JP2786782B2 - 光学活性テトラヒドロピラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素子 - Google Patents
光学活性テトラヒドロピラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素子Info
- Publication number
- JP2786782B2 JP2786782B2 JP20118992A JP20118992A JP2786782B2 JP 2786782 B2 JP2786782 B2 JP 2786782B2 JP 20118992 A JP20118992 A JP 20118992A JP 20118992 A JP20118992 A JP 20118992A JP 2786782 B2 JP2786782 B2 JP 2786782B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- liquid crystal
- mmol
- group
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Liquid Crystal Substances (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学活性テトラヒドロピ
ラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素子に
関し、詳しくは、表示素子あるいは電気光学素子に用い
られる液晶材料として有用な新規な光学活性テトラヒド
ロピラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素
子に関する。
ラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素子に
関し、詳しくは、表示素子あるいは電気光学素子に用い
られる液晶材料として有用な新規な光学活性テトラヒド
ロピラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素
子に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、各種の表示素子，電子光学デバイ
ス，液晶センサなど、液晶の利用分野が著しく拡大しつ
つあり、それに伴って様々な構造の液晶化合物が提案さ
れてきた。特に、表示素子に用いられる液晶材料は、現
在のところネマティック液晶が主流であり、これを用い
たＴＮ型あるいはＳＴＮ型の単純マトリックス方式及び
個々の画素ごとに薄膜トランジスタを付与したＴＦＴ型
のアクティブマトリックス方式が用いられている。しか
し、ネマティック液晶は、その駆動力が液晶材料の誘電
率の異方性と電場との弱い相互作用に基づくため、本質
的に応答速度が遅い（msecオーダー）という欠点を有し
ており、高速応答を要求される大画面の表示素子の材料
としては不利であった。これに対して、１９７５年マイ
ヤー( R. B. Meyer ) らにより初めて合成された強誘電
性液晶は、自発分極を有し、これが直接電界と作用する
ため、駆動力が大きく、１９８０年にクラーク( N. A.
Clark ）らが表面安定化型強誘電性液晶素子（ＳＳＦＬ
ＣＤ）において、そのμｓｅｃオーダーの高速応答性と
メモリー性を発表して以来、注目を集め、これまで多く
の強誘電性液晶化合物が合成されてきた。
ス，液晶センサなど、液晶の利用分野が著しく拡大しつ
つあり、それに伴って様々な構造の液晶化合物が提案さ
れてきた。特に、表示素子に用いられる液晶材料は、現
在のところネマティック液晶が主流であり、これを用い
たＴＮ型あるいはＳＴＮ型の単純マトリックス方式及び
個々の画素ごとに薄膜トランジスタを付与したＴＦＴ型
のアクティブマトリックス方式が用いられている。しか
し、ネマティック液晶は、その駆動力が液晶材料の誘電
率の異方性と電場との弱い相互作用に基づくため、本質
的に応答速度が遅い（msecオーダー）という欠点を有し
ており、高速応答を要求される大画面の表示素子の材料
としては不利であった。これに対して、１９７５年マイ
ヤー( R. B. Meyer ) らにより初めて合成された強誘電
性液晶は、自発分極を有し、これが直接電界と作用する
ため、駆動力が大きく、１９８０年にクラーク( N. A.
Clark ）らが表面安定化型強誘電性液晶素子（ＳＳＦＬ
ＣＤ）において、そのμｓｅｃオーダーの高速応答性と
メモリー性を発表して以来、注目を集め、これまで多く
の強誘電性液晶化合物が合成されてきた。
【０００３】強誘電性液晶の応答速度はτ＝η／（Ｐｓ
・Ｅ）で知られている。ここでηは回転粘性を示し、Ｐ
ｓは自発分極を示し、Ｅは電界強度を示す。これから、
高速応答性を得るため、粘性が小さく、自発分極の大き
な液晶材料が開発目標とされてきた。また、液晶材料と
しては、化学的安定性，広動作温度範囲などの特性が要
求されるが、単一の化合物でこれらの諸特性を満たすこ
とは困難であった。したがって、従来、複数のカイラル
スメクチックＣ相（ＳｍＣ* ) を有する化合物どうしを
混合したり、粘性の低いスメクチックＣ相（ＳｍＣ）を
有する母体液晶に光学活性な化合物を添加して所望の性
能を有するＳｍＣ* 相を示す強誘電性液晶組成物を得る
方法が用いられてきた。後者の場合には、添加するカイ
ラルドーパントは、それ自体ＳｍＣ* 相を有していて
も、有していなくてもよく、母体液晶との相溶性が良好
で、大きな自発分極を誘起し、粘性を増大させないこと
が要求される。
・Ｅ）で知られている。ここでηは回転粘性を示し、Ｐ
ｓは自発分極を示し、Ｅは電界強度を示す。これから、
高速応答性を得るため、粘性が小さく、自発分極の大き
な液晶材料が開発目標とされてきた。また、液晶材料と
しては、化学的安定性，広動作温度範囲などの特性が要
求されるが、単一の化合物でこれらの諸特性を満たすこ
とは困難であった。したがって、従来、複数のカイラル
スメクチックＣ相（ＳｍＣ* ) を有する化合物どうしを
混合したり、粘性の低いスメクチックＣ相（ＳｍＣ）を
有する母体液晶に光学活性な化合物を添加して所望の性
能を有するＳｍＣ* 相を示す強誘電性液晶組成物を得る
方法が用いられてきた。後者の場合には、添加するカイ
ラルドーパントは、それ自体ＳｍＣ* 相を有していて
も、有していなくてもよく、母体液晶との相溶性が良好
で、大きな自発分極を誘起し、粘性を増大させないこと
が要求される。
【０００４】自発分極は、分子長軸に対して垂直な方向
の双極子モーメントが不斉炭素の影響により長軸回りの
自由回転が制御された結果生じると考えられている。し
たがって、自発分極を増大させるためには、双極子部
分をコアと呼ばれる骨格部に近づける、双極子部分と
不斉炭素原子を近づける、不斉炭素に立体的に大きな
置換基をつけ、長軸回りの自由回転を抑制する等の方法
で自発分極を増大させる試みがなされてきた。さらに最
近、双極子部分と不斉炭素を５員環ラクトンに直結させ
た構造の化合物が効果的に自由回転を束縛し、大きな自
発分極を有することが報告された（Japanese Journal o
f Applied Physics, 29 巻，No.6、 ppL981 〜L 983)。
このような状況下で本発明者らは、さらに新たなタイプ
の液晶として有望なテトラヒドロピラン環を有する新規
な光学活性化合物を開発することを目的として鋭意研究
を重ねた。
の双極子モーメントが不斉炭素の影響により長軸回りの
自由回転が制御された結果生じると考えられている。し
たがって、自発分極を増大させるためには、双極子部
分をコアと呼ばれる骨格部に近づける、双極子部分と
不斉炭素原子を近づける、不斉炭素に立体的に大きな
置換基をつけ、長軸回りの自由回転を抑制する等の方法
で自発分極を増大させる試みがなされてきた。さらに最
近、双極子部分と不斉炭素を５員環ラクトンに直結させ
た構造の化合物が効果的に自由回転を束縛し、大きな自
発分極を有することが報告された（Japanese Journal o
f Applied Physics, 29 巻，No.6、 ppL981 〜L 983)。
このような状況下で本発明者らは、さらに新たなタイプ
の液晶として有望なテトラヒドロピラン環を有する新規
な光学活性化合物を開発することを目的として鋭意研究
を重ねた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】その結果、本発明者ら
は、テトラヒドロピラン環上の不斉炭素原子に、それ自
体大きな電子吸引性を有するフルオロアルキル基を有す
る新規化合物が、単品で液晶性を示すか、あるいは単品
では液晶性を示さないが、組成物とした場合に高速応答
が期待できる優れたドーパントとなりうることを見い出
した。本発明はかかる知見に基づいて完成したものであ
る。すなわち、本発明は一般式（Ｉ）
は、テトラヒドロピラン環上の不斉炭素原子に、それ自
体大きな電子吸引性を有するフルオロアルキル基を有す
る新規化合物が、単品で液晶性を示すか、あるいは単品
では液晶性を示さないが、組成物とした場合に高速応答
が期待できる優れたドーパントとなりうることを見い出
した。本発明はかかる知見に基づいて完成したものであ
る。すなわち、本発明は一般式（Ｉ）
【０００６】
【化３】
【０００７】〔式中、Ｒｆは炭素数１又は２のフルオロ
アルキル基を示し、Ｒ1 は炭素数３〜２０の直鎖又は分
岐鎖アルキル基を示し、Ｒ2 ，Ｒ3 及びＲ4 はそれぞれ
独立に水素又は炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキ
ル基，炭素数２〜１５のアルケニル基又は炭素数７〜１
０のアラルキル基を示し、Ｘ1 は−ＣＯＯ−，−Ｏ−又
は単結合を示し、Ｘ2 は−ＣＯＯ−，−ＯＣＯ−，−Ｃ
Ｈ2 Ｏ−，−ＯＣＨ2 −又は単結合を示し、Ｘ3 は−Ｃ
ＯＯ−，−ＣＨ2 Ｏ−又は−Ｏ−を示し、Ｘ4 は−Ｏ−
又は−ＯＣＯ−を示し、＊は不斉炭素を示し、Ａ及びＢ
は、それぞれ独立に
アルキル基を示し、Ｒ1 は炭素数３〜２０の直鎖又は分
岐鎖アルキル基を示し、Ｒ2 ，Ｒ3 及びＲ4 はそれぞれ
独立に水素又は炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキ
ル基，炭素数２〜１５のアルケニル基又は炭素数７〜１
０のアラルキル基を示し、Ｘ1 は−ＣＯＯ−，−Ｏ−又
は単結合を示し、Ｘ2 は−ＣＯＯ−，−ＯＣＯ−，−Ｃ
Ｈ2 Ｏ−，−ＯＣＨ2 −又は単結合を示し、Ｘ3 は−Ｃ
ＯＯ−，−ＣＨ2 Ｏ−又は−Ｏ−を示し、Ｘ4 は−Ｏ−
又は−ＯＣＯ−を示し、＊は不斉炭素を示し、Ａ及びＢ
は、それぞれ独立に
【０００８】
【化４】
【０００９】を示し、ｎは０または１を示す。〕で表さ
れる光学活性テトラヒドロピラン誘導体を提供するもの
である。また、本発明は上記光学活性テトラヒドロピラ
ン誘導体を含有する液晶組成物あるいはその液晶組成物
からなる液晶素子をも提供するものである。
れる光学活性テトラヒドロピラン誘導体を提供するもの
である。また、本発明は上記光学活性テトラヒドロピラ
ン誘導体を含有する液晶組成物あるいはその液晶組成物
からなる液晶素子をも提供するものである。
【００１０】一般式（Ｉ）において、上記のようなＲｆ
は炭素数１又は２のフルオロアルキル基を示し、具体的
にはトリフルオロメチル基，ジフルオロメチル基，クロ
ロジフルオロメチル基，ペンタフルオロエチル基などで
あり、好ましくはトリフルオロメチル基である。また、
Ｒ1 は炭素数３〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基、例
えばｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，
イソブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔｅｒｔ−ブチル
基，ｎ−ペンチル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−ヘプチル
基，ｎ−オクチル基，ｎ−ノニル基，ｎ−デシル基，ｎ
−ウンデシル基，ｎ−ドデシル基，ｎ−トリデシル基，
ｎ−テトラデシル基，ｎ−ペンタデシル基，ｎ−ヘキサ
デシル基，ｎ−ヘプタデシル基，ｎ−オクタデシル基，
ｎ−ノナデシル基，ｎ−エイコシル基などである。これ
らのうち、分岐鎖アルキル基であって、不斉炭素を有す
る基は、光学活性基である。
は炭素数１又は２のフルオロアルキル基を示し、具体的
にはトリフルオロメチル基，ジフルオロメチル基，クロ
ロジフルオロメチル基，ペンタフルオロエチル基などで
あり、好ましくはトリフルオロメチル基である。また、
Ｒ1 は炭素数３〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基、例
えばｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，
イソブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔｅｒｔ−ブチル
基，ｎ−ペンチル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−ヘプチル
基，ｎ−オクチル基，ｎ−ノニル基，ｎ−デシル基，ｎ
−ウンデシル基，ｎ−ドデシル基，ｎ−トリデシル基，
ｎ−テトラデシル基，ｎ−ペンタデシル基，ｎ−ヘキサ
デシル基，ｎ−ヘプタデシル基，ｎ−オクタデシル基，
ｎ−ノナデシル基，ｎ−エイコシル基などである。これ
らのうち、分岐鎖アルキル基であって、不斉炭素を有す
る基は、光学活性基である。
【００１１】さらに、Ｒ2 ，Ｒ3 及びＲ4 はそれぞれ独
立に水素又は炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキル
基、例えばメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソ
プロピル基，ｎ−ブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔｅｒ
ｔ−ブチル基，ｎ−ペンチル基，イソペンチル基，１−
メチルブチル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−ヘプチル基，１
−メチルヘプチル基，ｎ−オクチル基，１−エチルヘプ
チル基，１−メチルオクチル基，ｎ−ノニル基，１−エ
チルオクチル基，１−メチルノニル基，ｎ−デシル基，
ｎ−ウンデシル基，ｎ−ドデシル基，ｎ−トリデシル
基，ｎ−テトラデシル基，ｎ−ペンタデシル基などであ
る。また、炭素数２〜１５のアルケニル基としては、ビ
ニル基，アリル基，１−プロペニル基，イソプロペニル
基，１−ブテニル基，２−ブテニル基，２−メチルアリ
ル基，１−ペンテニル基，１−ヘキセニル基，１−ヘプ
テニル基，１−オクテニル基，２−オクテニル基，１−
ノネニル基，２−ノネニル基，１−デセニル基，２−デ
セニル基，１−ウンデセニル基，２−ウンデセニル基，
１−ドデセニル基，２−ドデセニル基，１−トリデセニ
ル基，２−トリデセニル基，１−テトラデセニル基，２
−テトラデセニル基，１−ペンタデセニル基，２−ペン
タデセニル基などが挙げられる。炭素数７〜１０のアラ
ルキル基としては、ベンジル基，フェネチル基，フェニ
ルプロピル基，フェニルブチル基などが挙げられる。
立に水素又は炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキル
基、例えばメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソ
プロピル基，ｎ−ブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔｅｒ
ｔ−ブチル基，ｎ−ペンチル基，イソペンチル基，１−
メチルブチル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−ヘプチル基，１
−メチルヘプチル基，ｎ−オクチル基，１−エチルヘプ
チル基，１−メチルオクチル基，ｎ−ノニル基，１−エ
チルオクチル基，１−メチルノニル基，ｎ−デシル基，
ｎ−ウンデシル基，ｎ−ドデシル基，ｎ−トリデシル
基，ｎ−テトラデシル基，ｎ−ペンタデシル基などであ
る。また、炭素数２〜１５のアルケニル基としては、ビ
ニル基，アリル基，１−プロペニル基，イソプロペニル
基，１−ブテニル基，２−ブテニル基，２−メチルアリ
ル基，１−ペンテニル基，１−ヘキセニル基，１−ヘプ
テニル基，１−オクテニル基，２−オクテニル基，１−
ノネニル基，２−ノネニル基，１−デセニル基，２−デ
セニル基，１−ウンデセニル基，２−ウンデセニル基，
１−ドデセニル基，２−ドデセニル基，１−トリデセニ
ル基，２−トリデセニル基，１−テトラデセニル基，２
−テトラデセニル基，１−ペンタデセニル基，２−ペン
タデセニル基などが挙げられる。炭素数７〜１０のアラ
ルキル基としては、ベンジル基，フェネチル基，フェニ
ルプロピル基，フェニルブチル基などが挙げられる。
【００１２】本発明による一般式（Ｉ）の化合物は、様
々な方法で製造することができるが、例えば以下の工程
により製造することができる。 （１）Ｘ2 ＝単結合 及び Ｘ3 ＝−ＣＯＯ− の場
合：下記一般式（II） Ｒ1 −Ｘ1 −Ａ−Ｂ−ＣＯHal ・・・（II） 〔式中、Ｒ1 ，Ｘ1 ，ＡおよびＢは前記と同じである。
Hal は塩素，臭素，沃素等のハロゲンを示す。〕で表さ
れる化合物および下記一般式（III)
々な方法で製造することができるが、例えば以下の工程
により製造することができる。 （１）Ｘ2 ＝単結合 及び Ｘ3 ＝−ＣＯＯ− の場
合：下記一般式（II） Ｒ1 −Ｘ1 −Ａ−Ｂ−ＣＯHal ・・・（II） 〔式中、Ｒ1 ，Ｘ1 ，ＡおよびＢは前記と同じである。
Hal は塩素，臭素，沃素等のハロゲンを示す。〕で表さ
れる化合物および下記一般式（III)
【００１３】
【化５】
【００１４】〔式中、Ｒｆ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｘ4 及
び＊は前記と同じである。〕で表される化合物と反応さ
せることにより上記一般式（Ｉ）の化合物を得ることが
できる。この反応は、有機塩基、例えばピリジン，トリ
エチルアミン等の存在下に、トルエン，ベンゼン，塩化
メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度で行うこ
とができる。
び＊は前記と同じである。〕で表される化合物と反応さ
せることにより上記一般式（Ｉ）の化合物を得ることが
できる。この反応は、有機塩基、例えばピリジン，トリ
エチルアミン等の存在下に、トルエン，ベンゼン，塩化
メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度で行うこ
とができる。
【００１５】（２）Ｘ2 ＝単結合， Ｘ3 ＝−ＣＨ2 Ｏ
− の場合：下記一般式（IV) Ｒ1 −Ｘ1 −Ａ−Ｂ−ＣＨ2 Ｚ ・・・（IV) 〔式中、Ｒ1 ，Ｘ1 ，ＡおよびＢは前記と同じであり、
Ｚは塩素，臭素，ヨウ素又はトシル基を示す。〕で表さ
れる化合物を、上記の一般式（III)で表される化合物と
反応させることにより上記一般式（Ｉ）の化合物を得る
ことができる。この反応は一般式（III)の化合物にアル
カリ金属ヒドリド，水酸化ナトリウムあるいは水酸化カ
リウムで代表される塩基を作用させた後、一般式（IV）
の化合物を加えることにより行うことができる。
− の場合：下記一般式（IV) Ｒ1 −Ｘ1 −Ａ−Ｂ−ＣＨ2 Ｚ ・・・（IV) 〔式中、Ｒ1 ，Ｘ1 ，ＡおよびＢは前記と同じであり、
Ｚは塩素，臭素，ヨウ素又はトシル基を示す。〕で表さ
れる化合物を、上記の一般式（III)で表される化合物と
反応させることにより上記一般式（Ｉ）の化合物を得る
ことができる。この反応は一般式（III)の化合物にアル
カリ金属ヒドリド，水酸化ナトリウムあるいは水酸化カ
リウムで代表される塩基を作用させた後、一般式（IV）
の化合物を加えることにより行うことができる。
【００１６】（３）Ｘ2 ＝−ＣＯＯ−， Ｘ3 ＝−ＣＯ
Ｏ− の場合：下記一般式（Ｖ） ＢｚＯ−Ｂ−ＣＯHal ・・・（Ｖ) 〔式中、ＢおよびHal は前記と同じであり、Ｂｚはベン
ジル基を示す。〕で表される化合物を、上記一般式（II
I)で表される化合物と反応させて、下記一般式（VI)
Ｏ− の場合：下記一般式（Ｖ） ＢｚＯ−Ｂ−ＣＯHal ・・・（Ｖ) 〔式中、ＢおよびHal は前記と同じであり、Ｂｚはベン
ジル基を示す。〕で表される化合物を、上記一般式（II
I)で表される化合物と反応させて、下記一般式（VI)
【００１７】
【化６】
【００１８】〔式中、Ｒｆ，Ｂｚ，Ｂ，Ｘ4 ，Ｒ2 ，Ｒ
3 ，Ｒ4 及び＊は前記と同じである。〕で表される化合
物を得る。この反応は、有機塩基、例えばピリジン，ト
リエチルアミン等の存在下にトルエン，ベンゼン，塩化
メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度で行うこ
とができる。次に、得られた一般式（VI）の化合物中の
ベンジル基を常法で脱離させれば、下記一般式（VII)
3 ，Ｒ4 及び＊は前記と同じである。〕で表される化合
物を得る。この反応は、有機塩基、例えばピリジン，ト
リエチルアミン等の存在下にトルエン，ベンゼン，塩化
メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度で行うこ
とができる。次に、得られた一般式（VI）の化合物中の
ベンジル基を常法で脱離させれば、下記一般式（VII)
【００１９】
【化７】
【００２０】〔式中、Ｒｆ，Ｂ，Ｘ4 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ
4 及び＊は前記と同じである。〕で表される化合物が生
成する。この脱ベンジル化反応は、例えばＰｄ／Ｃ触媒
の存在下でメタノール，エタノール，プロパノール等の
アルコール性溶媒または酢酸を用いて常圧で水素化分解
することにより行うことができる。さらに、得られた一
般式（VII)の化合物を下記一般式（VIII) Ｒ1 −Ｘ1 −Ａ−ＣＯHal ・・・（VIII) 〔式中、Ｒ1 ，Ｘ1 ，Ａ及びHal は前記と同じであ
る。〕で表される化合物と反応させることにより上記一
般式（Ｉ）の化合物を得ることができる。この反応は、
有機塩基、例えばピリジン，トリエチルアミン等の存在
下にトルエン，ベンゼン，塩化メチレン等の溶媒中で−
２０℃〜８０℃の温度で行うことができる。
4 及び＊は前記と同じである。〕で表される化合物が生
成する。この脱ベンジル化反応は、例えばＰｄ／Ｃ触媒
の存在下でメタノール，エタノール，プロパノール等の
アルコール性溶媒または酢酸を用いて常圧で水素化分解
することにより行うことができる。さらに、得られた一
般式（VII)の化合物を下記一般式（VIII) Ｒ1 −Ｘ1 −Ａ−ＣＯHal ・・・（VIII) 〔式中、Ｒ1 ，Ｘ1 ，Ａ及びHal は前記と同じであ
る。〕で表される化合物と反応させることにより上記一
般式（Ｉ）の化合物を得ることができる。この反応は、
有機塩基、例えばピリジン，トリエチルアミン等の存在
下にトルエン，ベンゼン，塩化メチレン等の溶媒中で−
２０℃〜８０℃の温度で行うことができる。
【００２１】（４）Ｘ2 ＝−ＣＯＯ−， Ｘ3 ＝−ＣＨ
2 Ｏ− の場合：下記 一般式（IX） ＴｈｐＯ−Ｂ−ＣＨ2 Ｚ ・・・（IX） 〔式中、Ｔｈｐ（テトラヒドロピラニル基）を示し、Ｂ
及びＺは前記と同じである。〕で表される化合物を上記
一般式（III)で表される化合物と反応させて下記一般式
（Ｘ）
2 Ｏ− の場合：下記 一般式（IX） ＴｈｐＯ−Ｂ−ＣＨ2 Ｚ ・・・（IX） 〔式中、Ｔｈｐ（テトラヒドロピラニル基）を示し、Ｂ
及びＺは前記と同じである。〕で表される化合物を上記
一般式（III)で表される化合物と反応させて下記一般式
（Ｘ）
【００２２】
【化８】
【００２３】〔式中、Ｒｆ，Ｔｈｐ，Ｂ，Ｘ4 ，Ｒ2 ，
Ｒ3 ，Ｒ4 及び＊は前記と同じである。〕で表される化
合物を得る。この反応は、一般式（III)で表される化合
物にアルカリ金属ヒドリド，水酸化ナトリウムあるいは
水酸化カリウムで代表される塩基を作用させた後、一般
式（IX）の化合物を加えることにより行うことができ
る。次に得られた一般式（Ｘ) の化合物中のＴｈｐを常
法で脱離させれば、下記一般式（XI）
Ｒ3 ，Ｒ4 及び＊は前記と同じである。〕で表される化
合物を得る。この反応は、一般式（III)で表される化合
物にアルカリ金属ヒドリド，水酸化ナトリウムあるいは
水酸化カリウムで代表される塩基を作用させた後、一般
式（IX）の化合物を加えることにより行うことができ
る。次に得られた一般式（Ｘ) の化合物中のＴｈｐを常
法で脱離させれば、下記一般式（XI）
【００２４】
【化９】
【００２５】〔式中、Ｒｆ，Ｂ，Ｘ4 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ
4 及び＊は前記と同じである。〕で表される化合物を得
る。このテトラヒドロピラニル基の脱離は、塩酸，硫酸
およびパラトルエンスルホン酸等の酸触媒存在下で、エ
ーテル，テトラヒドロフラン，クロロホルム等の溶媒を
用いて行うことができる。次に、得られた一般式（XI）
の化合物を上記一般式（VIII) で表される化合物と反応
させることにより上記一般式（Ｉ）の化合物を得ること
ができる。この反応は、有機塩基、例えばピリジン，ト
リエチルアミン等の存在下にトルエン，ベンゼン，塩化
メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度で行うこ
とができる。
4 及び＊は前記と同じである。〕で表される化合物を得
る。このテトラヒドロピラニル基の脱離は、塩酸，硫酸
およびパラトルエンスルホン酸等の酸触媒存在下で、エ
ーテル，テトラヒドロフラン，クロロホルム等の溶媒を
用いて行うことができる。次に、得られた一般式（XI）
の化合物を上記一般式（VIII) で表される化合物と反応
させることにより上記一般式（Ｉ）の化合物を得ること
ができる。この反応は、有機塩基、例えばピリジン，ト
リエチルアミン等の存在下にトルエン，ベンゼン，塩化
メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度で行うこ
とができる。
【００２６】（５）Ｘ2 ＝−ＣＯＯ−， Ｘ3 ＝−Ｏ−
の場合：下記一般式（XII) ＴｈｐＯ−Ｂ−Hal ・・・（XII) 〔式中、Ｔｈｐ，Ｂ及びHal は前記と同じである。〕で
表される化合物を、上記一般式（III)で表される化合物
と反応させて、下記一般式（XIII)
の場合：下記一般式（XII) ＴｈｐＯ−Ｂ−Hal ・・・（XII) 〔式中、Ｔｈｐ，Ｂ及びHal は前記と同じである。〕で
表される化合物を、上記一般式（III)で表される化合物
と反応させて、下記一般式（XIII)
【００２７】
【化１０】
【００２８】〔式中、Ｒｆ，Ｔｈｐ，Ｂ，Ｘ4 ，Ｒ2 ，
Ｒ3 ，Ｒ4 及び＊は前記と同じである。〕で表される化
合物を得る。この反応は、一般式（III)の化合物にアル
カリ金属ヒドリド，水酸化ナトリウムあるいは水酸化カ
リウムで代表される塩基を作用させた後、ジメチルホル
ムアミド，ジメチルスルホキシド等の還流条件下、触媒
としてヨウ化第一銅を用い、一般式（XII)で表される化
合物を反応させることにより行うことができる。次に得
られた一般式（XIII) で表される化合物中のテトラヒド
ロピラニル基を常法で脱離させれば、下記一般式（XIV)
Ｒ3 ，Ｒ4 及び＊は前記と同じである。〕で表される化
合物を得る。この反応は、一般式（III)の化合物にアル
カリ金属ヒドリド，水酸化ナトリウムあるいは水酸化カ
リウムで代表される塩基を作用させた後、ジメチルホル
ムアミド，ジメチルスルホキシド等の還流条件下、触媒
としてヨウ化第一銅を用い、一般式（XII)で表される化
合物を反応させることにより行うことができる。次に得
られた一般式（XIII) で表される化合物中のテトラヒド
ロピラニル基を常法で脱離させれば、下記一般式（XIV)
【００２９】
【化１１】
【００３０】〔式中、Ｒｆ，Ｂ，Ｘ4 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ
4 及び＊は前記と同じである。〕で表される化合物を得
る。このテトラヒドロピラニル基の脱離は、塩酸，硫酸
およびパラトルエンスルホン酸等の酸触媒存在下で、エ
ーテル，テトラヒドロフラン，クロロホルム等の溶媒を
用いて行うことができる。ここで得られた一般式（XIV)
の化合物を上記一般式（VIII) で表される化合物と反応
させることにより上記一般式（Ｉ）の化合物を得ること
ができる。この反応は、有機塩基、例えばピリジン，ト
リエチルアミン等の存在下にトルエン，ベンゼン，塩化
メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度で行うこ
とができる。
4 及び＊は前記と同じである。〕で表される化合物を得
る。このテトラヒドロピラニル基の脱離は、塩酸，硫酸
およびパラトルエンスルホン酸等の酸触媒存在下で、エ
ーテル，テトラヒドロフラン，クロロホルム等の溶媒を
用いて行うことができる。ここで得られた一般式（XIV)
の化合物を上記一般式（VIII) で表される化合物と反応
させることにより上記一般式（Ｉ）の化合物を得ること
ができる。この反応は、有機塩基、例えばピリジン，ト
リエチルアミン等の存在下にトルエン，ベンゼン，塩化
メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度で行うこ
とができる。
【００３１】（６）Ｘ2 ＝−ＣＨ2 Ｏ−， Ｘ3 ＝−Ｃ
ＯＯ− の場合：上記一般式（VII)で表される化合物お
よび下記一般式（XV） Ｒ1 −Ｘ1 −Ａ−ＣＨ2 Ｚ ・・・（XV） 〔式中、Ｒ1 ，Ｘ1 ，Ａ及びＺは前記と同じである。〕
で表される化合物を反応させることにより上記一般式
（Ｉ）の化合物を得ることができる。この反応は、一般
式（VII)の化合物にアルカリ金属ヒドリド，水酸化ナト
リウムあるいは水酸化カリウムで代表される塩基を作用
させた後、一般式（XV) で表される化合物を反応させる
ことにより行うことができる。
ＯＯ− の場合：上記一般式（VII)で表される化合物お
よび下記一般式（XV） Ｒ1 −Ｘ1 −Ａ−ＣＨ2 Ｚ ・・・（XV） 〔式中、Ｒ1 ，Ｘ1 ，Ａ及びＺは前記と同じである。〕
で表される化合物を反応させることにより上記一般式
（Ｉ）の化合物を得ることができる。この反応は、一般
式（VII)の化合物にアルカリ金属ヒドリド，水酸化ナト
リウムあるいは水酸化カリウムで代表される塩基を作用
させた後、一般式（XV) で表される化合物を反応させる
ことにより行うことができる。
【００３２】（７）Ｘ2 ＝−ＯＣＨ2 −， Ｘ3 ＝−Ｃ
ＯＯ− の場合：下記一般式（XVI) ＺＣＨ2 −Ｂ−ＣＯHal ・・・（XVI) 〔式中、Ｚ，Ｂ及びHal は前記と同じである。〕で表さ
れる化合物を、上記一般式（III)で表される化合物と反
応させて下記一般式（XVII)
ＯＯ− の場合：下記一般式（XVI) ＺＣＨ2 −Ｂ−ＣＯHal ・・・（XVI) 〔式中、Ｚ，Ｂ及びHal は前記と同じである。〕で表さ
れる化合物を、上記一般式（III)で表される化合物と反
応させて下記一般式（XVII)
【００３３】
【化１２】
【００３４】〔式中、Ｒｆ，Ｚ，Ｂ，Ｘ4 ，Ｒ2 ，
Ｒ3 ，Ｒ4 及び＊は前記と同じである。〕で表される化
合物を得る。この反応は、有機塩基、例えばピリジン，
トリエチルアミン等の存在下にトルエン，ベンゼン，塩
化メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度で行う
ことができる。 次いで、下記一般式（XVIII) Ｒ1 −Ｘ1 −Ａ−ＯＨ ・・・（XVIII) 〔式中、Ｒ1 ，Ｘ1 及びＡは前記と同じである。〕で表
される化合物に、上記化合物（XVII) を反応させること
により上記一般式（Ｉ）の化合物を得ることができる。
この反応は、一般式（XVIII)の化合物にアルカリ金属ヒ
ドリド，水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウムで代
表される塩基を作用させた後、一般式（XVII) で表され
る化合物を加えることにより行うことができる。また、
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を製造するた
め、原料物質として用いた一般式（III)で表される化合
物は、様々な方法で製造することができる。この一般式
（III)で表される化合物の代表的なものとしては、例え
ば、
Ｒ3 ，Ｒ4 及び＊は前記と同じである。〕で表される化
合物を得る。この反応は、有機塩基、例えばピリジン，
トリエチルアミン等の存在下にトルエン，ベンゼン，塩
化メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度で行う
ことができる。 次いで、下記一般式（XVIII) Ｒ1 −Ｘ1 −Ａ−ＯＨ ・・・（XVIII) 〔式中、Ｒ1 ，Ｘ1 及びＡは前記と同じである。〕で表
される化合物に、上記化合物（XVII) を反応させること
により上記一般式（Ｉ）の化合物を得ることができる。
この反応は、一般式（XVIII)の化合物にアルカリ金属ヒ
ドリド，水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウムで代
表される塩基を作用させた後、一般式（XVII) で表され
る化合物を加えることにより行うことができる。また、
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を製造するた
め、原料物質として用いた一般式（III)で表される化合
物は、様々な方法で製造することができる。この一般式
（III)で表される化合物の代表的なものとしては、例え
ば、
【００３５】
【化１３】
【００３６】
【化１４】
【００３７】
【化１５】
【００３８】
【化１６】
【００３９】
【化１７】
【００４０】
【化１８】
【００４１】等が挙げられる。本発明の一般式（Ｉ）の
化合物としては、例えば
化合物としては、例えば
【００４２】
【化１９】
【００４３】
【化２０】
【００４４】
【化２１】
【００４５】
【化２２】
【００４６】
【化２３】
【００４７】
【化２４】
【００４８】
【化２５】
【００４９】
【化２６】
【００５０】
【化２７】
【００５１】
【化２８】
【００５２】
【化２９】
【００５３】〔式中、Ｒ1 ，Ｘ1 ，Ｘ4 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，
Ｒ4 及び＊は前記と同じである。〕等が挙げられる。
Ｒ4 及び＊は前記と同じである。〕等が挙げられる。
【００５４】本発明の液晶組成物は、（ａ）一般式
（Ｉ）で表される化合物の少なくとも１種と（ｂ）
（ａ）以外のカイラルスメクチックＣ相（ＳｍＣ* ）を
有する化合物あるいは混合物および／または（ｃ）
（ａ）以外のスメクチックＣ相（ＳｍＣ）を有する化合
物あるいは混合物を配合することにより得ることができ
る。この場合、一般式（Ｉ）で表される化合物の配合量
は各種状況に応じて適宜選定すれば良いが、好ましくは
得られる液晶組成物の0.１〜９９重量％、特に好ましく
は１〜９０重量％である。また、本発明の液晶組成物の
別の態様として、一般式（Ｉ）で表される化合物の少な
くとも２種からなる液晶組成物を挙げることができる。
（Ｉ）で表される化合物の少なくとも１種と（ｂ）
（ａ）以外のカイラルスメクチックＣ相（ＳｍＣ* ）を
有する化合物あるいは混合物および／または（ｃ）
（ａ）以外のスメクチックＣ相（ＳｍＣ）を有する化合
物あるいは混合物を配合することにより得ることができ
る。この場合、一般式（Ｉ）で表される化合物の配合量
は各種状況に応じて適宜選定すれば良いが、好ましくは
得られる液晶組成物の0.１〜９９重量％、特に好ましく
は１〜９０重量％である。また、本発明の液晶組成物の
別の態様として、一般式（Ｉ）で表される化合物の少な
くとも２種からなる液晶組成物を挙げることができる。
【００５５】上記（ｂ）及び（ｃ）の化合物あるいは混
合物としては従来知られている様々な物質を用いること
ができる。上記（ｂ）の化合物としては具体的には例え
ば、福田，竹添「強誘電性液晶の構造と物性」コロナ社
（１９９０），ｐ２２９，表7.１に記載した化合物が挙
げられる。上記（ｃ）の化合物としては好ましくは一般
式（Ａ）
合物としては従来知られている様々な物質を用いること
ができる。上記（ｂ）の化合物としては具体的には例え
ば、福田，竹添「強誘電性液晶の構造と物性」コロナ社
（１９９０），ｐ２２９，表7.１に記載した化合物が挙
げられる。上記（ｃ）の化合物としては好ましくは一般
式（Ａ）
【００５６】
【化３０】
【００５７】〔式中、Ｒ6 は置換基を有していてもよい
炭素数１〜１５のアルキル基又はアルコキシ基，Ｒ7 は
置換基を有していてもよい炭素数１〜１５のアルキル
基、Ｑは−Ｏ−，−ＣＯＯ−，−ＯＣＯ−，ＯＣＯＯ−
又は単結合、Ｅは
炭素数１〜１５のアルキル基又はアルコキシ基，Ｒ7 は
置換基を有していてもよい炭素数１〜１５のアルキル
基、Ｑは−Ｏ−，−ＣＯＯ−，−ＯＣＯ−，ＯＣＯＯ−
又は単結合、Ｅは
【００５８】
【化３１】
【００５９】を示す。また、Ｘ 1 及びｎは前記と同じで
ある。〕で表される化合物を挙げることができる。具体
的には下記の化合物を挙げることができる。
ある。〕で表される化合物を挙げることができる。具体
的には下記の化合物を挙げることができる。
【００６０】
【化３２】
【００６１】また、本発明の液晶素子は上述の一般式
（Ｉ）の化合物あるいは上記液晶組成物を一対の電極基
板間に配設してなるものである。この液晶素子は、例え
ばＩｎＯ3 ，ＳｎＯ2 ，ＩＴＯ（酸化インジウムと酸化
スズとの混合酸化物）などからなる透明電極を有する透
明基板上に、さらにポリビニルアルコール，ポリイミド
などからなる配向制御膜を設けた２枚の基板を張り合わ
せてセルを作製し、その上下に偏光板を配設することに
より得られる。この素子は複屈折モードを利用して、表
示素子あるいは電気光学素子として使用することができ
る。
（Ｉ）の化合物あるいは上記液晶組成物を一対の電極基
板間に配設してなるものである。この液晶素子は、例え
ばＩｎＯ3 ，ＳｎＯ2 ，ＩＴＯ（酸化インジウムと酸化
スズとの混合酸化物）などからなる透明電極を有する透
明基板上に、さらにポリビニルアルコール，ポリイミド
などからなる配向制御膜を設けた２枚の基板を張り合わ
せてセルを作製し、その上下に偏光板を配設することに
より得られる。この素子は複屈折モードを利用して、表
示素子あるいは電気光学素子として使用することができ
る。
【００６２】
【実施例】次に、参考例および実施例に基づいて本発明
をさらに具体的に説明するが、本発明はこれに限定され
るものではない。また、以下の各例において、本発明の
一般式（Ｉ）で表される光学活性化合物のＲ，Ｓ表示
は、下記の式
をさらに具体的に説明するが、本発明はこれに限定され
るものではない。また、以下の各例において、本発明の
一般式（Ｉ）で表される光学活性化合物のＲ，Ｓ表示
は、下記の式
【００６３】
【化３３】
【００６４】〔式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｘ1 ，
Ｘ2 ，Ｘ3 ，Ｘ4 ，Ａ，Ｂ，ｎ及び＊は前記と同じであ
る。〕の位置番号に基づいて行った。 参考例１ （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシピラン
および（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリ
フルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシ
ピランの合成
Ｘ2 ，Ｘ3 ，Ｘ4 ，Ａ，Ｂ，ｎ及び＊は前記と同じであ
る。〕の位置番号に基づいて行った。 参考例１ （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシピラン
および（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリ
フルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシ
ピランの合成
【００６５】
【化３４】
【００６６】（ａ）窒素雰囲気下、フラン１3.６ｇ（２
００ミリモル）をテトラヒドロフラン１５０ミリリット
ルに加え、1.５モル／リットルのｎ−ブチルリチウムヘ
キサン溶液１３３ミリリットル（２００ミリモル）を−
２０℃で滴下し、１時間反応させた。次に、トリメチル
シリルクロリド２1.７ｇ（２００ミリモル）を滴下し、
−２０℃で１時間攪拌した。1.５モル／リットルのｎ−
ブチルリチウムヘキサン溶液１３３ミリリットル（２０
０ミリモル）を加え、−２０℃で１時間反応させた後、
−７８℃でトリフルオロ酢酸エチル２8.４ｇ（２００ミ
リモル）を滴下し、−７８℃で１時間、室温でさらに１
時間反応させた。この反応溶液に３規定の塩酸を加えて
反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。次いで、飽和
炭酸水素ナトリウム溶液，飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去
し、フラン誘導体の粗生成物を得た。
００ミリモル）をテトラヒドロフラン１５０ミリリット
ルに加え、1.５モル／リットルのｎ−ブチルリチウムヘ
キサン溶液１３３ミリリットル（２００ミリモル）を−
２０℃で滴下し、１時間反応させた。次に、トリメチル
シリルクロリド２1.７ｇ（２００ミリモル）を滴下し、
−２０℃で１時間攪拌した。1.５モル／リットルのｎ−
ブチルリチウムヘキサン溶液１３３ミリリットル（２０
０ミリモル）を加え、−２０℃で１時間反応させた後、
−７８℃でトリフルオロ酢酸エチル２8.４ｇ（２００ミ
リモル）を滴下し、−７８℃で１時間、室温でさらに１
時間反応させた。この反応溶液に３規定の塩酸を加えて
反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。次いで、飽和
炭酸水素ナトリウム溶液，飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去
し、フラン誘導体の粗生成物を得た。
【００６７】（ｂ）乾燥エタノール１００ミリリットル
に水素化ホウ素ナトリウム2.３ｇ（６０ミリモル）を加
え、上記反応で得たフラン誘導体の粗生成物を０℃で３
０分かけて滴下した。室温で２時間反応させた後、エタ
ノールを減圧留去し、３規定の塩酸を加えて反応を停止
させ、酢酸エチルにより抽出した。次いで、飽和炭酸水
素ナトリウム，飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去した後、減
圧蒸留を行い、アルコール化合物４0.５ｇ（１７０ミリ
モル）を得た。
に水素化ホウ素ナトリウム2.３ｇ（６０ミリモル）を加
え、上記反応で得たフラン誘導体の粗生成物を０℃で３
０分かけて滴下した。室温で２時間反応させた後、エタ
ノールを減圧留去し、３規定の塩酸を加えて反応を停止
させ、酢酸エチルにより抽出した。次いで、飽和炭酸水
素ナトリウム，飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去した後、減
圧蒸留を行い、アルコール化合物４0.５ｇ（１７０ミリ
モル）を得た。
【００６８】（ｃ）塩化メチレン２００ミリリットルに
上記（ｂ）の反応で得たアルコール化合物２3.８ｇ（１
００ミリモル）とピリジン8.９ミリリットル（１１０ミ
リモル）を加え、０℃で塩化アセチル8.６ｇ（１１０ミ
リモル）を滴下し、室温で１２時間反応させた。次い
で、３規定の塩酸を加えて反応を停止させ、塩化メチレ
ンで抽出した。その後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液，
蒸留水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。塩化メチレンを減圧留去した後、減圧蒸留を行い、
エステル化合物２7.５ｇ（９８ミリモル）を得た。
上記（ｂ）の反応で得たアルコール化合物２3.８ｇ（１
００ミリモル）とピリジン8.９ミリリットル（１１０ミ
リモル）を加え、０℃で塩化アセチル8.６ｇ（１１０ミ
リモル）を滴下し、室温で１２時間反応させた。次い
で、３規定の塩酸を加えて反応を停止させ、塩化メチレ
ンで抽出した。その後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液，
蒸留水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。塩化メチレンを減圧留去した後、減圧蒸留を行い、
エステル化合物２7.５ｇ（９８ミリモル）を得た。
【００６９】（ｄ）蒸留水１０００ミリリットルに上記
反応により得られたエステル化合物２8.０ｇ（１００ミ
リモル）を加えて、ミニジャーファーメンター中で４０
℃で攪拌した。リパーゼＰＳを２０ｇ加え、２０時間反
応させた。３規定の塩酸を加え、０℃に冷却して反応を
停止し、セライトによりろ過した。ろ液を酢酸エチルに
より抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、酢酸エチルを減圧留去した。次いで、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製して光
学活性アルコール化合物１1.７ｇ（４９ミリモル）と光
学活性エステル化合物１3.２ｇ（４７ミリモル）を得
た。なお、得られたアルコール化合物の光学純度は９7.
５％e.e.であった。
反応により得られたエステル化合物２8.０ｇ（１００ミ
リモル）を加えて、ミニジャーファーメンター中で４０
℃で攪拌した。リパーゼＰＳを２０ｇ加え、２０時間反
応させた。３規定の塩酸を加え、０℃に冷却して反応を
停止し、セライトによりろ過した。ろ液を酢酸エチルに
より抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、酢酸エチルを減圧留去した。次いで、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製して光
学活性アルコール化合物１1.７ｇ（４９ミリモル）と光
学活性エステル化合物１3.２ｇ（４７ミリモル）を得
た。なお、得られたアルコール化合物の光学純度は９7.
５％e.e.であった。
【００７０】（ｅ）上記反応で得られた光学活性アルコ
ール化合物１1.７ｇ（４９ミリモル）を塩化メチレン１
００ミリリットルに溶かし、イミダゾール4.０ｇ（５９
ミリモル）とｔ−ブチルジメチルシリルクロリド8.９ｇ
（５９ミリモル）を０℃で加えて１５分攪拌し、室温で
１６時間反応させた。蒸留水を加えて反応を停止させ、
塩化メチレンにより抽出した。次いで、蒸留水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを
減圧留去した後、カラムクロマトグラフィーにより分離
精製してシリルエーテル化合物１6.６ｇ（４７ミリモ
ル）を得た。
ール化合物１1.７ｇ（４９ミリモル）を塩化メチレン１
００ミリリットルに溶かし、イミダゾール4.０ｇ（５９
ミリモル）とｔ−ブチルジメチルシリルクロリド8.９ｇ
（５９ミリモル）を０℃で加えて１５分攪拌し、室温で
１６時間反応させた。蒸留水を加えて反応を停止させ、
塩化メチレンにより抽出した。次いで、蒸留水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化メチレンを
減圧留去した後、カラムクロマトグラフィーにより分離
精製してシリルエーテル化合物１6.６ｇ（４７ミリモ
ル）を得た。
【００７１】（ｆ）窒素雰囲気下、酢酸１２０ミリリッ
トルに上記反応で得られたシリルエーテル化合物１4.１
ｇ（４０ミリモル）及びモノパーオキシフタル酸マグネ
シウム２3.２ｇ（６０ミリモル）を加え、８０℃で１２
時間反応させた。酢酸を減圧留去した後、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液を加え、酢酸エチルにより抽出した。次
いで、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。酢酸エチルを減圧留去した後、カラムクロマト
グラフィーにより分離精製し、（４Ｓ，１’Ｓ）ブテノ
リド化合物 4.7ｇ（１６ミリモル）及び（４Ｒ，１’
Ｓ）ブテノリド化合物 3.0ｇ（１０ミリモル）を得た。
なお、4.２ｇ（１２ミリモル）の原料も回収された。
トルに上記反応で得られたシリルエーテル化合物１4.１
ｇ（４０ミリモル）及びモノパーオキシフタル酸マグネ
シウム２3.２ｇ（６０ミリモル）を加え、８０℃で１２
時間反応させた。酢酸を減圧留去した後、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液を加え、酢酸エチルにより抽出した。次
いで、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。酢酸エチルを減圧留去した後、カラムクロマト
グラフィーにより分離精製し、（４Ｓ，１’Ｓ）ブテノ
リド化合物 4.7ｇ（１６ミリモル）及び（４Ｒ，１’
Ｓ）ブテノリド化合物 3.0ｇ（１０ミリモル）を得た。
なお、4.２ｇ（１２ミリモル）の原料も回収された。
【００７２】（ｇ）上記反応で得られた（４Ｓ，１’
Ｓ）及び（４Ｒ，１’Ｓ）ブテノリド化合物１3.７ｇ
（４６ミリモル）を分離せずにエタノール４０ミリリッ
トルに溶かし、１０％Ｐｄ／Ｃ（Ｐｄ １０重量％含
有）を1.４ｇ加え、水素雰囲気下、室温で１５時間反応
した。反応溶液を濾過し、溶媒を減圧留去した後、シリ
カゲルラカムクロマトグラフィーで分離精製して、（４
Ｓ，１’Ｓ）ブタノリド化合物8.２ｇ（２９ミリモル）
及び（４Ｒ，１’Ｓ）ブタノリド化合物3.６ｇ（１２ミ
リモル）を得た。
Ｓ）及び（４Ｒ，１’Ｓ）ブテノリド化合物１3.７ｇ
（４６ミリモル）を分離せずにエタノール４０ミリリッ
トルに溶かし、１０％Ｐｄ／Ｃ（Ｐｄ １０重量％含
有）を1.４ｇ加え、水素雰囲気下、室温で１５時間反応
した。反応溶液を濾過し、溶媒を減圧留去した後、シリ
カゲルラカムクロマトグラフィーで分離精製して、（４
Ｓ，１’Ｓ）ブタノリド化合物8.２ｇ（２９ミリモル）
及び（４Ｒ，１’Ｓ）ブタノリド化合物3.６ｇ（１２ミ
リモル）を得た。
【００７３】（ｈ）窒素雰囲気下、ジエチルエーテル４
０ミリリットルに上記反応により得られた（４Ｓ，１’
Ｓ）ブタノリド化合物7.５ｇ（２５ミリモル）を加え、
−７８℃で水素化ジイソブチルアルミニウムの0.９３モ
ル／リットルのｎ−ヘキサン溶液３２ミリリットル（３
０ミリモル）を滴下し、３時間反応した。蒸留水を加え
て反応を停止し、１規定の塩酸を加え中和した後、ジエ
チルエーテルで抽出した。飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、ジエチルエーテルを減圧留去
した。次いでシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製して、ラクトール化合物7.３ｇ（２４ミリモル）を得
た。
０ミリリットルに上記反応により得られた（４Ｓ，１’
Ｓ）ブタノリド化合物7.５ｇ（２５ミリモル）を加え、
−７８℃で水素化ジイソブチルアルミニウムの0.９３モ
ル／リットルのｎ−ヘキサン溶液３２ミリリットル（３
０ミリモル）を滴下し、３時間反応した。蒸留水を加え
て反応を停止し、１規定の塩酸を加え中和した後、ジエ
チルエーテルで抽出した。飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、ジエチルエーテルを減圧留去
した。次いでシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製して、ラクトール化合物7.３ｇ（２４ミリモル）を得
た。
【００７４】（ｉ）窒素雰囲気下、テトラヒドロフラン
５０ミリリットルに上記反応により得られたラクトール
化合物7.３ｇ（２４ミリモル）を加え、−７８℃でカリ
ウム−ｔ−ブトキシド3.０ｇ（２７ミリモル）のテトラ
ヒドロフラン１０ミリリットル溶液を滴下し、３時間反
応した。蒸留水を加えて反応を停止し、１規定の塩酸を
加え中和した後、ジエチルエーテルで抽出した。飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ジエチ
ルエーテルを減圧留去した。次いでシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製して、ピラノース化合物6.４ｇ
（２１ミリモル）を得た。
５０ミリリットルに上記反応により得られたラクトール
化合物7.３ｇ（２４ミリモル）を加え、−７８℃でカリ
ウム−ｔ−ブトキシド3.０ｇ（２７ミリモル）のテトラ
ヒドロフラン１０ミリリットル溶液を滴下し、３時間反
応した。蒸留水を加えて反応を停止し、１規定の塩酸を
加え中和した後、ジエチルエーテルで抽出した。飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ジエチ
ルエーテルを減圧留去した。次いでシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製して、ピラノース化合物6.４ｇ
（２１ミリモル）を得た。
【００７５】（ｊ）上記反応により得られたピラノース
化合物6.４ｇ（２１ミリモル）をヘキサノール４０ミリ
リットルに溶かし、パラトルエンスルホン酸0.１ｇを加
え、室温で１８時間反応した。この反応溶液をそのま
ま、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、
アセタール化合物8.０ｇ（２１ミリモル）を得た。ま
た、得られた化合物はジアステレオマー混合物である
が、分離せずに次の反応に用いた。
化合物6.４ｇ（２１ミリモル）をヘキサノール４０ミリ
リットルに溶かし、パラトルエンスルホン酸0.１ｇを加
え、室温で１８時間反応した。この反応溶液をそのま
ま、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、
アセタール化合物8.０ｇ（２１ミリモル）を得た。ま
た、得られた化合物はジアステレオマー混合物である
が、分離せずに次の反応に用いた。
【００７６】（ｋ）上記反応により得られたアセタール
化合物8.０ｇ（２１ミリモル）をテトラヒドロフラン２
０ミリリットルに溶かし、テトラ−ｎ−ブチルアンモニ
ウムフルオライドの1.０モル／リットルのテトラヒドロ
フラン溶液１０ミリリットルを加えて、０℃で１時間，
室温で４０時間反応した。蒸留水を加えて反応を停止
し、ジエチルエーテルで抽出した。次に、飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ジエチルエ
ーテルを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで分離精製して目的とする（２Ｒ，５Ｓ，６
Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−２−ヘ
キシルオキシ−５−ヒドロキシピラン3.０ｇ（１１ミリ
モル）及び（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−
トリフルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロ
キシピラン2.３ｇ（８ミリモル）を得た。
化合物8.０ｇ（２１ミリモル）をテトラヒドロフラン２
０ミリリットルに溶かし、テトラ−ｎ−ブチルアンモニ
ウムフルオライドの1.０モル／リットルのテトラヒドロ
フラン溶液１０ミリリットルを加えて、０℃で１時間，
室温で４０時間反応した。蒸留水を加えて反応を停止
し、ジエチルエーテルで抽出した。次に、飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ジエチルエ
ーテルを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで分離精製して目的とする（２Ｒ，５Ｓ，６
Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−２−ヘ
キシルオキシ−５−ヒドロキシピラン3.０ｇ（１１ミリ
モル）及び（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−
トリフルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロ
キシピラン2.３ｇ（８ミリモル）を得た。
【００７７】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 （１） （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）体 分子式：Ｃ12Ｈ21Ｆ3 Ｏ3 1 Ｈ−ＮＭＲ（プロトン核磁気共鳴法）；δ（ｐｐｍ） 0.８８ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，３Ｈ） 1.２０〜1.３９（ｍ，６Ｈ） 1.５０〜1.７１（ｍ，４Ｈ） 1.８３〜2.０４（ｍ，２Ｈ） 2.１３〜2.２２（ｍ，１Ｈ） 3.４６ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.９Ｈｚ，１Ｈ） 3.６６ （ｄｑ，Ｊ＝8.９，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 3.８１〜3.９３（ｍ，２Ｈ） 4.５２ （ｄｄ，Ｊ＝2.０，8.７Ｈｚ，１Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（同位体フッ素による核磁気共鳴法，基
準：ＣＦＣｌ3 ) ；δ（ｐｐｍ） −７5.１３ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（赤外線吸収：ｃｍ-1） ３４５０，１２７５，１１７０，１１３０，１１４５，
１０９０，９４０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ＋Ｈ） 計算値 ２７1.１５２１ 実測値 ２７1.１５１２ ［α］D 25＝−３6.０°（Ｃ（濃度）＝1.０５，溶媒：
メタノール）
す。 （１） （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）体 分子式：Ｃ12Ｈ21Ｆ3 Ｏ3 1 Ｈ−ＮＭＲ（プロトン核磁気共鳴法）；δ（ｐｐｍ） 0.８８ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，３Ｈ） 1.２０〜1.３９（ｍ，６Ｈ） 1.５０〜1.７１（ｍ，４Ｈ） 1.８３〜2.０４（ｍ，２Ｈ） 2.１３〜2.２２（ｍ，１Ｈ） 3.４６ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.９Ｈｚ，１Ｈ） 3.６６ （ｄｑ，Ｊ＝8.９，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 3.８１〜3.９３（ｍ，２Ｈ） 4.５２ （ｄｄ，Ｊ＝2.０，8.７Ｈｚ，１Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（同位体フッ素による核磁気共鳴法，基
準：ＣＦＣｌ3 ) ；δ（ｐｐｍ） −７5.１３ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（赤外線吸収：ｃｍ-1） ３４５０，１２７５，１１７０，１１３０，１１４５，
１０９０，９４０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ＋Ｈ） 計算値 ２７1.１５２１ 実測値 ２７1.１５１２ ［α］D 25＝−３6.０°（Ｃ（濃度）＝1.０５，溶媒：
メタノール）
【００７８】（２） （２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）体 分子式：Ｃ12Ｈ21Ｆ3 Ｏ3 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.９０ （ｔ，Ｊ＝7.３Ｈｚ，３Ｈ） 1.２３〜1.４５（ｍ，６Ｈ） 1.５２〜1.６７（ｍ，２Ｈ） 1.７６〜2.００（ｍ，５Ｈ） 3.４２ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.４Ｈｚ，１Ｈ） 3.６８ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 3.７９〜3.９８（ｍ，２Ｈ） 4.８６ （ｍ，１Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ) ；δ（ｐｐｍ） −７5.１７ （ｄ，Ｊ＝6.２Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1） ３４００，１２７０，１１７５，１１３０，１０４５，
９４５ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ＋Ｈ） 計算値 ２７1.１５２１ 実測値 ２７1.１４９３ ［α］D 25＝＋８6.５°（Ｃ（濃度）＝1.０８，溶媒：
メタノール）
９４５ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ＋Ｈ） 計算値 ２７1.１５２１ 実測値 ２７1.１４９３ ［α］D 25＝＋８6.５°（Ｃ（濃度）＝1.０８，溶媒：
メタノール）
【００７９】参考例２ （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−
６−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシピラン及び
（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−
６−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシピランの合成
６−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシピラン及び
（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−
６−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシピランの合成
【００８０】
【化３５】
【００８１】（ａ）参考例１（ｉ）で得られたピラノー
ス化合物1.７( 5.７ミリモル）をブタノール１５ミリリ
ットルに溶かし、参考例１（ｊ）と同様の操作を行い、
アセタール化合物1.９ｇ( 5.３ミリモル）を得た。得ら
れた化合物はジアステレオマー混合物であるが、分離せ
ずに次の反応に用いた。
ス化合物1.７( 5.７ミリモル）をブタノール１５ミリリ
ットルに溶かし、参考例１（ｊ）と同様の操作を行い、
アセタール化合物1.９ｇ( 5.３ミリモル）を得た。得ら
れた化合物はジアステレオマー混合物であるが、分離せ
ずに次の反応に用いた。
【００８２】（ｂ）上記反応で得られたアセタール化合
物1.９ｇ( 5.３ミリモル）を用い、参考例１（ｋ）と同
様の操作を行い、目的とする（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テ
トラヒドロ−２−ブトキシ−６−トリフルオロメチル−
５−ヒドロキシピラン0.６４ｇ( 2.６ミリモル）及び
（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−
６−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシピラン0.５９
ｇ( 2.４ミリモル）を得た。
物1.９ｇ( 5.３ミリモル）を用い、参考例１（ｋ）と同
様の操作を行い、目的とする（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テ
トラヒドロ−２−ブトキシ−６−トリフルオロメチル−
５−ヒドロキシピラン0.６４ｇ( 2.６ミリモル）及び
（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−
６−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシピラン0.５９
ｇ( 2.４ミリモル）を得た。
【００８３】得られた化合物の物理的物性を以下に示
す。 （１） （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）体 分子式：Ｃ10Ｈ17Ｆ3 Ｏ3 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.９２ （ｔ，Ｊ＝7.３Ｈｚ，３Ｈ） 1.３０〜1.４５（ｍ，２Ｈ） 1.５２〜1.６５（ｍ，４Ｈ） 1.８８〜2.２２（ｍ，３Ｈ） 3.４７ （ｄｔ，Ｊ＝9.５，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 3.６７ （ｄｑ，Ｊ＝9.０，6.２Ｈｚ，１Ｈ） 3.７９〜3.９６（ｍ，２Ｈ） 4.５２ （ｄｄ，Ｊ＝2.０，8.６Ｈｚ，１Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ) ；δ（ｐｐｍ） −７5.１７ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1） ３４５０，１２７０，１１７０，１１４５，１０９０，
９４０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ＋Ｈ） 計算値 ２４3.１２０８ 実測値 ２４3.１２０４ ［α］D 26＝−４0.８°（Ｃ（濃度）＝1.０７，溶媒：
メタノール）
す。 （１） （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）体 分子式：Ｃ10Ｈ17Ｆ3 Ｏ3 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.９２ （ｔ，Ｊ＝7.３Ｈｚ，３Ｈ） 1.３０〜1.４５（ｍ，２Ｈ） 1.５２〜1.６５（ｍ，４Ｈ） 1.８８〜2.２２（ｍ，３Ｈ） 3.４７ （ｄｔ，Ｊ＝9.５，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 3.６７ （ｄｑ，Ｊ＝9.０，6.２Ｈｚ，１Ｈ） 3.７９〜3.９６（ｍ，２Ｈ） 4.５２ （ｄｄ，Ｊ＝2.０，8.６Ｈｚ，１Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ) ；δ（ｐｐｍ） −７5.１７ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1） ３４５０，１２７０，１１７０，１１４５，１０９０，
９４０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ＋Ｈ） 計算値 ２４3.１２０８ 実測値 ２４3.１２０４ ［α］D 26＝−４0.８°（Ｃ（濃度）＝1.０７，溶媒：
メタノール）
【００８４】（２） （２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）体 分子式：Ｃ10Ｈ17Ｆ3 Ｏ3 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.９４ （ｔ，Ｊ＝7.３Ｈｚ，３Ｈ） 1.３２〜1.４７（ｍ，２Ｈ） 1.５３〜1.６６（ｍ，２Ｈ） 1.７７〜2.０３（ｍ，５Ｈ） 3.４３ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 3.６９ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.７Ｈｚ，１Ｈ） 3.８２〜3.９３（ｍ，２Ｈ） 4.８６ （ｍ，１Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ) ；δ（ｐｐｍ） −７5.２０ （ｄ，Ｊ＝6.２Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1） ３４００，１２７０，１１７５，１１３５，１０５０，
９４５ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ＋Ｈ） 計算値 ２４3.１２０８ 実測値 ２４3.１２３７ ［α］25 D ＝＋ 1０1.８°（Ｃ（濃度）＝1.０６，溶
媒：メタノール）
９４５ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ＋Ｈ） 計算値 ２４3.１２０８ 実測値 ２４3.１２３７ ［α］25 D ＝＋ 1０1.８°（Ｃ（濃度）＝1.０６，溶
媒：メタノール）
【００８５】実施例１ （２Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘキシル
オキシビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピランの
合成
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘキシル
オキシビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピランの
合成
【００８６】
【化３６】
【００８７】４’−ヘキシルオキシ−４−ビフェニルカ
ルボン酸クロリド0.３２ｇ( 1.０ミリモル）と参考例１
と同様の操作で得られた（２Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラ
ヒドロ−６−トリフルオロメチル−２−ヘキシルオキシ
−５−ヒドロキシピラン0.２３ｇ( 0.８ミリモル）のト
ルエン溶液５ミリリットル中に無水ピリジン１ミリリッ
トルを加え、室温で２４時間反応した。この反応溶液に
蒸留水を加えて反応を停止し、エーテルにより抽出し
た。次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。エーテルを減圧留去した後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製し、目的化合物である
（２Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘキシル
オキシビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピラン0.
２５ｇ( 0.５ミリモル）を得た。
ルボン酸クロリド0.３２ｇ( 1.０ミリモル）と参考例１
と同様の操作で得られた（２Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラ
ヒドロ−６−トリフルオロメチル−２−ヘキシルオキシ
−５−ヒドロキシピラン0.２３ｇ( 0.８ミリモル）のト
ルエン溶液５ミリリットル中に無水ピリジン１ミリリッ
トルを加え、室温で２４時間反応した。この反応溶液に
蒸留水を加えて反応を停止し、エーテルにより抽出し
た。次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。エーテルを減圧留去した後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製し、目的化合物である
（２Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘキシル
オキシビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピラン0.
２５ｇ( 0.５ミリモル）を得た。
【００８８】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ31Ｈ41Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８７〜1.０２（ｍ，６Ｈ） 1.２６〜2.２４（ｍ，２０Ｈ） 3.４８ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.５Ｈｚ，１Ｈ） 3.７５ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 4.００ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.３０ （ｄｑ，Ｊ＝9.８，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.９４ （ｍ，１Ｈ） 5.２５ （ｄｄｄ，Ｊ＝5.３，9.７，9.８Ｈｚ，
１Ｈ） 6.９８ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.５５ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.６２ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ） 8.０６ （ｄ，Ｊ＝8.３Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.９８ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1 ) １７２５，１６０５，１４９５，１２６０，１１７０，
１０３０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５５0.２９０６ 実測値 ５５0.２９０８ ［α］27 D ＝−６6.９°（Ｃ（濃度）＝0.５１，溶媒：
クロロホルム）
す。 分子式：Ｃ31Ｈ41Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８７〜1.０２（ｍ，６Ｈ） 1.２６〜2.２４（ｍ，２０Ｈ） 3.４８ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.５Ｈｚ，１Ｈ） 3.７５ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 4.００ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.３０ （ｄｑ，Ｊ＝9.８，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.９４ （ｍ，１Ｈ） 5.２５ （ｄｄｄ，Ｊ＝5.３，9.７，9.８Ｈｚ，
１Ｈ） 6.９８ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.５５ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.６２ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ） 8.０６ （ｄ，Ｊ＝8.３Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.９８ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1 ) １７２５，１６０５，１４９５，１２６０，１１７０，
１０３０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５５0.２９０６ 実測値 ５５0.２９０８ ［α］27 D ＝−６6.９°（Ｃ（濃度）＝0.５１，溶媒：
クロロホルム）
【００８９】実施例２ （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘキシル
オキシビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピランの
合成
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘキシル
オキシビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピランの
合成
【００９０】
【化３７】
【００９１】４’−ヘキシルオキシ−４−ビフェニルカ
ルボン酸クロリド0.４９ｇ( 1.６ミリモル）と参考例１
で得られた（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−
トリフルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロ
キシピラン0.３５ｇ( 1.３ミリモル）を用い、実施例１
と同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｒ，５Ｓ，
６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−２−
ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘキシルオキシビフェニ
ル−４’−カルボニルオキシ）ピラン0.４４ｇ( 0.８ミ
リモル）を得た。
ルボン酸クロリド0.４９ｇ( 1.６ミリモル）と参考例１
で得られた（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−
トリフルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロ
キシピラン0.３５ｇ( 1.３ミリモル）を用い、実施例１
と同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｒ，５Ｓ，
６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−２−
ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘキシルオキシビフェニ
ル−４’−カルボニルオキシ）ピラン0.４４ｇ( 0.８ミ
リモル）を得た。
【００９２】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ31Ｈ41Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８６〜0.９９（ｍ，６Ｈ） 1.２３〜2.０７（ｍ，１９Ｈ） 2.３９〜2.４８（ｍ，１Ｈ） 3.４９ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 3.９２ （ｄｔ，Ｊ＝9.５，6.７Ｈｚ，１Ｈ） 4.００ （ｔ，Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 4.０７ （ｄｑ，Ｊ＝8.８，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.６５ （ｄｄ，Ｊ＝2.１，8.２Ｈｚ，１Ｈ） 5.２２ （ｄｄｄ，Ｊ＝5.０，9.０，9.５Ｈｚ，
１Ｈ） 6.９８ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.５５ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.６２ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ） 8.０４ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.７９ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７２０，１６１０，１５００，１２６０，１１９０，
１０６０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５５0.２９０６ 実測値 ５５0.２８９９ ［α］25 D ＝−１3.０°（Ｃ（濃度）＝1.１０，溶媒：
クロロホルム）
す。 分子式：Ｃ31Ｈ41Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８６〜0.９９（ｍ，６Ｈ） 1.２３〜2.０７（ｍ，１９Ｈ） 2.３９〜2.４８（ｍ，１Ｈ） 3.４９ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 3.９２ （ｄｔ，Ｊ＝9.５，6.７Ｈｚ，１Ｈ） 4.００ （ｔ，Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 4.０７ （ｄｑ，Ｊ＝8.８，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.６５ （ｄｄ，Ｊ＝2.１，8.２Ｈｚ，１Ｈ） 5.２２ （ｄｄｄ，Ｊ＝5.０，9.０，9.５Ｈｚ，
１Ｈ） 6.９８ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.５５ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.６２ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ） 8.０４ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.７９ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７２０，１６１０，１５００，１２６０，１１９０，
１０６０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５５0.２９０６ 実測値 ５５0.２８９９ ［α］25 D ＝−１3.０°（Ｃ（濃度）＝1.１０，溶媒：
クロロホルム）
【００９３】実施例３ （２Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘキシル
オキシビフェニル−４’−メチレンオキシ）ピランの合
成
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘキシル
オキシビフェニル−４’−メチレンオキシ）ピランの合
成
【００９４】
【化３８】
【００９５】参考例１と同様の操作で得られた（２Ｒ，
５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル
−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシピラン0.２３ｇ
( 0.８ミリモル）のテトラヒドロフラン（３ミリリット
ル）溶液を６０％水素化ナトリウム0.０４ｇ( 1.０ミリ
モル）のテトラヒドロフラン（４ミリリットル）溶液に
窒素雰囲気下、０℃で滴下し、３０分間攪拌した。次に
４’−クロロメチル−４−ヘキシルオキシビフェニル0.
３１ｇ( 1.０ミリモル）のテトラヒドロフラン（５ミリ
リットル）, ジメチルスルホキシド（５ミリリットル）
混合溶液を室温で滴下し、２２時間反応した。この反応
溶液に蒸留水を加えて反応を停止し、エーテルにより抽
出した。次いで、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。エーテルを減圧留去した後、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、目的化合物で
ある（２Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフ
ルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘキ
シルオキシビフェニル−４’−メチレンオキシ）ピラン
0.４４ｇ( 0.８ミリモル）を得た。
５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル
−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシピラン0.２３ｇ
( 0.８ミリモル）のテトラヒドロフラン（３ミリリット
ル）溶液を６０％水素化ナトリウム0.０４ｇ( 1.０ミリ
モル）のテトラヒドロフラン（４ミリリットル）溶液に
窒素雰囲気下、０℃で滴下し、３０分間攪拌した。次に
４’−クロロメチル−４−ヘキシルオキシビフェニル0.
３１ｇ( 1.０ミリモル）のテトラヒドロフラン（５ミリ
リットル）, ジメチルスルホキシド（５ミリリットル）
混合溶液を室温で滴下し、２２時間反応した。この反応
溶液に蒸留水を加えて反応を停止し、エーテルにより抽
出した。次いで、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。エーテルを減圧留去した後、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、目的化合物で
ある（２Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフ
ルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘキ
シルオキシビフェニル−４’−メチレンオキシ）ピラン
0.４４ｇ( 0.８ミリモル）を得た。
【００９６】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ31Ｈ43Ｆ3 Ｏ4 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８５〜0.９８（ｍ，６Ｈ） 1.２２〜2.１１（ｍ，２０Ｈ） 3.４１ （ｄｔ，Ｊ＝9.６，6.４Ｈｚ，１Ｈ） 3.６０〜3.７４（ｍ，２Ｈ） 3.９９ （ｔ，Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 4.０１〜4.１２（ｍ，１Ｈ） 4.５６ （ｄ，Ｊ＝１1.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.６３ （ｄ，Ｊ＝１1.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.８６ （ｍ，１Ｈ） 6.９６ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.３８ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.５０ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 7.５２ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.１４ （ｄ，Ｊ＝6.６Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １６１０，１５００，１２４５，１１７５，１０６０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５３6.３１１４ 実測値 ５３6.３１０７ ［α］26 D ＝−６3.０°（Ｃ（濃度）＝0.７８，溶媒：
クロロホルム）
す。 分子式：Ｃ31Ｈ43Ｆ3 Ｏ4 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８５〜0.９８（ｍ，６Ｈ） 1.２２〜2.１１（ｍ，２０Ｈ） 3.４１ （ｄｔ，Ｊ＝9.６，6.４Ｈｚ，１Ｈ） 3.６０〜3.７４（ｍ，２Ｈ） 3.９９ （ｔ，Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 4.０１〜4.１２（ｍ，１Ｈ） 4.５６ （ｄ，Ｊ＝１1.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.６３ （ｄ，Ｊ＝１1.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.８６ （ｍ，１Ｈ） 6.９６ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.３８ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.５０ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 7.５２ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.１４ （ｄ，Ｊ＝6.６Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １６１０，１５００，１２４５，１１７５，１０６０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５３6.３１１４ 実測値 ５３6.３１０７ ［α］26 D ＝−６3.０°（Ｃ（濃度）＝0.７８，溶媒：
クロロホルム）
【００９７】実施例４ （２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘキシル
オキシビフェニル−４’−メチレンオキシ）ピランの合
成
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘキシル
オキシビフェニル−４’−メチレンオキシ）ピランの合
成
【００９８】
【化３９】
【００９９】参考例１と同様の操作で得られた（２Ｓ，
５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル
−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシピラン0.３９ｇ
( 1.５ミリモル）と、４’−クロロメチル−４−ヘキシ
ルオキシビフェニル0.５３ｇ( 1.８ミリモル）を用い、
実施例３と同様の操作を行い、目的化合物である（２
Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメ
チル−２−ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘキシルオキ
シビフェニル−４’−メチレンオキシ）ピラン0.６７ｇ
( 1.２ミリモル）を得た。
５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル
−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシピラン0.３９ｇ
( 1.５ミリモル）と、４’−クロロメチル−４−ヘキシ
ルオキシビフェニル0.５３ｇ( 1.８ミリモル）を用い、
実施例３と同様の操作を行い、目的化合物である（２
Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメ
チル−２−ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘキシルオキ
シビフェニル−４’−メチレンオキシ）ピラン0.６７ｇ
( 1.２ミリモル）を得た。
【０１００】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ31Ｈ43Ｆ3 Ｏ4 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８３〜1.００（ｍ，６Ｈ） 1.２５〜1.６９（ｍ，１６Ｈ） 1.７５〜1.８８（ｍ，２Ｈ） 1.８９〜1.９９（ｍ，１Ｈ） 2.２２〜2.３３（ｍ，１Ｈ） 3.４５ （ｄｔ，Ｊ＝9.５，6.９Ｈｚ，１Ｈ） 3.６０〜3.６９（ｍ，１Ｈ） 3.７５〜3.９２（ｍ，２Ｈ） 3.９９ （ｔ，Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 4.５３ （ｄｄ，Ｊ＝2.３，8.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.５６ （ｄ，Ｊ＝１2.０Ｈｚ，１Ｈ） 4.６１ （ｄ，Ｊ＝１1.９Ｈｚ，１Ｈ） 6.９６ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.３６ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ） 7.５０ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 7.５３ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７4.９５ （ｄ，Ｊ＝6.４Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1） １６１０，１５０５，１２５０，１１８０，１０６５ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５３6.３１１４ 実測値 ５３6.３０９９ ［α］27 D ＝＋１8.９°（Ｃ（濃度）＝0.８０，溶媒：
クロロホルム）
す。 分子式：Ｃ31Ｈ43Ｆ3 Ｏ4 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８３〜1.００（ｍ，６Ｈ） 1.２５〜1.６９（ｍ，１６Ｈ） 1.７５〜1.８８（ｍ，２Ｈ） 1.８９〜1.９９（ｍ，１Ｈ） 2.２２〜2.３３（ｍ，１Ｈ） 3.４５ （ｄｔ，Ｊ＝9.５，6.９Ｈｚ，１Ｈ） 3.６０〜3.６９（ｍ，１Ｈ） 3.７５〜3.９２（ｍ，２Ｈ） 3.９９ （ｔ，Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 4.５３ （ｄｄ，Ｊ＝2.３，8.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.５６ （ｄ，Ｊ＝１2.０Ｈｚ，１Ｈ） 4.６１ （ｄ，Ｊ＝１1.９Ｈｚ，１Ｈ） 6.９６ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.３６ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ） 7.５０ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 7.５３ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７4.９５ （ｄ，Ｊ＝6.４Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1） １６１０，１５０５，１２５０，１１８０，１０６５ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５３6.３１１４ 実測値 ５３6.３０９９ ［α］27 D ＝＋１8.９°（Ｃ（濃度）＝0.８０，溶媒：
クロロホルム）
【０１０１】実施例５ （２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−
６−トリフルオロメチル−５−（４″−ヘキシルオキシ
ビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピランの合成
６−トリフルオロメチル−５−（４″−ヘキシルオキシ
ビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピランの合成
【０１０２】
【化４０】
【０１０３】４’−ヘキシルオキシ−４−ビフェニルカ
ルボン酸クロリド0.４６ｇ( 1.５ミリモル）と参考例２
と同様の操作で得られた（２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラ
ヒドロ−２−ブトキシ−６−トリフルオロメチル−５−
ヒドロキシピラン0.３０ｇ(1.２ミリモル）を用い、実
施例１と同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｓ，
５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−６−トリ
フルオロメチル−５−（４″−ヘキシルオキシビフェニ
ル−４’−カルボニルオキシ）ピラン0.２ｇ(0.３ミリ
モル）を得た。
ルボン酸クロリド0.４６ｇ( 1.５ミリモル）と参考例２
と同様の操作で得られた（２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラ
ヒドロ−２−ブトキシ−６−トリフルオロメチル−５−
ヒドロキシピラン0.３０ｇ(1.２ミリモル）を用い、実
施例１と同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｓ，
５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−６−トリ
フルオロメチル−５−（４″−ヘキシルオキシビフェニ
ル−４’−カルボニルオキシ）ピラン0.２ｇ(0.３ミリ
モル）を得た。
【０１０４】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ29Ｈ37Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８３〜1.０７（ｍ，６Ｈ） 1.１９〜2.０８（ｍ，１５Ｈ） 2.３９〜2.５０（ｍ，１Ｈ） 3.５０ （ｄｔ，Ｊ＝9.３，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 3.９３ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.７Ｈｚ，１Ｈ） 4.００ （ｔ．Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 4.０８ （ｄｑ，Ｊ＝8.７，6.４Ｈｚ，１Ｈ） 4.６５ （ｄｄ，Ｊ＝1.９，8.１Ｈｚ，１Ｈ） 5.２２ （ｄｄｄ，Ｊ＝5.１，8.８，9.２Ｈｚ，
１Ｈ） 6.９８ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 7.５５ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 7.６２ （ｄ，Ｊ＝8.３Ｈｚ，２Ｈ） 8.０４ （ｄ，Ｊ＝8.３Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.７８ （ｄ，Ｊ＝6.２Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７２０，１６０５，１５００，１１８０，１０５５ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５２2.２５９３ 実測値 ５２2.２５６２ ［α］28 D ＝＋１6.９°（Ｃ（濃度）＝0.７６，溶媒：
クロロホルム）
す。 分子式：Ｃ29Ｈ37Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８３〜1.０７（ｍ，６Ｈ） 1.１９〜2.０８（ｍ，１５Ｈ） 2.３９〜2.５０（ｍ，１Ｈ） 3.５０ （ｄｔ，Ｊ＝9.３，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 3.９３ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.７Ｈｚ，１Ｈ） 4.００ （ｔ．Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 4.０８ （ｄｑ，Ｊ＝8.７，6.４Ｈｚ，１Ｈ） 4.６５ （ｄｄ，Ｊ＝1.９，8.１Ｈｚ，１Ｈ） 5.２２ （ｄｄｄ，Ｊ＝5.１，8.８，9.２Ｈｚ，
１Ｈ） 6.９８ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 7.５５ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 7.６２ （ｄ，Ｊ＝8.３Ｈｚ，２Ｈ） 8.０４ （ｄ，Ｊ＝8.３Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.７８ （ｄ，Ｊ＝6.２Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７２０，１６０５，１５００，１１８０，１０５５ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５２2.２５９３ 実測値 ５２2.２５６２ ［α］28 D ＝＋１6.９°（Ｃ（濃度）＝0.７６，溶媒：
クロロホルム）
【０１０５】実施例６ （２Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−
６−トリフルオロメチル−５−（４″−ヘキシルオキシ
ビフェニル−４’−メチレンオキシ）ピランの合成
６−トリフルオロメチル−５−（４″−ヘキシルオキシ
ビフェニル−４’−メチレンオキシ）ピランの合成
【０１０６】
【化４１】
【０１０７】参考例２と同様の操作で得られた（２Ｒ，
５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−６−トリ
フルオロメチル−５−ヒドロキシピラン0.２９ｇ( 1.２
ミリモル）と４’−クロロメチル−４−ヘキシルオキシ
ビフェニル0.４３ｇ( 1.４ミリモル）を用い実施例３と
同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｒ，５Ｒ，６
Ｒ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−６−トリフルオロ
メチル−５−（４″−ヘキシルオキシビフェニル−４’
−メチレンオキシ）ピラン0.５８ｇ( 1.１ミリモル）を
得た。
５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−６−トリ
フルオロメチル−５−ヒドロキシピラン0.２９ｇ( 1.２
ミリモル）と４’−クロロメチル−４−ヘキシルオキシ
ビフェニル0.４３ｇ( 1.４ミリモル）を用い実施例３と
同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｒ，５Ｒ，６
Ｒ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−６−トリフルオロ
メチル−５−（４″−ヘキシルオキシビフェニル−４’
−メチレンオキシ）ピラン0.５８ｇ( 1.１ミリモル）を
得た。
【０１０８】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ29Ｈ39Ｆ3 Ｏ4 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８５〜0.９９（ｍ，６Ｈ） 1.２６〜1.７０（ｍ，１２Ｈ） 1.７５〜1.８７（ｍ，２Ｈ） 1.８９〜1.９８（ｍ，１Ｈ） 2.２２〜2.３４（ｍ，１Ｈ） 3.４６ （ｄｔ，Ｊ＝9.５，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 3.６０〜3.６９（ｍ，１Ｈ） 3.７６〜3.９２（ｍ，２Ｈ） 3.９９ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.５３ （ｄｄ，Ｊ＝2.３，8.２Ｈｚ，１Ｈ） 4.５５ （ｄ，Ｊ＝１1.９Ｈｚ，１Ｈ） 4.６０ （ｄ，Ｊ＝１1.９Ｈｚ，１Ｈ） 6.９６ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.３６ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.５０ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 7.５２ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７4.９７ （ｄ，Ｊ＝6.５Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １６１０，１５００，１２５５，１１７０，１０６０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５０8.２８０１ 実測値 ５０8.２７９２ ［α］28 D ＝−６3.７°（Ｃ（濃度）＝1.０３，溶媒：
クロロホルム）
す。 分子式：Ｃ29Ｈ39Ｆ3 Ｏ4 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８５〜0.９９（ｍ，６Ｈ） 1.２６〜1.７０（ｍ，１２Ｈ） 1.７５〜1.８７（ｍ，２Ｈ） 1.８９〜1.９８（ｍ，１Ｈ） 2.２２〜2.３４（ｍ，１Ｈ） 3.４６ （ｄｔ，Ｊ＝9.５，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 3.６０〜3.６９（ｍ，１Ｈ） 3.７６〜3.９２（ｍ，２Ｈ） 3.９９ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.５３ （ｄｄ，Ｊ＝2.３，8.２Ｈｚ，１Ｈ） 4.５５ （ｄ，Ｊ＝１1.９Ｈｚ，１Ｈ） 4.６０ （ｄ，Ｊ＝１1.９Ｈｚ，１Ｈ） 6.９６ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.３６ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.５０ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 7.５２ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７4.９７ （ｄ，Ｊ＝6.５Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １６１０，１５００，１２５５，１１７０，１０６０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５０8.２８０１ 実測値 ５０8.２７９２ ［α］28 D ＝−６3.７°（Ｃ（濃度）＝1.０３，溶媒：
クロロホルム）
【０１０９】実施例７ （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘプチル
ビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピランの合成
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−（４″−ヘプチル
ビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピランの合成
【０１１０】
【化４２】
【０１１１】４’−ヘプチル−４−ビフェニルカルボン
酸クロリド0.３８ｇ( 1.２ミリモル）と参考例１で得ら
れた（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフ
ルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシピ
ラン0.２７ｇ( 1.０ミリモル）を用い、実施例１と同様
の操作を行い、目的化合物である（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）
−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−２−ヘキシ
ルオキシ−５−（４″−ヘプチルビフェニル−４’−カ
ルボニルオキシ）ピラン0.３６ｇ( 0.７ミリモル）を得
た。
酸クロリド0.３８ｇ( 1.２ミリモル）と参考例１で得ら
れた（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフ
ルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシピ
ラン0.２７ｇ( 1.０ミリモル）を用い、実施例１と同様
の操作を行い、目的化合物である（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）
−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−２−ヘキシ
ルオキシ−５−（４″−ヘプチルビフェニル−４’−カ
ルボニルオキシ）ピラン0.３６ｇ( 0.７ミリモル）を得
た。
【０１１２】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ32Ｈ43Ｆ3 Ｏ4 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８３〜0.９８（ｍ，６Ｈ） 1.２２〜2.０８（ｍ，２１Ｈ） 2.３９〜2.５０（ｍ，１Ｈ） 2.６６ （ｔ，Ｊ＝7.７Ｈｚ，２Ｈ） 3.５０ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.９Ｈｚ，１Ｈ） 3.９２ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.７Ｈｚ，１Ｈ） 4.０８ （ｄｑ，Ｊ＝8.８，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.６５ （ｄｄ，Ｊ＝2.０，8.１Ｈｚ，１Ｈ） 5.２３ （ｄｄｄ，Ｊ＝5.０，9.０，9.３Ｈｚ，
１Ｈ） 7.２８ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.５４ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.６５ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ） 8.０６ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.７６ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７１０，１６１０，１４９５，１２６０，１１８０，
１０５０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５４8.３１１４ 実測値 ５４8.３０８６ ［α］27 D ＝−１4.５°（Ｃ（濃度）＝1.０２，溶媒：
クロロホルム）
す。 分子式：Ｃ32Ｈ43Ｆ3 Ｏ4 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８３〜0.９８（ｍ，６Ｈ） 1.２２〜2.０８（ｍ，２１Ｈ） 2.３９〜2.５０（ｍ，１Ｈ） 2.６６ （ｔ，Ｊ＝7.７Ｈｚ，２Ｈ） 3.５０ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.９Ｈｚ，１Ｈ） 3.９２ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.７Ｈｚ，１Ｈ） 4.０８ （ｄｑ，Ｊ＝8.８，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.６５ （ｄｄ，Ｊ＝2.０，8.１Ｈｚ，１Ｈ） 5.２３ （ｄｄｄ，Ｊ＝5.０，9.０，9.３Ｈｚ，
１Ｈ） 7.２８ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.５４ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.６５ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ） 8.０６ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.７６ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７１０，１６１０，１４９５，１２６０，１１８０，
１０５０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５４8.３１１４ 実測値 ５４8.３０８６ ［α］27 D ＝−１4.５°（Ｃ（濃度）＝1.０２，溶媒：
クロロホルム）
【０１１３】実施例８ （２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−〔４−（５’−ヘ
プチル−２’−ピリミジニル）フェニル−１−カルボニ
ルオキシ〕ピランの合成
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−〔４−（５’−ヘ
プチル−２’−ピリミジニル）フェニル−１−カルボニ
ルオキシ〕ピランの合成
【０１１４】
【化４３】
【０１１５】４−（５’−ヘプチル−２’−ピリミジニ
ル）安息香酸クロリド0.３８ｇ( 1.２ミリモル）と参考
例１で得られた（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−
６−トリフルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒ
ドロキシピラン0.２７ｇ( 1.０ミリモル）を用い、実施
例１と同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｓ，５
Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−
２−ヘキシルオキシ−５−〔４−（５’−ヘプチル−
２’−ピリミジニル）フェニル−１−カルボニルオキ
シ〕ピラン0.４０ｇ( 0.７ミリモル）を得た。
ル）安息香酸クロリド0.３８ｇ( 1.２ミリモル）と参考
例１で得られた（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−
６−トリフルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒ
ドロキシピラン0.２７ｇ( 1.０ミリモル）を用い、実施
例１と同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｓ，５
Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−
２−ヘキシルオキシ−５−〔４−（５’−ヘプチル−
２’−ピリミジニル）フェニル−１−カルボニルオキ
シ〕ピラン0.４０ｇ( 0.７ミリモル）を得た。
【０１１６】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ30Ｈ41Ｆ3 Ｏ4 Ｎ2 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８５〜0.９９（ｍ，６Ｈ） 1.２２〜2.２５（ｍ，２２Ｈ） 2.６５ （ｔ，Ｊ＝7.６Ｈｚ，２Ｈ） 3.４９ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.５Ｈｚ，１Ｈ） 3.７６ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 4.３１ （ｄｑ，Ｊ＝9.７，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.９５ （ｍ，１Ｈ） 5.２７ （ｄｄｄ，Ｊ＝5.２，9.７，9.９Ｈｚ，
１Ｈ） 8.１３ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 8.５０ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 8.６６ （ｓ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.９８ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７２５，１６１０，１５４０，１４３０，１２６０，
１１７０，１０８０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５５0.３０１８ 実測値 ５５0.３０４４ ［α］26 D ＝＋７0.４°（Ｃ（濃度）＝1.０２，溶媒：
クロロホルム）
す。 分子式：Ｃ30Ｈ41Ｆ3 Ｏ4 Ｎ2 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８５〜0.９９（ｍ，６Ｈ） 1.２２〜2.２５（ｍ，２２Ｈ） 2.６５ （ｔ，Ｊ＝7.６Ｈｚ，２Ｈ） 3.４９ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.５Ｈｚ，１Ｈ） 3.７６ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 4.３１ （ｄｑ，Ｊ＝9.７，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.９５ （ｍ，１Ｈ） 5.２７ （ｄｄｄ，Ｊ＝5.２，9.７，9.９Ｈｚ，
１Ｈ） 8.１３ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 8.５０ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 8.６６ （ｓ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.９８ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７２５，１６１０，１５４０，１４３０，１２６０，
１１７０，１０８０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５５0.３０１８ 実測値 ５５0.３０４４ ［α］26 D ＝＋７0.４°（Ｃ（濃度）＝1.０２，溶媒：
クロロホルム）
【０１１７】実施例９ （２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−〔トランス−４−
（４’−オクチルオキシ−１’−フェニル）シクロヘキ
サン−１−カルボニルオキシ〕ピランの合成
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−〔トランス−４−
（４’−オクチルオキシ−１’−フェニル）シクロヘキ
サン−１−カルボニルオキシ〕ピランの合成
【０１１８】
【化４４】
【０１１９】トランス−４−（４’−オクチルオキシ−
１’−フェニル）シクロヘキサン−１−カルボン酸クロ
リド0.４２ｇ( 1.２ミリモル）と参考例１で得られた
（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシピラン
0.２７ｇ( 1.０ミリモル）を用い、実施例１と同様の操
作を行い、目的化合物である（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テ
トラヒドロ−６−トリフルオロメチル−２−ヘキシルオ
キシ−５−〔トランス−４−（４’−オクチルオキシ−
１’−フェニル）シクロヘキサン−１−カルボニルオキ
シ〕ピラン0.４０ｇ( 0.７ミリモル）を得た。
１’−フェニル）シクロヘキサン−１−カルボン酸クロ
リド0.４２ｇ( 1.２ミリモル）と参考例１で得られた
（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキシピラン
0.２７ｇ( 1.０ミリモル）を用い、実施例１と同様の操
作を行い、目的化合物である（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テ
トラヒドロ−６−トリフルオロメチル−２−ヘキシルオ
キシ−５−〔トランス−４−（４’−オクチルオキシ−
１’−フェニル）シクロヘキサン−１−カルボニルオキ
シ〕ピラン0.４０ｇ( 0.７ミリモル）を得た。
【０１２０】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ33Ｈ51Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８１〜1.０２（ｍ，６Ｈ） 1.２０〜2.１６（ｍ，３２Ｈ） 2.２４〜2.５２（ｍ，２Ｈ） 3.４５ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.５Ｈｚ，１Ｈ） 3.７０ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.７Ｈｚ，１Ｈ） 3.９２ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.１１ （ｄｑ，Ｊ＝9.７，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.９０ （ｍ，１Ｈ） 5.０３ （ｄｄｄ，Ｊ＝5.３，9.５，9.７Ｈｚ，
１Ｈ） 6.８３ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.０９ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７6.０２ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（赤外線吸収：ｃｍ-1） １７４０，１６１０，１５１５，１２４５，１１７０，
１０４０， 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５８4.３６８９ 実測値 ５８4.３７０２ ［α］24 D ＝＋６3.５°（Ｃ（濃度）＝1.０２，溶媒：
クロロホルム）
す。 分子式：Ｃ33Ｈ51Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８１〜1.０２（ｍ，６Ｈ） 1.２０〜2.１６（ｍ，３２Ｈ） 2.２４〜2.５２（ｍ，２Ｈ） 3.４５ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.５Ｈｚ，１Ｈ） 3.７０ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.７Ｈｚ，１Ｈ） 3.９２ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.１１ （ｄｑ，Ｊ＝9.７，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.９０ （ｍ，１Ｈ） 5.０３ （ｄｄｄ，Ｊ＝5.３，9.５，9.７Ｈｚ，
１Ｈ） 6.８３ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.０９ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７6.０２ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（赤外線吸収：ｃｍ-1） １７４０，１６１０，１５１５，１２４５，１１７０，
１０４０， 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５８4.３６８９ 実測値 ５８4.３７０２ ［α］24 D ＝＋６3.５°（Ｃ（濃度）＝1.０２，溶媒：
クロロホルム）
【０１２１】実施例１０ （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−（６−オクチルオ
キシナフタレン−２−カルボニルオキシ）ピランの合成
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−（６−オクチルオ
キシナフタレン−２−カルボニルオキシ）ピランの合成
【０１２２】
【化４５】
【０１２３】６−オクチルオキシナフタレン−２−カル
ボン酸クロリド0.３８ｇ( 1.２ミリモル）と参考例１で
得られた（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−ト
リフルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキ
シピラン0.２７ｇ( 1.０ミリモル）を用い、実施例１と
同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｒ，５Ｓ，６
Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−２−ヘ
キシルオキシ−５−（６−オクチルオキシナフタレン−
２−カルボニルオキシ）ピラン0.１９ｇ( 0.３ミリモ
ル）を得た。
ボン酸クロリド0.３８ｇ( 1.２ミリモル）と参考例１で
得られた（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−ト
リフルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−５−ヒドロキ
シピラン0.２７ｇ( 1.０ミリモル）を用い、実施例１と
同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｒ，５Ｓ，６
Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−２−ヘ
キシルオキシ−５−（６−オクチルオキシナフタレン−
２−カルボニルオキシ）ピラン0.１９ｇ( 0.３ミリモ
ル）を得た。
【０１２４】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ31Ｈ43Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８４〜0.９８（ｍ，６Ｈ） 1.２１〜2.０８（ｍ，２３Ｈ） 2.３９〜2.５２（ｍ，１Ｈ） 3.５０ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.９Ｈｚ，１Ｈ） 3.９２ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.７Ｈｚ，１Ｈ） 4.０９ （ｔ，Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 4.０６〜4.１８（ｍ，１Ｈ） 4.６６ （ｄｄ，Ｊ＝2.０，7.９Ｈｚ，１Ｈ） 5.２６ （ｄｄｄ，Ｊ＝5.０，9.０，9.３Ｈｚ，
１Ｈ） 7.１３〜7.２２（ｍ，２Ｈ） 7.７３ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，１Ｈ） 7.８３ （ｄ，Ｊ＝8.９Ｈｚ，１Ｈ） 7.９７ （ｄｄ，Ｊ＝1.４，8.６Ｈｚ，１Ｈ） 8.４７ （ｓ，１Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.７６ （ｄ，Ｊ＝6.２Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1） １７２０，１６２５，１２７５，１１９５，１０６０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５５2.３０６３ 実測値 ５５2.３０６５ ［α］26 D ＝−１7.６°（Ｃ（濃度）＝1.０３，溶媒：
クロロホルム）
す。 分子式：Ｃ31Ｈ43Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８４〜0.９８（ｍ，６Ｈ） 1.２１〜2.０８（ｍ，２３Ｈ） 2.３９〜2.５２（ｍ，１Ｈ） 3.５０ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.９Ｈｚ，１Ｈ） 3.９２ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.７Ｈｚ，１Ｈ） 4.０９ （ｔ，Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 4.０６〜4.１８（ｍ，１Ｈ） 4.６６ （ｄｄ，Ｊ＝2.０，7.９Ｈｚ，１Ｈ） 5.２６ （ｄｄｄ，Ｊ＝5.０，9.０，9.３Ｈｚ，
１Ｈ） 7.１３〜7.２２（ｍ，２Ｈ） 7.７３ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，１Ｈ） 7.８３ （ｄ，Ｊ＝8.９Ｈｚ，１Ｈ） 7.９７ （ｄｄ，Ｊ＝1.４，8.６Ｈｚ，１Ｈ） 8.４７ （ｓ，１Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.７６ （ｄ，Ｊ＝6.２Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1） １７２０，１６２５，１２７５，１１９５，１０６０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５５2.３０６３ 実測値 ５５2.３０６５ ［α］26 D ＝−１7.６°（Ｃ（濃度）＝1.０３，溶媒：
クロロホルム）
【０１２５】実施例１１ （２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−
６−トリフルオロメチル−５−〔４−（４’−デシルオ
キシビフェニル−４−カルボニルオキシ）フェニル−１
−カルボニルオキシ〕ピランの合成
６−トリフルオロメチル−５−〔４−（４’−デシルオ
キシビフェニル−４−カルボニルオキシ）フェニル−１
−カルボニルオキシ〕ピランの合成
【０１２６】
【化４６】
【０１２７】ａ）４−ベンジルオキシ安息香酸クロリド
0.５９ｇ( 2.４ミリモル）と参考例２と同様の操作で得
られた（２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−２−ブト
キシ−６−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシピラン
0.４８ｇ( 2.０ミリモル）を用い、実施例１と同様の操
作を行いエステル化合物0.４１ｇ( 0.９ミリモル）を得
た。 ｂ）上記ａ）で得られた化合物のトルエン（５ミリリッ
トル）酢酸（１ミリリットル）混合溶液に１０％Ｐｄ／
Ｃを0.１ｇ加え、水素雰囲気下、室温で水素化分解反応
を１１５時間行った。その後、反応溶液を濾過し、溶媒
を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより精製しアルコール化合物0.３０ｇ( 0.８ミリモ
ル）を得た。 ｃ）上記ｂ）で得られた化合物0.３０ｇ( 0.８ミリモ
ル）と４’−デシルオキシ−４−ビフェニルカルボン酸
クロリド0.３７ｇ( 1.０ミリモル）を用い、実施例１と
同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｓ，５Ｒ，６
Ｒ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−６−トリフルオロ
メチル−５−〔４−（４’−デシルオキシビフェニル−
４−カルボニルオキシ）フェニル−１−カルボニルオキ
シ〕ピラン0.５０ｇ( 0.７２ミリモル）を得た。
0.５９ｇ( 2.４ミリモル）と参考例２と同様の操作で得
られた（２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−２−ブト
キシ−６−トリフルオロメチル−５−ヒドロキシピラン
0.４８ｇ( 2.０ミリモル）を用い、実施例１と同様の操
作を行いエステル化合物0.４１ｇ( 0.９ミリモル）を得
た。 ｂ）上記ａ）で得られた化合物のトルエン（５ミリリッ
トル）酢酸（１ミリリットル）混合溶液に１０％Ｐｄ／
Ｃを0.１ｇ加え、水素雰囲気下、室温で水素化分解反応
を１１５時間行った。その後、反応溶液を濾過し、溶媒
を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより精製しアルコール化合物0.３０ｇ( 0.８ミリモ
ル）を得た。 ｃ）上記ｂ）で得られた化合物0.３０ｇ( 0.８ミリモ
ル）と４’−デシルオキシ−４−ビフェニルカルボン酸
クロリド0.３７ｇ( 1.０ミリモル）を用い、実施例１と
同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｓ，５Ｒ，６
Ｒ）−テトラヒドロ−２−ブトキシ−６−トリフルオロ
メチル−５−〔４−（４’−デシルオキシビフェニル−
４−カルボニルオキシ）フェニル−１−カルボニルオキ
シ〕ピラン0.５０ｇ( 0.７２ミリモル）を得た。
【０１２８】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ40Ｈ49Ｆ3 Ｏ7 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８５〜1.０２（ｍ，６Ｈ） 1.２２〜2.０９（ｍ，２３Ｈ） 2.４０〜2.５２（ｍ，１Ｈ） 3.５１ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 3.９３ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.７Ｈｚ，１Ｈ） 4.０２ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.００〜4.１２（ｍ，１Ｈ） 4.６５ （ｄｄ，Ｊ＝2.０，8.５Ｈｚ，１Ｈ） 5.１８〜5.３０（ｍ，１Ｈ） 7.０１ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 7.３３ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.６０ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 7.７０ （ｄ，Ｊ＝8.３Ｈｚ，２Ｈ） 8.１０ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 8.２３ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.７９ （ｄ，Ｊ＝6.２Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７３５，１７２０，１６０５，１５０５，１２６０，
１１６５，１０７５ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ６９8.３４３１ 実測値 ６９8.３４４２ ［α］26 D ＝＋6.８°（Ｃ（濃度）＝0.９０，溶媒：ク
ロロホルム）
す。 分子式：Ｃ40Ｈ49Ｆ3 Ｏ7 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８５〜1.０２（ｍ，６Ｈ） 1.２２〜2.０９（ｍ，２３Ｈ） 2.４０〜2.５２（ｍ，１Ｈ） 3.５１ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 3.９３ （ｄｔ，Ｊ＝9.４，6.７Ｈｚ，１Ｈ） 4.０２ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.００〜4.１２（ｍ，１Ｈ） 4.６５ （ｄｄ，Ｊ＝2.０，8.５Ｈｚ，１Ｈ） 5.１８〜5.３０（ｍ，１Ｈ） 7.０１ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 7.３３ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.６０ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 7.７０ （ｄ，Ｊ＝8.３Ｈｚ，２Ｈ） 8.１０ （ｄ，Ｊ＝8.６Ｈｚ，２Ｈ） 8.２３ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.７９ （ｄ，Ｊ＝6.２Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７３５，１７２０，１６０５，１５０５，１２６０，
１１６５，１０７５ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ６９8.３４３１ 実測値 ６９8.３４４２ ［α］26 D ＝＋6.８°（Ｃ（濃度）＝0.９０，溶媒：ク
ロロホルム）
【０１２９】実施例１２ （２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ヘキサノイルオキシ−５−（４”−ヘプ
チルビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピランの合
成
ロメチル−２−ヘキサノイルオキシ−５−（４”−ヘプ
チルビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピランの合
成
【０１３０】
【化４７】
【０１３１】４’−ヘプチル−４−ビフェニルカルボン
酸クロリド0.４７ｇ（1.５ミリモル）と（２Ｓ，５Ｒ，
６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−２−
ヘキサノイルオキシ−５−ヒドロキシピラン0.３４ｇ
（1.２ミリモル）を用い、実施例１と同様の操作を行
い、目的化合物である（２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒ
ドロ−６−トリフルオロメチル−２−ヘキサノイルオキ
シ−５−（４”−ヘプチルビフェニル−４’−カルボニ
ルオキシ）ピラン0.３３ｇ（0.６ミリモル）を得た。得
られた化合物の物性的性質を以下に示す。 分子式：Ｃ32Ｈ41Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８０〜1.０３（ｍ，６Ｈ） 1.１９〜1.４６（ｍ，１２Ｈ） 1.５４〜1.７９（ｍ，４Ｈ） 1.８６〜2.１７（ｍ，３Ｈ） 2.２４〜2.４７（ｍ，３Ｈ） 2.６６ （ｔ，Ｊ＝7.７Ｈｚ，２Ｈ） 4.３６ （ｄｑ，Ｊ＝9.８，6.０Ｈｚ，１Ｈ） 5.２５〜5.３６（ｍ，１Ｈ） 6.３０ （ｍ，１Ｈ） 7.２８ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ） 7.５４ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.６６ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ） 8.０８ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.９８ （ｄ，Ｊ＝6.０Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７６０，１７２５，１６１０，１４９５，１２６０，
１１７５，１０８０ ［α］26 D ＝−４9.２°（Ｃ（濃度）＝1.１１，溶媒：
クロロホルム）
酸クロリド0.４７ｇ（1.５ミリモル）と（２Ｓ，５Ｒ，
６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−２−
ヘキサノイルオキシ−５−ヒドロキシピラン0.３４ｇ
（1.２ミリモル）を用い、実施例１と同様の操作を行
い、目的化合物である（２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒ
ドロ−６−トリフルオロメチル−２−ヘキサノイルオキ
シ−５−（４”−ヘプチルビフェニル−４’−カルボニ
ルオキシ）ピラン0.３３ｇ（0.６ミリモル）を得た。得
られた化合物の物性的性質を以下に示す。 分子式：Ｃ32Ｈ41Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８０〜1.０３（ｍ，６Ｈ） 1.１９〜1.４６（ｍ，１２Ｈ） 1.５４〜1.７９（ｍ，４Ｈ） 1.８６〜2.１７（ｍ，３Ｈ） 2.２４〜2.４７（ｍ，３Ｈ） 2.６６ （ｔ，Ｊ＝7.７Ｈｚ，２Ｈ） 4.３６ （ｄｑ，Ｊ＝9.８，6.０Ｈｚ，１Ｈ） 5.２５〜5.３６（ｍ，１Ｈ） 6.３０ （ｍ，１Ｈ） 7.２８ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ） 7.５４ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.６６ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ） 8.０８ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.９８ （ｄ，Ｊ＝6.０Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７６０，１７２５，１６１０，１４９５，１２６０，
１１７５，１０８０ ［α］26 D ＝−４9.２°（Ｃ（濃度）＝1.１１，溶媒：
クロロホルム）
【０１３２】実施例１３ （２Ｓ，４Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリ
フルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−４−メチル−５
−（４”−ヘキシルオキシビフェニル−４’−カルボニ
ルオキシ）ピランの合成
フルオロメチル−２−ヘキシルオキシ−４−メチル−５
−（４”−ヘキシルオキシビフェニル−４’−カルボニ
ルオキシ）ピランの合成
【０１３３】
【化４８】
【０１３４】４’−ヘキシルオキシ−４−ビフェニルカ
ルボン酸クロリド0.２５ｇ（0.８ミリモル）と（２Ｓ，
４Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロ
メチル−２−ヘキシルオキシ−４−メチル−５−ヒドロ
キシピラン0.１５ｇ（0.５ミリモル）を用い、実施例１
と同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｓ，４Ｓ，
５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル
−２−ヘキシルオキシ−４−メチル−５−（４”−ヘキ
シルオキシビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピラ
ン0.１８ｇ（0.３ミリモル）を得た。得られた化合物の
物性的性質を以下に示す。 分子式：Ｃ32Ｈ43Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.７９〜1.０３（ｍ，６Ｈ） 1.１１ （ｄ，Ｊ＝7.０Ｈｚ，３Ｈ） 1.１６〜2.４２（ｍ，１９Ｈ） 3.４５ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.５Ｈｚ，１Ｈ） 3.８９ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 4.０１ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.３０〜4.４４（ｍ，１Ｈ） 4.９６〜5.０２（ｍ，１Ｈ） 5.４８ （ｄｄ，Ｊ＝4.９，6.７Ｈｚ，１Ｈ） 6.９９ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.５６ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.６３ （ｄ，Ｊ＝8.３Ｈｚ，２Ｈ） 8.０９ （ｄ，Ｊ＝8.３Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.６１ （ｄ，Ｊ＝7.２Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７２０，１６０５，１４９０，１２６０，１１７５ ［α］27 D ＝＋６2.９°（Ｃ（濃度）＝0.９４，溶媒：
クロロホルム）
ルボン酸クロリド0.２５ｇ（0.８ミリモル）と（２Ｓ，
４Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロ
メチル−２−ヘキシルオキシ−４−メチル−５−ヒドロ
キシピラン0.１５ｇ（0.５ミリモル）を用い、実施例１
と同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｓ，４Ｓ，
５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル
−２−ヘキシルオキシ−４−メチル−５−（４”−ヘキ
シルオキシビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピラ
ン0.１８ｇ（0.３ミリモル）を得た。得られた化合物の
物性的性質を以下に示す。 分子式：Ｃ32Ｈ43Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.７９〜1.０３（ｍ，６Ｈ） 1.１１ （ｄ，Ｊ＝7.０Ｈｚ，３Ｈ） 1.１６〜2.４２（ｍ，１９Ｈ） 3.４５ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.５Ｈｚ，１Ｈ） 3.８９ （ｄｔ，Ｊ＝9.７，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 4.０１ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.３０〜4.４４（ｍ，１Ｈ） 4.９６〜5.０２（ｍ，１Ｈ） 5.４８ （ｄｄ，Ｊ＝4.９，6.７Ｈｚ，１Ｈ） 6.９９ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.５６ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.６３ （ｄ，Ｊ＝8.３Ｈｚ，２Ｈ） 8.０９ （ｄ，Ｊ＝8.３Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.６１ （ｄ，Ｊ＝7.２Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７２０，１６０５，１４９０，１２６０，１１７５ ［α］27 D ＝＋６2.９°（Ｃ（濃度）＝0.９４，溶媒：
クロロホルム）
【０１３５】実施例１４ （２Ｓ，３Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリ
フルオロメチル−２−ヘキサノイルオキシ−３−メチル
−５−（４”−ヘキシルオキシビフェニル−４’−カル
ボニルオキシ）ピランの合成
フルオロメチル−２−ヘキサノイルオキシ−３−メチル
−５−（４”−ヘキシルオキシビフェニル−４’−カル
ボニルオキシ）ピランの合成
【０１３６】
【化４９】
【０１３７】４’−ヘキシルオキシ−４−ビフェニルカ
ルボン酸クロリド0.４３ｇ（1.４ミリモル）と（２Ｓ，
３Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロ
メチル−２−ヘキサノイルオキシ−３−メチル−５−ヒ
ドロキシピラン0.２８ｇ（0.９ミリモル）を用い、実施
例１と同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｓ，３
Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメ
チル−２−ヘキサノイルオキシ−３−メチル−５−
（４”−ヘキシルオキシビフェニル−４’−カルボニル
オキシ）ピラン0.３８ｇ（0.７ミリモル）を得た。得ら
れた化合物の物性的性質を以下に示す。 分子式：Ｃ32Ｈ13Ｆ3 Ｏ6 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８６〜0.９７（ｍ，６Ｈ） 0.９６ （ｄ，Ｊ＝6.７Ｈｚ，３Ｈ） 1.２３〜1.８８（ｍ，１８Ｈ） 1.９９〜2.１６（ｍ，１Ｈ） 2.４１ （ｔ，Ｊ＝7.４Ｈｚ，２Ｈ） 2.４５〜2.５７（ｍ，１Ｈ） 4.０１ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.１９ （ｄｑ，Ｊ＝9.６，5.９Ｈｚ，１Ｈ） 5.２１〜5.３２（ｍ，１Ｈ） 5.５１ （ｄ，Ｊ＝9.０Ｈｚ，１Ｈ） 6.９９ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.５６ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.６２ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ） 8.０３ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.９５ （ｄ，Ｊ＝5.９Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７６０，１７２０，１６０５，１５００，１２５０，
１１６０ ［α］27 D ＝−6.４°（Ｃ（濃度）＝0.９９，溶媒：ク
ロロホルム）
ルボン酸クロリド0.４３ｇ（1.４ミリモル）と（２Ｓ，
３Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロ
メチル−２−ヘキサノイルオキシ−３−メチル−５−ヒ
ドロキシピラン0.２８ｇ（0.９ミリモル）を用い、実施
例１と同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｓ，３
Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメ
チル−２−ヘキサノイルオキシ−３−メチル−５−
（４”−ヘキシルオキシビフェニル−４’−カルボニル
オキシ）ピラン0.３８ｇ（0.７ミリモル）を得た。得ら
れた化合物の物性的性質を以下に示す。 分子式：Ｃ32Ｈ13Ｆ3 Ｏ6 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８６〜0.９７（ｍ，６Ｈ） 0.９６ （ｄ，Ｊ＝6.７Ｈｚ，３Ｈ） 1.２３〜1.８８（ｍ，１８Ｈ） 1.９９〜2.１６（ｍ，１Ｈ） 2.４１ （ｔ，Ｊ＝7.４Ｈｚ，２Ｈ） 2.４５〜2.５７（ｍ，１Ｈ） 4.０１ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.１９ （ｄｑ，Ｊ＝9.６，5.９Ｈｚ，１Ｈ） 5.２１〜5.３２（ｍ，１Ｈ） 5.５１ （ｄ，Ｊ＝9.０Ｈｚ，１Ｈ） 6.９９ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.５６ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.６２ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ） 8.０３ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.９５ （ｄ，Ｊ＝5.９Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７６０，１７２０，１６０５，１５００，１２５０，
１１６０ ［α］27 D ＝−6.４°（Ｃ（濃度）＝0.９９，溶媒：ク
ロロホルム）
【０１３８】実施例１５ 化合物
【０１３９】
【化５０】
【０１４０】をそれぞれ２５重量％からなる母体液晶Ａ
を作成した。この液晶Ａに実施例１で得られた光学活性
テトラヒドロピラン誘導体が２重量％となるように混合
し、液晶組成物を作成した。得られた液晶組成物の相転
移温度は、以下の通りである。
を作成した。この液晶Ａに実施例１で得られた光学活性
テトラヒドロピラン誘導体が２重量％となるように混合
し、液晶組成物を作成した。得られた液晶組成物の相転
移温度は、以下の通りである。
【０１４１】
【化５１】
【０１４２】ＳｍＣ* ：強誘電性カイラルスメクチック
Ｃ相 ＳｍＡ：スメクチックＡ相 Ｎ* ：カイラルネマチック相 ＩＳＯ：等方性液体状態 この液晶組成物を等方相でパラレルラビング処理を施し
たポリイミド配向膜を有するセル間隔1.５μｍの液晶素
子に注入した。徐冷して配向させ、３０℃でＶ PP＝１５
Ｖの矩形波電圧を印加したときの応答速度（τ0-90）は
１０３μ秒であった。なお、応答速度は直交ニコル下に
おける透過光強度が０〜９０％まで変化する時間として
求めた。また、三角波法で測定した自発分極値は2.７ｎ
Ｃ／ｃｍ 2 であった。
Ｃ相 ＳｍＡ：スメクチックＡ相 Ｎ* ：カイラルネマチック相 ＩＳＯ：等方性液体状態 この液晶組成物を等方相でパラレルラビング処理を施し
たポリイミド配向膜を有するセル間隔1.５μｍの液晶素
子に注入した。徐冷して配向させ、３０℃でＶ PP＝１５
Ｖの矩形波電圧を印加したときの応答速度（τ0-90）は
１０３μ秒であった。なお、応答速度は直交ニコル下に
おける透過光強度が０〜９０％まで変化する時間として
求めた。また、三角波法で測定した自発分極値は2.７ｎ
Ｃ／ｃｍ 2 であった。
【０１４３】実施例１６ 実施例１５で得られた液晶Ａに、実施例２で得られた光
学活性テトラヒドロピラン誘導体を５重量％となるよう
に混合し液晶組成物を作成した。得られた液晶組成物相
転移温度は、以下の通りである。
学活性テトラヒドロピラン誘導体を５重量％となるよう
に混合し液晶組成物を作成した。得られた液晶組成物相
転移温度は、以下の通りである。
【０１４４】
【化５２】
【０１４５】この液晶組成物を等方相でパラレルラビン
グ処理を施したポリイミド配向膜を有するセル間隔1.４
μｍの液晶素子に注入した。徐冷して配向させ、３０℃
でＶ PP＝１４Ｖの矩形波電圧を印加したときの応答速度
（τ0-90）は６２μ秒であった。なお、応答速度は直交
ニコル下における透過光強度が０〜９０％まで変化する
時間として求めた。また、三角波法で測定した自発分極
値は9.９ｎＣ／ｃｍ2であった。
グ処理を施したポリイミド配向膜を有するセル間隔1.４
μｍの液晶素子に注入した。徐冷して配向させ、３０℃
でＶ PP＝１４Ｖの矩形波電圧を印加したときの応答速度
（τ0-90）は６２μ秒であった。なお、応答速度は直交
ニコル下における透過光強度が０〜９０％まで変化する
時間として求めた。また、三角波法で測定した自発分極
値は9.９ｎＣ／ｃｍ2であった。
【０１４６】
【発明の効果】本発明の光学活性テトラヒドロピラン誘
導体は、化学的に安定で着色がなく、光安定性にも優れ
た新規化合物であり、高速応答性を有するものである。
したがって、本発明の光学活性テトラヒドロピラン誘導
体は、特に組成物とした場合に高速応答性を向上させる
ことができ、大きな自発分極を誘起する強誘電性液晶の
配合成分として有用である。
導体は、化学的に安定で着色がなく、光安定性にも優れ
た新規化合物であり、高速応答性を有するものである。
したがって、本発明の光学活性テトラヒドロピラン誘導
体は、特に組成物とした場合に高速応答性を向上させる
ことができ、大きな自発分極を誘起する強誘電性液晶の
配合成分として有用である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｋ 19/42 Ｃ０９Ｋ 19/42 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ (72)発明者 竹田 充範 茨城県鹿島郡神栖町東和田４番地 鹿島 石油株式会社鹿島製油所内 (72)発明者 村山 義信 茨城県鹿島郡神栖町東和田４番地 鹿島 石油株式会社鹿島製油所内 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 309/10 C07D 405/12 213 - 239 C07D 405/14 213 ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＣＡ（ＳＴＮ)
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒｆは炭素数１又は２のフルオロアルキル基を
示し、Ｒ1 は炭素数３〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル
基を示し、Ｒ2 ，Ｒ3 及びＲ4 はそれぞれ独立に水素又
は炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキル基，炭素数
２〜１５のアルケニル基又は炭素数７〜１０のアラルキ
ル基を示し、Ｘ1 は−ＣＯＯ−，−Ｏ−又は単結合を示
し、Ｘ2 は−ＣＯＯ−，−ＯＣＯ−，−ＣＨ2 Ｏ−，−
ＯＣＨ2 −又は単結合を示し、Ｘ3 は−ＣＯＯ−，−Ｃ
Ｈ2 Ｏ−又は−Ｏ−を示し、Ｘ4 は−Ｏ−又は−ＯＣＯ
−を示し、＊は不斉炭素を示し、Ａ及びＢはそれぞれ独
立に 【化２】 を示し、ｎは０または１を示す。〕で表される光学活性
テトラヒドロピラン誘導体。 - 【請求項２】 （ａ）請求項１記載の光学活性テトラヒ
ドロピラン誘導体を少なくとも１種と （ｂ）前記（ａ）以外のカイラルスメクチックＣ相（Ｓ
ｍＣ* ）を有する化合物あるいは混合物および／または （ｃ）該（ａ）以外のスメクチック相（ＳｍＣ）を有す
る化合物あるいは混合物からなる液晶組成物。 - 【請求項３】 請求項１記載の光学活性テトラヒドロピ
ラン誘導体の少なくとも２種からなる液晶組成物。 - 【請求項４】 請求項１記載の光学活性テトラヒドロピ
ラン誘導体あるいは請求項２又は３記載の液晶組成物
を、一対の電極基板間に配設してなることを特徴とする
液晶素子。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20118992A JP2786782B2 (ja) | 1991-12-26 | 1992-07-28 | 光学活性テトラヒドロピラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素子 |
| US08/107,717 US5368771A (en) | 1991-12-26 | 1992-12-15 | Optically active tetrahydropyrane derivatives, liquid crystal composition and liquid crystal device containing the same |
| KR1019930702333A KR0135260B1 (ko) | 1991-12-26 | 1992-12-15 | 광학활성 테트라히드로피란 유도체 그것을 함유하는 액정조성물 및 액정소자 |
| DE69224836T DE69224836T2 (de) | 1991-12-26 | 1992-12-15 | Optisch aktive tetrahydropyran derivate, flüssigkristallzusammensetzungen und diese enthaltende flüssigkristallelemente |
| JP5510430A JP2755821B2 (ja) | 1991-12-26 | 1992-12-15 | 光学活性テトラヒドロピラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素子 |
| EP92924916A EP0594861B1 (en) | 1991-12-26 | 1992-12-15 | Optically active tetrahydropyran derivative, and liquid crystal composition and liquid crystal element both containing the same |
| PCT/JP1992/001628 WO1993013088A1 (en) | 1991-12-26 | 1992-12-15 | Optically active tetrahydropyran derivative, and liquid crystal composition and liquid crystal element both containing the same |
| TW081110344A TW290584B (ja) | 1991-12-26 | 1992-12-24 | |
| US08/255,985 US5443755A (en) | 1991-12-26 | 1994-06-08 | Optically active tetrahydropyrane derivatives, liquid crystal composition and liquid crystal device containing the same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3-344202 | 1991-12-26 | ||
| JP34420291 | 1991-12-26 | ||
| JP20118992A JP2786782B2 (ja) | 1991-12-26 | 1992-07-28 | 光学活性テトラヒドロピラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05230051A JPH05230051A (ja) | 1993-09-07 |
| JP2786782B2 true JP2786782B2 (ja) | 1998-08-13 |
Family
ID=26512637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20118992A Expired - Fee Related JP2786782B2 (ja) | 1991-12-26 | 1992-07-28 | 光学活性テトラヒドロピラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2786782B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0682098B1 (en) * | 1994-04-14 | 2001-09-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal composition, liquid crystal device and display method using the composition |
-
1992
- 1992-07-28 JP JP20118992A patent/JP2786782B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05230051A (ja) | 1993-09-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5049308A (en) | Ferroelectric smectic liquid crystal compound and composition containing the same | |
| JP2755821B2 (ja) | 光学活性テトラヒドロピラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素子 | |
| US5443755A (en) | Optically active tetrahydropyrane derivatives, liquid crystal composition and liquid crystal device containing the same | |
| US5595684A (en) | Optically active tetrahydropyran derivative, liquid crystal composition, and liquid crystal device containing the same | |
| JP2786782B2 (ja) | 光学活性テトラヒドロピラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素子 | |
| JP2977410B2 (ja) | 強誘電性液晶組成物およびこれを用いた素子 | |
| JP3115963B2 (ja) | 光学活性テトラヒドロピラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素子 | |
| JP2786776B2 (ja) | 光学活性テトラヒドロピラン誘導体及び液晶組成物 | |
| US5698137A (en) | Optically active dihydropyran derivative, and liquid crystal composition, liquid crystal device, and racemic mixture comprising the derivative | |
| JP3218123B2 (ja) | 光学活性テトラヒドロピラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素子 | |
| JP2797114B2 (ja) | 光学活性ラクトン誘導体，その中間体，液晶組成物及び液晶表示素子 | |
| JP3115993B2 (ja) | 光学活性ジヒドロピラン誘導体，それを含有する液晶組成物，液晶素子及びラセミ混合物 | |
| JP2869214B2 (ja) | 光学活性テトラヒドロフラン誘導体 | |
| JPH07330753A (ja) | 光学活性テトラヒドロピラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素子 | |
| JPH0711253A (ja) | 反強誘電性液晶組成物あるいはフェリ誘電性液晶組成物及びそれからなる液晶素子 | |
| JP2821031B2 (ja) | 光学活性γ−ラクトン誘導体 | |
| JP2865891B2 (ja) | 新規なエステル化合物、これを含む液晶組成物および光スイッチング素子 | |
| JP2869236B2 (ja) | 含フッ素光学活性化合物及び液晶組成物 | |
| JP2000226382A (ja) | 光学活性テトラヒドロピラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素子 | |
| JPH10120609A (ja) | 光学活性アルキル置換シクロヘキサン誘導体、それを含有する液晶組成物及び液晶素子 | |
| JP2989317B2 (ja) | 新規なフェニルピリジン化合物を含む液晶組成物 | |
| JPH0717961A (ja) | 光学活性テトラヒドロピラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素子 | |
| JP2966140B2 (ja) | 新規なシクロヘキサンカルボン酸エステル化合物及びこれを含む液晶組成物 | |
| US6096908A (en) | Optically active fluorinated compounds | |
| JPH06116195A (ja) | 含フッ素光学活性化合物，液晶組成物及び液晶素子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |