JP2861598B2

JP2861598B2 - 金属上の塗膜厚測定方法及び装置並びに塗装金属体の製造方法及び装置

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Publication number: JP2861598B2
Application number: JP4442692A
Authority: JP
Inventors: 義徳福田; 宏晴加藤; 英也田辺; 裕泰吉川; 年一岩田; 孝則秋吉
Original assignee: Nippon Kokan Ltd
Current assignee: JFE Engineering Corp
Priority date: 1992-03-02
Filing date: 1992-03-02
Publication date: 1999-02-24
Anticipated expiration: 2014-02-24
Also published as: JPH05240632A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】鉄鋼などの金属或いはめっきされ
た金属上に存在する塗膜の厚さを、非破壊で迅速に或い
は連続的に精度よく測定する技術及びこの測定法を用い
た塗膜被覆製品の製造技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】加工された金属に塗装を施す従来の塗装
製品に加え、近年では加工前に塗装を施した言わば塗装
金属素材とも言うべき塗装金属体の需要が高まってい
る。このようなプレコート製品では、加工に際して要求
される塗膜厚範囲と加工後実際の使用に当たって要求さ
れる塗膜厚範囲との両方を満たす塗膜厚が適性塗膜厚範
囲となる。一般に、この範囲は狭く、厳しい塗膜厚制御
技術が要求されることになる。

【０００３】塗膜厚制御には、塗装技術も含め一連の技
術を要するが、このうち最も強く要望されているのは、
塗膜厚の測定技術それも非破壊且つ迅速な測定技術であ
る。

【０００４】金属上塗膜の厚さ測定法には、マイクロメ
ーター法、重量法、電磁法、赤外線反射法等がある。マ
イクロメーター法、重量法は、塗膜を剥いでその前後の
寸法差或いは重量差から塗膜厚を求める方法で、直接的
に厚さが求まる絶対法である。ＪＩＳにはこの二つの方
法が規定されている。

【０００５】電磁法、赤外線反射法は相対法であって、
上記の絶対法を基準として電磁強度或いは赤外線吸収量
が厚さに換算される。測定の迅速さ、非破壊測定が可能
な点でこれらの相対法は優れているが、限られた条件下
でなければ測定出来ない欠点があった。この欠点を克服
した測定法にコンプトン散乱Ｘ線測定法がある。

【０００６】コンプトン散乱Ｘ線測定法を用いた合成樹
脂皮膜金属板の製造法については、特公昭６２−２６８
２９号公報に紹介されているが、非膜厚の測定に関して
は、放射線を照射し皮膜によって散乱されるコンプトン
散乱度を測定非破壊測定法であるとの紹介に止まり、具
体的な方法が開示されていない。

【０００７】従来、皮膜厚のコンプトン散乱Ｘ線測定法
を具体的に開示したものに、例えば特開昭６４−４１８
１０号公報がある。ここでは、塗膜で被覆された金属に
Ｘ線を照射し発生するコンプトン散乱Ｘ線の強度は、塗
膜の厚さと直線関係にあり、この直線の切片は下地金属
と関係し勾配は塗膜の種類と関係することを明らかにし
ている。そして、鋼板下地に樹脂成分のみからなる塗膜
を附した塗装金属についての検量線を基準とし、蛍光Ｘ
線強度から得た補正値でコンプトン散乱Ｘ線強度を補正
して塗膜の厚さを迅速に測定する方法が提案されてい
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上記の方法では塗膜か
ら発生する蛍光Ｘ線とめっき層又は下地金属から発生す
る蛍光Ｘ線とを区別せずに取り扱って補正値を求めてい
る。しかしながら元素が塗膜に含まれているのかめっき
層に含まれているのかにより、コンプトン散乱Ｘ線強度
に与える影響は異なり、場合によっては逆の傾向になる
ことも考えられる。つまり下地金属よりも軽い元素がめ
っきされている場合、めっき層が厚くなればコンプトン
散乱Ｘ線強度は大きくなるが、この元素が塗膜に含まれ
ている場合には元素の吸収効果によりコンプトン散乱Ｘ
線強度は小さくなってしまう。特開昭６４−４１８１０
号公報に開示された方法では、高精度測定の要望には応
えられないという問題が残されていた。

【０００９】この問題を解決するためにこの発明は行わ
れたもので、めっき層の変動が与える影響と塗膜の変動
が与える影響とを区別し、塗膜の変動に対しては塗膜成
分に基づく計算によってきめ細かく補正を行う技術が核
心であって、この技術を用いることによって、高品質の
塗装金属体製品の製造技術を提供しようとするものであ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
の手段は、コンプトン散乱Ｘ線や各種の蛍光Ｘ線などの
二次Ｘ線を測定して塗膜の厚さを求める方法であって、
二次Ｘ線強度との関係式に基づいて塗膜厚を求める方法
に属するが、関係式に必要な数値のうち変動が激しい塗
膜のＸ線に対する吸収係数に依存する値を、計算によっ
て求める金属上の塗膜厚測定方法を中核とし、次に示す
（１）上記の方法、（２）上記の方法を実用するための
装置、（３）二層塗膜に対応する測定方法、（４）
（３）を実用するための装置、（５）（１）、（３）の
方法を用いる塗装金属体の製造方法及び（６）（５）の
製造方法を実用するための塗装金属体の製造装置であ
る。

【００１１】（１）金属面に塗布された塗膜面にＸ線
を照射し発生する二次Ｘ線を測定し、塗膜厚及びその塗
膜より下の層の厚さ又はめっき層厚と二次Ｘ線強度との
関係式に基づいて塗膜厚を求める塗膜厚測定方法であっ
て、塗膜構成元素の含有率に基づき入射Ｘ線及びその塗
膜より下の層から来る蛍光Ｘ線に対する塗膜の吸収に依
存するパラメータを計算によって求め、前記関係式では
この塗膜の吸収に依存するパラメータを入射Ｘ線及びそ
の塗膜より下の層から来る蛍光Ｘ線に対する塗膜の吸収
に対するパラメータとして用いていることを特徴とする
金属上の塗膜厚測定方法。（２）Ｘ線照射及び測定装置に加えて、関係式記憶回
路、組成変換器、補正値演算器及び塗膜厚演算器を備え
た塗膜厚測定装置。

【００１２】（３）塗膜が二層の場合に各々の塗膜に
ついて、各々の塗膜構成元素の含有率に基づき入射Ｘ線
及びその塗膜より下の層から来る蛍光Ｘ線に対する塗膜
の吸収に依存するパラメータを計算によって求め、これ
らのＸ線に対する吸収係数の差に基づいて二次Ｘ線の測
定強度を補正することを特徴とする（１）記載の金属上
の塗膜厚測定方法。

【００１３】（４）（２）の金属上の塗膜厚測定装置の
補正値演算器に下層塗膜厚補正回路を併せて備えた金属
上の塗膜厚測定装置。（５）（１）又は（３）の金属上の塗膜厚測定方法を用
いて、塗膜厚を制御する塗装金属体の製造方法。（６）金属体に連続的に塗装を施す装置において、塗膜
焼き付け炉の直後に、（２）又は（４）の金属上の塗膜
厚測定装置を配置し、この塗膜厚測定装置からの信号に
基づいて塗膜厚を制御する制御装置を備えた塗装金属体
の製造装置。

【００１４】

【作用】測定対象である塗膜で被覆された金属体（以
下、塗装金属体と称す）にＸ線を照射すると、塗膜及び
金属を構成する元素はこの入射Ｘ線によって励起され、
元素固有の蛍光Ｘ線を発生する。しかし、この塗装金属
から出てくる二次Ｘ線には蛍光Ｘ線の他に、トムソン散
乱Ｘ線やコンプトン散乱Ｘ線が含まれている（以下、蛍
光Ｘ線及びコンプトン散乱Ｘ線をまとめて二次Ｘ線と称
す）。これらの散乱Ｘ線は、入射Ｘ線が原子に衝突して
散乱されたものであり、このうち衝突によってエネルギ
ーを失って散乱されたものが、コンプトン散乱Ｘ線であ
る。コンプトン散乱Ｘ線は失ったエネルギーの分だけ入
射Ｘ線よりも波長が長くなっているので、トムソン散乱
Ｘ線や蛍光Ｘ線と区別してこれを測定することが出来
る。以上はコンプトン散乱Ｘ線法が測定に用いられる原
理である。

【００１５】入射Ｘ線と二次Ｘ線の塗装金属体内の経路
を図４に示す。８１は入射Ｘ線、８２はコンプトン散乱
Ｘ線、８３は蛍光Ｘ線、８４は上層塗膜、８５は下層塗
膜、８６はめっき層、８７は、下地金属である。塗膜が
二層の場合であるが、塗装金属の表面に入射角Φで照射
された入射Ｘ線８１は、上層塗膜８４、下層塗膜８５及
びめっき層８６を通過し下地金属８７に到達する。

【００１６】そして、通過過程で散乱されたり吸収され
たりして二次Ｘ線を発生し、この二次Ｘ線も又散乱され
たり吸収されたりする。二次Ｘ線のうち取り出し角Ψで
放射される二次Ｘ線即ちコンプトン散乱Ｘ線８２及び蛍
光Ｘ線８３が測定される。散乱や吸収される度合いは、
Ｘ線の波長と通過物質に依存し、蛍光Ｘ線の発生する度
合いも同じくこれらに依存する。

【００１７】強度Ｉ₀のＸ線を、一層塗膜の塗装金属体
に照射しこれが吸収されながら二次Ｘ線を発生する状
況、及び発生した二次Ｘ線が吸収されながら塗膜の外に
放射され測定される状況を考察すると、入射Ｘ線強度と
コンプトン散乱Ｘ線強度との関係について理論的に次の
ような関係式が得られる。

【００１８】数１は測定されるコンプトン散乱Ｘ線の強
度についての式で、数２はめっき層から発生する蛍光Ｘ
線強度についての式、数３は下地金属から発生する蛍光
Ｘ線強度についての式である。

【００１９】

【数１】

【００２０】

【数２】

【００２１】

【数３】

【００２２】これらの式で、めっき層が無い場合はめっ
き層に関する係数を零にすればよい。以下、めっき層の
存在を前提に述べる。塗膜、めっき層及び下地金属の物
性が固定され、且つめっき層厚Ｌ_Zが既知であれば、二
次Ｘ線の強度から塗膜厚Ｌ_Aは計算によって求めること
ができる。又、めっき層厚Ｌ_Zが未知の場合でも、これ
らの三つの式のうち二つの式を用いれば、塗膜厚Ｌ_Aは
計算によって求めることができる。

【００２３】塗装金属体を製造する場合、下地金属やめ
っきの種類は少ないが塗膜の種類が非常に多いのが普通
である。即ち、下地金属は炭素鋼、ステンレス、アルミ
ニウム又はアルミニウム合金或いは銅又は銅合金等に固
定される事が多く、又、めっき層もクロムめっき、ニッ
ケルめっき、亜鉛めっき、アルミニウムめっき等と固定
される。これに対して、塗膜には着色顔料、防錆顔料等
種々の添加剤が用いられ、これらの種類のみならず含有
量が変わっても塗膜の物性特にＸ線吸収能が異なってく
る。

【００２４】上記の三つの式の係数のうち、Ａ，Ｂ，μ
_Z，Ｅ，μ_ZZ及びμ_ZBは塗膜の種類によらない。よっ
て、これらの係数は既に求められている物性値から計算
により得られる場合もあり、又、実験によって決定して
もそれ程の難事ではない。

【００２５】ところが、Ｃ，Ｄ，μ_AZ，μ_ABには塗膜の
Ｘ線に対する吸収係数が関係し、これらの係数は塗膜の
種類毎に求めなければならない。しかも、塗膜のＸ線吸
収係数については、測定された資料も殆ど無く大半は実
験値に頼らざるを得ない。用途を限定した塗膜の分類項
目だけでも数千を超えることを考えると、これらの数値
を実験によって求めることは大変な難事である。

【００２６】そこで、塗膜のＸ線吸収係数は塗膜を構成
する元素の種類と量に依存することに着目し、この発明
では、これら四つの係数が簡易に求まる方法を先ず提案
する。Ｃ，Ｄ，μ_AZ，μ_ABは塗膜のＸ線吸収係数と一次
の関係にあるので、上記の着目点を導入すると、これら
の係数は各々数４、数５、数６、数７のように把握され
る。

【００２７】

【数４】

【００２８】

【数５】

【００２９】

【数６】

【００３０】

【数７】

【００３１】塗膜に含まれる元素の種類ｉとその含有率
ｗ_iは、塗料作成時の配合比率から知ることができ、
又、その情報が得られない場合には、発生する蛍光Ｘ線
の波長と強度とから知ることができる。したがって、定
数及び補正係数を予め求めておけば、塗膜のＸ線吸収係
数に依存する値を塗膜構成元素の含有率に基づいた計算
によって求めることができる。

【００３２】補正係数は、塗膜構成元素の中でもＸ線質
量吸収係数の大きい金属元素について求めておけばよ
い。これらの元素の含有率と補正係数の例を各々表１、
表２に示す。

【００３３】

【表１】

【００３４】

【表２】

【００３５】例えば、塗料Ｉであれば、数８、数９、数
１０、数１１のようにして、Ｃ，Ｄ，μ_AZ，μ_ABの値が
求まる。

【００３６】

【数８】

【００３７】

【数９】

【００３８】

【数１０】

【００３９】

【数１１】

【００４０】このように、塗膜のＸ線吸収係数に依存す
る値を塗膜構成元素の含有率に基づいた計算によって求
めると、数限り在る塗膜の種類毎に実験値を求める必要
がない。このため、きめ細かく補正することが極めて容
易となる。又、塗膜中に存在する元素は、下地金属やめ
っき層中存在する場合と区別されて、その影響が適切に
補正される。実際面ではこのような作用が相まって、塗
膜厚の測定精度が向上する。

【００４１】このような測定方法を実際に行うには、Ｘ
線照射及び測定装置に加えて記憶回路や演算回路が必要
であり、これらの回路を備えた装置を使用することが適
切である。装置の概要を図１に示す。１はＸ線測定装
置、２は関係式記憶器、３は塗膜厚演算器、４は塗膜厚
表示器、５は組成変換器、６は補正値演算器である。

【００４２】関係式記憶器路２には、数１乃至数１１等
必要な関係式を記憶させておき、塗料組成記憶器５には
塗布する塗料の成分や含有率を記憶させておく。関係式
に伴うめっき層及び下地金属に関する係数は理論的或い
は実験的に求められた値も入力しておく。塗料組成記憶
器５では例えば塗料No. 等で塗料の種類が入力されると
その塗料の成分及び含有率を記憶から取り出し、補正値
演算器６に出力する。

【００４３】補正値演算器６では、この成分情報に基づ
いて前述のＣ，Ｄ，μ_AZ，μ_AB等の塗膜のＸ線吸収係数
に依存する値を算出し、塗膜厚演算器３に送る。この値
とＸ線測定装置１からの各種のＸ線強度とに基づいて、
塗膜厚演算器３では関係式記憶器２から送られる関係式
により塗膜厚を演算しその結果を、塗膜厚表示器４に出
力する。塗膜厚によって塗装装置を制御する場合は、塗
膜厚表示器４に制御用の信号を出力する機能を持たせる
とよい。

【００４４】塗膜は、一層の場合だけとは限らず、めっ
き層と上層塗膜との間の強固な密着性や塗膜全体の防錆
能を確保するために下層塗膜を設けることがある。通常
プライマーと呼ばれる下塗りである。

【００４５】このような塗膜構成では、上層塗膜と下層
塗膜との構成元素が一般に異なる。このため、上層塗膜
の構成元素に基づいて計算を行ったのでは値にずれが生
ずる。この分を補正する必要があるが、これは上層塗膜
と下層塗膜とのＸ線に対する吸収係能の差に基づくもの
である。これらの塗膜の線吸収係数を、上記した塗膜構
成元素の含有率に基づいた計算と同様にして求めると、
補正係数は数１２によって得られる。この補正係数を二
次Ｘ線強度に乗ずることによって補正が行われる。即
ち、コンプトン散乱Ｘ線については数１のＩ_Cが、蛍光
Ｘ線については各々数２、数３のＩ_{Z ,}Ｉ_Bが補正され
る。

【００４６】

【数１２】

【００４７】塗膜の線吸収係数μ_P，μ_Fは、塗膜を構
成する元素の配合比率から求めることができる。即ち、
塗膜構成元素の補正対象Ｘ線に対する吸収係数とその元
素の含有率との積を各々の元素について求め、これらを
足し合わせたものに塗膜の比重を乗ずればよい。実際に
は、μ_Pとμ_Fの差を求めればよいので、吸収の大きい
主な元素について上の計算を行えば充分である。

【００４８】下層塗膜厚Ｌ_Pは、操業に関する情報から
得たものを使用しても満足な補正精度が得られる。又、
下層塗膜厚Ｌ_Pの情報が得られない場合は、下層に固有
に含まれる元素の蛍光Ｘ線強度から求めることもでき
る。下層には、前述したように、密着性や耐食性を期待
することが多く、ＳｒやＣａ或いはＺｎ等のクロム酸塩
が含まれ、これらは上層塗膜に含まれることは余りな
い。

【００４９】図５は、亜鉛めっき鋼板に二層塗膜を付し
た製品にＸ線照射した場合の二次Ｘ線プロファイルであ
る。この場合、ＳｒのＫα線が大きな強度で得られてい
るので、予め求めておいた強度と下層塗膜厚との関係を
示す検量線から塗膜厚が得られる。更に、検量線が得ら
れない場合には、収斂法を用いるのが便利である。これ
は、最初に下層塗膜厚を適当に仮定し、計算を繰り返す
ことにより近似の精度を高める方法である。その手順を
図６に例示する。

【００５０】最初に下層塗膜厚を零、即ちＬ_P0＝０とし
て、前述した一層塗膜の場合と同じく、上層塗膜の成分
に基づきそのＸ線吸収能を算出し、コンプトン散乱Ｘ
線、めっき層・下地金属からの蛍光Ｘ線を基に塗膜厚を
算出する。この塗膜厚Ｌ_A1を上層塗膜厚として下層塗膜
中のＳｒの蛍光Ｘ線（強度Ｉ_S）に対する上層塗膜によ
る吸収分の補正を行い、この値（Ｉ_S1）を基に下層塗膜
厚Ｌ_P1を求める。次に、この下層塗膜厚から、各々の二
次Ｘ線に対する下層塗膜の影響を補正して塗膜厚を算出
する。そして、更に補正された塗膜厚と下層塗膜厚を基
にＳｒの蛍光Ｘ線に対する上層塗膜の吸収補正を行う。
この操作を繰り返して、塗膜厚が収斂する値を最終的に
補正された塗膜厚とする。

【００５１】このように下層塗膜の補正を行う場合、基
本的には前述した金属上の塗膜厚測定装置を用いるが、
図１の補正値演算器６に下層塗膜厚補正器を併せ持たせ
るとよい。下層塗膜厚補正器６は数１２のＣ₀を演算
し、又、塗膜厚演算器３と連携して収斂法による演算を
行う。

【００５２】以上述べてきた塗膜厚の測定方法では、Ｘ
線照射と演算とによって測定値が得られるので、極めて
短時間内に測定出来或いは連続的に測定することが可能
である。このため、これらの金属上の塗膜厚測定方法を
塗装金属体の製造に用いると、塗膜厚が非常に良く制御
された製品が得られる。

【００５３】この場合、前記した金属上の塗膜厚測定装
置を用いた製造装置が適切であり、塗膜厚測定装置を塗
膜焼き付け炉の直後に配置し、塗膜厚表示器に制御装置
を接続して塗布量を制御するのがよい。塗膜厚測定装置
を塗膜焼き付け炉の後に設置するのは、塗膜中に溶剤が
存在するとコンプトン散乱強度に影響するからであり、
直後であるのは測定が遅れるとそれだけ制御が遅れるか
らである。したがって、炉の直後に配置するのはＸ線測
定器或いは測定ヘッドだけでもよい。

【００５４】

【実施例】

（実施例１）厚さ０．３５ｍｍの亜鉛めっき鋼帯に塗料
を一回塗布し、塗膜厚の異なる塗装鋼板ｕ，ｖ，ｗ，の
三種類を製造し、塗膜の厚さを測定した。

【００５５】製造に用いた装置の概要を図２に示す。亜
鉛めっき鋼帯１１に塗布ロール１２によって所定量の塗
料を連続的に塗布し、焼き付け炉１３で焼付乾燥した。
焼き付け炉１３の直後にＸ線測定装置１を配置し、塗膜
厚算出部１４で求めた塗膜厚を塗膜厚制御装置１５に出
力して塗布量を制御した。測定は、この発明による実施
例と従来の方法による従来例及び絶対法である重量法と
で行い、これらの結果を比較出来るようにした。

【００５６】Ｘ線源にはＲｈ管球を使用し、ＬｉＦモノ
クロメーターを用いて入射Ｘ線をＲｈＫα線（λ＝０．
６１５Å）に単色化した。又、Ｚｎの蛍光Ｘ線強度が他
の測定線に比し大き過ぎることが予想されたので、取り
出し側にはＮｉフィルターを設置し、Ｚｎ線の軽減を図
った。検出器にはエネルギー分解能の良い半導体検出器
を用い、多重波高分析器により、必要なＸ線を同時に測
定した。測定結果を表３に示す。

【００５７】

【表３】

【００５８】絶対法である重量法による測定値を真値と
見なし、その値からの隔たりを調べると、従来例では８
％以上であったが、実施例では２．４％以下であった。
又、塗膜厚は目標値の６％以内に制御されており満足な
結果であった。

【００５９】（実施例２）厚さ０．２８ｍｍのクロムめ
っき鋼帯にプライマーを塗布して塗膜を形成後上塗りを
施し、塗膜厚の異なる塗装鋼板ｘ，ｙ，ｚ，の三種類を
製造し、塗膜の厚さを測定した。製造に際して、上塗り
塗料の焼き付け炉の直後で実施例１．と同様に塗膜厚を
検出して制御した。

【００６０】用いた塗膜厚測定装置の概要を図３に示
す。２１、２２は各々上層及び下層塗膜種入力装置、５
１、５２は各々の組成変換器、６１、６２は各々の補正
値演算器である。これらの装置・機器を経て算出された
補正値は塗膜厚演算器３に入力さる。塗膜厚演算器３に
は、関係式記憶器２からの情報と、Ｘ線源７１とＸ線検
出器７２備えたＸ線測定器１からの各種のＸ線強度とが
同時に入力される。ここで算出された塗膜厚信号は、出
力回路を伴う塗膜厚表示器４を経て塗膜厚制御装置１５
に入力され、これを介して塗布量を制御する。測定結果
を表４に示す。

【００６１】

【表４】

【００６２】真値からの隔たりを調べると、従来例では
６％以上であったが、実施例では２．３％以下であっ
た。又、塗膜厚は目標値の４％以内に制御されており満
足な結果であった。

【００６３】

【発明の効果】以上述べて来たように、この発明による
塗膜厚測定では、塗膜種類の変動に対応してその二次Ｘ
線に与える影響を塗膜を構成する元素の含有率に基づい
て補正する。このため、きめ細かな補正が容易に行われ
精度の高い測定が実現される。しかも、この測定は非破
壊測定で且つ連続測定も可能であり、この測定技術を塗
装金属体の製造工程で用い塗布量制御を行うことによっ
て塗膜厚の安定した塗装金属体が製造される。このよう
に、近年の合理化技術に挙げられるプレコート化技術に
貢献するこの発明の効果は大きい。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一例である金属上塗膜厚測定装置の
概略図である。

【図２】この発明の一実施例に用いた塗装めっき鋼板の
製造装置の概略図である。

【図３】この発明の一実施例に用いた二層塗膜鋼板の製
造装置の概略図である。

【図４】入射Ｘ線と二次Ｘ線の経路を示すための塗装金
属体の断面図である。

【図５】二重塗膜の場合に得られる下層含有元素を含む
二次Ｘ線のプロファイルである。

【図６】下層塗膜厚の影響を補正しながら塗膜厚を求め
る収斂法のフローチャートである。

【符号の説明】

１Ｘ線測定装置２関係式記憶器３塗膜厚演算器４塗膜厚表示器５組成変換器６補正値演算器１２塗布ロール１３焼き付け炉１４塗膜厚算出部１５塗膜厚制御装置

フロントページの続き (72)発明者岩田年一東京都千代田区丸の内１丁目１番２号日本鋼管株式会社内 (72)発明者秋吉孝則東京都千代田区丸の内１丁目１番２号日本鋼管株式会社内審査官後藤時男 (56)参考文献特開昭64−41810（ＪＰ，Ａ) 特開昭61−84511（ＪＰ，Ａ) 特開平５−79826（ＪＰ，Ａ) 特公昭62−26829（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G01B 15/02 B05C 9/10 B05D 3/00 B05D 7/14

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】金属面に塗布された塗膜面にＸ線を照射
し発生する二次Ｘ線を測定し、塗膜厚及びその塗膜より
下の層の厚さ又はめっき層厚と二次Ｘ線強度との関係式
に基づいて塗膜厚を求める塗膜厚測定方法であって、塗
膜構成元素の含有率に基づき入射Ｘ線及びその塗膜より
下の層から来る蛍光Ｘ線に対する塗膜の吸収に依存する
パラメータを計算によって求め、前記関係式ではこの塗
膜の吸収に依存するパラメータを入射Ｘ線及びその塗膜
より下の層から来る蛍光Ｘ線に対する塗膜の吸収に対す
るパラメータとして用いていることを特徴とする金属上
の塗膜厚測定方法。
【請求項２】Ｘ線照射及び測定装置に加えて、関係式
記憶回路、組成変換器、補正値演算器及び塗膜厚演算器
を備えたことを特徴とする金属上の塗膜厚測定装置。
【請求項３】塗膜が二層の場合に各々の塗膜につい
て、各々の塗膜構成元素の含有率に基づき入射Ｘ線及び
その塗膜より下の層から来る蛍光Ｘ線に対する塗膜の吸
収に依存するパラメータを計算によって求め、これらの
Ｘ線に対する吸収係数の差に基づいて二次Ｘ線の測定強
度を補正することを特徴とする請求項１記載の金属上の
塗膜厚測定方法。
【請求項４】補正値演算器に下層塗膜厚補正回路を併
せて備えた請求項２記載の金属上の塗膜厚測定装置。
【請求項５】請求項１記載の金属上の塗膜厚測定方法
又は請求項２記載の金属上の塗膜厚測定装置を用いて、
塗膜厚を制御することを特徴とする塗装金属体の製造方
法。
【請求項６】金属体に連続的に塗装を施す装置におい
て、塗膜焼き付け炉の直後に、請求項２又は請求項４記
載の金属上の塗膜厚測定装置を配置し、この塗膜厚測定
装置からの信号に基づいて塗膜厚を制御する制御装置を
備えたことを特徴とする塗装金属体の製造装置。