JP2821031B2 - 光学活性γ−ラクトン誘導体 - Google Patents
光学活性γ−ラクトン誘導体Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表示素子あるいは電気
光学素子に用いられる液晶材料として有用な新規な光学
活性γ−ラクトン誘導体に関する。
光学素子に用いられる液晶材料として有用な新規な光学
活性γ−ラクトン誘導体に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、各種の表示素子，電子光学デバイ
ス，液晶センサなど、液晶の利用分野が著しく拡大しつ
つあり、それに伴って様々な構造の液晶化合物が提案さ
れてきた。特に、表示素子に用いられる液晶材料は、現
在のところネマティック液晶が主流であり、これを用い
たＴＮ型あるいはＳＴＮ型の単純マトリックス方式及び
個々の画素ごとに薄膜トランジスタを付与したＴＦＴ型
のアクティブマトリックス方式が用いられている。しか
し、ネマティック液晶は、その駆動力が液晶材料の誘電
率の異方性と電場との弱い相互作用に基づくため、本質
的に応答速度が遅い（msecオーダー) という欠点を有し
ており、高速応答を要求される大画面の表示素子の材料
としては不利であった。
ス，液晶センサなど、液晶の利用分野が著しく拡大しつ
つあり、それに伴って様々な構造の液晶化合物が提案さ
れてきた。特に、表示素子に用いられる液晶材料は、現
在のところネマティック液晶が主流であり、これを用い
たＴＮ型あるいはＳＴＮ型の単純マトリックス方式及び
個々の画素ごとに薄膜トランジスタを付与したＴＦＴ型
のアクティブマトリックス方式が用いられている。しか
し、ネマティック液晶は、その駆動力が液晶材料の誘電
率の異方性と電場との弱い相互作用に基づくため、本質
的に応答速度が遅い（msecオーダー) という欠点を有し
ており、高速応答を要求される大画面の表示素子の材料
としては不利であった。
【０００３】これに対して、１９７５年にマイヤー( R.
B. Meyer)らにより初めて合成された強誘電性液晶は、
自発分極を有し、これが直接電界と作用するため、その
駆動力が大きく、１９８０年にクラーク( N. A. Clark)
らが表面安定化型強誘電性液晶素子（ＳＳＦＬＣＤ）に
おいて、そのμsec オーダーの高速応答性とメモリー性
を発表して以来、注目を集め、これまで多くの強誘電性
液晶化合物が合成されてきた。
B. Meyer)らにより初めて合成された強誘電性液晶は、
自発分極を有し、これが直接電界と作用するため、その
駆動力が大きく、１９８０年にクラーク( N. A. Clark)
らが表面安定化型強誘電性液晶素子（ＳＳＦＬＣＤ）に
おいて、そのμsec オーダーの高速応答性とメモリー性
を発表して以来、注目を集め、これまで多くの強誘電性
液晶化合物が合成されてきた。
【０００４】強誘電性液晶の応答速度は、τ＝η／Ps・
Ｅで知られている。ここで、ηは回転粘性を示し、Psは
自発分極を示し、Ｅは電界強度を示す。これから、高速
応答性を得るため、粘性が小さく、自発分極の大きな液
晶材料が開発目標とされてきた。また、液晶材料として
は、化学的安定性，広動作温度範囲などの特性が要求さ
れるが、単一の化合物でこれらの諸特性を満たすことは
困難であった。したがって、従来、複数のカイラルスメ
クティックＣ相（ＳｍＣ* ）を有する化合物どうしを混
合したり、粘性の低いスメクティックＣ相（ＳｍＣ）を
有する母体液晶に光学活性な化合物を添加して所望の性
能を有するＳｍＣ* 相を示す強誘電性液晶組成物を得る
方法が用いられてきた。
Ｅで知られている。ここで、ηは回転粘性を示し、Psは
自発分極を示し、Ｅは電界強度を示す。これから、高速
応答性を得るため、粘性が小さく、自発分極の大きな液
晶材料が開発目標とされてきた。また、液晶材料として
は、化学的安定性，広動作温度範囲などの特性が要求さ
れるが、単一の化合物でこれらの諸特性を満たすことは
困難であった。したがって、従来、複数のカイラルスメ
クティックＣ相（ＳｍＣ* ）を有する化合物どうしを混
合したり、粘性の低いスメクティックＣ相（ＳｍＣ）を
有する母体液晶に光学活性な化合物を添加して所望の性
能を有するＳｍＣ* 相を示す強誘電性液晶組成物を得る
方法が用いられてきた。
【０００５】後者の場合には、添加するカイラルドーパ
ントは、それ自体ＳｍＣ* 相を有していても、有してい
なくてもよく、母体液晶との相溶性が良好で、大きな自
発分極を誘起し、粘性を増大させないことが要求され
る。
ントは、それ自体ＳｍＣ* 相を有していても、有してい
なくてもよく、母体液晶との相溶性が良好で、大きな自
発分極を誘起し、粘性を増大させないことが要求され
る。
【０００６】自発分極は、分子長軸に対して垂直な方向
の双極子モーメントが不斉炭素の影響により長軸回りの
自由回転が抑制された結果生じると考えられている。し
たがって、自発分極を増大させるためには、１）双極子
部分をコアと呼ばれる骨格部に近づける、２）双極子部
分と不斉炭素原子を近づける、３）不斉炭素に立体的に
大きな置換基をつけ、長軸回りの自由回転を抑制する等
の方法で自発分極を増大させる試みがなされてきた。さ
らに最近、双極子部分と不斉炭素を５員環ラクトンに直
結させた構造の化合物が効果的に自由回転を束縛し、大
きな自発分極を有することが報告された（Japanese Jou
rnal of Applied Physics 、２９巻、No６、ppＬ９８１
〜Ｌ９８３）。
の双極子モーメントが不斉炭素の影響により長軸回りの
自由回転が抑制された結果生じると考えられている。し
たがって、自発分極を増大させるためには、１）双極子
部分をコアと呼ばれる骨格部に近づける、２）双極子部
分と不斉炭素原子を近づける、３）不斉炭素に立体的に
大きな置換基をつけ、長軸回りの自由回転を抑制する等
の方法で自発分極を増大させる試みがなされてきた。さ
らに最近、双極子部分と不斉炭素を５員環ラクトンに直
結させた構造の化合物が効果的に自由回転を束縛し、大
きな自発分極を有することが報告された（Japanese Jou
rnal of Applied Physics 、２９巻、No６、ppＬ９８１
〜Ｌ９８３）。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、この
ような５員環ラクトンに隣接する不斉炭素原子上に、そ
れ自体大きな電子吸引性を有するフルオロアルキル基を
導入することにより、さらに大きな自発分極を有し、化
学的に安定で、それ自体液晶性を示すか、あるいは単独
では液晶性を示さないが、大きな自発分極を誘起する強
誘電性液晶の配合成分として有用な、新規化合物を提供
することにある。
ような５員環ラクトンに隣接する不斉炭素原子上に、そ
れ自体大きな電子吸引性を有するフルオロアルキル基を
導入することにより、さらに大きな自発分極を有し、化
学的に安定で、それ自体液晶性を示すか、あるいは単独
では液晶性を示さないが、大きな自発分極を誘起する強
誘電性液晶の配合成分として有用な、新規化合物を提供
することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、特定のγ
−ラクトン誘導体が、単品で液晶相を示すか、あるいは
単品では液晶相を示さないが、組成物とした場合に高速
応答が期待できる優れたドーパントであることを見出し
た。本発明はかかる知見に基づいて完成したものであ
る。
−ラクトン誘導体が、単品で液晶相を示すか、あるいは
単品では液晶相を示さないが、組成物とした場合に高速
応答が期待できる優れたドーパントであることを見出し
た。本発明はかかる知見に基づいて完成したものであ
る。
【０００９】すなわち、本発明は、一般式（Ｉ）
【化３】 〔式中、Ｒf は炭素数１又は２のフルオロアルキル基を
示し、Ｒ1は炭素数３〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル
基を示し、Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ独立に水素又は炭素
数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキル基を示し、Ａは−
ＣＯＯ−，−Ｏ−又は単結合を示し、Ｂは−ＣＯＯ−，
−ＯＣＯ−，−ＣＨ2 Ｏ−，−ＯＣＨ2 −又は単結合を
示し、Ｙは−ＣＯＯ−，−ＣＨ2 Ｏ−又は−Ｏ−を示
し、＊は不斉炭素を示し、Ｘ1 及びＸ2 はそれぞれ独立
に
示し、Ｒ1は炭素数３〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル
基を示し、Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ独立に水素又は炭素
数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキル基を示し、Ａは−
ＣＯＯ−，−Ｏ−又は単結合を示し、Ｂは−ＣＯＯ−，
−ＯＣＯ−，−ＣＨ2 Ｏ−，−ＯＣＨ2 −又は単結合を
示し、Ｙは−ＣＯＯ−，−ＣＨ2 Ｏ−又は−Ｏ−を示
し、＊は不斉炭素を示し、Ｘ1 及びＸ2 はそれぞれ独立
に
【化４】 を示す。〕で表される光学活性γ−ラクトン誘導体を提
供するものである。
供するものである。
【００１０】一般式（Ｉ）において、上記のようにＲf
は炭素数１又は２のフルオロアルキル基を示し、具体的
にはトリフルオロメチル基，ジフルオロメチル基，クロ
ロジフルオロメチル基，ペンタフルオロエチル基などで
あり、好ましくはトリフルオロメチル基である。
は炭素数１又は２のフルオロアルキル基を示し、具体的
にはトリフルオロメチル基，ジフルオロメチル基，クロ
ロジフルオロメチル基，ペンタフルオロエチル基などで
あり、好ましくはトリフルオロメチル基である。
【００１１】また、Ｒ1 は炭素数３〜２０の直鎖又は分
岐鎖アルキル基、例えばｎ−プロピル基，イソプロピル
基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，sec −ブチル基，te
rt−ブチル基，ｎ−ペンチル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−
ヘプチル基，ｎ−オクチル基，ｎ−ノニル基，ｎ−デシ
ル基，ｎ−ウンデシル基，ｎ−ドデシル基，ｎ−トリデ
シル基，ｎ−テトラデシル基，ｎ−ペンタデシル基，ｎ
−ヘキサデシル基，ｎ−ヘプタデシル基，ｎ−オクタデ
シル基，ｎ−ノナデシル基，ｎ−エイコシル基などであ
る。これらのうち、分岐鎖アルキル基であって、不斉炭
素を有する基は、光学活性基である。
岐鎖アルキル基、例えばｎ−プロピル基，イソプロピル
基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，sec −ブチル基，te
rt−ブチル基，ｎ−ペンチル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−
ヘプチル基，ｎ−オクチル基，ｎ−ノニル基，ｎ−デシ
ル基，ｎ−ウンデシル基，ｎ−ドデシル基，ｎ−トリデ
シル基，ｎ−テトラデシル基，ｎ−ペンタデシル基，ｎ
−ヘキサデシル基，ｎ−ヘプタデシル基，ｎ−オクタデ
シル基，ｎ−ノナデシル基，ｎ−エイコシル基などであ
る。これらのうち、分岐鎖アルキル基であって、不斉炭
素を有する基は、光学活性基である。
【００１２】さらに、Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ独立に水
素又は炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキル基、例
えばメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピ
ル基，ｎ−ブチル基，sec −ブチル基，tert−ブチル
基，ｎ−ペンチル基，イソペンチル基，１−メチルブチ
ル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−ヘプチル基，１−メチルヘ
プチル基，ｎ−オクチル基，１−エチルヘプチル基，１
−メチルオクチル基，ｎ−ノニル基，１−エチルオクチ
ル基，１−メチルノニル基，ｎ−デシル基，ｎ−ウンデ
シル基，ｎ−ドデシル基，ｎ−トリデシル基，ｎ−テト
ラデシル基，ｎ−ペンタデシル基などである。
素又は炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキル基、例
えばメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピ
ル基，ｎ−ブチル基，sec −ブチル基，tert−ブチル
基，ｎ−ペンチル基，イソペンチル基，１−メチルブチ
ル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−ヘプチル基，１−メチルヘ
プチル基，ｎ−オクチル基，１−エチルヘプチル基，１
−メチルオクチル基，ｎ−ノニル基，１−エチルオクチ
ル基，１−メチルノニル基，ｎ−デシル基，ｎ−ウンデ
シル基，ｎ−ドデシル基，ｎ−トリデシル基，ｎ−テト
ラデシル基，ｎ−ペンタデシル基などである。
【００１３】本発明による一般式（Ｉ）の化合物は、様
々な方法で製造することができるが、例えば以下の工程
により製造することができる。
々な方法で製造することができるが、例えば以下の工程
により製造することができる。
【００１４】Ｂ＝−ＣＯＯ−及びＹ＝−ＣＯＯ−の場
合：一般式（II） BzＯ−Ｘ2 −ＣＯＣl ・・・（II） 〔式中、Ｘ2 は前記と同じであり、Bzはベンジル基を示
す。〕で表される化合物を一般式（III)
合：一般式（II） BzＯ−Ｘ2 −ＣＯＣl ・・・（II） 〔式中、Ｘ2 は前記と同じであり、Bzはベンジル基を示
す。〕で表される化合物を一般式（III)
【化５】 〔式中、Ｒf ，Ｒ2 及びＲ3 は前記と同じである。〕で
表される化合物と反応させて、一般式（IV）
表される化合物と反応させて、一般式（IV）
【化６】 〔式中、Ｒｆ，Ｂｚ，Ｘ2 ，Ｒ2 及びＲ3 は前記と同じ
である。〕で表される化合物を得る。この反応は、有機
塩基、例えばピリジン，トリエチルアミン等の存在下で
トルエン，ベンゼン，塩化メチレン等の溶媒中で−２０
℃〜８０℃の温度で行うことができる。
である。〕で表される化合物を得る。この反応は、有機
塩基、例えばピリジン，トリエチルアミン等の存在下で
トルエン，ベンゼン，塩化メチレン等の溶媒中で−２０
℃〜８０℃の温度で行うことができる。
【００１５】次に、得られる一般式（IV）の化合物中の
ベンジル基を常法で脱離させれば、一般式（Ｖ）
ベンジル基を常法で脱離させれば、一般式（Ｖ）
【化７】 〔式中、Ｒｆ，Ｘ2 ，Ｒ2 及びＲ3 は前記と同じであ
る。〕で表される化合物が生成する。この脱ベンジル化
反応は、例えばＰd ／Ｃ触媒の存在下でメタノール，エ
タノール，プロパノール等のアルコール性溶媒あるいは
酢酸を用いて常圧で水素化分解することにより行うこと
ができる。
る。〕で表される化合物が生成する。この脱ベンジル化
反応は、例えばＰd ／Ｃ触媒の存在下でメタノール，エ
タノール，プロパノール等のアルコール性溶媒あるいは
酢酸を用いて常圧で水素化分解することにより行うこと
ができる。
【００１６】上記のようにして得た一般式（Ｖ）の化合
物を一般式（VI） Ｒ1 −Ａ−Ｘ1 −ＣＯＣl ・・・（VI） 〔式中、Ｒ1 ，Ａ及びＸ1 は前記と同じである。〕で表
される化合物と反応させることにより上記一般式（Ｉ）
の化合物を得ることができる。この反応は、有機塩基，
例えばピリジン，トリエチルアミン等の存在下にトルエ
ン，ベンゼン，塩化メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８
０℃の温度で行うことができる。
物を一般式（VI） Ｒ1 −Ａ−Ｘ1 −ＣＯＣl ・・・（VI） 〔式中、Ｒ1 ，Ａ及びＸ1 は前記と同じである。〕で表
される化合物と反応させることにより上記一般式（Ｉ）
の化合物を得ることができる。この反応は、有機塩基，
例えばピリジン，トリエチルアミン等の存在下にトルエ
ン，ベンゼン，塩化メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８
０℃の温度で行うことができる。
【００１７】また、Ｂ＝−ＣＯＯ−、Ｙ＝−ＣＨ2Ｏ−
の場合：一般式（VII) ＴＨＰＯ−Ｘ2 −ＣＨ2Ｚ ・・・（VII) 〔式中、Ｘ2 は前記と同じであり、ＴＨＰはテトラヒド
ロピラニル基を示し、Ｚは塩素，臭素，ヨウ素又はトシ
ル基を示す。〕で表される化合物を、上記の一般式（II
I)で表わされる化合物と反応させて、一般式（VIII)
の場合：一般式（VII) ＴＨＰＯ−Ｘ2 −ＣＨ2Ｚ ・・・（VII) 〔式中、Ｘ2 は前記と同じであり、ＴＨＰはテトラヒド
ロピラニル基を示し、Ｚは塩素，臭素，ヨウ素又はトシ
ル基を示す。〕で表される化合物を、上記の一般式（II
I)で表わされる化合物と反応させて、一般式（VIII)
【化８】 〔式中、Ｒｆ，ＴＨＰ，Ｘ2 ，Ｒ2 及びＲ3 は前記と同
じである。〕で表される化合物を得る。この反応は一般
式（III)の化合物にアルカリ金属ヒドリドあるいは水酸
化ナトリウムあるいは水酸化カリウムで代表される塩基
を作用させた後、一般式（VII)の化合物を加えることに
より行うことができる。
じである。〕で表される化合物を得る。この反応は一般
式（III)の化合物にアルカリ金属ヒドリドあるいは水酸
化ナトリウムあるいは水酸化カリウムで代表される塩基
を作用させた後、一般式（VII)の化合物を加えることに
より行うことができる。
【００１８】次に、得られた一般式（VIII) の化合物中
のテトラヒドロピラニル基を常法で脱離させれば、一般
式（IX）
のテトラヒドロピラニル基を常法で脱離させれば、一般
式（IX）
【化９】 〔式中、Ｒｆ，Ｘ2 ，Ｒ2 及びＲ3 は前記と同じであ
る。〕で表わされる化合物が生成する。このテトラヒド
ロピラニル基の脱離は、塩酸，硫酸及びパラトルエンス
ルホン酸等の酸触媒存在下で、エーテル，テトラヒドロ
フラン，クロロホルム等の溶媒を用いて行うことができ
る。
る。〕で表わされる化合物が生成する。このテトラヒド
ロピラニル基の脱離は、塩酸，硫酸及びパラトルエンス
ルホン酸等の酸触媒存在下で、エーテル，テトラヒドロ
フラン，クロロホルム等の溶媒を用いて行うことができ
る。
【００１９】次に、得られた一般式（IX）の化合物を上
記一般式（VI）で表わされる化合物と反応させることに
より、上記一般式（Ｉ）の化合物を得ることができる。
この反応は、有機塩基，例えばピリジン，トリエチルア
ミン等の存在下にトルエン，ベンゼン，塩化メチレン等
の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度で行うことができ
る。
記一般式（VI）で表わされる化合物と反応させることに
より、上記一般式（Ｉ）の化合物を得ることができる。
この反応は、有機塩基，例えばピリジン，トリエチルア
ミン等の存在下にトルエン，ベンゼン，塩化メチレン等
の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度で行うことができ
る。
【００２０】また、Ｂ＝−ＣＯＯ−，Ｙ＝−Ｏ−の場
合：一般式（Ｘ） ＴＨＰＯ−Ｘ2 −Ｉ ・・・ （Ｘ） 〔式中、ＴＨＰ及びＸ2 は前記と同じである。〕で表さ
れる化合物を、上記一般式（III)で表される化合物と反
応させて、一般式（ＸＩ）
合：一般式（Ｘ） ＴＨＰＯ−Ｘ2 −Ｉ ・・・ （Ｘ） 〔式中、ＴＨＰ及びＸ2 は前記と同じである。〕で表さ
れる化合物を、上記一般式（III)で表される化合物と反
応させて、一般式（ＸＩ）
【化１０】 〔式中、Ｒｆ，ＴＨＰ，Ｘ2 ，Ｒ2 及びＲ3 は前記と同
じである。〕で表される化合物を得る。この反応は、一
般式（III)の化合物にアルカリ金属ヒドリドで代表され
る塩基を作用させた後、ジメチルホルムアミド，ジメチ
ルスルホキシド等の還流条件下、触媒としてヨウ化第一
銅を用い、一般式（Ｘ）で表される化合物を反応させる
ことにより行うことができる。
じである。〕で表される化合物を得る。この反応は、一
般式（III)の化合物にアルカリ金属ヒドリドで代表され
る塩基を作用させた後、ジメチルホルムアミド，ジメチ
ルスルホキシド等の還流条件下、触媒としてヨウ化第一
銅を用い、一般式（Ｘ）で表される化合物を反応させる
ことにより行うことができる。
【００２１】次に、得られた一般式（ＸＩ）の化合物中
のテトラヒドロピラニル基を常法で脱離させれば、一般
式（ＸII）
のテトラヒドロピラニル基を常法で脱離させれば、一般
式（ＸII）
【化１１】 〔式中、Ｒｆ，Ｘ2 ，Ｒ2 及びＲ3 は前記と同じであ
る。〕で表される化合物が生成する。このテトラヒドロ
ピラニル基の脱離は、塩酸，硫酸及びパラトルエンスル
ホン酸等の酸触媒存在下で、エーテル，テトラヒドロフ
ラン，クロロホルム等の溶媒を用いて行うことができ
る。
る。〕で表される化合物が生成する。このテトラヒドロ
ピラニル基の脱離は、塩酸，硫酸及びパラトルエンスル
ホン酸等の酸触媒存在下で、エーテル，テトラヒドロフ
ラン，クロロホルム等の溶媒を用いて行うことができ
る。
【００２２】次に、得られた一般式（ＸII）の化合物を
上記一般式（VI）で表される化合物と反応させることに
より、上記一般式（Ｉ）の化合物を得ることができる。
この反応は、有機塩基，例えばピリジン，トリエチルア
ミン等の存在下にトルエン，ベンゼン，塩化メチレン等
の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度で行うことができ
る。
上記一般式（VI）で表される化合物と反応させることに
より、上記一般式（Ｉ）の化合物を得ることができる。
この反応は、有機塩基，例えばピリジン，トリエチルア
ミン等の存在下にトルエン，ベンゼン，塩化メチレン等
の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度で行うことができ
る。
【００２３】また、Ｂ＝−ＣＨ2 Ｏ−，Ｙ＝−ＣＯＯ−
の場合：上記一般式（Ｖ）で表される化合物を一般式
（ＸIII) Ｒ1−Ａ−Ｘ1−ＣＨ2Ｚ ・・・ （ＸIII) 〔式中、Ｒ1 ，Ａ，Ｘ1 及びＺは前記と同じである。〕
で表わされる化合物と反応させることにより上記一般式
（Ｉ）の化合物を得ることができる。この反応は、一般
式（Ｖ）の化合物にアルカリ金属ヒドリドあるいは水酸
化ナトリウムあるいは水酸化カリウムで代表される塩基
を作用させた後、一般式（ＸIII)の化合物を加えること
により行うことができる。
の場合：上記一般式（Ｖ）で表される化合物を一般式
（ＸIII) Ｒ1−Ａ−Ｘ1−ＣＨ2Ｚ ・・・ （ＸIII) 〔式中、Ｒ1 ，Ａ，Ｘ1 及びＺは前記と同じである。〕
で表わされる化合物と反応させることにより上記一般式
（Ｉ）の化合物を得ることができる。この反応は、一般
式（Ｖ）の化合物にアルカリ金属ヒドリドあるいは水酸
化ナトリウムあるいは水酸化カリウムで代表される塩基
を作用させた後、一般式（ＸIII)の化合物を加えること
により行うことができる。
【００２４】また、Ｂ＝−ＯＣＨ2 −，Ｙ＝−ＣＯＯ−
の場合：一般式（ＸIV） ＺＣＨ2 −Ｘ2 −ＣＯＣl ・・・ （ＸIV） 〔式中、Ｚ及びＸ2 は前記と同じである。〕で表される
化合物を、上記一般式（III)で表される化合物と反応さ
せて、一般式（ＸＶ）
の場合：一般式（ＸIV） ＺＣＨ2 −Ｘ2 −ＣＯＣl ・・・ （ＸIV） 〔式中、Ｚ及びＸ2 は前記と同じである。〕で表される
化合物を、上記一般式（III)で表される化合物と反応さ
せて、一般式（ＸＶ）
【化１２】 〔式中、Ｒｆ，Ｚ，Ｘ2 ，Ｒ2 及びＲ3 は前記と同じで
ある。〕で表される化合物を得る。この反応は、有機塩
基，例えばピリジン，トリエチルアミン等の存在下にト
ルエン，ベンゼン，塩化メチレン等の溶媒中で−２０℃
〜８０℃の温度で行うことができる。
ある。〕で表される化合物を得る。この反応は、有機塩
基，例えばピリジン，トリエチルアミン等の存在下にト
ルエン，ベンゼン，塩化メチレン等の溶媒中で−２０℃
〜８０℃の温度で行うことができる。
【００２５】次に、一般式（XVI) Ｒ1−Ａ−Ｘ1−ＯＨ ・・・（XVI) 〔式中、Ｒ1 ，Ａ及びＸ1 は前記と同じである。〕で表
される化合物に、上記化合物（ＸＶ）を反応させて、上
記一般式（Ｉ）の化合物を得る。この反応は、一般式
（XVI)の化合物にアルカリ金属ヒドリドあるいは水酸化
ナトリウムあるいは水酸化カリウムで代表される塩基を
作用させた後、一般式（ＸＶ）の化合物を加えることに
より行うことができる。
される化合物に、上記化合物（ＸＶ）を反応させて、上
記一般式（Ｉ）の化合物を得る。この反応は、一般式
（XVI)の化合物にアルカリ金属ヒドリドあるいは水酸化
ナトリウムあるいは水酸化カリウムで代表される塩基を
作用させた後、一般式（ＸＶ）の化合物を加えることに
より行うことができる。
【００２６】また、本発明の一般式（Ｉ）の化合物を製
造するため、原料物質として使用した一般式（III)の化
合物は、様々な方法で製造することができる。
造するため、原料物質として使用した一般式（III)の化
合物は、様々な方法で製造することができる。
【００２７】例えば、Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝水素の場合：フラン
をシリル化して一般式（XVII）：
をシリル化して一般式（XVII）：
【化１３】 〔式中、ＴＭＳはトリメチルシリル基を示す。〕で表さ
れる化合物を得、この化合物をさらにトリフルオロアセ
チル化して一般式（XVIII)
れる化合物を得、この化合物をさらにトリフルオロアセ
チル化して一般式（XVIII)
【化１４】 で表される化合物を得る。この反応はテトラヒドロフラ
ン，ジエチルエーテル等の溶媒を用い、有機リチウム化
合物、例えばｎ−ブチルリチウムとトリメチルシリルク
ロリドを用いてシリル化した後、上記のブチルリチウム
とトリフルオロ酢酸エチルを用いてトリフルオロアセチ
ル化することにより、−７８℃〜０℃の温度で行うこと
ができる。
ン，ジエチルエーテル等の溶媒を用い、有機リチウム化
合物、例えばｎ−ブチルリチウムとトリメチルシリルク
ロリドを用いてシリル化した後、上記のブチルリチウム
とトリフルオロ酢酸エチルを用いてトリフルオロアセチ
ル化することにより、−７８℃〜０℃の温度で行うこと
ができる。
【００２８】得られた一般式（XVIII ）の化合物を常法
により還元して一般式（XIX)
により還元して一般式（XIX)
【化１５】 で表される化合物を得る。この反応は還元剤として例え
ば水素化ホウ素ナトリウム，水素化アルミニウムリチウ
ム，塩化第二錫等を用いて行うことができる。
ば水素化ホウ素ナトリウム，水素化アルミニウムリチウ
ム，塩化第二錫等を用いて行うことができる。
【００２９】得られた一般式（XIX)の化合物を酸クロリ
ドと反応させてアシル化する。ここでアシル化剤として
用いる酸クロリドは具体的には、塩化アセチル，塩化プ
ロピオニル，塩化イソブチロイル，塩化オクタノイル，
塩化ベンゾイル等である。
ドと反応させてアシル化する。ここでアシル化剤として
用いる酸クロリドは具体的には、塩化アセチル，塩化プ
ロピオニル，塩化イソブチロイル，塩化オクタノイル，
塩化ベンゾイル等である。
【００３０】得られた一般式（XX）
【化１６】 〔式中、Ｒ’ＣＯはアシル基を示す。〕で表される化合
物を酵素を用いて不斉加水分解することにより一般式
（XXI ）及び（XXIa）
物を酵素を用いて不斉加水分解することにより一般式
（XXI ）及び（XXIa）
【化１７】 で表わされる光学活性なアルコール及びエステルを得
る。この反応に用いる酵素としては、いわゆる加水分解
酵素であれば各種のものを用いることができ、例えばリ
パーゼＰＳ，リパーゼＭＹ，リパーゼＯＦ，セルラーゼ
等が挙げられる。上記の一般式（XXIa）のエステルは、
化学的加水分解及び別の酵素による不斉加水分解によ
り、一般式（XXI ）のアルコールと鏡像体のアルコール
に変換することができる。
る。この反応に用いる酵素としては、いわゆる加水分解
酵素であれば各種のものを用いることができ、例えばリ
パーゼＰＳ，リパーゼＭＹ，リパーゼＯＦ，セルラーゼ
等が挙げられる。上記の一般式（XXIa）のエステルは、
化学的加水分解及び別の酵素による不斉加水分解によ
り、一般式（XXI ）のアルコールと鏡像体のアルコール
に変換することができる。
【００３１】次に、このようにして得られた一般式（XX
I ）で表わされるアルコールをシリル化して一般式（XX
II）
I ）で表わされるアルコールをシリル化して一般式（XX
II）
【化１８】 〔式中、ＴＢＤＭＳはｔ−ブチルジメチルシリル基を示
す。〕で表される化合物を得る。この反応はシリル化剤
としてｔ−ブチルジメチルシリルクロリドを用いて行う
ことができる。
す。〕で表される化合物を得る。この反応はシリル化剤
としてｔ−ブチルジメチルシリルクロリドを用いて行う
ことができる。
【００３２】得られた一般式（XXII）のシリル誘導体を
酸化して一般式（XXIII ）
酸化して一般式（XXIII ）
【化１９】 で表される化合物を得る。この反応は、酸化剤として、
例えばモノパーオキシフタル酸マグネシウム塩，過酸化
水素を用いて酢酸，クロロホルム等の溶媒中で行うこと
ができる。また、この反応では、ジアステレオマー混合
物を得るが、これらの化合物はシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより容易に分離することができる。
例えばモノパーオキシフタル酸マグネシウム塩，過酸化
水素を用いて酢酸，クロロホルム等の溶媒中で行うこと
ができる。また、この反応では、ジアステレオマー混合
物を得るが、これらの化合物はシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより容易に分離することができる。
【００３３】得られた一般式（XXIII ）のジアステレオ
マーを分離した後、脱シリル化して一般式（XXIV）
マーを分離した後、脱シリル化して一般式（XXIV）
【化２０】 で表される化合物を得る。この脱シリル化反応は、常法
により行うことができ、テトラヒドロフラン溶媒中、テ
トラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライドを触媒とし
て用いて０℃で行うことができる。
により行うことができ、テトラヒドロフラン溶媒中、テ
トラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライドを触媒とし
て用いて０℃で行うことができる。
【００３４】得られた一般式（XXIV）で表わされる化合
物を水素添加して、目的とする一般式（III ）において
Ｒ2 及びＲ3 が水素である化合物を得る。水素添加は、
溶媒として例えばエタノール，メタノール，ヘキサン，
酢酸エチル，ベンゼン，トルエン等を用い、パラジウム
・チャーコールを触媒として用いて水素雰囲気下に行う
ことができる。
物を水素添加して、目的とする一般式（III ）において
Ｒ2 及びＲ3 が水素である化合物を得る。水素添加は、
溶媒として例えばエタノール，メタノール，ヘキサン，
酢酸エチル，ベンゼン，トルエン等を用い、パラジウム
・チャーコールを触媒として用いて水素雰囲気下に行う
ことができる。
【００３５】また、Ｒ2 ＝アルキル基，Ｒ3 ＝Ｈの場
合：前記一般式（XXIII ) で表わされる化合物をアルキ
ル化し、一般式（XXV ）
合：前記一般式（XXIII ) で表わされる化合物をアルキ
ル化し、一般式（XXV ）
【化２１】 で表される化合物を得る。この反応は、有機銅試薬を用
い、−７８℃で行うことができる。また、この場合、ジ
アステレオマー混合物は得られず、アンチ体ただ一種の
みが生成する。
い、−７８℃で行うことができる。また、この場合、ジ
アステレオマー混合物は得られず、アンチ体ただ一種の
みが生成する。
【００３６】次に、得られた一般式（XXV ）で表される
化合物の脱シリル化を行えば目的とする一般式（XXVI）
化合物の脱シリル化を行えば目的とする一般式（XXVI）
【化２２】 で表される化合物を得ることができる。この脱シリル化
反応は、テトラヒドロフラン溶媒中、テトラ−ｎ−ブチ
ルアンモニウムフルオライドを触媒として用いて０℃で
行うことができる。
反応は、テトラヒドロフラン溶媒中、テトラ−ｎ−ブチ
ルアンモニウムフルオライドを触媒として用いて０℃で
行うことができる。
【００３７】本発明の好ましい化合物は、具体的には例
えば以下のようなものがある。
えば以下のようなものがある。
【化２３】
【化２４】
【化２５】
【化２６】
【化２７】
【化２８】
【化２９】
【化３０】
【００３８】
【実施例】次に、実施例に基づいて本発明をさらに具体
的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。
的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。
【００３９】また、以下の各例において、本発明の一般
式（Ｉ）で表される光学活性化合物のＲ，Ｓ表示は、下
記の式
式（Ｉ）で表される光学活性化合物のＲ，Ｓ表示は、下
記の式
【化３１】 の位置番号に基づいて行った。
【００４０】実施例１ （Ａ）（４Ｒ，１’Ｒ）−（２’，２’，２’−トリフ
ルオロ−１’−ヒドロキシエチル）−４−ブタノリドの
合成
ルオロ−１’−ヒドロキシエチル）−４−ブタノリドの
合成
【化３２】
【００４１】（ａ）窒素雰囲気下、フラン１3.６g （２
００ミリモル）をテトラヒドロフラン１５０mlに加え、
1.５Ｍ ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液１３３ml（２
００ミリモル）を−２０℃で滴下し、１時間反応させ
た。次に、トリメチルシリルクロリド２1.７ｇ（２００
ミリモル）を滴下し、−２０℃で１時間攪拌した。1.５
Ｍｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液１３３ml（２００ミ
リモル）を加え、−２０℃で１時間反応させた後、−７
８℃でトリフルオロ酢酸エチル２8.４ｇ（２００ミリモ
ル）を滴下し、−７８℃で１時間、室温でさらに１時間
反応させた。この反応溶液に３Ｎ塩酸を加えて反応を停
止させ、酢酸エチルで抽出した。次いで、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液，飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し、フラ
ン誘導体の粗生成物を得た。
００ミリモル）をテトラヒドロフラン１５０mlに加え、
1.５Ｍ ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液１３３ml（２
００ミリモル）を−２０℃で滴下し、１時間反応させ
た。次に、トリメチルシリルクロリド２1.７ｇ（２００
ミリモル）を滴下し、−２０℃で１時間攪拌した。1.５
Ｍｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液１３３ml（２００ミ
リモル）を加え、−２０℃で１時間反応させた後、−７
８℃でトリフルオロ酢酸エチル２8.４ｇ（２００ミリモ
ル）を滴下し、−７８℃で１時間、室温でさらに１時間
反応させた。この反応溶液に３Ｎ塩酸を加えて反応を停
止させ、酢酸エチルで抽出した。次いで、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液，飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し、フラ
ン誘導体の粗生成物を得た。
【００４２】（ｂ）乾燥エタノール１００mlに水素化ホ
ウ素ナトリウム2.３ｇ（６０ミリモル）を加え、上記反
応で得たフラン誘導体の粗生成物を０℃で３０分かけて
滴下した。室温で２時間反応させた後、エタノールを減
圧留去し、３Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸エチ
ルにより抽出した。次いで、飽和炭酸水素ナトリウム，
飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。酢酸エチルを減圧留去した後、減圧蒸留を行い、
アルコール化合物４0.５ｇ（１７０ミリモル）を得た。
ウ素ナトリウム2.３ｇ（６０ミリモル）を加え、上記反
応で得たフラン誘導体の粗生成物を０℃で３０分かけて
滴下した。室温で２時間反応させた後、エタノールを減
圧留去し、３Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸エチ
ルにより抽出した。次いで、飽和炭酸水素ナトリウム，
飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。酢酸エチルを減圧留去した後、減圧蒸留を行い、
アルコール化合物４0.５ｇ（１７０ミリモル）を得た。
【００４３】（ｃ）塩化メチレン２００mlに上記（ｂ）
の反応で得たアルコール化合物２3.８ｇ（１００ミリモ
ル）とピリジン8.９ml（１１０ミリモル）を加え、０℃
で塩化アセチル8.６ｇ（１１０ミリモル）を滴下し、室
温で１２時間反応させた。次いで、３Ｎ塩酸を加えて反
応を停止させ、塩化メチレンにより抽出した。その後、
飽和炭酸水素ナトリウム溶液，蒸留水で順次清浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを減圧留
去した後、減圧蒸留を行い、アセテート２7.５ｇ（９８
ミリモル）を得た。
の反応で得たアルコール化合物２3.８ｇ（１００ミリモ
ル）とピリジン8.９ml（１１０ミリモル）を加え、０℃
で塩化アセチル8.６ｇ（１１０ミリモル）を滴下し、室
温で１２時間反応させた。次いで、３Ｎ塩酸を加えて反
応を停止させ、塩化メチレンにより抽出した。その後、
飽和炭酸水素ナトリウム溶液，蒸留水で順次清浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを減圧留
去した後、減圧蒸留を行い、アセテート２7.５ｇ（９８
ミリモル）を得た。
【００４４】（ｄ）蒸留水１０００mlに上記反応により
得られたアセテート２8.０g （１００ミリモル）を加え
て、ミニジャーファーメンター中で４０℃に保った。リ
パーゼＰＳ ２０g を加え、２０時間反応させた。３Ｎ
塩酸を加え、０℃にして反応を停止し、セライトにより
濾過した。酢酸エチルにより抽出し、飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、酢酸エチルを減圧
留去した。次いで、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより分離精製して光学活性アルコール１1.７g （４
９ミリモル）と光学活性アセテート１3.２ｇ（４７ミリ
モル）を得た。なお、得られたアルコールの光学純度は
９7.５％e.e.であった。
得られたアセテート２8.０g （１００ミリモル）を加え
て、ミニジャーファーメンター中で４０℃に保った。リ
パーゼＰＳ ２０g を加え、２０時間反応させた。３Ｎ
塩酸を加え、０℃にして反応を停止し、セライトにより
濾過した。酢酸エチルにより抽出し、飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、酢酸エチルを減圧
留去した。次いで、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより分離精製して光学活性アルコール１1.７g （４
９ミリモル）と光学活性アセテート１3.２ｇ（４７ミリ
モル）を得た。なお、得られたアルコールの光学純度は
９7.５％e.e.であった。
【００４５】（ｅ）上記反応で得られた光学活性アルコ
ール１1.７ｇ（４９ミリモル）を塩化メチレン１００ml
に溶かし、イミダゾール4.０ｇ（５９ミリモル）を加
え、０℃でｔ−ブチルジメチルシリルクロリド8.９ｇ
（５９ミリモル）を加えて、室温で１６時間反応させ
た。次いで、３Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、塩化メ
チレンにより抽出した後、飽和炭酸水素ナトリウム溶
液，蒸留水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。塩化メチレンを減圧留去した後、カラムクロマト
グラフィーにより分離精製してシリルエーテル１6.６ｇ
（４７ミリモル）を得た。
ール１1.７ｇ（４９ミリモル）を塩化メチレン１００ml
に溶かし、イミダゾール4.０ｇ（５９ミリモル）を加
え、０℃でｔ−ブチルジメチルシリルクロリド8.９ｇ
（５９ミリモル）を加えて、室温で１６時間反応させ
た。次いで、３Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、塩化メ
チレンにより抽出した後、飽和炭酸水素ナトリウム溶
液，蒸留水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。塩化メチレンを減圧留去した後、カラムクロマト
グラフィーにより分離精製してシリルエーテル１6.６ｇ
（４７ミリモル）を得た。
【００４６】（ｆ）窒素雰囲気下、酢酸１２０mlに上記
反応で得られたシリルエーテル１4.１ｇ（４０ミリモ
ル）及びモノパーオキシフタル酸マグネシウム２3.２ｇ
（６０ミリモル）を加え、８０℃で１２時間反応させ
た。酢酸を減圧留去した後、飽和炭酸水素ナトリウム溶
液を加え、酢酸エチルにより抽出した。次いで、飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸
エチルを減圧留去した後、カラムクロマトグラフィーに
より分離精製し、（４Ｒ，１’Ｒ）体 4.7ｇ（１６ミリ
モル）及び（４Ｓ，１’Ｒ）体 3.0ｇ（１０ミリモル）
を得た。なお、4.２ｇ（１２ミリモル）の原料も回収さ
れた。
反応で得られたシリルエーテル１4.１ｇ（４０ミリモ
ル）及びモノパーオキシフタル酸マグネシウム２3.２ｇ
（６０ミリモル）を加え、８０℃で１２時間反応させ
た。酢酸を減圧留去した後、飽和炭酸水素ナトリウム溶
液を加え、酢酸エチルにより抽出した。次いで、飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸
エチルを減圧留去した後、カラムクロマトグラフィーに
より分離精製し、（４Ｒ，１’Ｒ）体 4.7ｇ（１６ミリ
モル）及び（４Ｓ，１’Ｒ）体 3.0ｇ（１０ミリモル）
を得た。なお、4.２ｇ（１２ミリモル）の原料も回収さ
れた。
【００４７】（ｇ）上記反応により得られた（４Ｒ，
１’Ｒ）体3.０ｇ（１０ミリモル）をテトラヒドロフラ
ン１０mlとメタノール５mlの混合溶媒に加え、テトラ−
ｎ−ブチルアンモニウムフルオライド0.２６ｇ（１ミリ
モル）を０℃で加えて、１０時間反応させた。蒸留水を
加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。蒸留水
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、酢酸エチル
を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、アルコール1.７ｇ（9.５ミリモル）を得
た。
１’Ｒ）体3.０ｇ（１０ミリモル）をテトラヒドロフラ
ン１０mlとメタノール５mlの混合溶媒に加え、テトラ−
ｎ−ブチルアンモニウムフルオライド0.２６ｇ（１ミリ
モル）を０℃で加えて、１０時間反応させた。蒸留水を
加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。蒸留水
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、酢酸エチル
を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、アルコール1.７ｇ（9.５ミリモル）を得
た。
【００４８】（ｈ）上記反応により得られたアルコール
0.５３ｇ（2.９ミリモル）をエタノール１０mlに加え、
１０％パラジウム・チャーコール0.０５g を触媒として
水素雰囲気下反応を行った。濾過により触媒を除去した
後、エタノールを減圧留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで分離精製して、目的とする（４Ｒ，１’
Ｒ）−（２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−ヒド
ロキシエチル）−４−ブタノリド0.４７ｇ（2.６ミリモ
ル）を得た。
0.５３ｇ（2.９ミリモル）をエタノール１０mlに加え、
１０％パラジウム・チャーコール0.０５g を触媒として
水素雰囲気下反応を行った。濾過により触媒を除去した
後、エタノールを減圧留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで分離精製して、目的とする（４Ｒ，１’
Ｒ）−（２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−ヒド
ロキシエチル）−４−ブタノリド0.４７ｇ（2.６ミリモ
ル）を得た。
【００４９】（Ｂ）（４Ｒ，１’Ｒ）−４−〔２’，
２’，２’−トリフルオロ−１’−(4"'−デシルオキシ
ビフェニル−４”−カルボニルオキシ）エチル〕−４−
ブタノリドの合成
２’，２’−トリフルオロ−１’−(4"'−デシルオキシ
ビフェニル−４”−カルボニルオキシ）エチル〕−４−
ブタノリドの合成
【化３３】
【００５０】４’−デシルオキシ−４−ビフェニルカル
ボン酸クロリド0.９９ｇ（2.７ミリモル）と（４Ｒ，
１’Ｒ）−４−（２’，２’，２’−トリフルオロ−
１’−ヒドロキシエチル）−４−ブタノリド0.４１ｇ
（2.２ミリモル）のトルエン溶液５ml中に無水ピリジン
２mlを加え、室温で１４時間反応させた。この反応溶液
に３Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、エーテルにより抽
出した。次いで、飽和炭酸水素ナトリウム及び飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。エ
ーテルを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー及びエタノールからの再結晶により精製し、目
的化合物である（４Ｒ，１’Ｒ）−４−〔２’，２’，
２’−トリフルオロ−１’−（４"'−デシルオキシビフ
ェニル−４”−カボニルオキシ）エチル〕−４−ブタノ
リド0.９５ｇを得た。
ボン酸クロリド0.９９ｇ（2.７ミリモル）と（４Ｒ，
１’Ｒ）−４−（２’，２’，２’−トリフルオロ−
１’−ヒドロキシエチル）−４−ブタノリド0.４１ｇ
（2.２ミリモル）のトルエン溶液５ml中に無水ピリジン
２mlを加え、室温で１４時間反応させた。この反応溶液
に３Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、エーテルにより抽
出した。次いで、飽和炭酸水素ナトリウム及び飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。エ
ーテルを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー及びエタノールからの再結晶により精製し、目
的化合物である（４Ｒ，１’Ｒ）−４−〔２’，２’，
２’−トリフルオロ−１’−（４"'−デシルオキシビフ
ェニル−４”−カボニルオキシ）エチル〕−４−ブタノ
リド0.９５ｇを得た。
【００５１】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ29Ｈ35Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；σ（ppm) 0.８９（ｔ，Ｊ＝6.６Ｈz ，３Ｈ）；1.２２〜1.５７
（ｍ，１４Ｈ）；1.７６〜1.８７（ｍ，２Ｈ）；2.４０
〜2.７１（ｍ，４Ｈ）；4.０１（ｔ，Ｊ＝6.５Ｈz ，２
Ｈ）；4.９６（ｄｔ，Ｊ＝4.０，7.０Ｈz ，１Ｈ）；5.
９４（ｄｑ，Ｊ＝4.０，7.０Ｈz ，１Ｈ）； 7.００
（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，２Ｈ）；7.５６（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈ
z ，２Ｈ）；7.６６（ｄ，Ｊ＝8.５Ｈz ，２Ｈ）；8.０
８（ｄ，Ｊ＝8.５Ｈz ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準 ＣＦＣl3 ）；σ（ppm ） −７4.３１ （ｄ，Ｊ＝6.９Ｈz ） ＩＲ（cm-1）１８００，１７４５，１６００，１５０
０，１１９０，１０３０ 質量分析 m/e （Ｍ+ ） 計算値 ５２0.２４３７ 実測値 ５２0.２４６９ 〔α〕25 D ＝−７0.０° （ｃ＝1.０７，ＣＨＣl3 ）
す。 分子式：Ｃ29Ｈ35Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；σ（ppm) 0.８９（ｔ，Ｊ＝6.６Ｈz ，３Ｈ）；1.２２〜1.５７
（ｍ，１４Ｈ）；1.７６〜1.８７（ｍ，２Ｈ）；2.４０
〜2.７１（ｍ，４Ｈ）；4.０１（ｔ，Ｊ＝6.５Ｈz ，２
Ｈ）；4.９６（ｄｔ，Ｊ＝4.０，7.０Ｈz ，１Ｈ）；5.
９４（ｄｑ，Ｊ＝4.０，7.０Ｈz ，１Ｈ）； 7.００
（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，２Ｈ）；7.５６（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈ
z ，２Ｈ）；7.６６（ｄ，Ｊ＝8.５Ｈz ，２Ｈ）；8.０
８（ｄ，Ｊ＝8.５Ｈz ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準 ＣＦＣl3 ）；σ（ppm ） −７4.３１ （ｄ，Ｊ＝6.９Ｈz ） ＩＲ（cm-1）１８００，１７４５，１６００，１５０
０，１１９０，１０３０ 質量分析 m/e （Ｍ+ ） 計算値 ５２0.２４３７ 実測値 ５２0.２４６９ 〔α〕25 D ＝−７0.０° （ｃ＝1.０７，ＣＨＣl3 ）
【００５２】実施例２ （４Ｓ，１’Ｒ）−４−〔２’，２’，２’−トリフル
オロ−１’−（４"'−デシルオキシビフェニル−４”−
カルボニルオキシ）エチル〕−４−ブタノリドの合成
オロ−１’−（４"'−デシルオキシビフェニル−４”−
カルボニルオキシ）エチル〕−４−ブタノリドの合成
【化３４】
【００５３】４’−デシルオキシ−４−ビフェニルカル
ボン酸クロリド0.７８ｇ（2.１ミリモル）と（４Ｓ，
１’Ｒ）−４−（２’，２’，２’−トリフルオロ−
１’−ヒドロキシエチル）−４−ブタノリド0.３２ｇ
（1.７ミリモル）のトルエン溶液５ml中に無水ピリジン
２mlを加え、室温で１６時間反応させた。次いで、実施
例１（Ｂ）と同様の後処理，精製を行い、目的化合物で
ある（４Ｓ，１’Ｒ）−４−〔２’，２’，２’−トリ
フルオロ−１’−（４"'−デシルオキシビフェニル−
４”−カルボニルオキシ）エチル〕−４−ブタノリド0.
２ｇを得た。
ボン酸クロリド0.７８ｇ（2.１ミリモル）と（４Ｓ，
１’Ｒ）−４−（２’，２’，２’−トリフルオロ−
１’−ヒドロキシエチル）−４−ブタノリド0.３２ｇ
（1.７ミリモル）のトルエン溶液５ml中に無水ピリジン
２mlを加え、室温で１６時間反応させた。次いで、実施
例１（Ｂ）と同様の後処理，精製を行い、目的化合物で
ある（４Ｓ，１’Ｒ）−４−〔２’，２’，２’−トリ
フルオロ−１’−（４"'−デシルオキシビフェニル−
４”−カルボニルオキシ）エチル〕−４−ブタノリド0.
２ｇを得た。
【００５４】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ29Ｈ35Ｆ3Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；σ（ppm) 0.８９（ｔ，Ｊ＝6.４Ｈz ，３Ｈ）；1.２０〜1.５９
（ｍ，１４Ｈ）；1.７６〜1.８７（ｍ，２Ｈ）；2.０９
〜2.２７（ｍ，１Ｈ）； 2.４３〜2.６０（ｍ，３
Ｈ）；4.０１（ｔ，Ｊ＝6.５Ｈz ，２Ｈ）；5.０１（ｄ
ｔ，Ｊ＝3.５，7.３Ｈz ，１Ｈ）；5.７１（ｄｑ，Ｊ＝
3.５，6.７Ｈz ，１Ｈ）；7.００（ｄ，Ｊ＝8.７Ｈz ，
２Ｈ）；7.５６（ｄ，Ｊ＝8.７Ｈz ，２Ｈ）；7.６７
（ｄ，Ｊ＝8.４Ｈz ，２Ｈ）；8.１２（ｄ，Ｊ＝8.５Ｈ
z ，２Ｈ） 19 Ｆ−ＮＭＲ（基準 ＣＦＣl3 ）；σ（ppm ） −７4.１２ （ｄ，Ｊ＝6.８Ｈz ） ＩＲ（cm-1）１７８０，１７４０，１６０５，１５０
０，１１９０，１０３０ 質量分析 m/e （Ｍ+ ） 計算値 ５２0.２４３７ 実測値 ５２0.２４０８ 〔α〕27 D ＝−３1.５°（ｃ＝1.０１，ＣＨＣl3 ）
す。 分子式：Ｃ29Ｈ35Ｆ3Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；σ（ppm) 0.８９（ｔ，Ｊ＝6.４Ｈz ，３Ｈ）；1.２０〜1.５９
（ｍ，１４Ｈ）；1.７６〜1.８７（ｍ，２Ｈ）；2.０９
〜2.２７（ｍ，１Ｈ）； 2.４３〜2.６０（ｍ，３
Ｈ）；4.０１（ｔ，Ｊ＝6.５Ｈz ，２Ｈ）；5.０１（ｄ
ｔ，Ｊ＝3.５，7.３Ｈz ，１Ｈ）；5.７１（ｄｑ，Ｊ＝
3.５，6.７Ｈz ，１Ｈ）；7.００（ｄ，Ｊ＝8.７Ｈz ，
２Ｈ）；7.５６（ｄ，Ｊ＝8.７Ｈz ，２Ｈ）；7.６７
（ｄ，Ｊ＝8.４Ｈz ，２Ｈ）；8.１２（ｄ，Ｊ＝8.５Ｈ
z ，２Ｈ） 19 Ｆ−ＮＭＲ（基準 ＣＦＣl3 ）；σ（ppm ） −７4.１２ （ｄ，Ｊ＝6.８Ｈz ） ＩＲ（cm-1）１７８０，１７４０，１６０５，１５０
０，１１９０，１０３０ 質量分析 m/e （Ｍ+ ） 計算値 ５２0.２４３７ 実測値 ５２0.２４０８ 〔α〕27 D ＝−３1.５°（ｃ＝1.０１，ＣＨＣl3 ）
【００５５】実施例３ （４Ｒ，１’Ｒ）−４−〔２’，２’，２’−トリフル
オロ−１’−〔４”−（４""−デシルオキシビフェニル
−４"'−カルボニルオキシ）フェニル−１”−カルボニ
ルオキシ〕エチル〕−４−ブタノリドの合成
オロ−１’−〔４”−（４""−デシルオキシビフェニル
−４"'−カルボニルオキシ）フェニル−１”−カルボニ
ルオキシ〕エチル〕−４−ブタノリドの合成
【化３５】
【００５６】ａ）４−ベンジルオキシ安息香酸クロリド
0.５９g （2.４ミリモル）と（４Ｒ，１’Ｒ）−４−
（２’，２’，２’−トリフルオロ−１−ヒドロキシメ
チル）−４−ブタノリド0.３７ｇ（2.０ミリモル）のト
ルエン溶液５ml中に無水ピリジン２mlを加え、室温で１
６時間反応させた。この反応溶液に３Ｎ塩酸を加えて反
応を停止させ、エーテルにより抽出した。次いで、飽和
炭酸水素ナトリウム及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。エーテルを減圧留去した
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精
製し、ベンジルエーテル化合物0.６６g を得た。
0.５９g （2.４ミリモル）と（４Ｒ，１’Ｒ）−４−
（２’，２’，２’−トリフルオロ−１−ヒドロキシメ
チル）−４−ブタノリド0.３７ｇ（2.０ミリモル）のト
ルエン溶液５ml中に無水ピリジン２mlを加え、室温で１
６時間反応させた。この反応溶液に３Ｎ塩酸を加えて反
応を停止させ、エーテルにより抽出した。次いで、飽和
炭酸水素ナトリウム及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。エーテルを減圧留去した
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精
製し、ベンジルエーテル化合物0.６６g を得た。
【００５７】ｂ）上記ａ）で得られた化合物をトルエン
５mlとエタノール５mlとの混合溶媒に溶解した溶液に１
０％パラジウム−チャーコール0.１g を添加し、水素雰
囲気下、室温で水素化分解を２７時間行った。その後、
反応液を濾過し、溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより分離精製し、アルコール
化合物0.４８g を得た。
５mlとエタノール５mlとの混合溶媒に溶解した溶液に１
０％パラジウム−チャーコール0.１g を添加し、水素雰
囲気下、室温で水素化分解を２７時間行った。その後、
反応液を濾過し、溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより分離精製し、アルコール
化合物0.４８g を得た。
【００５８】ｃ）上記ｂ）で得られた化合物0.３１ｇ
（1.０ミリモル）と４’−デシルオキシ−４−ビフェニ
ルカルボン酸クロリド0.４５ｇ（1.２ミリモル）のトル
エン溶液５ml中に無水ピリジン２mlを加え、室温で１５
時間反応させた。この反応溶液に３Ｎ塩酸を加えて反応
を停止させ、エーテルで抽出した。次いで、飽和炭酸水
素ナトリウム及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。エーテルを減圧留去した後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー及びエタノールから
の再結晶により精製し、目的化合物である（４Ｒ，１’
Ｒ）−４−〔２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−
〔４”−（４""−デシルオキシビフェニル−４"'−カル
ボニルオキシ）フェニル−１”−カルボニルオキシ〕エ
チル〕−４−ブタノリド0.５１ｇを得た。
（1.０ミリモル）と４’−デシルオキシ−４−ビフェニ
ルカルボン酸クロリド0.４５ｇ（1.２ミリモル）のトル
エン溶液５ml中に無水ピリジン２mlを加え、室温で１５
時間反応させた。この反応溶液に３Ｎ塩酸を加えて反応
を停止させ、エーテルで抽出した。次いで、飽和炭酸水
素ナトリウム及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。エーテルを減圧留去した後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー及びエタノールから
の再結晶により精製し、目的化合物である（４Ｒ，１’
Ｒ）−４−〔２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−
〔４”−（４""−デシルオキシビフェニル−４"'−カル
ボニルオキシ）フェニル−１”−カルボニルオキシ〕エ
チル〕−４−ブタノリド0.５１ｇを得た。
【００５９】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ36Ｈ39Ｆ3Ｏ7 1 Ｈ−ＮＭＲ；σ（ppm) 0.８９（ｔ，Ｊ＝6.３Ｈz ，３Ｈ）；1.２１〜1.６６
（ｍ，１４Ｈ）；1.７７〜1.９４（ｍ，２Ｈ）；2.４０
〜2.７３（ｍ，４Ｈ）；4.０２（ｔ，Ｊ＝6.５Ｈz ，２
Ｈ）；4.９５（ｄｔ，Ｊ＝4.１，6.９Ｈz ，１Ｈ）；5.
９３（ｄｑ，Ｊ＝4.０，6.８Ｈz ，１Ｈ）；7.０１
（ｄ，Ｊ＝8.６Ｈz ，２Ｈ）；7.３９（ｄ，Ｊ＝8.６Ｈ
z ，２Ｈ）；7.６０（ｄ，Ｊ＝8.６Ｈz ，２Ｈ）；7.７
１（ｄ，Ｊ＝8.３Ｈz ，２Ｈ）；8.１５（ｄ，Ｊ＝8.７
Ｈz ，２Ｈ）；8.２３（ｄ，Ｊ＝8.４Ｈz ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準 ＣＦＣl3 ）；σ（ppm ） −７4.３２ （ｄ，Ｊ＝6.９Ｈz ） ＩＲ（cm-1）１８００，１７４０，１６０５，１５０
５，１１９０，１０７０ 質量分析 m/e （Ｍ+ ） 計算値 ６４0.２６４８ 実測値 ６４0.２６７３ 〔α〕25 D ＝−３7.３°（ｃ＝1.０３，ＣＨＣl3 ）
す。 分子式：Ｃ36Ｈ39Ｆ3Ｏ7 1 Ｈ−ＮＭＲ；σ（ppm) 0.８９（ｔ，Ｊ＝6.３Ｈz ，３Ｈ）；1.２１〜1.６６
（ｍ，１４Ｈ）；1.７７〜1.９４（ｍ，２Ｈ）；2.４０
〜2.７３（ｍ，４Ｈ）；4.０２（ｔ，Ｊ＝6.５Ｈz ，２
Ｈ）；4.９５（ｄｔ，Ｊ＝4.１，6.９Ｈz ，１Ｈ）；5.
９３（ｄｑ，Ｊ＝4.０，6.８Ｈz ，１Ｈ）；7.０１
（ｄ，Ｊ＝8.６Ｈz ，２Ｈ）；7.３９（ｄ，Ｊ＝8.６Ｈ
z ，２Ｈ）；7.６０（ｄ，Ｊ＝8.６Ｈz ，２Ｈ）；7.７
１（ｄ，Ｊ＝8.３Ｈz ，２Ｈ）；8.１５（ｄ，Ｊ＝8.７
Ｈz ，２Ｈ）；8.２３（ｄ，Ｊ＝8.４Ｈz ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準 ＣＦＣl3 ）；σ（ppm ） −７4.３２ （ｄ，Ｊ＝6.９Ｈz ） ＩＲ（cm-1）１８００，１７４０，１６０５，１５０
５，１１９０，１０７０ 質量分析 m/e （Ｍ+ ） 計算値 ６４0.２６４８ 実測値 ６４0.２６７３ 〔α〕25 D ＝−３7.３°（ｃ＝1.０３，ＣＨＣl3 ）
【００６０】実施例４ （４Ｒ，１’Ｒ）−４−〔２’，２’，２’−トリフル
オロ−１’−〔４”−（４"'−デシルオキシビフェニル
−４""−メチレンオキシ）フェニル−１”−カルボニル
オキシ〕エチル〕−４−ブタノリドの合成
オロ−１’−〔４”−（４"'−デシルオキシビフェニル
−４""−メチレンオキシ）フェニル−１”−カルボニル
オキシ〕エチル〕−４−ブタノリドの合成
【化３６】
【００６１】実施例３ｂ）で得られた化合物0.４８g
（1.６ミリモル）のＴＨＦ（３ml）溶液を６０％水素化
ナトリウム0.０８g （1.９ミリモル）のＴＨＦ（５ml）
溶液に窒素雰囲気下、０℃で滴下し、２０分攪拌した。
次に、４’−クロロメチル−４−デシルオキシビフェニ
ル0.６８g （1.９ミリモル）のＴＨＦ（５ml）・ジメチ
ルスルホキシド（１０ml）混合溶液を滴下し、０℃で３
０分攪拌した。更に６０℃で２４時間反応させた。この
反応溶液に１Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、エーテル
により抽出した。次いで、飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。エーテルを減圧留去した
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー及びエタノー
ルからの再結晶により精製し、目的化合物である（４
Ｒ，１’Ｒ）−４−〔２’，２’，２’−トリフルオロ
−１’−〔４”−（４"'−デシルオキシビフェニル−
４""−メチレンオキシ）フェニル−１”−カルボニルオ
キシ〕エチル〕−４−ブタノリド0.２７g を得た。
（1.６ミリモル）のＴＨＦ（３ml）溶液を６０％水素化
ナトリウム0.０８g （1.９ミリモル）のＴＨＦ（５ml）
溶液に窒素雰囲気下、０℃で滴下し、２０分攪拌した。
次に、４’−クロロメチル−４−デシルオキシビフェニ
ル0.６８g （1.９ミリモル）のＴＨＦ（５ml）・ジメチ
ルスルホキシド（１０ml）混合溶液を滴下し、０℃で３
０分攪拌した。更に６０℃で２４時間反応させた。この
反応溶液に１Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、エーテル
により抽出した。次いで、飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。エーテルを減圧留去した
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー及びエタノー
ルからの再結晶により精製し、目的化合物である（４
Ｒ，１’Ｒ）−４−〔２’，２’，２’−トリフルオロ
−１’−〔４”−（４"'−デシルオキシビフェニル−
４""−メチレンオキシ）フェニル−１”−カルボニルオ
キシ〕エチル〕−４−ブタノリド0.２７g を得た。
【００６２】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ36Ｈ41Ｆ3Ｏ6 1 Ｈ−ＮＭＲ；σ（ppm) 0.８９（ｔ，Ｊ＝6.５Ｈz ，３Ｈ）；1.１８〜1.５９
（ｍ，１４Ｈ）；1.７５〜1.８６（ｍ，２Ｈ）；2.３７
〜2.６６（ｍ，４Ｈ）；4.００（ｔ，Ｊ＝6.５Ｈz ，２
Ｈ）；4.９３（ｄｔ，Ｊ＝4.０，7.２Ｈz ，１Ｈ）；5.
１７（ｓ，２Ｈ）；5.８９（ｄｑ，Ｊ＝4.０，7.０Ｈz
，１Ｈ）；6.９７（ｄ，Ｊ＝8.７Ｈz ，２Ｈ）；7.０
５（ｄ，Ｊ＝8.９Ｈz ，２Ｈ）；7.４６（ｄ，Ｊ＝8.２
Ｈz ，２Ｈ）；7.５２（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，２Ｈ）；7.
５９（ｄ，Ｊ＝8.２Ｈz ，２Ｈ）；8.０１（ｄ，Ｊ＝8.
９Ｈz ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準 ＣＦＣl3 ）；σ（ppm ） −７4.３５ （ｄ，Ｊ＝7.０Ｈz ） ＩＲ（cm-1）１８００，１７８５，１７５０，１６１
０，１５０５，１１９０，１０３０ 質量分析 m/e （Ｍ+ ） 計算値 ６２6.２８５５ 実測値 ６２6.２８４９ 〔α〕26 D ＝−３9.７°（ｃ＝0.９６，ＣＨＣl3 ）
す。 分子式：Ｃ36Ｈ41Ｆ3Ｏ6 1 Ｈ−ＮＭＲ；σ（ppm) 0.８９（ｔ，Ｊ＝6.５Ｈz ，３Ｈ）；1.１８〜1.５９
（ｍ，１４Ｈ）；1.７５〜1.８６（ｍ，２Ｈ）；2.３７
〜2.６６（ｍ，４Ｈ）；4.００（ｔ，Ｊ＝6.５Ｈz ，２
Ｈ）；4.９３（ｄｔ，Ｊ＝4.０，7.２Ｈz ，１Ｈ）；5.
１７（ｓ，２Ｈ）；5.８９（ｄｑ，Ｊ＝4.０，7.０Ｈz
，１Ｈ）；6.９７（ｄ，Ｊ＝8.７Ｈz ，２Ｈ）；7.０
５（ｄ，Ｊ＝8.９Ｈz ，２Ｈ）；7.４６（ｄ，Ｊ＝8.２
Ｈz ，２Ｈ）；7.５２（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，２Ｈ）；7.
５９（ｄ，Ｊ＝8.２Ｈz ，２Ｈ）；8.０１（ｄ，Ｊ＝8.
９Ｈz ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準 ＣＦＣl3 ）；σ（ppm ） −７4.３５ （ｄ，Ｊ＝7.０Ｈz ） ＩＲ（cm-1）１８００，１７８５，１７５０，１６１
０，１５０５，１１９０，１０３０ 質量分析 m/e （Ｍ+ ） 計算値 ６２6.２８５５ 実測値 ６２6.２８４９ 〔α〕26 D ＝−３9.７°（ｃ＝0.９６，ＣＨＣl3 ）
【００６３】実施例５ （４Ｓ，１’Ｒ）−４−〔２’，２’，２’−トリフル
オロ−１’−〔４”−（４""−デシルオキシビフェニル
−４"'−カルボニルオキシ）フェニル−１”−カルボニ
ルオキシ〕エチル〕−４−ブタノリドの合成
オロ−１’−〔４”−（４""−デシルオキシビフェニル
−４"'−カルボニルオキシ）フェニル−１”−カルボニ
ルオキシ〕エチル〕−４−ブタノリドの合成
【化３７】
【００６４】（４Ｓ，１’Ｒ）−４−（２’，２’，
２’−トリフルオロ−１’−ヒドロキシエチル）−４−
ブタノリド0.３２g （1.７ミリモル）を用い、実施例３
と同様の操作でエステル化，脱ベンジル化，エステル化
反応を行うことにより目的化合物である（４Ｓ，１’
Ｒ）−４−〔２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−
〔４”−（４""−デシルオキシビフェニル−４"'−カル
ボニルオキシ）フェニル−１”−カルボニルオキシ〕エ
チル〕−４−ブタノリド0.５８g を得た。
２’−トリフルオロ−１’−ヒドロキシエチル）−４−
ブタノリド0.３２g （1.７ミリモル）を用い、実施例３
と同様の操作でエステル化，脱ベンジル化，エステル化
反応を行うことにより目的化合物である（４Ｓ，１’
Ｒ）−４−〔２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−
〔４”−（４""−デシルオキシビフェニル−４"'−カル
ボニルオキシ）フェニル−１”−カルボニルオキシ〕エ
チル〕−４−ブタノリド0.５８g を得た。
【００６５】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ36Ｈ39Ｆ3Ｏ7 1 Ｈ−ＮＭＲ；σ（ppm) 0.８９（ｔ，Ｊ＝6.６Ｈz ，３Ｈ）；1.２０〜1.５９
（ｍ，１４Ｈ）；1.７６〜1.９０（ｍ，２Ｈ）；2.０８
〜2.２７（ｍ，１Ｈ）；2.４４〜2.６３（ｍ，３Ｈ）；
4.０２（ｔ，Ｊ＝6.６Ｈz ，２Ｈ）；5.００（ｄｔ，Ｊ
＝3.８，7.２Ｈz ，１Ｈ）；5.７０（ｄｑ，Ｊ＝3.８，
6.８Ｈz ，１Ｈ）；7.０１（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，２
Ｈ）；7.３９（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，２Ｈ）；7.６０
（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，２Ｈ）；7.７１（ｄ，Ｊ＝8.６Ｈ
z ，２Ｈ）；8.１９（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，２Ｈ）；8.２
４（ｄ，Ｊ＝8.５Ｈz ，２Ｈ） 19 Ｆ−ＮＭＲ（基準 ＣＦＣl3 ）；σ（ppm ） −７4.０９ （ｄ，Ｊ＝6.８Ｈz ） ＩＲ（cm-1）１７９０，１７４０，１６０５，１５０
５，１１８５，１０７０ 質量分析 m/e （Ｍ+ ） 計算値 ６４0.２６４８ 実測値 ６４0.２６４８ 〔α〕27 D ＝−２1.３°（ｃ＝1.０１，ＣＨＣl3 ）
す。 分子式：Ｃ36Ｈ39Ｆ3Ｏ7 1 Ｈ−ＮＭＲ；σ（ppm) 0.８９（ｔ，Ｊ＝6.６Ｈz ，３Ｈ）；1.２０〜1.５９
（ｍ，１４Ｈ）；1.７６〜1.９０（ｍ，２Ｈ）；2.０８
〜2.２７（ｍ，１Ｈ）；2.４４〜2.６３（ｍ，３Ｈ）；
4.０２（ｔ，Ｊ＝6.６Ｈz ，２Ｈ）；5.００（ｄｔ，Ｊ
＝3.８，7.２Ｈz ，１Ｈ）；5.７０（ｄｑ，Ｊ＝3.８，
6.８Ｈz ，１Ｈ）；7.０１（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，２
Ｈ）；7.３９（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，２Ｈ）；7.６０
（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，２Ｈ）；7.７１（ｄ，Ｊ＝8.６Ｈ
z ，２Ｈ）；8.１９（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，２Ｈ）；8.２
４（ｄ，Ｊ＝8.５Ｈz ，２Ｈ） 19 Ｆ−ＮＭＲ（基準 ＣＦＣl3 ）；σ（ppm ） −７4.０９ （ｄ，Ｊ＝6.８Ｈz ） ＩＲ（cm-1）１７９０，１７４０，１６０５，１５０
５，１１８５，１０７０ 質量分析 m/e （Ｍ+ ） 計算値 ６４0.２６４８ 実測値 ６４0.２６４８ 〔α〕27 D ＝−２1.３°（ｃ＝1.０１，ＣＨＣl3 ）
【００６６】実施例６ （ａ）（３Ｒ，４Ｒ，１’Ｒ）−３−ブチル−（２’，
２’，２’−トリフルオロ−１’−ヒドロキシエチル）
−４−ブタノリドの合成
２’，２’−トリフルオロ−１’−ヒドロキシエチル）
−４−ブタノリドの合成
【化３８】
【００６７】窒素雰囲気下、テトラヒドロフラン１０ml
に塩化第一銅1.９ｇ（１０ミリモル）を加え、−７８℃
で1.６Ｍ ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液１2.５ml
（２０ミリモル）をゆっくりと滴下し、−７８℃で３０
分，室温で５分，さらに−７８℃で３０分反応させる。
−７８℃でトリフルオロボラン・エーテル錯体2.８ｇ
（２０ミリモル）を加え、−７８℃で３０分攪拌した。
次に、実施例１（Ａ）（ｆ）で得られた（４Ｒ，１’
Ｒ）体1.５ｇ（５ミリモル）のテトラヒドロフラン（２
ml) 溶液を滴下し、−７８℃で２時間反応させた。希ア
ンモニア水を加えて反応を停止し、酢酸エチルで抽出し
た。チオ硫酸ナトリウム溶液，飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減
圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離
精製することによりアルキル化体1.５ｇ（4.３ミリモ
ル）を得た。
に塩化第一銅1.９ｇ（１０ミリモル）を加え、−７８℃
で1.６Ｍ ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液１2.５ml
（２０ミリモル）をゆっくりと滴下し、−７８℃で３０
分，室温で５分，さらに−７８℃で３０分反応させる。
−７８℃でトリフルオロボラン・エーテル錯体2.８ｇ
（２０ミリモル）を加え、−７８℃で３０分攪拌した。
次に、実施例１（Ａ）（ｆ）で得られた（４Ｒ，１’
Ｒ）体1.５ｇ（５ミリモル）のテトラヒドロフラン（２
ml) 溶液を滴下し、−７８℃で２時間反応させた。希ア
ンモニア水を加えて反応を停止し、酢酸エチルで抽出し
た。チオ硫酸ナトリウム溶液，飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減
圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離
精製することによりアルキル化体1.５ｇ（4.３ミリモ
ル）を得た。
【００６８】上記反応で得られたアルキル化体1.５ｇ
（4.３ミリモル）を実施例１（Ａ）（ｇ）と同様の方法
で脱シリル化反応を行い、目的とする（３Ｒ，４Ｒ，
１’Ｒ）−３−ブチル−（２’，２’，２’−トリフル
オロ−１’−ヒドロキシエチル）−４−ブタノリド1.０
g （4.１ミリモル）を得た。
（4.３ミリモル）を実施例１（Ａ）（ｇ）と同様の方法
で脱シリル化反応を行い、目的とする（３Ｒ，４Ｒ，
１’Ｒ）−３−ブチル−（２’，２’，２’−トリフル
オロ−１’−ヒドロキシエチル）−４−ブタノリド1.０
g （4.１ミリモル）を得た。
【００６９】（ｂ）（３Ｒ，４Ｒ，１’Ｒ）−３−ブチ
ル−４−〔２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−
（４""−デシルオキシビフェニル−４"'−カルボニルオ
キシ）エチル〕−４−ブタノリドの合成
ル−４−〔２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−
（４""−デシルオキシビフェニル−４"'−カルボニルオ
キシ）エチル〕−４−ブタノリドの合成
【化３９】
【００７０】上記（ａ）で得た（３Ｒ，４Ｒ，１’Ｒ）
−３−ブチル−４−（２’，２’，２’−トリフルオロ
−１’−ヒドロキシエチル）−４−ブタノリド0.２６ｇ
（1.１ミリモル）を用い、実施例１（Ｂ）と同様の操作
を行って目的化合物（３Ｒ，４Ｒ，１’Ｒ）−３−ブチ
ル−４−〔２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−
（４""−デシルオキシビフェニル−４"'−カルボニルオ
キシ）エチル〕−４−ブタノリド0.４５g を得た。
−３−ブチル−４−（２’，２’，２’−トリフルオロ
−１’−ヒドロキシエチル）−４−ブタノリド0.２６ｇ
（1.１ミリモル）を用い、実施例１（Ｂ）と同様の操作
を行って目的化合物（３Ｒ，４Ｒ，１’Ｒ）−３−ブチ
ル−４−〔２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−
（４""−デシルオキシビフェニル−４"'−カルボニルオ
キシ）エチル〕−４−ブタノリド0.４５g を得た。
【００７１】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ33Ｈ43Ｆ3Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；σ（ppm) 0.８２〜0.９９（ｍ，６Ｈ）；1.１８〜1.５８（ｍ，２
０Ｈ）；1.７６〜1.８７（ｍ，２Ｈ）；2.２６（ｄｄ，
Ｊ＝4.３，１7.２Ｈz ，１Ｈ）；2.６２〜2.７７（ｍ，
１Ｈ）；2.８０（ｄｄ，Ｊ＝9.３，１7.３Ｈz ，１
Ｈ）；4.０１（ｔ，Ｊ＝6.５Ｈz ，２Ｈ）；4.６１（ｄ
ｄ，Ｊ＝4.３，4.３Ｈz ，１Ｈ）；5.８２（ｄｑ，Ｊ＝
4.７，6.８Ｈz ，１Ｈ）；7.００（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，
２Ｈ）；7.５６（ｄ，Ｊ＝8.７Ｈz ，２Ｈ）；7.６７
（ｄ，Ｊ＝8.４Ｈz ，２Ｈ）；8.０８（ｄ，Ｊ＝8.４Ｈ
z ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準 ＣＦＣl3 ）；σ（ppm ） −７3.９３ （ｄ，Ｊ＝6.９Ｈz ） ＩＲ（cm-1）１７９０，１７５０，１６０５，１５０
０，１１９０，１０８０ 質量分析 m/e （Ｍ+ ） 計算値 ５７6.３０６３ 実測値 ５７6.３０２０ 〔α〕26 D ＝＋４5.５° （ｃ＝1.０４，ＣＨＣl3 ）
す。 分子式：Ｃ33Ｈ43Ｆ3Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；σ（ppm) 0.８２〜0.９９（ｍ，６Ｈ）；1.１８〜1.５８（ｍ，２
０Ｈ）；1.７６〜1.８７（ｍ，２Ｈ）；2.２６（ｄｄ，
Ｊ＝4.３，１7.２Ｈz ，１Ｈ）；2.６２〜2.７７（ｍ，
１Ｈ）；2.８０（ｄｄ，Ｊ＝9.３，１7.３Ｈz ，１
Ｈ）；4.０１（ｔ，Ｊ＝6.５Ｈz ，２Ｈ）；4.６１（ｄ
ｄ，Ｊ＝4.３，4.３Ｈz ，１Ｈ）；5.８２（ｄｑ，Ｊ＝
4.７，6.８Ｈz ，１Ｈ）；7.００（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，
２Ｈ）；7.５６（ｄ，Ｊ＝8.７Ｈz ，２Ｈ）；7.６７
（ｄ，Ｊ＝8.４Ｈz ，２Ｈ）；8.０８（ｄ，Ｊ＝8.４Ｈ
z ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準 ＣＦＣl3 ）；σ（ppm ） −７3.９３ （ｄ，Ｊ＝6.９Ｈz ） ＩＲ（cm-1）１７９０，１７５０，１６０５，１５０
０，１１９０，１０８０ 質量分析 m/e （Ｍ+ ） 計算値 ５７6.３０６３ 実測値 ５７6.３０２０ 〔α〕26 D ＝＋４5.５° （ｃ＝1.０４，ＣＨＣl3 ）
【００７２】実施例７ （３Ｒ，４Ｒ，１’Ｒ）−３−ブチル−４−〔２’，
２’，２’−トリフルオロ−１’−（４"'−デシルオキ
シビフェニル−４""−メチレンオキシ）エチル〕−４−
ブタノリドの合成
２’，２’−トリフルオロ−１’−（４"'−デシルオキ
シビフェニル−４""−メチレンオキシ）エチル〕−４−
ブタノリドの合成
【化４０】
【００７３】（３Ｒ，４Ｒ，１’Ｒ）−３−ブチル−４
−（２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−ヒドロキ
シエチル）−４−ブタノリド0.２６ｇ（1.１ミリモル）
のＴＨＦ（３ml）溶液を６０％水素化ナトリウム0.０５
ｇ（1.３ミリモル）のＴＨＦ（５ml）溶液に窒素雰囲気
下、０℃で滴下し、３０分間攪拌した。次に、４’−ク
ロロメチル−４−デシルオキシルビフェニル0.４３ｇ
（1.２ミリモル）のＴＨＦ（５ml）・ジメチルスルホキ
シド（１０ml）混合溶液を室温で滴下し、６０℃で２４
時間反応させた。この反応溶液に１Ｎ塩酸を加えて反応
を停止させ、エーテルにより抽出した。次いで、飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。エー
テルを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー及びエタノールからの再結晶により精製し、目的
化合物である（３Ｒ，４Ｒ，１’Ｒ）−３−ブチル−４
−〔２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−（４"'−
デシルオキシビフェニル−４""−メチレンオキシ）エチ
ル〕−４−ブタノリド0.２４ｇを得た。
−（２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−ヒドロキ
シエチル）−４−ブタノリド0.２６ｇ（1.１ミリモル）
のＴＨＦ（３ml）溶液を６０％水素化ナトリウム0.０５
ｇ（1.３ミリモル）のＴＨＦ（５ml）溶液に窒素雰囲気
下、０℃で滴下し、３０分間攪拌した。次に、４’−ク
ロロメチル−４−デシルオキシルビフェニル0.４３ｇ
（1.２ミリモル）のＴＨＦ（５ml）・ジメチルスルホキ
シド（１０ml）混合溶液を室温で滴下し、６０℃で２４
時間反応させた。この反応溶液に１Ｎ塩酸を加えて反応
を停止させ、エーテルにより抽出した。次いで、飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。エー
テルを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー及びエタノールからの再結晶により精製し、目的
化合物である（３Ｒ，４Ｒ，１’Ｒ）−３−ブチル−４
−〔２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−（４"'−
デシルオキシビフェニル−４""−メチレンオキシ）エチ
ル〕−４−ブタノリド0.２４ｇを得た。
【００７４】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ33Ｈ45Ｆ3Ｏ4 1 Ｈ−ＮＭＲ；σ（ppm) 0.８０〜0.９８（ｍ，６Ｈ）；1.１４〜1.６０（ｍ，２
０Ｈ）；1.７４〜1.８６（ｍ，２Ｈ）；2.１３（ｄｄ，
Ｊ＝2.５，１7.２Ｈz ，１Ｈ）；2.５８〜2.７２（ｍ，
１Ｈ）；2.７６（ｄｄ，Ｊ＝9.５，１7.３Ｈz ，１
Ｈ）；3.９８（ｔ，Ｊ＝6.５Ｈz ，２Ｈ）；4.１１（ｄ
ｑ，Ｊ＝2.４，7.２Ｈz ，１Ｈ）；4.４２（ｄｄ，Ｊ＝
2.４，2.４Ｈz ，１Ｈ）；4.６３（ｄ，Ｊ＝１0.７Ｈz
，１Ｈ）；4.８５（ｄ，Ｊ＝１0.６Ｈz，１Ｈ）；6.９
５（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，２Ｈ）；7.３３（ｄ，Ｊ＝8.２
Ｈz ，２Ｈ）；7.５０（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，２Ｈ）；7.
５５（ｄ，Ｊ＝8.２Ｈz ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準 ＣＦＣl3 ）；σ（ppm ） −７3.３９ （ｄ，Ｊ＝7.１Ｈz ） ＩＲ（cm-1）１７９０，１６１０，１５０５，１１７
０，１０６０ 質量分析 m/e （Ｍ+ ） 計算値 ５６2.３２７０ 実測値 ５６2.３２６８ 〔α〕26 D ＝＋4.６°（ｃ＝1.０１，ＣＨＣl3 ）
す。 分子式：Ｃ33Ｈ45Ｆ3Ｏ4 1 Ｈ−ＮＭＲ；σ（ppm) 0.８０〜0.９８（ｍ，６Ｈ）；1.１４〜1.６０（ｍ，２
０Ｈ）；1.７４〜1.８６（ｍ，２Ｈ）；2.１３（ｄｄ，
Ｊ＝2.５，１7.２Ｈz ，１Ｈ）；2.５８〜2.７２（ｍ，
１Ｈ）；2.７６（ｄｄ，Ｊ＝9.５，１7.３Ｈz ，１
Ｈ）；3.９８（ｔ，Ｊ＝6.５Ｈz ，２Ｈ）；4.１１（ｄ
ｑ，Ｊ＝2.４，7.２Ｈz ，１Ｈ）；4.４２（ｄｄ，Ｊ＝
2.４，2.４Ｈz ，１Ｈ）；4.６３（ｄ，Ｊ＝１0.７Ｈz
，１Ｈ）；4.８５（ｄ，Ｊ＝１0.６Ｈz，１Ｈ）；6.９
５（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，２Ｈ）；7.３３（ｄ，Ｊ＝8.２
Ｈz ，２Ｈ）；7.５０（ｄ，Ｊ＝8.８Ｈz ，２Ｈ）；7.
５５（ｄ，Ｊ＝8.２Ｈz ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準 ＣＦＣl3 ）；σ（ppm ） −７3.３９ （ｄ，Ｊ＝7.１Ｈz ） ＩＲ（cm-1）１７９０，１６１０，１５０５，１１７
０，１０６０ 質量分析 m/e （Ｍ+ ） 計算値 ５６2.３２７０ 実測値 ５６2.３２６８ 〔α〕26 D ＝＋4.６°（ｃ＝1.０１，ＣＨＣl3 ）
【００７５】実施例８ （３Ｒ，４Ｒ，１’Ｒ）−３−ブチル−４−〔２’，
２’，２’−トリフルオロ−１’−〔４”−（４""−デ
シルオキシビフェニル−４"'−カルボニルオキシ）フェ
ニル−１”−カルボニルオキシ〕エチル〕−４−ブタノ
リドの合成
２’，２’−トリフルオロ−１’−〔４”−（４""−デ
シルオキシビフェニル−４"'−カルボニルオキシ）フェ
ニル−１”−カルボニルオキシ〕エチル〕−４−ブタノ
リドの合成
【化４１】
【００７６】（３Ｒ，４Ｒ，１’Ｒ）−３−ブチル−４
−〔２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−ヒドロキ
シエチル）−４−ブタノリド0.２６ｇ（1.１ミリモル）
を用い、実施例３と同様の操作を行い、目的化合物であ
る（３Ｒ，４Ｒ，１’Ｒ）−３−ブチル−４−〔２’，
２’，２’−トリフルオロ−１’−〔４”−（４""−デ
シルオキシビフェニル−４"'−カルボニルオキシ）フェ
ニル−１”−カルボニルオキシ〕エチル〕−４−ブタノ
リド0.１５ｇを得た。
−〔２’，２’，２’−トリフルオロ−１’−ヒドロキ
シエチル）−４−ブタノリド0.２６ｇ（1.１ミリモル）
を用い、実施例３と同様の操作を行い、目的化合物であ
る（３Ｒ，４Ｒ，１’Ｒ）−３−ブチル−４−〔２’，
２’，２’−トリフルオロ−１’−〔４”−（４""−デ
シルオキシビフェニル−４"'−カルボニルオキシ）フェ
ニル−１”−カルボニルオキシ〕エチル〕−４−ブタノ
リド0.１５ｇを得た。
【００７７】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ40Ｈ47Ｆ3Ｏ7 1 Ｈ−ＮＭＲ；σ（ppm) 0.７７〜0.９９（ｍ，６Ｈ）；1.１２〜1.７２（ｍ，２
０Ｈ）；1.７６〜1.８７（ｍ，２Ｈ）；2.２７（ｄｄ，
Ｊ＝4.５，１7.３Ｈz ，１Ｈ）；2.５６〜2.７６（ｍ，
１Ｈ）；2.７９（ｄｄ，Ｊ＝9.３，１7.４Ｈz ，１
Ｈ）；4.０２（ｔ，Ｊ＝6.５Ｈz ，２Ｈ）；4.６１（ｄ
ｄ，Ｊ＝4.４，4.４Ｈz ，１Ｈ）；5.８１（ｄｑ，Ｊ＝
4.８，6.８Ｈz ，１Ｈ）；7.０１（ｄ，Ｊ＝8.７Ｈz ，
２Ｈ）；7.４０（ｄ，Ｊ＝8.７Ｈz ，２Ｈ）；7.６０
（ｄ，Ｊ＝8.７Ｈz ，２Ｈ）；7.７１（ｄ，Ｊ＝8.４Ｈ
z ，２Ｈ）；8.１５（ｄ，Ｊ＝8.７Ｈz ，２Ｈ）；8.２
４（ｄ，Ｊ＝8.４Ｈz ，２Ｈ）；19 Ｆ−ＮＭＲ（基準 ＣＦＣl3 ）；σ（ppm ） −７3.９１ （ｄ，Ｊ＝6.８Ｈz ） ＩＲ（cm-1）１８００，１７４０，１６００，１５０
０，１１８５，１０７０ 質量分析 m/e （Ｍ+ ） 計算値 ６９6.３２７４ 実測値 ６９6.３２５４ 〔α〕26 D ＝＋２5.９°（ｃ＝1.０１，ＣＨＣl3 ）
す。 分子式：Ｃ40Ｈ47Ｆ3Ｏ7 1 Ｈ−ＮＭＲ；σ（ppm) 0.７７〜0.９９（ｍ，６Ｈ）；1.１２〜1.７２（ｍ，２
０Ｈ）；1.７６〜1.８７（ｍ，２Ｈ）；2.２７（ｄｄ，
Ｊ＝4.５，１7.３Ｈz ，１Ｈ）；2.５６〜2.７６（ｍ，
１Ｈ）；2.７９（ｄｄ，Ｊ＝9.３，１7.４Ｈz ，１
Ｈ）；4.０２（ｔ，Ｊ＝6.５Ｈz ，２Ｈ）；4.６１（ｄ
ｄ，Ｊ＝4.４，4.４Ｈz ，１Ｈ）；5.８１（ｄｑ，Ｊ＝
4.８，6.８Ｈz ，１Ｈ）；7.０１（ｄ，Ｊ＝8.７Ｈz ，
２Ｈ）；7.４０（ｄ，Ｊ＝8.７Ｈz ，２Ｈ）；7.６０
（ｄ，Ｊ＝8.７Ｈz ，２Ｈ）；7.７１（ｄ，Ｊ＝8.４Ｈ
z ，２Ｈ）；8.１５（ｄ，Ｊ＝8.７Ｈz ，２Ｈ）；8.２
４（ｄ，Ｊ＝8.４Ｈz ，２Ｈ）；19 Ｆ−ＮＭＲ（基準 ＣＦＣl3 ）；σ（ppm ） −７3.９１ （ｄ，Ｊ＝6.８Ｈz ） ＩＲ（cm-1）１８００，１７４０，１６００，１５０
０，１１８５，１０７０ 質量分析 m/e （Ｍ+ ） 計算値 ６９6.３２７４ 実測値 ６９6.３２５４ 〔α〕26 D ＝＋２5.９°（ｃ＝1.０１，ＣＨＣl3 ）
【００７８】実施例１〜８で合成した化合物の相転移温
度は、ＤＳＣ測定及び偏光顕微鏡による観察から表１に
示すとおりであった。
度は、ＤＳＣ測定及び偏光顕微鏡による観察から表１に
示すとおりであった。
【００７９】
【表１】
【００８０】表中、Cryst は結晶相を表し、Iso は等方
相を表し、SmＡはスメクチックＡ相を表す。
相を表し、SmＡはスメクチックＡ相を表す。
【００８１】
【発明の効果】本発明の光学活性γ−ラクトン誘導体
は、化学的に安定で、着色がなく、光安定性にも優れた
新規化合物であって、液晶性を示すか、あるいは単独で
は液晶性を示さないが、組成物とした場合に高速応答性
を向上させうる、大きな自発分極を誘起する強誘電性液
晶の配合成分として有用である。
は、化学的に安定で、着色がなく、光安定性にも優れた
新規化合物であって、液晶性を示すか、あるいは単独で
は液晶性を示さないが、組成物とした場合に高速応答性
を向上させうる、大きな自発分極を誘起する強誘電性液
晶の配合成分として有用である。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 307/33 C07D 405/12 213 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒf は炭素数１又は２のフルオロアルキル基を
示し、Ｒ1は炭素数３〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル
基を示し、Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ独立に水素又は炭素
数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキル基を示し、Ａは−
ＣＯＯ−，−Ｏ−又は単結合を示し、Ｂは−ＣＯＯ−，
−ＯＣＯ−，−ＣＨ2 Ｏ−，−ＯＣＨ2 −又は単結合を
示し、Ｙは−ＣＯＯ−，−ＣＨ2 Ｏ−又は−Ｏ−を示
し、＊は不斉炭素を示し、Ｘ1 及びＸ2 はそれぞれ独立
に 【化２】 を示す。〕で表される光学活性γ−ラクトン誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2417386A JP2821031B2 (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 光学活性γ−ラクトン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2417386A JP2821031B2 (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 光学活性γ−ラクトン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04230677A JPH04230677A (ja) | 1992-08-19 |
| JP2821031B2 true JP2821031B2 (ja) | 1998-11-05 |
Family
ID=18525501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2417386A Expired - Fee Related JP2821031B2 (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 光学活性γ−ラクトン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2821031B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6096908A (en) * | 1992-01-31 | 2000-08-01 | Kashima Oil Company | Optically active fluorinated compounds |
-
1990
- 1990-12-28 JP JP2417386A patent/JP2821031B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04230677A (ja) | 1992-08-19 |
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