（ｐ−ジフェニルアミノ）−１，８−
ジフェニル−１，７−オクタジエン
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の製
造例、実施例に限定されるものではない。なお、実施例
中「部」とあるのは「重量部」を示す。 （製造例１）ビス（ｐ−ジフェニルアミノ）−１，８−
ジフェニル−１，７−オクタジエン
【００５１】
【化１４】
【００５２】１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
２０mlに溶解させ、その後、オキシ塩化リン０．５３ml
を加え、その後、６０℃で１時間３０分反応させた。放
冷後、反応液を氷水１５０ｇに放出し、水酸化ナトリウ
ムにより加水分解し、更に、常法により、抽出，濃縮，
精製処理を行なうことにより、黄色油状物０．９ｇを得
た。
２０mlに溶解させ、その後、オキシ塩化リン０．５３ml
を加え、その後、６０℃で１時間３０分反応させた。放
冷後、反応液を氷水１５０ｇに放出し、水酸化ナトリウ
ムにより加水分解し、更に、常法により、抽出，濃縮，
精製処理を行なうことにより、黄色油状物０．９ｇを得
た。
【００５３】この化合物は、下記元素分析抽出，質量分
析測定及び赤外吸収スペクトル測定により下記構造式で
表される化合物であることが判明した。
析測定及び赤外吸収スペクトル測定により下記構造式で
表される化合物であることが判明した。
【００５４】 （質量分析測定結果） Ｃ46Ｈ40Ｏ2 Ｎ2として ＭＷ
＝６５２、Ｍ+ ＝６５２
＝６５２、Ｍ+ ＝６５２
【００５５】
【化１５】
【００５６】（製造例２）製造例１で合成した化合物
０．９ｇと、１，１−ジフェニルヒドラジン１．０ｇを
酢酸触媒下、テトラヒドロフラン９mlとメタノール５ml
の混合溶液中、室温下１２時間反応させた。
０．９ｇと、１，１−ジフェニルヒドラジン１．０ｇを
酢酸触媒下、テトラヒドロフラン９mlとメタノール５ml
の混合溶液中、室温下１２時間反応させた。
【００５７】その後、反応液をメタノール２００mlに注
加し、更に常法により濾過、精製処理を行なうことによ
り黄色油状物０．７ｇを得た。この化合物は、下記元素
分析値、質量分析測定及び赤外吸収スペクトル測定（図
１）により、下記構造式で表されるビスヒドラゾン系化
合物であることが判明した。
加し、更に常法により濾過、精製処理を行なうことによ
り黄色油状物０．７ｇを得た。この化合物は、下記元素
分析値、質量分析測定及び赤外吸収スペクトル測定（図
１）により、下記構造式で表されるビスヒドラゾン系化
合物であることが判明した。
【００５８】 （質量分析測定結果） Ｃ70Ｈ60Ｎ6 として ＭＷ＝９
８４、Ｍ+ ＋１＝９８５
８４、Ｍ+ ＋１＝９８５
【００５９】
【化１６】
【００６０】実施例１ チタニウムオキシフタロシアニン顔料１．０部とポリビ
ニルブチラール（電気化学工業（株）社製、商品名ポリ
ビニルブチラール＃６０００）０．５部を３０部の４−
メトキシ−４−メチルペンタノン−２（三菱化成（株）
社製）中で、分散微粒子化処理を行なった。
ニルブチラール（電気化学工業（株）社製、商品名ポリ
ビニルブチラール＃６０００）０．５部を３０部の４−
メトキシ−４−メチルペンタノン−２（三菱化成（株）
社製）中で、分散微粒子化処理を行なった。
【００６１】この分散液を１００μｍの膜厚のポリエス
テルフィルムに蒸着されたアルミ蒸着層の上に乾燥後の
重量が０．２ｇ／ｍ2 になる様にワイヤーバーで塗布し
た後、乾燥して電荷発生層を形成させた。この上に製造
例２で製造したビスヒドラゾン系化合物７０部と下記に
示すポリカーボネート樹脂
テルフィルムに蒸着されたアルミ蒸着層の上に乾燥後の
重量が０．２ｇ／ｍ2 になる様にワイヤーバーで塗布し
た後、乾燥して電荷発生層を形成させた。この上に製造
例２で製造したビスヒドラゾン系化合物７０部と下記に
示すポリカーボネート樹脂
【００６２】
【化１７】
【００６３】１００部をジオキサン９００部に溶解した
塗布液を塗布、乾燥し、膜厚１７μｍの電荷移動層を形
成させた。このようにして得た２層からなる感光層を有
する電子写真感光体について感度すなわち半減露光量を
測定したところ２．２（μＷ／cm2 ）-1であった。
塗布液を塗布、乾燥し、膜厚１７μｍの電荷移動層を形
成させた。このようにして得た２層からなる感光層を有
する電子写真感光体について感度すなわち半減露光量を
測定したところ２．２（μＷ／cm2 ）-1であった。
【００６４】半減露光量はまず、感光体を暗所で−４．
８kVのコロナ放電により帯電させ、次いで７７５nmの光
で露光し、表面電位が５００Ｖから２５０Ｖまで減衰す
るのに要する露光量を測定することにより求めた。
８kVのコロナ放電により帯電させ、次いで７７５nmの光
で露光し、表面電位が５００Ｖから２５０Ｖまで減衰す
るのに要する露光量を測定することにより求めた。
【００６５】実施例２ 実施例１で用いたフタロシアニン系顔料の代りに、下記
構造式で表わされるナフタル酸系ビスアゾ顔料を用いて
実施例１と同様にして作成した感光体を白色光で露光し
半減露光量を測定したところ、１．３ lux・sec であっ
た。
構造式で表わされるナフタル酸系ビスアゾ顔料を用いて
実施例１と同様にして作成した感光体を白色光で露光し
半減露光量を測定したところ、１．３ lux・sec であっ
た。
【００６６】
【化１８】
【００６７】実施例３〜１０ 実施例１で用いたビスヒドラゾン系化合物の代わりに、
製造例２と同様にして合成した下記第１表に示すビスヒ
ドラゾン系化合物を用い、また、電荷発生層には、実施
例１で用いたチタニウムオキシフタロシアニン顔料を使
用して得られる電子写真感光体の感度を第１表に示す。
製造例２と同様にして合成した下記第１表に示すビスヒ
ドラゾン系化合物を用い、また、電荷発生層には、実施
例１で用いたチタニウムオキシフタロシアニン顔料を使
用して得られる電子写真感光体の感度を第１表に示す。
【００６８】 第 １ 表 例 例示化合物Ｎｏ． 感度（μＷ／cm2 ）-1 ３ ２ ２．２ ４ ４ ２．０ ５ ７ ２．０ ６ １０ １．０ ７ １１ １．５ ８ １２ １．４ ９ １５ ０．９ 10 ２０ １．６
【００６９】≪比較例１≫実施例１で用いたビスヒドラ
ゾン系化合物の代りに、下記第２表に示す、ビスヒドラ
ゾン系化合物を用いる以外は、実施例１と同様にして、
電子写真感光体を得た。各感光体を暗所で−４．８kVの
コロナ放電により、帯電させ、その時の表面電位を初期
表面電位として測定した。続いて、実施例１と同様に、
感度を測定した後、十分に露光した時の表面電位を残留
電位とする。これらの結果を実施例１の感光体について
測定結果と共に、第２表に示す。
ゾン系化合物の代りに、下記第２表に示す、ビスヒドラ
ゾン系化合物を用いる以外は、実施例１と同様にして、
電子写真感光体を得た。各感光体を暗所で−４．８kVの
コロナ放電により、帯電させ、その時の表面電位を初期
表面電位として測定した。続いて、実施例１と同様に、
感度を測定した後、十分に露光した時の表面電位を残留
電位とする。これらの結果を実施例１の感光体について
測定結果と共に、第２表に示す。
【００７０】
【表１】
【００７１】本発明は比較例に比べ、特に残留電位が優
れていることがわかる。
れていることがわかる。
【００７２】
【発明の効果】本発明の電子写真感光体は感度が非常に
高く、かつ、かぶりの原因となる残留電位が小さく、と
くに光疲労が少ないために繰返し使用による残留電位の
蓄積や、表面電位および感度の変動が小さく耐久性に優
れるという特徴を有する。
高く、かつ、かぶりの原因となる残留電位が小さく、と
くに光疲労が少ないために繰返し使用による残留電位の
蓄積や、表面電位および感度の変動が小さく耐久性に優
れるという特徴を有する。
【図１】製造例２で得られたビスヒドラゾン系化合物の
赤外吸収スペクトル
赤外吸収スペクトル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03G 5/06 321 - 329 ＣＡ（ＳＴＮ) ＥＰＡＴ（ＱＵＥＳＴＥＬ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＷＰＩＤＳ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 導電性支持体上に下記一般式〔Ｉ〕 【化１】 （式中、Ｑ1 は下記一般式〔III 〕〜〔VII 〕で示され
るいずれかの基を表わし；Ｑ2 は下記一般式〔IV〕〜
〔VIII〕で示されるいずれかの基を表わし； 【化２】 Ｘは、置換基を有していてもよい脂肪族連結基を表わ
し、連結基主鎖中に酸素原子または炭素−炭素二重結合
が介在していてもよく；Ａｒ1 およびＡｒ2 はそれぞれ
置換基を有していてもよいアルキル基又はアリール基又
は複素環基であり、これらは互いに同一でも異なってい
てもよく；Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 およびＲ9 は
それぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアルキル
基、ハロゲン原子、または置換基を有していてもよいア
ルコキシ基を表わし、これらは互いに同一でも異なって
いてもよく；Ｒ6 およびＲ8 はそれぞれ水素原子、置換
基を有していてもよいアルキル基、または置換基を有し
ていてもよいアリール基を表わし、これらは互いに同一
でも異なっていてもよく；Ｒ7 およびＲ10はそれぞれ置
換基を有していてもよいアリール基もしくは複素環基を
表わし；点線１は同一窒素原子に結合した２つのフェニ
ル基が点線で示す如く結合して下記一般式〔IX〕又は
〔XI〕で、点線２は同一窒素原子に結合した２つのフェ
ニル基が点線で示す如く結合して、下記一般式〔Ｘ〕又
は〔XII 〕で 【化３】 表わされる構造をとることもできることを示す。）で表
わされるビスヒドラゾン系化合物を含有する感光層を有
することを特徴とする電子写真用感光体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25534291A JP2956311B2 (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | 電子写真用感光体 |
| CA 2079645 CA2079645A1 (en) | 1991-10-02 | 1992-10-01 | Electrophotographic photoreceptor |
| DE1992631622 DE69231622T2 (de) | 1991-10-02 | 1992-10-01 | Elektrophotographischer Photorezeptor |
| EP92116822A EP0535672B1 (en) | 1991-10-02 | 1992-10-01 | Electrophotographic photoreceptor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25534291A JP2956311B2 (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | 電子写真用感光体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0594030A JPH0594030A (ja) | 1993-04-16 |
| JP2956311B2 true JP2956311B2 (ja) | 1999-10-04 |
Family
ID=17277458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25534291A Expired - Fee Related JP2956311B2 (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2956311B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2001269455A1 (en) | 2000-07-07 | 2002-01-21 | Toyoda Gosei Co. Ltd. | Air bag device for knee protection |
| US7182365B2 (en) | 2000-07-07 | 2007-02-27 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Air bag device for knee protection |
| JP4820539B2 (ja) * | 2004-06-25 | 2011-11-24 | 京セラミタ株式会社 | スチルベン誘導体、その製造方法、および電子写真感光体 |
| JP6477458B2 (ja) * | 2015-12-24 | 2019-03-06 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | トリアリールアミンヒドラゾン化合物及び電子写真感光体 |
| JP6394585B2 (ja) * | 2015-12-24 | 2018-09-26 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | トリアリールアミンヒドラゾン化合物及び電子写真感光体 |
-
1991
- 1991-10-02 JP JP25534291A patent/JP2956311B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0594030A (ja) | 1993-04-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0934142A (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPH10148951A (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP3042044B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPH10260540A (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP2956311B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPH10282698A (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPH09138512A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH05100456A (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP2988055B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP3570081B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP2956288B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP3225714B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP2830178B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP2808763B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP2998280B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP3773136B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPH04254860A (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPH03158862A (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP3460756B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP3301185B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP3567586B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPH0519513A (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP3412338B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPH03163460A (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPH11352709A (ja) | 電子写真感光体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |