JP2786768B2 - 光学活性な含フッ素化合物 - Google Patents
光学活性な含フッ素化合物Info
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- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
- C09K19/3402—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having oxygen as hetero atom
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P35/00—Antineoplastic agents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
- C07D309/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D309/08—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D309/10—Oxygen atoms
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- C09K2019/3422—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having oxygen as hetero atom the heterocyclic ring being a six-membered ring
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学活性な含フッ素化
合物に関し、詳しくは、様々な化学薬品，工業薬品，強
誘電性液晶などの原料として有用な光学活性な含フッ素
化合物に関する。
合物に関し、詳しくは、様々な化学薬品，工業薬品，強
誘電性液晶などの原料として有用な光学活性な含フッ素
化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
液晶の利用が増大するとともに新しい構造を有する液晶
の開発が求められている。これまでに、本発明者らの研
究グループは、これら液晶として利用できる様々な光学
活性な含フッ素化合物を開発することに成功している
（特開昭６４−８３０７４号公報，特開平１−１６３１
４３号公報，同１−２３３２４３号公報，同１−２３３
２４４号公報，同２−４９７４３号公報，同２−１６７
２５２号公報，同２−２３２２０８号公報，同２−２３
２２０９号公報等）。このような状況下で本発明者ら
は、さらに新たなタイプの液晶として有望なテトラヒド
ロピラン環を有する新規な光学活性化合物を開発するこ
とを目的として鋭意研究を重ねた。
液晶の利用が増大するとともに新しい構造を有する液晶
の開発が求められている。これまでに、本発明者らの研
究グループは、これら液晶として利用できる様々な光学
活性な含フッ素化合物を開発することに成功している
（特開昭６４−８３０７４号公報，特開平１−１６３１
４３号公報，同１−２３３２４３号公報，同１−２３３
２４４号公報，同２−４９７４３号公報，同２−１６７
２５２号公報，同２−２３２２０８号公報，同２−２３
２２０９号公報等）。このような状況下で本発明者ら
は、さらに新たなタイプの液晶として有望なテトラヒド
ロピラン環を有する新規な光学活性化合物を開発するこ
とを目的として鋭意研究を重ねた。
【０００３】
【課題を解決するための手段】その結果、テトラヒドロ
ピラン環上の不斉炭素原子に、それ自体大きな電子吸引
性を有するフルオロアルキル基を有する新規化合物が、
上記目的に適うものであることを見出した。本発明は、
かかる知見に基づいて完成したものである。すなわち、
本発明は、下記一般式（Ｉ）
ピラン環上の不斉炭素原子に、それ自体大きな電子吸引
性を有するフルオロアルキル基を有する新規化合物が、
上記目的に適うものであることを見出した。本発明は、
かかる知見に基づいて完成したものである。すなわち、
本発明は、下記一般式（Ｉ）
【０００４】
【化２】
【０００５】〔式中、Ｒｆは炭素数１又は２のフルオロ
アルキル基を示し、Ｒ1 ，Ｒ2 及びＲ 3 はそれぞれ独立
に水素，炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキル基，
炭素数２〜１５のアルケニル基又は炭素数７〜１０のア
ラルキル基を示し、＊は不斉炭素を示す。〕で表される
光学活性な含フッ素化合物を提供するものである。
アルキル基を示し、Ｒ1 ，Ｒ2 及びＲ 3 はそれぞれ独立
に水素，炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキル基，
炭素数２〜１５のアルケニル基又は炭素数７〜１０のア
ラルキル基を示し、＊は不斉炭素を示す。〕で表される
光学活性な含フッ素化合物を提供するものである。
【０００６】一般式（Ｉ）において、上記のようにＲｆ
は炭素数１又は２のフルオロアルキル基を示し、具体的
にはトリフルオロメチル基，ジフルオロメチル基，クロ
ロジフルオロメチル基，ペンタフルオロエチル基などで
あり、好ましくはトリフルオロメチル基である。
は炭素数１又は２のフルオロアルキル基を示し、具体的
にはトリフルオロメチル基，ジフルオロメチル基，クロ
ロジフルオロメチル基，ペンタフルオロエチル基などで
あり、好ましくはトリフルオロメチル基である。
【０００７】また、Ｒ1 ，Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ独立
に水素原子，炭素数１〜１５の直鎖若しくは分岐鎖アル
キル基，炭素数２〜１５のアルケニル基又は炭素数７〜
１０のアラルキル基を示す。ここで、炭素数１〜１５の
直鎖若しくは分岐鎖アルキルとしては、例えばメチル
基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−
ブチル基，sec −ブチル基，tert−ブチル基，ｎ−ペン
チル基，イソペンチル基，１−メチルブチル基，ｎ−ヘ
キシル基，ｎ−ヘプチル基，１−メチルヘプチル基，ｎ
