JP2874359B2 - ビスフェノールモノエステルの製造法 - Google Patents
ビスフェノールモノエステルの製造法Info
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、式（Ｉ）
【０００２】
【化８】
【０００３】（式中、Ｒ1は水素または炭素数１〜３の
アルキル基を表し、Ｒ2およびＲ3 はそれぞれ独立に炭
素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ4 は炭素数１〜３の
アルキル基、炭素数２〜４のアルケニル基またはフェニ
ル基を表す）で示されるビスフェノールモノエステルの
製造法に関する。
アルキル基を表し、Ｒ2およびＲ3 はそれぞれ独立に炭
素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ4 は炭素数１〜３の
アルキル基、炭素数２〜４のアルケニル基またはフェニ
ル基を表す）で示されるビスフェノールモノエステルの
製造法に関する。
【０００４】
【従来の技術】上記式（Ｉ）で示されるビスフェノール
モノエステルは、例えばブタジエンゴム（ＢＲ）、スチ
レン／ブタジエン共重合ゴム（ＳＢＲ）、スチレン／ブ
タジエンブロック共重合ゴムまたは樹脂（ＳＢＳ）な
ど、ブタジエン系ポリマーの製造過程および加工時にお
ける熱劣化防止剤として、あるいはポリエチレンやポリ
プロピレンをはじめとするポリオレフィンなど、各種合
成樹脂の安定剤として有用な化合物である。
モノエステルは、例えばブタジエンゴム（ＢＲ）、スチ
レン／ブタジエン共重合ゴム（ＳＢＲ）、スチレン／ブ
タジエンブロック共重合ゴムまたは樹脂（ＳＢＳ）な
ど、ブタジエン系ポリマーの製造過程および加工時にお
ける熱劣化防止剤として、あるいはポリエチレンやポリ
プロピレンをはじめとするポリオレフィンなど、各種合
成樹脂の安定剤として有用な化合物である。
【０００５】式（Ｉ）で示されるビスフェノールモノエ
ステルの製造法としては、式 (IV)
ステルの製造法としては、式 (IV)
【０００６】
【化９】
【０００７】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は前記の意
味を有する）で示されるビスフェノール体と式 (VI)
味を有する）で示されるビスフェノール体と式 (VI)
【０００８】
【化１０】
【０００９】（式中、Ｒ4 は前記と同じ意味を有する）
で示されるカルボン酸とを、脱ハロゲン化水素剤の存在
下、ハロゲン化剤を用いて反応させる方法（特開昭 59-
144733号公報、特開昭 63-5053号公報）、あるいは上記
式 (VI) で示されるカルボン酸から誘導される酸ハロゲ
ン化物または酸無水物と上記式 (IV) で示されるビスフ
ェノール体とを、アミン類やピリジン類などの塩基性化
合物の存在下に反応させる方法（特開昭 56-61323 号公
報、米国特許第 3,984,372号）が知られている。
で示されるカルボン酸とを、脱ハロゲン化水素剤の存在
下、ハロゲン化剤を用いて反応させる方法（特開昭 59-
144733号公報、特開昭 63-5053号公報）、あるいは上記
式 (VI) で示されるカルボン酸から誘導される酸ハロゲ
ン化物または酸無水物と上記式 (IV) で示されるビスフ
ェノール体とを、アミン類やピリジン類などの塩基性化
合物の存在下に反応させる方法（特開昭 56-61323 号公
報、米国特許第 3,984,372号）が知られている。
【００１０】なお、前記式 (IV) で示されるビスフェノ
ール体は一般に、式 (II)
ール体は一般に、式 (II)
【００１１】
【化１１】
【００１２】（式中、Ｒ1 は前記の意味を有する）で示
されるアルデヒドと、式(III)
されるアルデヒドと、式(III)
【００１３】
【化１２】
【００１４】（式中、Ｒ2 およびＲ3 は前記の意味を有
する）で示されるジアルキルフェノールとの縮合反応に
よって製造されている。
する）で示されるジアルキルフェノールとの縮合反応に
よって製造されている。
【００１５】しかしながら、前記式（Ｉ）で示されるビ
スフェノールモノエステルを製造する上記公知の方法
は、単離精製されたビスフェノール体 (IV)を用いるた
め、ビスフェノール体の単離精製時に溶解ロスを伴い、
ジアルキルフェノール(III) 側からの収率の低下を招
き、さらには濾過、乾燥などに多くの時間を要するな
ど、工業的規模での生産において必ずしも満足できるも
のではなかった。
スフェノールモノエステルを製造する上記公知の方法
は、単離精製されたビスフェノール体 (IV)を用いるた
め、ビスフェノール体の単離精製時に溶解ロスを伴い、
ジアルキルフェノール(III) 側からの収率の低下を招
き、さらには濾過、乾燥などに多くの時間を要するな
ど、工業的規模での生産において必ずしも満足できるも
のではなかった。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、こうし
た点に解決を与え、工業的に満足のいく製造法を得るべ
く鋭意研究を重ねた結果、特定の有機溶媒を用い、アル
デヒド (II) とジアルキルフェノール(III) との縮合反
応混合物から水分を除去することにより、ビスフェノー
ル体 (IV) を単離精製することなく、ジアルキルフェノ
ールから連続して優れた品質の目的物を、高収率でかつ
経済的に製造しうる方法を見出し、本発明に至った。
た点に解決を与え、工業的に満足のいく製造法を得るべ
く鋭意研究を重ねた結果、特定の有機溶媒を用い、アル
デヒド (II) とジアルキルフェノール(III) との縮合反
応混合物から水分を除去することにより、ビスフェノー
ル体 (IV) を単離精製することなく、ジアルキルフェノ
ールから連続して優れた品質の目的物を、高収率でかつ
経済的に製造しうる方法を見出し、本発明に至った。
【００１７】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、炭素
数６〜１０の脂肪族炭化水素類および炭素数６〜１２の
芳香族炭化水素類から選ばれる溶媒中で、前記式 (II)
で示されるアルデヒドと、前記式(III) で示されるジア
ルキルフェノールとを縮合反応させて、前記式(IV) で
示されるビスフェノール体を得、次いでこのビスフェノ
ール体を含む有機層を脱水処理に付したあと、該ビスフ
ェノール体を単離せずに、式（Ｖ）
数６〜１０の脂肪族炭化水素類および炭素数６〜１２の
芳香族炭化水素類から選ばれる溶媒中で、前記式 (II)
で示されるアルデヒドと、前記式(III) で示されるジア
ルキルフェノールとを縮合反応させて、前記式(IV) で
示されるビスフェノール体を得、次いでこのビスフェノ
ール体を含む有機層を脱水処理に付したあと、該ビスフ
ェノール体を単離せずに、式（Ｖ）
【００１８】
【化１３】
【００１９】（式中、Ｒ4 は前記の意味を有し、Ｘは水
酸基、ハロゲン、炭素数１〜３のアルコキシ基または基
酸基、ハロゲン、炭素数１〜３のアルコキシ基または基
【００２０】
【化１４】
【００２１】を表す）で示されるカルボン酸系化合物と
反応させることを特徴とする前記式（Ｉ）で示されるビ
スフェノールモノエステルの製造方法を提供する。
反応させることを特徴とする前記式（Ｉ）で示されるビ
スフェノールモノエステルの製造方法を提供する。
【００２２】本発明で用いる式 （ＩＩ） のアルデヒ
ドにおいて、Ｒ1 で表されるアルキル基としては、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基およびイソプロピル基
が例示できる。式 (II) で示されるアルデヒドの具体例
としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロ
ピオンアルデヒド、ｎ−ブチルアルデヒド、イソブチル
アルデヒドが挙げられる。
ドにおいて、Ｒ1 で表されるアルキル基としては、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基およびイソプロピル基
が例示できる。式 (II) で示されるアルデヒドの具体例
としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロ
ピオンアルデヒド、ｎ−ブチルアルデヒド、イソブチル
アルデヒドが挙げられる。
【００２３】また式(III) のジアルキルフェノールにお
いて、Ｒ2 およびＲ3 で表されるアルキル基としては、
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル
基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペン
チル基、ｔ−ペンチル基などが例示できる。Ｒ2 および
Ｒ3 はもちろん、同一であっても異なっていてもよい。
式(III) で示されるジアルキルフェノールの具体例とし
ては、２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノール、２，４−
ジ−ｔ−ブチルフェノール、２−ｔ−ブチル−４−メチ
ルフェノール、２−ｔ−ブチル−４−エチルフェノー
ル、２−ｔ−ブチル−４−プロピルフェノール、２−ｔ
−ブチル−４−イソプロピルフェノールなどが挙げられ
る。
いて、Ｒ2 およびＲ3 で表されるアルキル基としては、
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル
基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペン
チル基、ｔ−ペンチル基などが例示できる。Ｒ2 および
Ｒ3 はもちろん、同一であっても異なっていてもよい。
式(III) で示されるジアルキルフェノールの具体例とし
ては、２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノール、２，４−
ジ−ｔ−ブチルフェノール、２−ｔ−ブチル−４−メチ
ルフェノール、２−ｔ−ブチル−４−エチルフェノー
ル、２−ｔ−ブチル−４−プロピルフェノール、２−ｔ
−ブチル−４−イソプロピルフェノールなどが挙げられ
る。
【００２４】したがって、縮合反応により得られる式
(IV) で示されるビスフェノール体の具体例としては、
２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ペンチル
フェノール）、２，２′−メチレンビス（４，６−ジ−
ｔ−ペンチルフェノール）、２，２′−エチリデンビス
（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メ
チレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、
２，２′−プロピリデンビス（６−ｔ−ブチル−４−メ
チルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（６−ｔ
−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレ
ンビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２′−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−エチル
フェノール）、２，２′−エチリデンビス（６−ｔ−ブ
チル−４−プロピルフェノール）、２，２′−エチリデ
ンビス（６−ｔ−ブチル−４−イソプロピルフェノー
ル）などが挙げられる。
(IV) で示されるビスフェノール体の具体例としては、
２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ペンチル
フェノール）、２，２′−メチレンビス（４，６−ジ−
ｔ−ペンチルフェノール）、２，２′−エチリデンビス
（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メ
チレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、
２，２′−プロピリデンビス（６−ｔ−ブチル−４−メ
チルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（６−ｔ
−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレ
ンビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２′−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−エチル
フェノール）、２，２′−エチリデンビス（６−ｔ−ブ
チル−４−プロピルフェノール）、２，２′−エチリデ
ンビス（６−ｔ−ブチル−４−イソプロピルフェノー
ル）などが挙げられる。
【００２５】また式（Ｖ）で示されるカルボン酸系化合
物は、フリーのカルボン酸、カルボン酸ハロゲン化物、
カルボン酸の低級アルキルエステルまたはカルボン酸無
水物でありうる。式（Ｖ）のカルボン酸系化合物として
具体的には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、アクリル酸、
メタクリル酸、クロトン酸、３−ブテン酸、安息香酸な
どのカルボン酸、これらカルボン酸のハロゲン化物、例
えば塩化物、臭化物およびヨウ化物、これらカルボン酸
の低級アルキルエステル、例えばメチルエステル、エチ
ルエステルおよびプロピルエステル、ならびにこれらカ
ルボン酸の無水物が挙げられる。
物は、フリーのカルボン酸、カルボン酸ハロゲン化物、
カルボン酸の低級アルキルエステルまたはカルボン酸無
水物でありうる。式（Ｖ）のカルボン酸系化合物として
具体的には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、アクリル酸、
メタクリル酸、クロトン酸、３−ブテン酸、安息香酸な
どのカルボン酸、これらカルボン酸のハロゲン化物、例
えば塩化物、臭化物およびヨウ化物、これらカルボン酸
の低級アルキルエステル、例えばメチルエステル、エチ
ルエステルおよびプロピルエステル、ならびにこれらカ
ルボン酸の無水物が挙げられる。
【００２６】本発明により製造される式（Ｉ）のビスフ
ェノールモノエステルは、式 (IV) で示されるビスフェ
ノール体と式（Ｖ）で示されるカルボン酸系化合物との
モノエステルであり、特にＲ4 がアルケニル基である化
合物が、各種ポリマー用の安定剤として好ましく用いら
れている。このような式（Ｉ）で示されるビスフェノー
ルモノエステルの好ましい具体例としては、２−〔１−
（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニ
ル）エチル〕−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニル ア
クリレート、２−〔１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ
−ｔ−ペンチルフェニル）エチル〕−４，６−ジ−ｔ−
ペンチルフェニル メタクリレート、２−（２−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルベンジル）−４，６−
ジ−ｔ−ペンチルフェニル アクリレート、２，４−ジ
−ｔ−ブチル−６−〔１−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
２−ヒドロキシフェニル）エチル〕フェニル アクリレ
ート、２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−（３，５−ジ−ｔ
−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）フェニル アクリ
レート、２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−〔１−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）エチル〕
フェニル メタクリレート、２−ｔ−ブチル−６−（３
−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）
−４−メチルフェニル アクリレート、２−ｔ−ブチル
−６−〔１−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）エチル〕−４−メチルフェニル アク
リレート、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２
−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェ
ニル メタクリレート、２−ｔ−ブチル−６−〔１−
（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）プロピル〕−４−メチルフェニル アクリレート、
２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−５−エチル−
２−ヒドロキシベンジル）−４−エチルフェニル アク
リレート、２−ｔ−ブチル−６−〔１−（３−ｔ−ブチ
ル−２−ヒドロキシ−５−プロピルフェニル）エチル〕
−４−プロピルフェニル アクリレート、２−ｔ−ブチ
ル−６−〔１−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５
−イソプロピルフェニル）エチル〕−４−イソプロピル
フェニル アクリレートなどが例示される。
ェノールモノエステルは、式 (IV) で示されるビスフェ
ノール体と式（Ｖ）で示されるカルボン酸系化合物との
モノエステルであり、特にＲ4 がアルケニル基である化
合物が、各種ポリマー用の安定剤として好ましく用いら
れている。このような式（Ｉ）で示されるビスフェノー
ルモノエステルの好ましい具体例としては、２−〔１−
（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニ
ル）エチル〕−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニル ア
クリレート、２−〔１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ
−ｔ−ペンチルフェニル）エチル〕−４，６−ジ−ｔ−
ペンチルフェニル メタクリレート、２−（２−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルベンジル）−４，６−
ジ−ｔ−ペンチルフェニル アクリレート、２，４−ジ
−ｔ−ブチル−６−〔１−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
２−ヒドロキシフェニル）エチル〕フェニル アクリレ
ート、２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−（３，５−ジ−ｔ
−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）フェニル アクリ
レート、２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−〔１−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）エチル〕
フェニル メタクリレート、２−ｔ−ブチル−６−（３
−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）
−４−メチルフェニル アクリレート、２−ｔ−ブチル
−６−〔１−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）エチル〕−４−メチルフェニル アク
リレート、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２
−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェ
ニル メタクリレート、２−ｔ−ブチル−６−〔１−
（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）プロピル〕−４−メチルフェニル アクリレート、
２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−５−エチル−
２−ヒドロキシベンジル）−４−エチルフェニル アク
リレート、２−ｔ−ブチル−６−〔１−（３−ｔ−ブチ
ル−２−ヒドロキシ−５−プロピルフェニル）エチル〕
−４−プロピルフェニル アクリレート、２−ｔ−ブチ
ル−６−〔１−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５
−イソプロピルフェニル）エチル〕−４−イソプロピル
フェニル アクリレートなどが例示される。
【００２７】本発明において、式 (II) で示されるアル
デヒドと式(III) で示されるジアルキルフェノールとの
縮合反応は、溶媒として炭素数６〜１０の脂肪族炭化水
素または炭素数６〜１２の芳香族炭化水素を用いて行わ
れる。炭素数６〜１０の脂肪族炭化水素としては例え
ば、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、ｎ−
ノナン、ｎ−デカン、シクロヘキサンなどがあげられ
る。また、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素としては例
えば、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレ
ン、クメン、シメン、クロルベンゼンなどをあげること
ができる。これらの溶媒は、それぞれ単独で用いること
もできるし、また２種以上を併用することもできる。こ
れらのなかでも、特に芳香族炭化水素、とりわけトルエ
ンまたはキシレンが好ましく用いられる。溶媒の使用量
は、式(III) のジアルキルフェノールに対し、１〜１０
０重量％程度が好ましい。
デヒドと式(III) で示されるジアルキルフェノールとの
縮合反応は、溶媒として炭素数６〜１０の脂肪族炭化水
素または炭素数６〜１２の芳香族炭化水素を用いて行わ
れる。炭素数６〜１０の脂肪族炭化水素としては例え
ば、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、ｎ−
ノナン、ｎ−デカン、シクロヘキサンなどがあげられ
る。また、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素としては例
えば、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレ
ン、クメン、シメン、クロルベンゼンなどをあげること
ができる。これらの溶媒は、それぞれ単独で用いること
もできるし、また２種以上を併用することもできる。こ
れらのなかでも、特に芳香族炭化水素、とりわけトルエ
ンまたはキシレンが好ましく用いられる。溶媒の使用量
は、式(III) のジアルキルフェノールに対し、１〜１０
０重量％程度が好ましい。
【００２８】また、この反応は通常、触媒、界面活性剤
などの存在下で実施するのが好ましい。触媒としては通
常、酸触媒、例えば硫酸、塩酸、トルエンスルホン酸、
燐酸などが使用できる。界面活性剤としては通常、親水
性親油性バランス（ＨＬＢ）の高い陰イオン系界面活性
剤が用いられる。
などの存在下で実施するのが好ましい。触媒としては通
常、酸触媒、例えば硫酸、塩酸、トルエンスルホン酸、
燐酸などが使用できる。界面活性剤としては通常、親水
性親油性バランス（ＨＬＢ）の高い陰イオン系界面活性
剤が用いられる。
【００２９】縮合反応の温度は６０〜１１０℃程度の範
囲が好ましく、特に７０〜１００℃程度がより好まし
い。この反応は、通常大気圧下で進行するが、加圧下で
行ってもよい。また反応時間は、通常１時間以上２０時
間程度までで十分であり、より好ましくは２〜１０時間
程度の範囲である。
囲が好ましく、特に７０〜１００℃程度がより好まし
い。この反応は、通常大気圧下で進行するが、加圧下で
行ってもよい。また反応時間は、通常１時間以上２０時
間程度までで十分であり、より好ましくは２〜１０時間
程度の範囲である。
【００３０】本発明では、縮合反応で得られる式 (IV)
のビスフェノール体を単離することなく、反応混合物の
まま、式（Ｖ）で示されるカルボン酸系化合物との反応
に供される。ただしそれに先立って、縮合反応で生成す
る水層を分離除去し、式(IV)のビスフェノール体を含む
有機層は脱水処理に供される。好ましくは、縮合により
副生した水を含む反応混合物に、反応で使用した溶媒を
追加したあと、有機層と水層とに分離し、必要に応じて
中和、水洗などの後処理を行う。溶媒を追加添加する場
合、その量は、式(III) のジアルキルフェノールに対
し、３０重量％以上が好ましく、特に４０〜２００重量
％がより好ましい。あまり過剰の溶媒を用いることは、
回収蒸留の負担が増えることとなるので好ましくない。
のビスフェノール体を単離することなく、反応混合物の
まま、式（Ｖ）で示されるカルボン酸系化合物との反応
に供される。ただしそれに先立って、縮合反応で生成す
る水層を分離除去し、式(IV)のビスフェノール体を含む
有機層は脱水処理に供される。好ましくは、縮合により
副生した水を含む反応混合物に、反応で使用した溶媒を
追加したあと、有機層と水層とに分離し、必要に応じて
中和、水洗などの後処理を行う。溶媒を追加添加する場
合、その量は、式(III) のジアルキルフェノールに対
し、３０重量％以上が好ましく、特に４０〜２００重量
％がより好ましい。あまり過剰の溶媒を用いることは、
回収蒸留の負担が増えることとなるので好ましくない。
【００３１】このようにして得られる有機層には水分が
含まれる。一般に、式(IV) で示されるビスフェノール
体のエステル化反応自体は水を嫌うことから、原料であ
る式(IV) のビスフェノール体に含まれる水分を極力少
なくする必要がある。そこで本発明では、式（Ｖ）で示
されるカルボン酸系化合物と反応させる前に、式(IV)の
ビスフェノール体を含む有機層は脱水処理に供される。
含まれる。一般に、式(IV) で示されるビスフェノール
体のエステル化反応自体は水を嫌うことから、原料であ
る式(IV) のビスフェノール体に含まれる水分を極力少
なくする必要がある。そこで本発明では、式（Ｖ）で示
されるカルボン酸系化合物と反応させる前に、式(IV)の
ビスフェノール体を含む有機層は脱水処理に供される。
【００３２】有機層に含まれる水分を除去する方法とし
ては、加熱による方法、脱水剤を用いる方法などが挙げ
られる。
ては、加熱による方法、脱水剤を用いる方法などが挙げ
られる。
【００３３】加熱により脱水する場合は通常、式 (IV)
で示されるビスフェノール体を含む有機層を加熱し、溶
媒および水分を蒸気として適当な冷却装置に導き、沸点
の違いを利用して水分を系外に留去し、凝縮した溶媒を
もとの有機層に還流するか、あるいは溶媒の蒸発ができ
るだけ少なくなるような条件で加熱して、水分を主体と
する蒸気を系外に除去する。このような加熱脱水は、減
圧下で行うのが好ましいが、常圧下で行ってもよい。
で示されるビスフェノール体を含む有機層を加熱し、溶
媒および水分を蒸気として適当な冷却装置に導き、沸点
の違いを利用して水分を系外に留去し、凝縮した溶媒を
もとの有機層に還流するか、あるいは溶媒の蒸発ができ
るだけ少なくなるような条件で加熱して、水分を主体と
する蒸気を系外に除去する。このような加熱脱水は、減
圧下で行うのが好ましいが、常圧下で行ってもよい。
【００３４】また脱水剤を用いて脱水する場合は、オキ
シ塩化リン、オキシ臭化リン、ｏ−またはｐ−トルエン
スルホン酸クロリド、カルボン酸無水物などが脱水剤と
して用いられる。しかし、脱水剤によっては副反応物を
生じやすくなることから、加熱脱水が好ましく、とりわ
け還流脱水が好ましい。
シ塩化リン、オキシ臭化リン、ｏ−またはｐ−トルエン
スルホン酸クロリド、カルボン酸無水物などが脱水剤と
して用いられる。しかし、脱水剤によっては副反応物を
生じやすくなることから、加熱脱水が好ましく、とりわ
け還流脱水が好ましい。
【００３５】本発明では、脱水処理により有機層中の水
分濃度を 0.1重量％以下にするのが好ましく、より好ま
しくは水分濃度を 0.05 重量％以下とする。有機層中の
水分濃度が 0.1重量％以上になると、あとのエステル化
反応における収率の低下や副反応物が生じやすくなるた
め、好ましくない。
分濃度を 0.1重量％以下にするのが好ましく、より好ま
しくは水分濃度を 0.05 重量％以下とする。有機層中の
水分濃度が 0.1重量％以上になると、あとのエステル化
反応における収率の低下や副反応物が生じやすくなるた
め、好ましくない。
【００３６】このように式 (IV) で示されるビスフェノ
ール体を含む有機層に脱水処理を施すことにより、式
（Ｉ）で示されるビスフェノールモノエステルの原料と
なる式(IV) で示されるビスフェノール体を単離するこ
となく、縮合反応混合物のまま式（Ｖ）で示されるカル
ボン酸系化合物との反応に供することできる。
ール体を含む有機層に脱水処理を施すことにより、式
（Ｉ）で示されるビスフェノールモノエステルの原料と
なる式(IV) で示されるビスフェノール体を単離するこ
となく、縮合反応混合物のまま式（Ｖ）で示されるカル
ボン酸系化合物との反応に供することできる。
【００３７】本発明では、上記のようにして得られた式
(IV) で示されるビスフェノール体を含む反応混合物
を、式（Ｖ）で示されるカルボン酸系化合物と反応させ
ることにより、式（Ｉ）で示されるビスフェノールモノ
エステルが得られる。この反応において、カルボン酸系
化合物（Ｖ）はビスフェノール体 (IV) に対し、モル比
で 0.7〜1.7 倍量程度用いるのが好ましく、特にモル比
で１〜1.5 倍量程度用いるのがより好ましい。
(IV) で示されるビスフェノール体を含む反応混合物
を、式（Ｖ）で示されるカルボン酸系化合物と反応させ
ることにより、式（Ｉ）で示されるビスフェノールモノ
エステルが得られる。この反応において、カルボン酸系
化合物（Ｖ）はビスフェノール体 (IV) に対し、モル比
で 0.7〜1.7 倍量程度用いるのが好ましく、特にモル比
で１〜1.5 倍量程度用いるのがより好ましい。
【００３８】ビスフェノール体 (IV) とカルボン酸系化
合物（Ｖ）との反応自体は、公知の種々の方法によって
行うことができる。例えばカルボン酸系化合物（Ｖ）が
酸ハロゲン化物または酸無水物である場合は、アミン類
やピリジン類などの塩基性化合物の存在下に反応が行わ
れる。またカルボン酸系化合物（Ｖ）が低級アルキルエ
ステルである場合は、エステル交換反応によって式
（Ｉ）のビスフェノールモノエステルが製造される。
合物（Ｖ）との反応自体は、公知の種々の方法によって
行うことができる。例えばカルボン酸系化合物（Ｖ）が
酸ハロゲン化物または酸無水物である場合は、アミン類
やピリジン類などの塩基性化合物の存在下に反応が行わ
れる。またカルボン酸系化合物（Ｖ）が低級アルキルエ
ステルである場合は、エステル交換反応によって式
（Ｉ）のビスフェノールモノエステルが製造される。
【００３９】本発明では特に、式（Ｖ）におけるＸが水
酸基である化合物、すなわち前記式(VI) で示されるカ
ルボン酸を用いて、ビスフェノール体 (IV) を含む反応
混合物と反応させるのが好ましい。この場合は、脱ハロ
ゲン化水素剤およびハロゲン化剤を用いて、反応が行わ
れる。
酸基である化合物、すなわち前記式(VI) で示されるカ
ルボン酸を用いて、ビスフェノール体 (IV) を含む反応
混合物と反応させるのが好ましい。この場合は、脱ハロ
ゲン化水素剤およびハロゲン化剤を用いて、反応が行わ
れる。
【００４０】ここで用いる脱ハロゲン化水素剤としては
例えば、トリエチルアミン、ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ
−ジメチルベンジルアミン、テトラメチル尿素などの三
級アミン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）
ピリジンなどのピリジン系化合物が挙げられる。これら
のなかでも、特に安価で回収容易なトリエチルアミンが
好ましく用いられる。
例えば、トリエチルアミン、ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ
−ジメチルベンジルアミン、テトラメチル尿素などの三
級アミン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）
ピリジンなどのピリジン系化合物が挙げられる。これら
のなかでも、特に安価で回収容易なトリエチルアミンが
好ましく用いられる。
【００４１】またハロゲン化剤としては、例えばオキシ
塩化リン、オキシ臭化リン、ｏ−トルエンスルホン酸ク
ロリド、ｐ−トルエンスルホン酸クロリドなどを用いる
ことができる。これらのなかでも、特にオキシ塩化リン
を用いるのが好ましい。
塩化リン、オキシ臭化リン、ｏ−トルエンスルホン酸ク
ロリド、ｐ−トルエンスルホン酸クロリドなどを用いる
ことができる。これらのなかでも、特にオキシ塩化リン
を用いるのが好ましい。
【００４２】式 (IV) で示されるビスフェノール体を含
む反応混合物と式 (VI) で示されるカルボン酸との反応
において、ハロゲン化剤の好ましい使用量は、一般に
は、カルボン酸 (VI) に対し、ハロゲン化剤中のハロゲ
ン原子として 0.7〜３モル倍程度であり、より好ましく
は 0.8〜2.5 モル倍程度である。さらに好ましい使用量
は、用いるハロゲン化剤の種類によって変化する。例え
ばハロゲン化剤がオキシ塩化リンまたはオキシ臭化リン
である場合は、カルボン酸 (VI) に対してモル比で 0.4
〜１倍量程度用いるのが好ましく、特に 0.5〜0.8 倍量
程度がより好ましい。一方、ハロゲン化剤がｏ−または
ｐ−トルエンスルホン酸クロリドである場合は、カルボ
ン酸 (VI) に対してモル比で 0.7〜1.6 倍量程度用いる
のが好ましく、特に 0.8〜1.2 倍量程度がより好まし
い。
む反応混合物と式 (VI) で示されるカルボン酸との反応
において、ハロゲン化剤の好ましい使用量は、一般に
は、カルボン酸 (VI) に対し、ハロゲン化剤中のハロゲ
ン原子として 0.7〜３モル倍程度であり、より好ましく
は 0.8〜2.5 モル倍程度である。さらに好ましい使用量
は、用いるハロゲン化剤の種類によって変化する。例え
ばハロゲン化剤がオキシ塩化リンまたはオキシ臭化リン
である場合は、カルボン酸 (VI) に対してモル比で 0.4
〜１倍量程度用いるのが好ましく、特に 0.5〜0.8 倍量
程度がより好ましい。一方、ハロゲン化剤がｏ−または
ｐ−トルエンスルホン酸クロリドである場合は、カルボ
ン酸 (VI) に対してモル比で 0.7〜1.6 倍量程度用いる
のが好ましく、特に 0.8〜1.2 倍量程度がより好まし
い。
【００４３】脱ハロゲン化水素剤は、ハロゲン化剤中の
ハロゲン原子１モルに対し、 0.8〜2.6 モル程度の割合
で用いるのが好ましい。脱ハロゲン化水素剤のより好ま
しい使用量は、ハロゲン化剤の種類によって変化する。
例えばハロゲン化剤がオキシ塩化リンまたはオキシ臭化
リンである場合は、このハロゲン化剤に対し脱ハロゲン
化水素剤をモル比で 2.7〜3.8倍量程度用いるのが好ま
しく、より好ましくはモル比で 2.9〜3.5 倍量程度用い
る。またハロゲン化剤がｏ−またはｐ−トルエンスルホ
ン酸クロリドである場合は、このハロゲン化剤に対し脱
ハロゲン化水素剤をモル比で 0.8〜2.6 倍量程度用いる
のが好ましく、より好ましくはモル比で0.9 〜2.4 倍量
程度用いる。
ハロゲン原子１モルに対し、 0.8〜2.6 モル程度の割合
で用いるのが好ましい。脱ハロゲン化水素剤のより好ま
しい使用量は、ハロゲン化剤の種類によって変化する。
例えばハロゲン化剤がオキシ塩化リンまたはオキシ臭化
リンである場合は、このハロゲン化剤に対し脱ハロゲン
化水素剤をモル比で 2.7〜3.8倍量程度用いるのが好ま
しく、より好ましくはモル比で 2.9〜3.5 倍量程度用い
る。またハロゲン化剤がｏ−またはｐ−トルエンスルホ
ン酸クロリドである場合は、このハロゲン化剤に対し脱
ハロゲン化水素剤をモル比で 0.8〜2.6 倍量程度用いる
のが好ましく、より好ましくはモル比で0.9 〜2.4 倍量
程度用いる。
【００４４】ビスフェノール体 (IV) を含む反応混合物
への、カルボン酸 (VI) 、脱ハロゲン化水素剤およびハ
ロゲン化剤の仕込み順序は特に制限されない。例えばビ
スフェノール体 (IV) を含む反応混合物に、カルボン酸
(VI) 、脱ハロゲン化水素剤およびハロゲン化剤の三者
を併注することもできるし、ビスフェノール体 (IV) を
含む反応混合物にカルボン酸 (VI) を加え、そこに脱ハ
ロゲン化水素剤およびハロゲン化剤を併注することもで
きるし、またビスフェノール体 (IV) を含む反応混合物
にカルボン酸 (VI) および脱ハロゲン化水素剤を加え、
そこにハロゲン化剤を添加していくこともできる。しか
し反応収率などを考慮すると、ビスフェノール体 (IV)
とカルボン酸 (VI) とを、脱ハロゲン化水素剤の存在下
で、ハロゲン化剤を用いて反応させるのが好ましい。す
なわち、ビスフェノール体 (IV) を含む反応混合物にカ
ルボン酸 (VI) および脱ハロゲン化水素剤を加え、そこ
にハロゲン化剤を加えていく方法が好ましい。
への、カルボン酸 (VI) 、脱ハロゲン化水素剤およびハ
ロゲン化剤の仕込み順序は特に制限されない。例えばビ
スフェノール体 (IV) を含む反応混合物に、カルボン酸
(VI) 、脱ハロゲン化水素剤およびハロゲン化剤の三者
を併注することもできるし、ビスフェノール体 (IV) を
含む反応混合物にカルボン酸 (VI) を加え、そこに脱ハ
ロゲン化水素剤およびハロゲン化剤を併注することもで
きるし、またビスフェノール体 (IV) を含む反応混合物
にカルボン酸 (VI) および脱ハロゲン化水素剤を加え、
そこにハロゲン化剤を添加していくこともできる。しか
し反応収率などを考慮すると、ビスフェノール体 (IV)
とカルボン酸 (VI) とを、脱ハロゲン化水素剤の存在下
で、ハロゲン化剤を用いて反応させるのが好ましい。す
なわち、ビスフェノール体 (IV) を含む反応混合物にカ
ルボン酸 (VI) および脱ハロゲン化水素剤を加え、そこ
にハロゲン化剤を加えていく方法が好ましい。
【００４５】ビスフェノール体 (IV) とカルボン酸系化
合物（Ｖ）とのエステル化反応における温度は、０〜１
２０℃程度が好ましく、特に２０〜１００℃程度がより
好ましい。この反応は通常大気圧下で進行するが、加圧
下で行ってもよい。また反応時間は、通常 0.5時間以上
２０時間程度までで十分であり、より好ましくは１〜１
０時間程度である。
合物（Ｖ）とのエステル化反応における温度は、０〜１
２０℃程度が好ましく、特に２０〜１００℃程度がより
好ましい。この反応は通常大気圧下で進行するが、加圧
下で行ってもよい。また反応時間は、通常 0.5時間以上
２０時間程度までで十分であり、より好ましくは１〜１
０時間程度である。
【００４６】反応終了後は、例えばカルボン酸系化合物
（Ｖ）としてフリーのカルボン酸または酸ハロゲン化物
を用いた場合に副生する脱ハロゲン化水素剤の酸塩を、
濾過などにより分離するかあるいは反応液に水を加えて
溶解除去し、必要に応じて中和、水洗などの後処理を行
う。こうして得られた反応混合物からは、そのまま冷却
して晶析を行うか、あるいは蒸留によって適当量の溶媒
を回収したあと冷却して晶析を行うことにより、目的物
を分離することができる。晶析の際の溶媒は、反応で用
いた溶媒をそのまま用いることもできるし、またそれと
は異なる溶媒を用いることもできる。反応溶媒と異なる
晶析溶媒としては例えば、メタノール、エタノールなど
のアルコール類、アセトン、エチルメチルケトンなどの
ケトン類を用いることができる。このようにして得られ
た目的物は、さらに再結晶などにより精製することもで
きる。
（Ｖ）としてフリーのカルボン酸または酸ハロゲン化物
を用いた場合に副生する脱ハロゲン化水素剤の酸塩を、
濾過などにより分離するかあるいは反応液に水を加えて
溶解除去し、必要に応じて中和、水洗などの後処理を行
う。こうして得られた反応混合物からは、そのまま冷却
して晶析を行うか、あるいは蒸留によって適当量の溶媒
を回収したあと冷却して晶析を行うことにより、目的物
を分離することができる。晶析の際の溶媒は、反応で用
いた溶媒をそのまま用いることもできるし、またそれと
は異なる溶媒を用いることもできる。反応溶媒と異なる
晶析溶媒としては例えば、メタノール、エタノールなど
のアルコール類、アセトン、エチルメチルケトンなどの
ケトン類を用いることができる。このようにして得られ
た目的物は、さらに再結晶などにより精製することもで
きる。
【００４７】
【実施例】次に具体的な実施例により、本発明をさらに
詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限
定されるものではない。なお以下の例中、部および％
は、特にことわりがない限り重量基準である。
詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限
定されるものではない。なお以下の例中、部および％
は、特にことわりがない限り重量基準である。
【００４８】実施例１ 温度計、攪拌装置、還流冷却管および滴下装置を備えた
反応容器に、２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノール２３
４４部、キシレン２００部、陰イオン系界面活性剤４７
部、７８％濃硫酸９５部および３０％アセトアルデヒド
水溶液７７１部を仕込み、攪伴しながら９０〜１００℃
の温度範囲に保って７時間反応させた。反応終了後、キ
シレン３６００部を投入し、水層を分液除去したあと、
有機層が中性になるまで水洗し、次いで９０〜１１０
℃、約２００mmHgの減圧下で、溶媒を還流しながら水分
を系外に留去した。得られた縮合反応混合物を冷却後、
そこにアクリル酸４４８部およびトリエチルアミン１２
９０部を仕込み、反応器内の空気を窒素置換したあと、
オキシ塩化リン６３４部を滴下し、さらに４０℃で１時
間保温した。そのあと有機層を中性になるまで水洗し、
さらにキシレンを減圧留去した。次いで、この蒸留残査
にメタノールを加えて晶析することにより、融点１１９
〜１２１℃で白色結晶状の２−〔１−（２−ヒドロキシ
−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル〕−４，
６−ジ−ｔ−ペンチルフェニル アクリレートを２２２
６部得た（ジアルキルフェノール基準で収率 80.5
％）。
反応容器に、２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノール２３
４４部、キシレン２００部、陰イオン系界面活性剤４７
部、７８％濃硫酸９５部および３０％アセトアルデヒド
水溶液７７１部を仕込み、攪伴しながら９０〜１００℃
の温度範囲に保って７時間反応させた。反応終了後、キ
シレン３６００部を投入し、水層を分液除去したあと、
有機層が中性になるまで水洗し、次いで９０〜１１０
℃、約２００mmHgの減圧下で、溶媒を還流しながら水分
を系外に留去した。得られた縮合反応混合物を冷却後、
そこにアクリル酸４４８部およびトリエチルアミン１２
９０部を仕込み、反応器内の空気を窒素置換したあと、
オキシ塩化リン６３４部を滴下し、さらに４０℃で１時
間保温した。そのあと有機層を中性になるまで水洗し、
さらにキシレンを減圧留去した。次いで、この蒸留残査
にメタノールを加えて晶析することにより、融点１１９
〜１２１℃で白色結晶状の２−〔１−（２−ヒドロキシ
−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル〕−４，
６−ジ−ｔ−ペンチルフェニル アクリレートを２２２
６部得た（ジアルキルフェノール基準で収率 80.5
％）。
【００４９】実施例２ 実施例１におけるキシレンのかわりにトルエンを用い、
実施例１と同様の操作で実験を行った。
実施例１と同様の操作で実験を行った。
【００５０】実施例３ 実施例１におけるアクリル酸のかわりにメタクリル酸５
３５部を用いる以外は実施例１と同様の操作を行って、
融点１０３〜１０５℃、白色結晶状の２−〔１−（２−
ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチ
ル〕−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニル メタクリレ
ートを２２４９部得た。
３５部を用いる以外は実施例１と同様の操作を行って、
融点１０３〜１０５℃、白色結晶状の２−〔１−（２−
ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチ
ル〕−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニル メタクリレ
ートを２２４９部得た。
【００５１】実施例４ 実施例１における２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノール
のかわりに２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノール２０６３
部を用い、溶媒としてキシレンのかわりにトルエンを用
いる以外は、実施例１と同様の操作を行い、融点１９０
〜１９２℃で白色結晶状の２，４−ジ−ｔ−ブチル−６
−〔１−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフ
ェニル）エチル〕フェニル アクリレート２０８８部を
得た。
のかわりに２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノール２０６３
部を用い、溶媒としてキシレンのかわりにトルエンを用
いる以外は、実施例１と同様の操作を行い、融点１９０
〜１９２℃で白色結晶状の２，４−ジ−ｔ−ブチル−６
−〔１−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフ
ェニル）エチル〕フェニル アクリレート２０８８部を
得た。
【００５２】実施例５ 実施例１で用いたのと同様の反応容器に、２−ｔ−ブチ
ルー４ーメチルフェノール１６４３部、キシレン８００
部、陰イオン系界面活性剤１４部、９６％濃硫酸３部お
よび３７％ホルムアルデヒド水溶液４５６部を仕込み、
攪拌しながら、９０〜９５℃の温度範囲に保って、３時
間反応させた。反応終了後に、キシレン８９０部を投入
し、実施例１と同様の後処理および還流脱水を行った。
反応液を冷却したあと、そこにアクリル酸３５４部およ
びトリエチルアミン１０５７部を仕込み、反応容器内の
空気を窒素置換してから、オキシ塩化リン４６４部を滴
下し、さらに８０℃で１時間保温した。そのあと実施例
１と同様の後処理および晶析操作を行い、融点１３２〜
１３４℃で白色結晶状の２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ
−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４
−メチルフェニル アクリレートを１５６４部得た。
ルー４ーメチルフェノール１６４３部、キシレン８００
部、陰イオン系界面活性剤１４部、９６％濃硫酸３部お
よび３７％ホルムアルデヒド水溶液４５６部を仕込み、
攪拌しながら、９０〜９５℃の温度範囲に保って、３時
間反応させた。反応終了後に、キシレン８９０部を投入
し、実施例１と同様の後処理および還流脱水を行った。
反応液を冷却したあと、そこにアクリル酸３５４部およ
びトリエチルアミン１０５７部を仕込み、反応容器内の
空気を窒素置換してから、オキシ塩化リン４６４部を滴
下し、さらに８０℃で１時間保温した。そのあと実施例
１と同様の後処理および晶析操作を行い、融点１３２〜
１３４℃で白色結晶状の２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ
−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４
−メチルフェニル アクリレートを１５６４部得た。
【００５３】実施例６ 実施例５におけるキシレンのかわりにトルエンを用い、
アクリル酸のかわりにメタクリル酸４２３部を用いた以
外は、実施例５と同様の操作を行って、融点１４４〜１
４６℃、白色結晶状の２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−
ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−
メチルフェニル メタクリレートを１７１８部得た。
アクリル酸のかわりにメタクリル酸４２３部を用いた以
外は、実施例５と同様の操作を行って、融点１４４〜１
４６℃、白色結晶状の２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−
ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−
メチルフェニル メタクリレートを１７１８部得た。
【００５４】以上の実施例１〜６で得られた反応成績
を、表−１にまとめて示す。
を、表−１にまとめて示す。
【００５５】表 − １
【００５６】
【発明の効果】本発明によれば、ビスフェノール体を単
離することなく、ジアルキルフェノールから連続して、
目的物である式（Ｉ）のビスフェノールモノエステル
を、高い収率と高い純度で、しかも効率よく経済的に製
造することができる。したがって本発明の方法は、工業
的規模で式（Ｉ）のビスフェノールモノエステルを製造
する方法として有用である。
離することなく、ジアルキルフェノールから連続して、
目的物である式（Ｉ）のビスフェノールモノエステル
を、高い収率と高い純度で、しかも効率よく経済的に製
造することができる。したがって本発明の方法は、工業
的規模で式（Ｉ）のビスフェノールモノエステルを製造
する方法として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 69/16 Ｃ０７Ｃ 69/16 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 八児 真一 大阪市此花区春日出中３丁目１番98号 住友化学工業株式会社内 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 69/54 C07C 67/08 C07C 39/16 C07C 37/20
Claims (9)
- 【請求項１】炭素数６〜１０の脂肪族炭化水素類および
炭素数６〜１２の芳香族炭化水素類から選ばれる溶媒中
で、式 (II) 【化１】 （式中、Ｒ1 は水素または炭素数１〜３のアルキル基を
表す）で示されるアルデヒドと、式(III) 【化２】 （式中、Ｒ2 およびＲ3 は、それぞれ独立に炭素数１〜
５のアルキル基を表す）で示されるジアルキルフェノー
ルとを縮合反応させて、式 (IV) 【化３】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は前記と同じ意味を有す
る）で示されるビスフェノール体を得、次いでこのビス
フェノール体を含む有機層を脱水処理に付したあと、該
ビスフェノール体を単離せずに、式（Ｖ） 【化４】 （式中、Ｒ4 は炭素数１〜３のアルキル基、炭素数２〜
４のアルケニル基またはフェニル基を表し、Ｘは水酸
基、ハロゲン、炭素数１〜３のアルコキシ基または基 【化５】 を表す）で示されるカルボン酸系化合物と反応させるこ
とを特徴とする式（Ｉ） 【化６】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は前記と同じ意味
を有する）で示されるビスフェノールモノエステルの製
造方法。 - 【請求項２】溶媒が、トルエンおよびキシレンから選ば
れる芳香族炭化水素である請求項１記載の方法。 - 【請求項３】式 (II) で示されるアルデヒドと式(III)
で示されるジアルキルフェノールとの縮合反応生成物に
溶媒を追加して、有機層と水層に分離する請求項１また
は２記載の方法。 - 【請求項４】式 (IV) で示されるビスフェノール体を含
む有機層の脱水処理が、還流によって行われる請求項
１、２または３記載の方法。 - 【請求項５】式（Ｖ）のカルボン酸系化合物が式 (VI) 【化７】 （式中、Ｒ4 は請求項１で定義したとおりの意味を有す
る）で示されるカルボン酸であり、該カルボン酸と式
(IV) で示されるビスフェノール体との反応を、脱ハロ
ゲン化水素剤の存在下に、ハロゲン化剤を用いて行う請
求項１〜４のいずれかに記載の方法。 - 【請求項６】ハロゲン化剤がオキシ塩化リンである請求
項５記載の方法。 - 【請求項７】脱ハロゲン化水素剤がトリエチルアミンで
ある請求項５または６記載の方法。 - 【請求項８】式（Ｉ）および（Ｖ）におけるＲ4 がアル
ケニル基である請求項１〜７のいずれかに記載の方法 - 【請求項９】式（Ｉ）で示されるビスフェノールモノエ
ステルが、２−〔１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−
ｔ−ペンチルフェニル）エチル〕−４，６−ジ−ｔ−ペ
ンチルフェニル アクリレート、２−〔１−（２−ヒド
ロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル〕
−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニル メタクリレー
ト、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒド
ロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニル
アクリレート、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル
−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチル
フェニル メタクリレート、または２，４−ジ−ｔ−ブ
チル−６−〔１−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒド
ロキシフェニル）エチル〕フェニル アクリレートであ
る請求項８記載の方法。
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