JP2801664B2 - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
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- JP2801664B2 JP2801664B2 JP20557189A JP20557189A JP2801664B2 JP 2801664 B2 JP2801664 B2 JP 2801664B2 JP 20557189 A JP20557189 A JP 20557189A JP 20557189 A JP20557189 A JP 20557189A JP 2801664 B2 JP2801664 B2 JP 2801664B2
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- layer
- copolymer
- resin
- methyl methacrylate
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は導電性支持体上に感光層、中間層及び表面保
護層を順次積層した電子写真感光体に関する。
護層を順次積層した電子写真感光体に関する。
［従来の技術］ 従来、電子写真用感光体としては、導電性支持体上に
セレンないしセレン合金を主体とする感光層を設けたも
の、酸化亜鉛、酸化カドミウムなどの無機光導電材料を
バインダー中に分散させたもの、ポリ−Ｎ−ビニルカル
バゾールとトリニトロフルオレノンあるいはアゾ顔料な
どの有機光導電材料を用いたもの及び非晶質シリコンを
用いたもの等が一般に知られている。
セレンないしセレン合金を主体とする感光層を設けたも
の、酸化亜鉛、酸化カドミウムなどの無機光導電材料を
バインダー中に分散させたもの、ポリ−Ｎ−ビニルカル
バゾールとトリニトロフルオレノンあるいはアゾ顔料な
どの有機光導電材料を用いたもの及び非晶質シリコンを
用いたもの等が一般に知られている。
現在、最も高感度な電子写真用感光体としては、Se
系、特にSe−As系（As2Se3）感光体が知られているが、
このものは次のような問題点を包含する。
系、特にSe−As系（As2Se3）感光体が知られているが、
このものは次のような問題点を包含する。
感光体表面のSe層がむき出しになっているため、実使
用中ペーパージャム等で簡単にキズが発生しやすい。
用中ペーパージャム等で簡単にキズが発生しやすい。
複写機内（現像剤、クリーニング部材等）或いは使用
環境中に存在する特殊な化学物質等の吸着・汚染によ
り、地汚れ、画像流れ等の異常画像を発生する。
環境中に存在する特殊な化学物質等の吸着・汚染によ
り、地汚れ、画像流れ等の異常画像を発生する。
同様に実使用中、紙、クリーニング部、現像部等によ
り摩擦を受けSe層が摩耗し、コピー上にSeが付着・排出
される心配がある。
り摩擦を受けSe層が摩耗し、コピー上にSeが付着・排出
される心配がある。
特にSe−As系感光体の場合、蒸着直後では表面抵抗が
十分に大きくなく、そのままでは帯電電位が不足する場
合がある。
十分に大きくなく、そのままでは帯電電位が不足する場
合がある。
このようにSe感光体が内包する上記〜の問題点を
副作用を伴なうことなく全面的に解決しうる技術は未だ
完成されていない。
副作用を伴なうことなく全面的に解決しうる技術は未だ
完成されていない。
このような欠点を解消する方法として感光体表面に保
護層を設ける技術が知られている。具体的には感光層の
表面に有機フィルムを設ける方法（特公昭38−1544
6）、無機酸化物を設ける方法（特公昭43−14517）、接
着層を設けた後絶縁層を積層する方法（特公昭43−2759
1）、或いはプラズマCVD法・光CVD法等によって、ａ−S
i層、ａ−Si:N:H層、ａ−Si:O:H層等を積層する方法
（特開昭57−179859、特開昭−59−58437）が開示され
ている。
護層を設ける技術が知られている。具体的には感光層の
表面に有機フィルムを設ける方法（特公昭38−1544
6）、無機酸化物を設ける方法（特公昭43−14517）、接
着層を設けた後絶縁層を積層する方法（特公昭43−2759
1）、或いはプラズマCVD法・光CVD法等によって、ａ−S
i層、ａ−Si:N:H層、ａ−Si:O:H層等を積層する方法
（特開昭57−179859、特開昭−59−58437）が開示され
ている。
しかしながら、保護層が電子写真的に高抵抗（1014Ω
・cm以上）になると、残留電位の増大、くり返し時の蓄
積等が問題となり、実用上好ましくない。
・cm以上）になると、残留電位の増大、くり返し時の蓄
積等が問題となり、実用上好ましくない。
上記欠点を補う技術として保護層を光導電層とする方
法（特公昭−48−38427、特公昭43−16198、特公昭49−
10258、USP2901348、保護層中に色素やルイス酸に代表
される移動材を添加する方法（特公昭44−834、特開昭5
3−133444）、或いは金属や金属酸化物微粒子の添加に
より保護層の抵抗を制御する方法（特開昭53−3338）等
が提案されている。
法（特公昭−48−38427、特公昭43−16198、特公昭49−
10258、USP2901348、保護層中に色素やルイス酸に代表
される移動材を添加する方法（特公昭44−834、特開昭5
3−133444）、或いは金属や金属酸化物微粒子の添加に
より保護層の抵抗を制御する方法（特開昭53−3338）等
が提案されている。
しかし、このような場合には保護層による光の吸収が
生じ、感光層へ到達する光量が減少するため、結果とし
て感光体の感度が低下するという問題が生じる（所謂フ
ィルター効果）。
生じ、感光層へ到達する光量が減少するため、結果とし
て感光体の感度が低下するという問題が生じる（所謂フ
ィルター効果）。
また、特開昭57−30846に提案されているように、平
均粒径0.3μｍ以下の金属酸化物を抵抗制御材として保
護層中に分散させることにより光に対し実質的に透明と
する方法もあるが、実際には0.3μｍ以上の粒子も多く
存在するため、可視光の吸収、散乱が生じ、感光体の感
度が低下する。また、微粒子分散系保護層を持つ感光体
特有の問題として解像度の低下という現像も生じ易い。
さらに微粒子の樹脂中への均一分散とという製造技術上
の課題が存在しコストアップにもつながる。
均粒径0.3μｍ以下の金属酸化物を抵抗制御材として保
護層中に分散させることにより光に対し実質的に透明と
する方法もあるが、実際には0.3μｍ以上の粒子も多く
存在するため、可視光の吸収、散乱が生じ、感光体の感
度が低下する。また、微粒子分散系保護層を持つ感光体
特有の問題として解像度の低下という現像も生じ易い。
さらに微粒子の樹脂中への均一分散とという製造技術上
の課題が存在しコストアップにもつながる。
更に金属酸化物分散型保護層を設けた感光体において
は、感光体のくり返し使用によって保護層上に蓄積され
るNOx等、帯電装置によって発生する種々の化学物質
が、高温高湿時に水分と相互作用し画像ボケが発生する
という感光体にとっては極めて不都合な欠点を有してい
ることが明らかになった。
は、感光体のくり返し使用によって保護層上に蓄積され
るNOx等、帯電装置によって発生する種々の化学物質
が、高温高湿時に水分と相互作用し画像ボケが発生する
という感光体にとっては極めて不都合な欠点を有してい
ることが明らかになった。
［発明が解決しようとする課題］ 本発明は、上記した実情に鑑み、このような欠点を解
消した感光体を提供することを目的とするものであり、
とくに分光透過率にすぐれた表面保護層を有し、高感
度、高帯電性でなおかつ高耐久な（耐摩耗性に富んだ）
電子写真用感光体を提供することを目的とするものであ
る。
消した感光体を提供することを目的とするものであり、
とくに分光透過率にすぐれた表面保護層を有し、高感
度、高帯電性でなおかつ高耐久な（耐摩耗性に富んだ）
電子写真用感光体を提供することを目的とするものであ
る。
又、高温高湿時、画像ボケが発生しない高耐湿性を有
する電子写真感光体を提供することも目的とする。
する電子写真感光体を提供することも目的とする。
［課題を解決するための手段］ 導電性支持体上に、感光層、中間層及び表面保護層を
順次積層した感光体において、前記保護層が酸化スズ粒
子を分散した結着樹脂からなり、その結着樹脂が（ａ）
スチレン−メチルメタクリレート−２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート共重合体（以下、St−MMA−２−HEMA
という）と（ｂ）パーフロロアルキルアクリレート−メ
チルメタクリレート−２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート共重合体（以下、FA−MMA−２−HEMAという）、パ
ーフロロアルキルアクリレート−メチルメタクリレート
−２−ヒドロキシエチルメタクリレート−アクリル酸共
重合体（以下、FA−MMA−２−HEMA−AAという）、およ
びパーフロロアルキルアクリレート−メチルメタクリレ
ート−２−ヒドロキシエチルメタクリレート−スチレン
共重合体（以下、FA−MMA−２−HEMA−Stという）から
なるフッ素含有樹脂の群から選ばれた少くとも１種との
混合物をイソシアネート化合物で硬化させた組成物であ
ることを特徴とする。
順次積層した感光体において、前記保護層が酸化スズ粒
子を分散した結着樹脂からなり、その結着樹脂が（ａ）
スチレン−メチルメタクリレート−２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート共重合体（以下、St−MMA−２−HEMA
という）と（ｂ）パーフロロアルキルアクリレート−メ
チルメタクリレート−２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート共重合体（以下、FA−MMA−２−HEMAという）、パ
ーフロロアルキルアクリレート−メチルメタクリレート
−２−ヒドロキシエチルメタクリレート−アクリル酸共
重合体（以下、FA−MMA−２−HEMA−AAという）、およ
びパーフロロアルキルアクリレート−メチルメタクリレ
ート−２−ヒドロキシエチルメタクリレート−スチレン
共重合体（以下、FA−MMA−２−HEMA−Stという）から
なるフッ素含有樹脂の群から選ばれた少くとも１種との
混合物をイソシアネート化合物で硬化させた組成物であ
ることを特徴とする。
すなわち本発明は、保護層主材料である（ａ）St−MM
A−２−HEMAプレポリマーと（ｂ）以下のモノマー構成
の共重合型FA−MMA−２−HEMA,FA−MMA−２−HEMA−AA
およびFA−MMA−２−HEMA−Stからなるフッ素含有樹脂
の群から選ばれた少くとも１種との混合物を結着樹脂と
することにより結着樹脂の改質をはかり、これにより画
像ボケを改良できることを見い出したことに基づく。
A−２−HEMAプレポリマーと（ｂ）以下のモノマー構成
の共重合型FA−MMA−２−HEMA,FA−MMA−２−HEMA−AA
およびFA−MMA−２−HEMA−Stからなるフッ素含有樹脂
の群から選ばれた少くとも１種との混合物を結着樹脂と
することにより結着樹脂の改質をはかり、これにより画
像ボケを改良できることを見い出したことに基づく。
これら（ｂ）の添加樹脂はFAとMMA−２−HEMAを重合
させた共重合体である。なお、共重合型式はブロック
型、ランダム型のいずれであってもかまわない。
させた共重合体である。なお、共重合型式はブロック
型、ランダム型のいずれであってもかまわない。
ブロック重合型の場合FA重合鎖の分子量は１〜10×10
4、MMA−２−HEMA、MMA−２−HEMA−AA、MMA−２−HEMA
−St共重合鎖の分子量は１〜５×104が適当である。
4、MMA−２−HEMA、MMA−２−HEMA−AA、MMA−２−HEMA
−St共重合鎖の分子量は１〜５×104が適当である。
この添加樹脂は保護層主材料の固形分に対して、通常
0.1〜80wt％好ましくは１〜60wt％添加される。添加樹
脂は塗布時、大部分が表面に集中し、保護層表面を改質
する。
0.1〜80wt％好ましくは１〜60wt％添加される。添加樹
脂は塗布時、大部分が表面に集中し、保護層表面を改質
する。
これにより添加樹脂による主樹脂材料に何ら副作用を
起すことはない。又、上記（ｂ）共重合体は、イソシア
ネート化合物と反応する水酸基を持っているので、主樹
脂材料とともに架橋され保護層表面の改質効果は、より
継続的になる。
起すことはない。又、上記（ｂ）共重合体は、イソシア
ネート化合物と反応する水酸基を持っているので、主樹
脂材料とともに架橋され保護層表面の改質効果は、より
継続的になる。
本願発明におけるパーフロロアルキルアクリレートと
しては、 あるいは 等を挙げることができる。
しては、 あるいは 等を挙げることができる。
以下に、本発明を添付の図面に従がいながらさらに詳
細に説明する。図面第１図において、１は導電性支持
体、２は感光層、３は中間層、４は表面保護層である。
なお、導電性支持体１と感光層２との間には、必要に応
じて下引き層が設けられていてもよい。
細に説明する。図面第１図において、１は導電性支持
体、２は感光層、３は中間層、４は表面保護層である。
なお、導電性支持体１と感光層２との間には、必要に応
じて下引き層が設けられていてもよい。
本発明感光体の各層の材料、組成、機能等について説
明を加えれば次のとおりである。ただし、導電性支持体
１にあっては通常、電子写真感光体で用いられる支持体
は全て使用でき、表面を処理（酸化処理、エッチング
等）したものも使用できる。即ち、導電性支持体１とし
ては、導電体そのもの、あるいは、絶縁体を導電処理し
たものが用いられ、たとえば、ステンレス、Al、Ni、F
e、Mo、Cu、Ti、Auなどの金属あるいは合金；ポリエス
テル、ポリカーボネート、ポリイミドポリアミド、ポリ
プロピレン、ガラスなどの絶縁性基体上にAl、Ag、Au、
Pb、Cuなどの金属あるいはIn2、O3、SnO2などの導電材
料の薄膜を蒸着などの方法で形成したもの；導電処理し
た紙；導電性高分子フィルム等が例示できる。導電性支
持体の形状は特に問わず、板状、ドラム状、エンドレス
ベルト状などであってよい。中でも、強度、耐熱性（蒸
着時基板湿度≧200℃）、加工性、経済性等の点でAl合
金のドラム状支持体が好適である。
明を加えれば次のとおりである。ただし、導電性支持体
１にあっては通常、電子写真感光体で用いられる支持体
は全て使用でき、表面を処理（酸化処理、エッチング
等）したものも使用できる。即ち、導電性支持体１とし
ては、導電体そのもの、あるいは、絶縁体を導電処理し
たものが用いられ、たとえば、ステンレス、Al、Ni、F
e、Mo、Cu、Ti、Auなどの金属あるいは合金；ポリエス
テル、ポリカーボネート、ポリイミドポリアミド、ポリ
プロピレン、ガラスなどの絶縁性基体上にAl、Ag、Au、
Pb、Cuなどの金属あるいはIn2、O3、SnO2などの導電材
料の薄膜を蒸着などの方法で形成したもの；導電処理し
た紙；導電性高分子フィルム等が例示できる。導電性支
持体の形状は特に問わず、板状、ドラム状、エンドレス
ベルト状などであってよい。中でも、強度、耐熱性（蒸
着時基板湿度≧200℃）、加工性、経済性等の点でAl合
金のドラム状支持体が好適である。
感光層２としては、アルモファスシリコン系（ａ−Si
系）、ａ−Si−Ｎ系、ａ−Si−Ｃ系;SeあるいはSeTe、A
sなどとの合金;ZnO、CdS、CdSe等の無機粒子を結着樹脂
中に分散したもの；ポリビニルカルバゾール、トリニト
ロフルオレノン、チアピリリウム塩とポリカーボネート
との共晶錯体等の有機感光材料が用いられる。この感光
層は単層体でも電荷発生層と電荷輸送層との積層体等の
二層以上の積層体であってもよい。なお、感光層２の厚
さは単層型では10〜40μｍ好ましくは15〜20μｍ、積層
型では電荷発生層が500Å〜２μｍ、電荷輸送層が５〜5
0μｍが適当である。
系）、ａ−Si−Ｎ系、ａ−Si−Ｃ系;SeあるいはSeTe、A
sなどとの合金;ZnO、CdS、CdSe等の無機粒子を結着樹脂
中に分散したもの；ポリビニルカルバゾール、トリニト
ロフルオレノン、チアピリリウム塩とポリカーボネート
との共晶錯体等の有機感光材料が用いられる。この感光
層は単層体でも電荷発生層と電荷輸送層との積層体等の
二層以上の積層体であってもよい。なお、感光層２の厚
さは単層型では10〜40μｍ好ましくは15〜20μｍ、積層
型では電荷発生層が500Å〜２μｍ、電荷輸送層が５〜5
0μｍが適当である。
中間層３は表面保護層４と感光層２との接着性を高め
るとともに、帯電電荷を表面保護層４と感光層２との中
間に止めて注入電荷による帯電電位の低下を防止する。
中間層３の材料としては、例えばエポキシ樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ
塩化ビニリデン樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニ
ル、アクリル樹脂、シリコン樹脂、弗素樹脂等の各種の
有機高分子化合物；トリメチルモノメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタ
アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のシランカ
ップリング剤；チタンテトラブトキサイド、アルミニウ
ムトリプロポキサイド、ジルコニウムテトラブトキサイ
ド等の金属アルコキサイド；チタンアセチルアセトネー
ト、ジルコニウムアセチルアセトネート等の金属アセチ
ルアセトン錯体の１種又は２種以上を組み合わせること
により形成される高分子化合物があげられる。中間層３
の厚さは、通常10μｍ以下好ましくは0.1〜1.0μｍ程度
である。
るとともに、帯電電荷を表面保護層４と感光層２との中
間に止めて注入電荷による帯電電位の低下を防止する。
中間層３の材料としては、例えばエポキシ樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ
塩化ビニリデン樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニ
ル、アクリル樹脂、シリコン樹脂、弗素樹脂等の各種の
有機高分子化合物；トリメチルモノメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタ
アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のシランカ
ップリング剤；チタンテトラブトキサイド、アルミニウ
ムトリプロポキサイド、ジルコニウムテトラブトキサイ
ド等の金属アルコキサイド；チタンアセチルアセトネー
ト、ジルコニウムアセチルアセトネート等の金属アセチ
ルアセトン錯体の１種又は２種以上を組み合わせること
により形成される高分子化合物があげられる。中間層３
の厚さは、通常10μｍ以下好ましくは0.1〜1.0μｍ程度
である。
表面保護層４については、透明かつ導電性を有する酸
化スズ（SnO2）を含有させ導電性を付与する。
化スズ（SnO2）を含有させ導電性を付与する。
SnO2微粒子の分散後の平均粒径としては、約0.5μｍ
以下好適には約0.3μｍ以下とすることにより、可視光
に対し実質的に透明な保護層とすることができる。
以下好適には約0.3μｍ以下とすることにより、可視光
に対し実質的に透明な保護層とすることができる。
また、露光時に帯電電荷をすみやかに感光層２を通じ
て導電性支持体１にまで到達させるためには、表面保護
層４の抵抗率を約1010〜1013Ω・cm好ましくは約1011〜
1012Ω・cmとする必要があるが、それを満足するSnO2含
有量は、表面保護層４全体の40〜80重量％望ましくは60
〜70重量％くらいである。
て導電性支持体１にまで到達させるためには、表面保護
層４の抵抗率を約1010〜1013Ω・cm好ましくは約1011〜
1012Ω・cmとする必要があるが、それを満足するSnO2含
有量は、表面保護層４全体の40〜80重量％望ましくは60
〜70重量％くらいである。
主保護層樹脂材料のSt−MMA−２−HEMA共重合体につ
いては、２−HEMAの含有量は15〜45重量％好ましくは25
〜45重量％、更に好ましくは30〜40重量％であり、残り
のSt及びMMAはMMA/St重量比が約9/1〜6/4となるものが
普通用いられる。そして、上記の共重合体（ａ）、
（ｂ）とイソシアネート化合物とを反応させて結着樹脂
を製造する際には、イソシアネート化合物の配合量をNC
O基と共重合体（ａ）及び（ｂ）中のOH基との数の比（N
CO/OH）が0.7〜1.3、好ましくは0.8〜1.3更に好ましく
は1.0〜1.2となるようにするのが望ましい。
いては、２−HEMAの含有量は15〜45重量％好ましくは25
〜45重量％、更に好ましくは30〜40重量％であり、残り
のSt及びMMAはMMA/St重量比が約9/1〜6/4となるものが
普通用いられる。そして、上記の共重合体（ａ）、
（ｂ）とイソシアネート化合物とを反応させて結着樹脂
を製造する際には、イソシアネート化合物の配合量をNC
O基と共重合体（ａ）及び（ｂ）中のOH基との数の比（N
CO/OH）が0.7〜1.3、好ましくは0.8〜1.3更に好ましく
は1.0〜1.2となるようにするのが望ましい。
本発明に使用するイソシアネート化合物としては、ヘ
キサメチレンジイソシアネート［HMDI］、リジンジイソ
シアネート［LDI］、トリメチルヘキサメチレンジイソ
シアネート［TMDI］、ダイマー酸ジイソシアネート［DD
I］などの脂肪族ジイソシアネート;4,4′−メチレンビ
ス（シクロヘキシルイソシアネート）［水素化MDI］、
メチルシクロヘキサン−2,4（2,6）ジイソシアネート
［水素化TDI］、1,3−（イソシアナートメチル）シクロ
ヘキサン［水素化XDI］などの環状脂肪族ジイソシアネ
ート；キシリレンジイソシアネート［XDI］、メタキシ
リレンジイソシアネート［MXDI］、イソホロンジイソシ
アネート［IPDI］などの芳香族性ジイソシアネートなど
のジイソシアネートモノマーがあげられる。
キサメチレンジイソシアネート［HMDI］、リジンジイソ
シアネート［LDI］、トリメチルヘキサメチレンジイソ
シアネート［TMDI］、ダイマー酸ジイソシアネート［DD
I］などの脂肪族ジイソシアネート;4,4′−メチレンビ
ス（シクロヘキシルイソシアネート）［水素化MDI］、
メチルシクロヘキサン−2,4（2,6）ジイソシアネート
［水素化TDI］、1,3−（イソシアナートメチル）シクロ
ヘキサン［水素化XDI］などの環状脂肪族ジイソシアネ
ート；キシリレンジイソシアネート［XDI］、メタキシ
リレンジイソシアネート［MXDI］、イソホロンジイソシ
アネート［IPDI］などの芳香族性ジイソシアネートなど
のジイソシアネートモノマーがあげられる。
上記のイソシアネート化合物と多価アルコールとをは
んのうさせたポリイソシアネートも使用できる。更に、
目的に応じて、変性されたポリイソシアネートを用いて
もよい。
んのうさせたポリイソシアネートも使用できる。更に、
目的に応じて、変性されたポリイソシアネートを用いて
もよい。
多価アルコールとしてトリメチロールプロパン［TM
P］を選択し、ジイソシアネートとしてHMDI又は水素化I
PDIを選択し、これらを反応させたポリイソシアネート
もあげられる。
P］を選択し、ジイソシアネートとしてHMDI又は水素化I
PDIを選択し、これらを反応させたポリイソシアネート
もあげられる。
同様にイソシアネート重合体が挙げられる。例えば、
HMDI3モルの水１モル付加物もあげられる。
HMDI3モルの水１モル付加物もあげられる。
HMDIイソシアヌレート、IPDIイソシアヌレートがあげ
られる。
られる。
イソシアネート化合物で架橋される樹脂の分子量は数
平均で、2,000〜200,000好ましくは10,000〜40,000であ
る。
平均で、2,000〜200,000好ましくは10,000〜40,000であ
る。
表面保護層４の膜厚としては１〜30μｍ好ましくは３
〜６μｍが適当である。なお、表面保護層４中には分散
性、接着性あるいは平滑性を向上させることを意図して
種々の添加剤が適当量加えられてもよい。
〜６μｍが適当である。なお、表面保護層４中には分散
性、接着性あるいは平滑性を向上させることを意図して
種々の添加剤が適当量加えられてもよい。
かくして製造された電子写真感光体は、乾式及び湿式
複写機に使用できるだけでなく、NIP（ノンインパクト
プリンター）にも適用可能である。
複写機に使用できるだけでなく、NIP（ノンインパクト
プリンター）にも適用可能である。
次に、実施例及び比較例を示す。ここでの部、％はと
もに重量基準である。
もに重量基準である。
比較例 Alシリンダー上に、As2Se3蒸着膜を厚さ約60μｍに設
けて感光層を形成した。これを電子写真特性評価機を用
いて正帯電し露光したところ、帯電電位は480V、暗時20
秒後の帯電電位は195V、露光後30秒の帯電電位は０ボル
トであった。
けて感光層を形成した。これを電子写真特性評価機を用
いて正帯電し露光したところ、帯電電位は480V、暗時20
秒後の帯電電位は195V、露光後30秒の帯電電位は０ボル
トであった。
暗減衰比（D,D）は0.406であった。
次にこの感光層上に、ジルコニウムアセチルアセトン
２部、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン１部及びｎ−ブタノール40部からなる混合液を塗布
後、100℃２時間乾燥して約2,000Å厚の中間層を設け
た。
２部、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン１部及びｎ−ブタノール40部からなる混合液を塗布
後、100℃２時間乾燥して約2,000Å厚の中間層を設け
た。
一方、スチレン（st）〜メチルメタクリレート（MM
A）〜２−ヒドロキシエチルメタクリレート（２−HEM
A）の共重合体溶液と酸化スズ粒子（三菱金属社製）と
溶媒とを用意した。共重合体のモノマー構成はSt−MMA
−２−HEMA＝14/56/30（重量比）であり、溶媒はトルエ
ンとセロソルブアセテートとメチルイソブチルケトンと
の混合溶媒を用いた。
A）〜２−ヒドロキシエチルメタクリレート（２−HEM
A）の共重合体溶液と酸化スズ粒子（三菱金属社製）と
溶媒とを用意した。共重合体のモノマー構成はSt−MMA
−２−HEMA＝14/56/30（重量比）であり、溶媒はトルエ
ンとセロソルブアセテートとメチルイソブチルケトンと
の混合溶媒を用いた。
この原材料を 前記St/MMA/2−HEMA共重合体溶液（固形分） 120部 酸化スズ粒子 300部 混合溶媒 850部 の割合で配合し150時間ボールミル分散した。続いて、
ミルベースと希釈用樹脂液（上記共重合体樹脂、濃度約
10％）とHMDI系ポリイソシアネート（スミジュールHT、
住友バイエルウレタン社製）とを、塗布液中の酸化スズ
の粒子と樹脂固形分の割合が6:4、イソシアネート基と
水酸基の数の比が1:1になるように混合して表面保護層
形成液を調整した。これを、中間層まで積層した感光体
にディッピング塗布し、130℃で１時間乾燥して前記の
共重合体とイソシアネート化合物とを反応させ約５μｍ
厚の表面保護層（酸化スズを含有した樹脂層）を有する
比較の電子写真感光体を作成した。
ミルベースと希釈用樹脂液（上記共重合体樹脂、濃度約
10％）とHMDI系ポリイソシアネート（スミジュールHT、
住友バイエルウレタン社製）とを、塗布液中の酸化スズ
の粒子と樹脂固形分の割合が6:4、イソシアネート基と
水酸基の数の比が1:1になるように混合して表面保護層
形成液を調整した。これを、中間層まで積層した感光体
にディッピング塗布し、130℃で１時間乾燥して前記の
共重合体とイソシアネート化合物とを反応させ約５μｍ
厚の表面保護層（酸化スズを含有した樹脂層）を有する
比較の電子写真感光体を作成した。
実施例１〜10 比較例の表面保護形成液に表−１のフッ素含有樹脂を
ミルベースが含有するSt−MMA−２−HEMAに対して表−
２の様に添加した。更に、これら２種の架橋される高分
子が含有するOHの総量に対してイソシアネート基と水酸
基の数の比が1:1になるようにポリイソシアネートを混
合して保護層を有する感光体ドラムを作成した。これ以
外の作成条件は比較例と同じ である。この感光体を高速複写機にセットし、22℃、60
％RHの環境下にて、３万枚の連続複写動作をさせコピー
サンプルを得た。次に30℃、90％RHのもとでコピーサン
プルを得た。表−２にこれらの画像評価結果をまとめ
た。
ミルベースが含有するSt−MMA−２−HEMAに対して表−
２の様に添加した。更に、これら２種の架橋される高分
子が含有するOHの総量に対してイソシアネート基と水酸
基の数の比が1:1になるようにポリイソシアネートを混
合して保護層を有する感光体ドラムを作成した。これ以
外の作成条件は比較例と同じ である。この感光体を高速複写機にセットし、22℃、60
％RHの環境下にて、３万枚の連続複写動作をさせコピー
サンプルを得た。次に30℃、90％RHのもとでコピーサン
プルを得た。表−２にこれらの画像評価結果をまとめ
た。
初期画像と長時間くり返し複写後の画像の解像力（1m
m当りの解像ライン数で表す）を画質評価に用いた。
m当りの解像ライン数で表す）を画質評価に用いた。
画像ボケは、解像力の著しい低下として現れる。
実施例10〜20 表−３の様にプレポリマーとフッ素含有樹脂を用い
て、保護層を有する感光体ドラムを作成し、実施例１〜
10と同様の評価をおこなった。
て、保護層を有する感光体ドラムを作成し、実施例１〜
10と同様の評価をおこなった。
実施例13〜15と18〜20では、イソシアネート化合物に
各々ヘキサメチレンジイソシアネート（HMDI）リジンジ
イソシアネート（LDI）、トリメチロールプロパンとイ
リホロジンイソシアネートの反応物からなるポリイソシ
アネート（IPDI,TMP）を用いて反応硬化をさせた。実施
例11、12、16、17では比較例と同じポリイソシアネート
を用いた。
各々ヘキサメチレンジイソシアネート（HMDI）リジンジ
イソシアネート（LDI）、トリメチロールプロパンとイ
リホロジンイソシアネートの反応物からなるポリイソシ
アネート（IPDI,TMP）を用いて反応硬化をさせた。実施
例11、12、16、17では比較例と同じポリイソシアネート
を用いた。
実施例21〜30 比較例の保護層形成液に表−１のフッ素含有樹脂を下
表−４に示す様に添加して、保護層を有する感光体ドラ
ムを作成し、実施例１〜10と同様の評価を行った。
表−４に示す様に添加して、保護層を有する感光体ドラ
ムを作成し、実施例１〜10と同様の評価を行った。
実施例31〜40 表−５のようにプレポリマーとフッ素含有樹脂を用い
て保護層を有する感光体ドラムを作成し、実施例１〜10
と同様の評価を行った。
て保護層を有する感光体ドラムを作成し、実施例１〜10
と同様の評価を行った。
実施例33〜35、38〜40では、イソシアネート化合物に
ヘキサメチレンジイソシアネート（HMDI），リジンジイ
ソシアネート（LDI）、トリメチロールプロパンとイソ
ホロンジイソシアネートの反応物からなるポリイソシア
ネート（IPDI,TMP）を用いて、反応硬化させた。
ヘキサメチレンジイソシアネート（HMDI），リジンジイ
ソシアネート（LDI）、トリメチロールプロパンとイソ
ホロンジイソシアネートの反応物からなるポリイソシア
ネート（IPDI,TMP）を用いて、反応硬化させた。
実施例41〜50 比較例の保護層形成液に表−１のフッ素含有樹脂を下
表−６に示す様に添加して、保護層を有する感光体ドラ
ムを作成し、実施例１〜５と同様に画像評価した。
表−６に示す様に添加して、保護層を有する感光体ドラ
ムを作成し、実施例１〜５と同様に画像評価した。
実施例51〜60 表−７の様にプレポリマーとフッ素含有樹脂を用いて
保護層を有する感光体ドラムを作成し、実施例１〜10と
同様の評価を行った。
保護層を有する感光体ドラムを作成し、実施例１〜10と
同様の評価を行った。
実施例53〜55、58〜60では、イソシアネート化合物
に、ヘキサメチレンジイソシアネート（HMDI），リジン
ジイソシアネート（LDI）、トリメチロールプロパンと
イソホロンジイソシアネートの反応物からなるポリイソ
シアネート（IPDI,TMP）を用いて反応硬化させた。
に、ヘキサメチレンジイソシアネート（HMDI），リジン
ジイソシアネート（LDI）、トリメチロールプロパンと
イソホロンジイソシアネートの反応物からなるポリイソ
シアネート（IPDI,TMP）を用いて反応硬化させた。
［効果］ 実施例と比較例から明らかの様に（ａ）スチレン〜メ
チルメタクリレート−２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート共重合体と（ｂ）パーフロロアルキルアクリレート
〜メチルメタクリレート〜２−ヒドロキシエチルメタク
リレート、パーフロロアルキルアクリレート−メチルメ
タクリレート−２−ヒドロキシエチルアクリレート−ア
クリル酸およびパーフロロアルキルアクリレート−メチ
ルメタクリレート−２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト−スチレンの共重合体からなるフッ素含有樹脂の群か
ら選ばれた少くとも１種との混合物とイソシアネート化
合物からなる硬化物を結着剤としてSnO2粒子を分散した
保護層を有する感光体は長期複写動作後においても画像
ボケを発生することもなくすぐれた画像品質を維持する
ことがわかる。
チルメタクリレート−２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート共重合体と（ｂ）パーフロロアルキルアクリレート
〜メチルメタクリレート〜２−ヒドロキシエチルメタク
リレート、パーフロロアルキルアクリレート−メチルメ
タクリレート−２−ヒドロキシエチルアクリレート−ア
クリル酸およびパーフロロアルキルアクリレート−メチ
ルメタクリレート−２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト−スチレンの共重合体からなるフッ素含有樹脂の群か
ら選ばれた少くとも１種との混合物とイソシアネート化
合物からなる硬化物を結着剤としてSnO2粒子を分散した
保護層を有する感光体は長期複写動作後においても画像
ボケを発生することもなくすぐれた画像品質を維持する
ことがわかる。
第１図は本発明の感光体層構成を説明する図。 １…導電性支持体、２…感光層 ３…中間層、４…表面保護層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 六反園 節 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株 式会社リコー内 (72)発明者 永目 宏 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株 式会社リコー内 (72)発明者 井手 由起雄 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株 式会社リコー内 (72)発明者 瀬戸 満 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株 式会社リコー内 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03G 5/147
Claims (2)
- 【請求項１】導電性支持体上に、感光層、中間層及び表
面保護層を順次積層した感光体において、前記保護層が
酸化スズ粒子を分散した結着樹脂からなり、その結着樹
脂が（ａ）スチレン−メチルメタクリレート−２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート共重合体と（ｂ）パーフロ
ロアルキルアクリレート−メチルメタクリレート−２−
ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、パーフロロ
アルキルアクリレート−メチルメタクリレート−２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート−アクリル酸共重合体、
およびパーフロロアルキルアクリレート−メチルメタク
リレート−２−ヒドロキシエチルメタクリレート−スチ
レン共重合体からなるフッ素含有樹脂の群から選ばれた
少くとも１種との混合物をイソシアネート化合物で硬化
させた組成物であることを特徴とする電子写真感光体。 - 【請求項２】第１項に示した保護層においてｂの固形分
割合［b/（ａ＋ｂ）］が0.1wt％から80wt％であること
を特徴とする第１項記載の電子写真用感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20557189A JP2801664B2 (ja) | 1988-09-05 | 1989-08-10 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22042888 | 1988-09-05 | ||
| JP63-220428 | 1988-09-05 | ||
| JP20557189A JP2801664B2 (ja) | 1988-09-05 | 1989-08-10 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02176666A JPH02176666A (ja) | 1990-07-09 |
| JP2801664B2 true JP2801664B2 (ja) | 1998-09-21 |
Family
ID=26515128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20557189A Expired - Lifetime JP2801664B2 (ja) | 1988-09-05 | 1989-08-10 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2801664B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0488350A (ja) * | 1990-08-01 | 1992-03-23 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体 |
| JPH0572783A (ja) * | 1991-04-12 | 1993-03-26 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体 |
| DE69606687T2 (de) * | 1995-11-24 | 2000-07-06 | Canon Kk | Elektrophotographisches, lichtempfindliches Element und es umfassende Prozesskassette und elektrophotographischer Apparat |
| JP4547830B2 (ja) * | 2001-04-20 | 2010-09-22 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体及びその製造方法、並びに電子写真感光体を用いた電子写真プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
| JP2008139824A (ja) * | 2006-10-25 | 2008-06-19 | Seiko Epson Corp | 感光体、感光体カートリッジ及び画像形成装置 |
| WO2008053904A1 (fr) | 2006-10-31 | 2008-05-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Corps électrophotographique photosensible, son procédé de fabrication, cartouche de traitement et dispositif électrophotographique |
| US7763405B2 (en) * | 2007-03-23 | 2010-07-27 | Xerox Corporation | Photoconductors containing fluorinated components |
| JP6146432B2 (ja) * | 2015-03-26 | 2017-06-14 | コニカミノルタ株式会社 | 電子写真感光体 |
-
1989
- 1989-08-10 JP JP20557189A patent/JP2801664B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02176666A (ja) | 1990-07-09 |
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