−オクチル基，１−エチルヘプチル基，１−メチルオク
チル基，ｎ−ノニル基，１−エチルオクチル基，１−メ
チルノニル基，ｎ−デシル基，ｎ−ウンデシル基，ｎ−
ドデシル基，ｎ−トリデシル基，ｎ−テトラデシル基，
ｎ−ペンタデシル基などが挙げられる。
に水素原子，炭素数１〜１５の直鎖若しくは分岐鎖アル
キル基，炭素数２〜１５のアルケニル基又は炭素数７〜
１０のアラルキル基を示す。ここで、炭素数１〜１５の
直鎖若しくは分岐鎖アルキルとしては、例えばメチル
基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−
ブチル基，sec −ブチル基，tert−ブチル基，ｎ−ペン
チル基，イソペンチル基，１−メチルブチル基，ｎ−ヘ
キシル基，ｎ−ヘプチル基，１−メチルヘプチル基，ｎ
−オクチル基，１−エチルヘプチル基，１−メチルオク
チル基，ｎ−ノニル基，１−エチルオクチル基，１−メ
チルノニル基，ｎ−デシル基，ｎ−ウンデシル基，ｎ−
ドデシル基，ｎ−トリデシル基，ｎ−テトラデシル基，
ｎ−ペンタデシル基などが挙げられる。
【０００８】また、炭素数２〜１５のアルケニル基とし
ては、ビニル基，アリル基，１−プロペニル基，イソプ
ロペニル基，１−ブテニル基，２−ブテニル基，２−メ
チルアリル基，１−ペンテニル基，１−ヘキセニル基，
１−ヘプテニル基，１−オクテニル基，２−オクテニル
基，１−ノネニル基，２−ノネニル基，１−デセニル
基，２−デセニル基，１−ウンデセニル基，２−ウンデ
セニル基，１−ドデセニル基，２−ドデセニル基，１−
トリデセニル基，２−トリデセニル基，１−テトラデセ
ニル基，２−テトラデセニル基，１−ペンタデセニル
基，２−ペンタデセニル基などが挙げられる。さらに、
炭素数７〜１０のアラルキル基としては、ベンジル基，
フェネチル基，フェニルプロピル基，フェニルブチル基
などが挙げられる。
ては、ビニル基，アリル基，１−プロペニル基，イソプ
ロペニル基，１−ブテニル基，２−ブテニル基，２−メ
チルアリル基，１−ペンテニル基，１−ヘキセニル基，
１−ヘプテニル基，１−オクテニル基，２−オクテニル
基，１−ノネニル基，２−ノネニル基，１−デセニル
基，２−デセニル基，１−ウンデセニル基，２−ウンデ
セニル基，１−ドデセニル基，２−ドデセニル基，１−
トリデセニル基，２−トリデセニル基，１−テトラデセ
ニル基，２−テトラデセニル基，１−ペンタデセニル
基，２−ペンタデセニル基などが挙げられる。さらに、
炭素数７〜１０のアラルキル基としては、ベンジル基，
フェネチル基，フェニルプロピル基，フェニルブチル基
などが挙げられる。
【０００９】本発明による一般式（Ｉ）の化合物は、様
々な方法で製造することができるが、例えば以下の工程
により製造することができる。例えば、 （１）Ｒｆ＝ＣＦ3 ，Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝水素の場合： 反応ａ フランをシリル化して下記一般式（II)
々な方法で製造することができるが、例えば以下の工程
により製造することができる。例えば、 （１）Ｒｆ＝ＣＦ3 ，Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝水素の場合： 反応ａ フランをシリル化して下記一般式（II)
【００１０】
【化３】
【００１１】〔式中、ＴＭＳはトリメチルシリル基を示
す。〕で表される化合物を得、この化合物をさらにトリ
フルオロアセチル化して下記一般式（III)
す。〕で表される化合物を得、この化合物をさらにトリ
フルオロアセチル化して下記一般式（III)
【００１２】
【化４】
【００１３】で表される化合物を得る。この反応はテト
ラヒドロフラン，ジエチルエーテル等の溶媒を用い、有
機リチウム化合物、例えばｎ−ブチルリチウムとトリメ
チルシリルクロリドを用いてシリル化した後、上記のｎ
−ブチルリチウムとトリフルオロ酢酸エチルを用いてト
リフルオロアセチル化することにより、−７８℃〜０℃
の温度で行うことができる。 反応ｂ 得られた一般式（III)の化合物を常法により還元して下
記一般式（IV)
ラヒドロフラン，ジエチルエーテル等の溶媒を用い、有
機リチウム化合物、例えばｎ−ブチルリチウムとトリメ
チルシリルクロリドを用いてシリル化した後、上記のｎ
−ブチルリチウムとトリフルオロ酢酸エチルを用いてト
リフルオロアセチル化することにより、−７８℃〜０℃
の温度で行うことができる。 反応ｂ 得られた一般式（III)の化合物を常法により還元して下
記一般式（IV)
【００１４】
【化５】
【００１５】〔式中、ＴＭＳは前記と同じである。〕で
表される化合物を得る。この反応は還元剤として例えば
水素化ホウ素ナトリウム，水素化アルミニウムリチウ
ム，塩化第二錫等を用いて行うことができる。得られた
一般式（IV) の化合物を酸クロリドと反応させてアシル
化する。ここでアシル化剤として用いる酸クロリドは具
体的には、塩化アセチル，塩化プロピオニル，塩化イソ
ブチロイル，塩化オクタノイル，塩化ベンゾイル等であ
る。 反応ｃ 得られた下記一般式（Ｖ）
表される化合物を得る。この反応は還元剤として例えば
水素化ホウ素ナトリウム，水素化アルミニウムリチウ
ム，塩化第二錫等を用いて行うことができる。得られた
一般式（IV) の化合物を酸クロリドと反応させてアシル
化する。ここでアシル化剤として用いる酸クロリドは具
体的には、塩化アセチル，塩化プロピオニル，塩化イソ
ブチロイル，塩化オクタノイル，塩化ベンゾイル等であ
る。 反応ｃ 得られた下記一般式（Ｖ）
【００１６】
【化６】
【００１７】〔式中、Ｒ’ＣＯはアシル基を示す。〕で
表される化合物を酵素を用いて不斉加水分解することに
より下記一般式（VI)
表される化合物を酵素を用いて不斉加水分解することに
より下記一般式（VI)
【００１８】
【化７】
【００１９】〔式中、ＴＭＳおよび＊は前記と同じであ
る。〕で表される光学活性なアルコール及び下記一般式
（VIa)
る。〕で表される光学活性なアルコール及び下記一般式
（VIa)
【００２０】
【化８】
【００２１】〔式中、Ｒ’ＣＯ，ＴＭＳおよび＊は前記
と同じである。〕で表される光学活性なエステルを得
る。この反応に用いる酵素としては、いわゆる加水分解
酵素であれば各種のものを用いることができ、例えばリ
パーゼＰＳ，リパーゼＭＹ，リパーゼＯＦ，セルラーゼ
等が挙げられる。上記の一般式（VIa)で表されるエステ
ルは、化学的加水分解及び別の酵素による不斉加水分解
により、一般式（VI) で表されるアルコールと鏡像体の
関係にある光学活性アルコールに変換することができ
る。 反応ｄ 次に、このようにして得られた一般式（VI) で表される
アルコールをシリル化して下記一般式（VII)
と同じである。〕で表される光学活性なエステルを得
る。この反応に用いる酵素としては、いわゆる加水分解
酵素であれば各種のものを用いることができ、例えばリ
パーゼＰＳ，リパーゼＭＹ，リパーゼＯＦ，セルラーゼ
等が挙げられる。上記の一般式（VIa)で表されるエステ
ルは、化学的加水分解及び別の酵素による不斉加水分解
により、一般式（VI) で表されるアルコールと鏡像体の
関係にある光学活性アルコールに変換することができ
る。 反応ｄ 次に、このようにして得られた一般式（VI) で表される
アルコールをシリル化して下記一般式（VII)
【００２２】
【化９】
【００２３】〔式中、ＴＢＤＭＳはｔ−ブチルジメチル
シリル基を示す。ＴＭＳおよび＊は前記と同じであ
る。〕で表される化合物を得る。この反応はシリル化剤
としてｔ−ブチルジメチルシリルクロリドを用いて行う
ことができる。 反応ｅ 得られた一般式（VII)で表されるシリル誘導体を酸化し
て下記一般式（VIII)
シリル基を示す。ＴＭＳおよび＊は前記と同じであ
る。〕で表される化合物を得る。この反応はシリル化剤
としてｔ−ブチルジメチルシリルクロリドを用いて行う
ことができる。 反応ｅ 得られた一般式（VII)で表されるシリル誘導体を酸化し
て下記一般式（VIII)
【００２４】
【化１０】
【００２５】〔式中、ＴＢＤＭＳ及び＊は前記と同じで
ある。〕で表される化合物を得る。この反応は、酸化剤
として、例えばモノパーオキシフタル酸マグネシウム
塩，過酸化水素を用いて酢酸，クロロホルム等の溶媒中
で行うことができる。また、この反応では、ジアステレ
オマー混合物を得るが、これらの化合物はシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより容易に分離することがで
きる。 反応ｆ 得られた一般式（VIII) で表される化合物を常法により
水素添加して、下記一般式（IX)
ある。〕で表される化合物を得る。この反応は、酸化剤
として、例えばモノパーオキシフタル酸マグネシウム
塩，過酸化水素を用いて酢酸，クロロホルム等の溶媒中
で行うことができる。また、この反応では、ジアステレ
オマー混合物を得るが、これらの化合物はシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより容易に分離することがで
きる。 反応ｆ 得られた一般式（VIII) で表される化合物を常法により
水素添加して、下記一般式（IX)
【００２６】
【化１１】
【００２７】〔式中、ＴＢＤＭＳ及び＊は前記と同じで
ある。〕で表される化合物を得る。ここで、水素添加
は、溶媒として例えばエタノール，メタノール，ヘキサ
ン，酢酸エチル，ベンゼン，トルエン等を用い、触媒と
してパラジウム・チャコールを用いて水素雰囲気下で行
うことができる。 反応ｇ 得られた一般式（IX) で表されるラクトン誘導体を還元
して下記一般式（Ｘ)
ある。〕で表される化合物を得る。ここで、水素添加
は、溶媒として例えばエタノール，メタノール，ヘキサ
ン，酢酸エチル，ベンゼン，トルエン等を用い、触媒と
してパラジウム・チャコールを用いて水素雰囲気下で行
うことができる。 反応ｇ 得られた一般式（IX) で表されるラクトン誘導体を還元
して下記一般式（Ｘ)
【００２８】
【化１２】
【００２９】〔式中、ＴＢＤＭＳ及び＊は前記と同じで
ある。〕で表される化合物を得る。ここで、還元剤とし
ては例えば、水素化ジイソブチルアルミニウムを用い
て、ジエチルエーテル，テトラヒドロフラン等の溶媒
中、−２０〜−７８℃で行うことができる。 反応ｈ 次いで、このようにして得られた一般式（Ｘ) で表され
るγ−ラクトールを塩基で処理して下記一般式（XI)
ある。〕で表される化合物を得る。ここで、還元剤とし
ては例えば、水素化ジイソブチルアルミニウムを用い
て、ジエチルエーテル，テトラヒドロフラン等の溶媒
中、−２０〜−７８℃で行うことができる。 反応ｈ 次いで、このようにして得られた一般式（Ｘ) で表され
るγ−ラクトールを塩基で処理して下記一般式（XI)
【００３０】
【化１３】
【００３１】〔式中、ＴＢＤＭＳ及び＊は前記と同じで
ある。〕で表される化合物を得る。この反応は、塩基と
してカリウム−ｔ−ブトキシド等を用いて、ジエチルエ
ーテル，テトラヒドロフラン等の溶媒中、−２０〜−７
８℃で行うことができる。 反応ｉ 得られた一般式（XI) で表されるδ−ラクトールを酸触
媒下で一般式Ｒ1 ＯＨ（式中、Ｒ1 は前記と同じであ
る。）で表されるアルコールと反応させ下記一般式（XI
I)
ある。〕で表される化合物を得る。この反応は、塩基と
してカリウム−ｔ−ブトキシド等を用いて、ジエチルエ
ーテル，テトラヒドロフラン等の溶媒中、−２０〜−７
８℃で行うことができる。 反応ｉ 得られた一般式（XI) で表されるδ−ラクトールを酸触
媒下で一般式Ｒ1 ＯＨ（式中、Ｒ1 は前記と同じであ
る。）で表されるアルコールと反応させ下記一般式（XI
I)
【００３２】
【化１４】
【００３３】（式中、Ｒ1 ，ＴＢＤＭＳ及び＊は前記と
同じである。）で表される化合物を得る。この反応は、
アルコール溶媒中、酸触媒として例えばパラトルエンス
ルホン酸等を用いて０〜５０℃で行うことができる。 反応ｊ さらに、得られた一般式（XII)で表される化合物の脱シ
リル化を行えば、下記一般式（XIII)
同じである。）で表される化合物を得る。この反応は、
アルコール溶媒中、酸触媒として例えばパラトルエンス
ルホン酸等を用いて０〜５０℃で行うことができる。 反応ｊ さらに、得られた一般式（XII)で表される化合物の脱シ
リル化を行えば、下記一般式（XIII)
【００３４】
【化１５】
【００３５】（式中、Ｒ1 及び＊は前記と同じであ
る。）で表される目的の光学活性な含フッ素化合物を得
ることができる。この脱シリル化は、例えばテトラヒド
ロフラン溶媒中、触媒としてテトラ−ｎ−ブチルアンモ
ニウムフルオライドを用い、０〜５０℃で行うことがで
きる。なお、前記一般式（Ｘ) を得る反応で生成する２
種類のジアステレオマーは、この段階において、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより容易に分離するこ
とができる。
る。）で表される目的の光学活性な含フッ素化合物を得
ることができる。この脱シリル化は、例えばテトラヒド
ロフラン溶媒中、触媒としてテトラ−ｎ−ブチルアンモ
ニウムフルオライドを用い、０〜５０℃で行うことがで
きる。なお、前記一般式（Ｘ) を得る反応で生成する２
種類のジアステレオマーは、この段階において、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより容易に分離するこ
とができる。
【００３６】（２）Ｒｆ＝ＣＦ3 ，Ｒ3 ＝水素の場合：
上記（１）反応ｆで得られた一般式（IX) で表される化
合物を一般式Ｒ2 Ｘ（式中、Ｒ2 は前記と同じである。
Ｘはハロゲンを示す。）で表されるアルキルハライド，
アラルキルハライドまたはアルケニルハライド等と反応
させて、下記一般式（XIV)
上記（１）反応ｆで得られた一般式（IX) で表される化
合物を一般式Ｒ2 Ｘ（式中、Ｒ2 は前記と同じである。
Ｘはハロゲンを示す。）で表されるアルキルハライド，
アラルキルハライドまたはアルケニルハライド等と反応
させて、下記一般式（XIV)
【００３７】
【化１６】
【００３８】（式中、Ｒ2 ，ＴＢＤＭＳ及び＊は前記と
同じである。）で表される化合物を得る。この反応は、
テトラヒドロフラン，エーテル等の溶媒中、−７８℃で
ｎ−ブチルリチウムと有機塩基（ヘキサメチルジシラザ
ン，ジイソプロピルアミン等）を用いて行うことができ
る。次に、得られた一般式（XIV)で表される化合物を上
記（１）反応ｇ以降に組み込むことによって、下記一般
式（XV)
同じである。）で表される化合物を得る。この反応は、
テトラヒドロフラン，エーテル等の溶媒中、−７８℃で
ｎ−ブチルリチウムと有機塩基（ヘキサメチルジシラザ
ン，ジイソプロピルアミン等）を用いて行うことができ
る。次に、得られた一般式（XIV)で表される化合物を上
記（１）反応ｇ以降に組み込むことによって、下記一般
式（XV)
【００３９】
【化１７】
【００４０】（式中、Ｒ1 ，Ｒ2 及び＊は前記と同じで
ある。）で表される目的の光学活性な含フッ素化合物を
得ることができる。
ある。）で表される目的の光学活性な含フッ素化合物を
得ることができる。
【００４１】（３）Ｒｆ＝ＣＦ3 ，Ｒ2 ＝水素の場合：
上記（１）反応ｅで得られた一般式（VIII）で表される
化合物を一般式、Ｒ3 Ｘ（式中、Ｒ3 は前記と同じであ
る。Ｘはハロゲンを示す。）で表されるアルキルハライ
ド，アラルキルハライドまたはアルケニルハライド等と
反応させて、下記一般式（XVI)
上記（１）反応ｅで得られた一般式（VIII）で表される
化合物を一般式、Ｒ3 Ｘ（式中、Ｒ3 は前記と同じであ
る。Ｘはハロゲンを示す。）で表されるアルキルハライ
ド，アラルキルハライドまたはアルケニルハライド等と
反応させて、下記一般式（XVI)
【００４２】
【化１８】
【００４３】（式中、Ｒ3 ，ＴＢＤＭＳ及び＊は前記と
同じである。）で表される化合物を得る。この反応は、
有機銅試薬、例えばジ−ｎ−ブチル銅リチウム等を用
い、−７８℃で行うことができる。また、この反応で
は、ジアステレオマー混合物は得られず、アンチ型化合
物のみが生成する。次に、得られた一般式（XVI)で表さ
れる化合物を上記（１）反応ｇ以降に組み込むことによ
って、下記一般式（XVII)
同じである。）で表される化合物を得る。この反応は、
有機銅試薬、例えばジ−ｎ−ブチル銅リチウム等を用
い、−７８℃で行うことができる。また、この反応で
は、ジアステレオマー混合物は得られず、アンチ型化合
物のみが生成する。次に、得られた一般式（XVI)で表さ
れる化合物を上記（１）反応ｇ以降に組み込むことによ
って、下記一般式（XVII)
【００４４】
【化１９】
【００４５】（式中、Ｒ1 ，Ｒ3 及び＊は前記と同じで
ある。）で表される目的の光学活性な含フッ素化合物を
得ることができる。
ある。）で表される目的の光学活性な含フッ素化合物を
得ることができる。
【００４６】以上のようにして得られる本発明の一般式
（Ｉ）で表される化合物の代表的なものとしては、例え
ば
（Ｉ）で表される化合物の代表的なものとしては、例え
ば
【００４７】
【化２０】
【００４８】
【化２１】
【００４９】
【化２２】
【００５０】などが挙げられる。
【００５１】
【実施例】次に実施例に基づいて本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。また、以下の各例において、本発明の一般式（Ｉ）
で表される光学活性化合物のＲ，Ｓ表示は、下記の式
に説明するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。また、以下の各例において、本発明の一般式（Ｉ）
で表される光学活性化合物のＲ，Ｓ表示は、下記の式
【００５２】
【化２３】
【００５３】の位置番号に基づいて行った。
【００５４】実施例１ （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシピラン
および（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリ
フルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシ
ピランの合成
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシピラン
および（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリ
フルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシ
ピランの合成
【００５５】
【化２４】
【００５６】（ａ）窒素雰囲気下、フラン１3.６ｇ（２
００ミリモル）をテトラヒドロフラン１５０ミリリット
ルに加え、1.５モル／リットルのｎ−ブチルリチウムヘ
キサン溶液１３３ミリリットル（２００ミリモル）を−
２０℃で滴下し、１時間反応させた。次に、トリメチル
シリルクロリド２1.７ｇ（２００ミリモル）を滴下し、
−２０℃で１時間攪拌した。1.５モル／リットルのｎ−
ブチルリチウムヘキサン溶液１３３ミリリットル（２０
０ミリモル）を加え、−２０℃で１時間反応させた後、
−７８℃でトリフルオロ酢酸エチル２8.４ｇ（２００ミ
リモル）を滴下し、−７８℃で１時間、室温でさらに１
時間反応させた。この反応溶液に３規定の塩酸を加えて
反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。次いで、飽和
炭酸水素ナトリウム溶液，飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去
し、フラン誘導体の粗生成物を得た。
００ミリモル）をテトラヒドロフラン１５０ミリリット
ルに加え、1.５モル／リットルのｎ−ブチルリチウムヘ
キサン溶液１３３ミリリットル（２００ミリモル）を−
２０℃で滴下し、１時間反応させた。次に、トリメチル
シリルクロリド２1.７ｇ（２００ミリモル）を滴下し、
−２０℃で１時間攪拌した。1.５モル／リットルのｎ−
ブチルリチウムヘキサン溶液１３３ミリリットル（２０
０ミリモル）を加え、−２０℃で１時間反応させた後、
−７８℃でトリフルオロ酢酸エチル２8.４ｇ（２００ミ
リモル）を滴下し、−７８℃で１時間、室温でさらに１
時間反応させた。この反応溶液に３規定の塩酸を加えて
反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。次いで、飽和
炭酸水素ナトリウム溶液，飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去
し、フラン誘導体の粗生成物を得た。
【００５７】（ｂ）乾燥エタノール１００ミリリットル
に水素化ホウ素ナトリウム2.３ｇ（６０ミリモル）を加
え、上記反応で得たフラン誘導体の粗生成物を０℃で３
０分かけて滴下した。室温で２時間反応させた後、エタ
ノールを減圧留去し、３規定の塩酸を加えて反応を停止
させ、酢酸エチルにより抽出した。次いで、飽和炭酸水
素ナトリウム，飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去した後、減
圧蒸留を行い、アルコール化合物４0.５ｇ（１７０ミリ
モル）を得た。
に水素化ホウ素ナトリウム2.３ｇ（６０ミリモル）を加
え、上記反応で得たフラン誘導体の粗生成物を０℃で３
０分かけて滴下した。室温で２時間反応させた後、エタ
ノールを減圧留去し、３規定の塩酸を加えて反応を停止
させ、酢酸エチルにより抽出した。次いで、飽和炭酸水
素ナトリウム，飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去した後、減
圧蒸留を行い、アルコール化合物４0.５ｇ（１７０ミリ
モル）を得た。
【００５８】（ｃ）塩化メチレン２００ミリリットルに
上記（ｂ）の反応で得たアルコール化合物２3.８ｇ（１
００ミリモル）とピリジン8.９ミリリットル（１１０ミ
リモル）を加え、０℃で塩化アセチル8.６ｇ（１１０ミ
リモル）を滴下し、室温で１２時間反応させた。次い
で、３規定の塩酸を加えて反応を停止させ、塩化メチレ
ンで抽出した。その後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液，
蒸留水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。塩化メチレンを減圧留去した後、減圧蒸留を行い、
エステル化合物２7.５ｇ（９８ミリモル）を得た。
上記（ｂ）の反応で得たアルコール化合物２3.８ｇ（１
００ミリモル）とピリジン8.９ミリリットル（１１０ミ
リモル）を加え、０℃で塩化アセチル8.６ｇ（１１０ミ
リモル）を滴下し、室温で１２時間反応させた。次い
で、３規定の塩酸を加えて反応を停止させ、塩化メチレ
ンで抽出した。その後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液，
蒸留水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。塩化メチレンを減圧留去した後、減圧蒸留を行い、
エステル化合物２7.５ｇ（９８ミリモル）を得た。
【００５９】（ｄ）蒸留水１０００ミリリットルに上記
反応により得られたエステル化合物２8.０ｇ（１００ミ
リモル）を加えて、ミニジャーファーメンター中で４０
℃で攪拌した。リパーゼＰＳを２０ｇ加え、２０時間反
応させた。３規定の塩酸を加え、０℃に冷却して反応を
停止し、セライトによりろ過した。ろ液を酢酸エチルに
より抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、酢酸エチルを減圧留去した。次いで、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製して光
学活性アルコール化合物１1.７ｇ（４９ミリモル）と光
学活性エステル化合物１3.２ｇ（４７ミリモル）を得
た。なお、得られたアルコール化合物の光学純度は９7.
５％e.e.であった。
反応により得られたエステル化合物２8.０ｇ（１００ミ
リモル）を加えて、ミニジャーファーメンター中で４０
℃で攪拌した。リパーゼＰＳを２０ｇ加え、２０時間反
応させた。３規定の塩酸を加え、０℃に冷却して反応を
停止し、セライトによりろ過した。ろ液を酢酸エチルに
より抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、酢酸エチルを減圧留去した。次いで、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製して光
学活性アルコール化合物１1.７ｇ（４９ミリモル）と光
学活性エステル化合物１3.２ｇ（４７ミリモル）を得
た。なお、得られたアルコール化合物の光学純度は９7.
５％e.e.であった。
【００６０】（ｅ）上記反応で得られた光学活性アルコ
ール化合物１1.７ｇ（４９ミリモル）を塩化メチレン１
００ミリリットルに溶かし、イミダゾール4.０ｇ（５９
ミリモル）とｔ−ブチルジメチルシリルクロリド8.９ｇ
（５９ミリモル）を０℃で加えて１５分攪拌し、室温で
１６時間反応させた。蒸留水を加えて反応を停止させ、
塩化メチレンにより抽出した。次いで、蒸留水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを
減圧留去した後、カラムクロマトグラフィーにより分離
精製してシリルエーテル化合物１6.６ｇ（４７ミリモ
ル）を得た。
ール化合物１1.７ｇ（４９ミリモル）を塩化メチレン１
００ミリリットルに溶かし、イミダゾール4.０ｇ（５９
ミリモル）とｔ−ブチルジメチルシリルクロリド8.９ｇ
（５９ミリモル）を０℃で加えて１５分攪拌し、室温で
１６時間反応させた。蒸留水を加えて反応を停止させ、
塩化メチレンにより抽出した。次いで、蒸留水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを
減圧留去した後、カラムクロマトグラフィーにより分離
精製してシリルエーテル化合物１6.６ｇ（４７ミリモ
ル）を得た。
【００６１】（ｆ）窒素雰囲気下、酢酸１２０ミリリッ
トルに上記反応で得られたシリルエーテル化合物１4.１
ｇ（４０ミリモル）及びモノパーオキシフタル酸マグネ
シウム２3.２ｇ（６０ミリモル）を加え、８０℃で１２
時間反応させた。酢酸を減圧留去した後、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液を加え、酢酸エチルにより抽出した。次
いで、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。酢酸エチルを減圧留去した後、カラムクロマト
グラフィーにより分離精製し、（４Ｓ，１’Ｓ）ブテノ
リド化合物 4.7ｇ（１６ミリモル）及び（４Ｒ，１’
Ｓ）ブテノリド化合物 3.0ｇ（１０ミリモル）を得た。
なお、4.２ｇ（１２ミリモル）の原料も回収された。
トルに上記反応で得られたシリルエーテル化合物１4.１
ｇ（４０ミリモル）及びモノパーオキシフタル酸マグネ
シウム２3.２ｇ（６０ミリモル）を加え、８０℃で１２
時間反応させた。酢酸を減圧留去した後、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液を加え、酢酸エチルにより抽出した。次
いで、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。酢酸エチルを減圧留去した後、カラムクロマト
グラフィーにより分離精製し、（４Ｓ，１’Ｓ）ブテノ
リド化合物 4.7ｇ（１６ミリモル）及び（４Ｒ，１’
Ｓ）ブテノリド化合物 3.0ｇ（１０ミリモル）を得た。
なお、4.２ｇ（１２ミリモル）の原料も回収された。
【００６２】（ｇ）上記反応で得られた（４Ｓ，１’
Ｓ）及び（４Ｒ，１’Ｓ）ブテノリド化合物１3.７ｇ
（４６ミリモル）を分離せずにエタノール４０ミリリッ
トルに溶かし、１０％Ｐｄ／Ｃ（Ｐｄ １０重量％含
有）1.４ｇを加え、水素雰囲気下、室温で１５時間反応
した。反応溶液を濾過し、溶媒を減圧留去した後、シリ
カゲルラカムクロマトグラフィーで分離精製して、（４
Ｓ，１’Ｓ）ブタノリド化合物8.２ｇ（２９ミリモル）
及び（４Ｒ，１’Ｓ）ブタノリド化合物3.６ｇ（１２ミ
リモル）を得た。
Ｓ）及び（４Ｒ，１’Ｓ）ブテノリド化合物１3.７ｇ
（４６ミリモル）を分離せずにエタノール４０ミリリッ
トルに溶かし、１０％Ｐｄ／Ｃ（Ｐｄ １０重量％含
有）1.４ｇを加え、水素雰囲気下、室温で１５時間反応
した。反応溶液を濾過し、溶媒を減圧留去した後、シリ
カゲルラカムクロマトグラフィーで分離精製して、（４
Ｓ，１’Ｓ）ブタノリド化合物8.２ｇ（２９ミリモル）
及び（４Ｒ，１’Ｓ）ブタノリド化合物3.６ｇ（１２ミ
リモル）を得た。
【００６３】（ｈ）窒素雰囲気下、ジエチルエーテル４
０ミリリットルに上記反応により得られた（４Ｓ，１’
Ｓ）ブタノリド化合物7.５ｇ（２５ミリモル）を加え、
−７８℃で水素化ジイソブチルアルミニウムの0.９３モ
ル／リットルｎ−ヘキサン溶液３２ミリリットル（３０
ミリモル）を滴下し、３時間反応した。蒸留水を加えて
反応を停止し、１規定の塩酸を加え中和した後、ジエチ
ルエーテルで抽出した。飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、ジエチルエーテルを減圧留去し
た。次いでシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
して、ラクトール化合物7.３ｇ（２４ミリモル）を得
た。
０ミリリットルに上記反応により得られた（４Ｓ，１’
Ｓ）ブタノリド化合物7.５ｇ（２５ミリモル）を加え、
−７８℃で水素化ジイソブチルアルミニウムの0.９３モ
ル／リットルｎ−ヘキサン溶液３２ミリリットル（３０
ミリモル）を滴下し、３時間反応した。蒸留水を加えて
反応を停止し、１規定の塩酸を加え中和した後、ジエチ
ルエーテルで抽出した。飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、ジエチルエーテルを減圧留去し
た。次いでシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
して、ラクトール化合物7.３ｇ（２４ミリモル）を得
た。
【００６４】（ｉ）窒素雰囲気下、テトラヒドロフラン
５０ミリリットルに上記反応により得られたラクトール
化合物7.３ｇ（２４ミリモル）を加え、−７８℃でカリ
ウム−ｔ−ブトキシド3.０ｇ（２７ミリモル）のテトラ
ヒドロフラン１０ミリリットル溶液を滴下し、３時間反
応した。蒸留水を加えて反応を停止し、１規定の塩酸を
加え中和した後、ジエチルエーテルで抽出した。飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ジエチ
ルエーテルを減圧留去した。次いでシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製して、ピラノース化合物6.４ｇ
（２１ミリモル）を得た。
５０ミリリットルに上記反応により得られたラクトール
化合物7.３ｇ（２４ミリモル）を加え、−７８℃でカリ
ウム−ｔ−ブトキシド3.０ｇ（２７ミリモル）のテトラ
ヒドロフラン１０ミリリットル溶液を滴下し、３時間反
応した。蒸留水を加えて反応を停止し、１規定の塩酸を
加え中和した後、ジエチルエーテルで抽出した。飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ジエチ
ルエーテルを減圧留去した。次いでシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製して、ピラノース化合物6.４ｇ
（２１ミリモル）を得た。
【００６５】（ｊ）上記反応により得られたピラノース
化合物6.４ｇ（２１ミリモル）をヘキサノール４０ミリ
リットルに溶かし、パラトルエンスルホン酸0.１ｇを加
え、室温で１８時間反応した。この反応溶液をそのま
ま、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、
アセタール化合物8.０ｇ（２１ミリモル）を得た。ま
た、得られた化合物はジアステレオマー混合物である
が、分離せずに次の反応に用いた。
化合物6.４ｇ（２１ミリモル）をヘキサノール４０ミリ
リットルに溶かし、パラトルエンスルホン酸0.１ｇを加
え、室温で１８時間反応した。この反応溶液をそのま
ま、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、
アセタール化合物8.０ｇ（２１ミリモル）を得た。ま
た、得られた化合物はジアステレオマー混合物である
が、分離せずに次の反応に用いた。
【００６６】（ｋ）上記反応により得られたアセタール
化合物8.０ｇ（２１ミリモル）をテトラヒドロフラン２
０ミリリットルに溶かし、テトラ−ｎ−ブチルアンモニ
ウムフルオライドの1.０モル／リットルテトラヒドロフ
ラン溶液１０ミリリットルを加えて、０℃で１時間，室
温で４０時間反応した。蒸留水を加えて反応を停止し、
ジエチルエーテルで抽出した。次に、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ジエチルエーテ
ルを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで分離精製して目的とする（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−
テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−２−ヘキシル
オキシ−５−ヒドロキシピラン3.０ｇ（１１ミリモル）
及び（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフ
ルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシピ
ラン2.３ｇ（８ミリモル）を得た。
化合物8.０ｇ（２１ミリモル）をテトラヒドロフラン２
０ミリリットルに溶かし、テトラ−ｎ−ブチルアンモニ
ウムフルオライドの1.０モル／リットルテトラヒドロフ
ラン溶液１０ミリリットルを加えて、０℃で１時間，室
温で４０時間反応した。蒸留水を加えて反応を停止し、
ジエチルエーテルで抽出した。次に、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ジエチルエーテ
ルを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで分離精製して目的とする（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−
テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−２−ヘキシル
オキシ−５−ヒドロキシピラン3.０ｇ（１１ミリモル）
及び（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフ
ルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシピ
ラン2.３ｇ（８ミリモル）を得た。
【００６７】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）体 分子式：Ｃ12Ｈ21Ｆ3 Ｏ3 1 Ｈ−ＮＭＲ（プロトン核磁気共鳴法）；δ（ｐｐｍ） 0.８８ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，３Ｈ） 1.２０〜1.３９（ｍ，６Ｈ） 1.５０〜1.７１（ｍ，４Ｈ） 1.８３〜2.０４（ｍ，２Ｈ） 2.１３〜2.２２（ｍ，１Ｈ） 3.４６ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.９Ｈｚ，１Ｈ） 3.６６ （ｄｑ，Ｊ＝8.９，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 3.８１〜3.９３（ｍ，２Ｈ） 4.５２ （ｄｄ，Ｊ＝2.０，8.７Ｈｚ，１Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（同位体フッ素による核磁気共鳴法，基
準：ＣＦＣｌ3 ) ；δ（ｐｐｍ） −７5.１３ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（赤外線吸収：ｃｍ-1） ３４５０，１２７５，１
１７０，１１４５，１０９０，９４０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ＋Ｈ） 計算値 ２７1.１５２１ 実測値 ２７1.１５１２ ［α］D 25＝−３6.０°（Ｃ（濃度）＝1.０５，溶媒：
メタノール）
す。 （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）体 分子式：Ｃ12Ｈ21Ｆ3 Ｏ3 1 Ｈ−ＮＭＲ（プロトン核磁気共鳴法）；δ（ｐｐｍ） 0.８８ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，３Ｈ） 1.２０〜1.３９（ｍ，６Ｈ） 1.５０〜1.７１（ｍ，４Ｈ） 1.８３〜2.０４（ｍ，２Ｈ） 2.１３〜2.２２（ｍ，１Ｈ） 3.４６ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.９Ｈｚ，１Ｈ） 3.６６ （ｄｑ，Ｊ＝8.９，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 3.８１〜3.９３（ｍ，２Ｈ） 4.５２ （ｄｄ，Ｊ＝2.０，8.７Ｈｚ，１Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（同位体フッ素による核磁気共鳴法，基
準：ＣＦＣｌ3 ) ；δ（ｐｐｍ） −７5.１３ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（赤外線吸収：ｃｍ-1） ３４５０，１２７５，１
１７０，１１４５，１０９０，９４０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ＋Ｈ） 計算値 ２７1.１５２１ 実測値 ２７1.１５１２ ［α］D 25＝−３6.０°（Ｃ（濃度）＝1.０５，溶媒：
メタノール）
【００６８】 （２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）体 分子式：Ｃ12Ｈ21Ｆ3 Ｏ3 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.９０ （ｔ，Ｊ＝7.３Ｈｚ，３Ｈ） 1.２３〜1.４５（ｍ，６Ｈ） 1.５２〜1.６７（ｍ，２Ｈ） 1.７６〜2.００（ｍ，５Ｈ） 3.４２ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.４Ｈｚ，１Ｈ） 3.６８ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 3.７９〜3.９８（ｍ，２Ｈ） 4.８６ （ｍ，１Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ) ；δ（ｐｐｍ） −７5.１７ （ｄ，Ｊ＝6.２Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1）３４００，１２７０，１１７５，１１３
０，１０４５，９４５ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ＋Ｈ） 計算値 ２７1.１５２１ 実測値 ２７1.１４９３ ［α］D 25＝＋８6.５°（Ｃ（濃度）＝1.０８，溶媒：
メタノール）
０，１０４５，９４５ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ＋Ｈ） 計算値 ２７1.１５２１ 実測値 ２７1.１４９３ ［α］D 25＝＋８6.５°（Ｃ（濃度）＝1.０８，溶媒：
メタノール）
【００６９】実施例２ （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−
６−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシピラン及び
（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−
６−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシピランの合成
６−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシピラン及び
（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−
６−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシピランの合成
【００７０】
【化２５】
【００７１】（ａ）実施例１（ｉ）で得られたピラノー
ス化合物1.７ｇ( 5.７ミリモル）をブタノール１５ミリ
リットルに溶かし、実施例１（ｊ）と同様の操作を行
い、アセタール化合物1.９ｇ( 5.３ミリモル）を得た。
得られた化合物はジアステレオマー混合物であるが、分
離せずに次の反応に用いた。
ス化合物1.７ｇ( 5.７ミリモル）をブタノール１５ミリ
リットルに溶かし、実施例１（ｊ）と同様の操作を行
い、アセタール化合物1.９ｇ( 5.３ミリモル）を得た。
得られた化合物はジアステレオマー混合物であるが、分
離せずに次の反応に用いた。
【００７２】（ｂ）上記反応で得られたアセタール化合
物1.９ｇ( 5.３ミリモル）を用い、実施例１（ｋ）と同
様の操作を行い、目的とする（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テ
トラヒドロ−２−ブトキシ−６−トリフルオロメチル−
５−ヒドロキシピラン0.６４ｇ( 2.６ミリモル）及び
（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−
６−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシピラン0.５９
ｇ( 2.４ミリモル）を得た。
物1.９ｇ( 5.３ミリモル）を用い、実施例１（ｋ）と同
様の操作を行い、目的とする（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テ
トラヒドロ−２−ブトキシ−６−トリフルオロメチル−
５−ヒドロキシピラン0.６４ｇ( 2.６ミリモル）及び
（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−
６−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシピラン0.５９
ｇ( 2.４ミリモル）を得た。
【００７３】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）体 分子式：Ｃ10Ｈ17Ｆ3 Ｏ3 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.９２ （ｔ，Ｊ＝7.３Ｈｚ，３Ｈ） 1.３０〜1.４５（ｍ，２Ｈ） 1.５２〜1.６５（ｍ，４Ｈ） 1.８８〜2.２２（ｍ，３Ｈ） 3.４７ （ｄｔ，Ｊ＝9.５，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 3.６７ （ｄｑ，Ｊ＝9.０，6.２Ｈｚ，１Ｈ） 3.７９〜3.９６（ｍ，２Ｈ） 4.５２ （ｄｄ，Ｊ＝2.０，8.６Ｈｚ，１Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ) ；δ（ｐｐｍ） −７5.１７ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1）３４５０，１２７０，１１７０，１１４
５，１０９０，９４０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ＋Ｈ） 計算値 ２４3.１２０８ 実測値 ２４3.１２０４ ［α］D 26＝−４0.８°（Ｃ（濃度）＝1.０７，溶媒：
メタノール）
す。 （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）体 分子式：Ｃ10Ｈ17Ｆ3 Ｏ3 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.９２ （ｔ，Ｊ＝7.３Ｈｚ，３Ｈ） 1.３０〜1.４５（ｍ，２Ｈ） 1.５２〜1.６５（ｍ，４Ｈ） 1.８８〜2.２２（ｍ，３Ｈ） 3.４７ （ｄｔ，Ｊ＝9.５，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 3.６７ （ｄｑ，Ｊ＝9.０，6.２Ｈｚ，１Ｈ） 3.７９〜3.９６（ｍ，２Ｈ） 4.５２ （ｄｄ，Ｊ＝2.０，8.６Ｈｚ，１Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ) ；δ（ｐｐｍ） −７5.１７ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1）３４５０，１２７０，１１７０，１１４
５，１０９０，９４０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ＋Ｈ） 計算値 ２４3.１２０８ 実測値 ２４3.１２０４ ［α］D 26＝−４0.８°（Ｃ（濃度）＝1.０７，溶媒：
メタノール）
【００７４】 （２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）体 分子式：Ｃ10Ｈ17Ｆ3 Ｏ3 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.９４ （ｔ，Ｊ＝7.３Ｈｚ，３Ｈ） 1.３２〜1.４７（ｍ，２Ｈ） 1.５３〜1.６６（ｍ，２Ｈ） 1.７７〜2.０３（ｍ，５Ｈ） 3.４３ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 3.６９ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.７Ｈｚ，１Ｈ） 3.８２〜3.９３（ｍ，２Ｈ） 4.８６ （ｍ，１Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ) ；δ（ｐｐｍ） −７5.２０ （ｄ，Ｊ＝6.２Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1）３４００，１２７０，１１７５，１１３
５，１０５０，９４５ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ＋Ｈ） 計算値 ２４3.１２０８ 実測値 ２４3.１２３７ ［α］D 25＝＋ 1０1.８°（Ｃ（濃度）＝1.０６，溶
媒：メタノール）
５，１０５０，９４５ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ＋Ｈ） 計算値 ２４3.１２０８ 実測値 ２４3.１２３７ ［α］D 25＝＋ 1０1.８°（Ｃ（濃度）＝1.０６，溶
媒：メタノール）
【００７５】
【発明の効果】本発明によれば、テトラヒドロピラン環
上の不斉炭素に、それ自体大きな電子吸引性を持つフル
オロアルキル基を有する新規化合物が得られる。したが
って、本発明の光学活性な含フッ素化合物は、酵素阻害
剤，生物活性物質，抗癌剤及び強誘電性液晶等の原料と
して広範な利用が期待される。
上の不斉炭素に、それ自体大きな電子吸引性を持つフル
オロアルキル基を有する新規化合物が得られる。したが
って、本発明の光学活性な含フッ素化合物は、酵素阻害
剤，生物活性物質，抗癌剤及び強誘電性液晶等の原料と
して広範な利用が期待される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹田 充範 茨城県鹿島郡神栖町東和田４番地 鹿島 石油株式会社鹿島製油所内 (72)発明者 村山 義信 茨城県鹿島郡神栖町東和田４番地 鹿島 石油株式会社鹿島製油所内 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 309/10 ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＣＡ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒｆは炭素数１又は２のフルオロアルキル基を
示し、Ｒ1 ，Ｒ2 及びＲ 3 はそれぞれ独立に水素，炭素
数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキル基，炭素数２〜１
５のアルケニル基又は炭素数７〜１０のアラルキル基を
示し、＊は不斉炭素を示す。〕で表される光学活性な含
フッ素化合物。
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |