JP2786776B2 - 光学活性テトラヒドロピラン誘導体及び液晶組成物 - Google Patents
光学活性テトラヒドロピラン誘導体及び液晶組成物Info
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Landscapes
- Liquid Crystal Substances (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学活性テトラヒドロピ
ラン誘導体及び液晶組成物に関し、詳しくは、表示素子
あるいは電気光学素子に用いられる液晶材料として有用
な新規な光学活性テトラヒドロピラン誘導体及びそれを
含有する液晶組成物に関する。
ラン誘導体及び液晶組成物に関し、詳しくは、表示素子
あるいは電気光学素子に用いられる液晶材料として有用
な新規な光学活性テトラヒドロピラン誘導体及びそれを
含有する液晶組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、各種の表示素子，電子光学デバイ
ス，液晶センサなど、液晶の利用分野が著しく拡大しつ
つあり、それに伴って様々な構造の液晶化合物が提案さ
れてきた。特に、表示素子に用いられる液晶材料は、現
在のところネマティック液晶が主流であり、これを用い
たＴＮ型あるいはＳＴＮ型の単純マトリックス方式及び
個々の画素ごとに薄膜トランジスタを付与したＴＦＴ型
のアクティブマトリックス方式が用いられている。しか
し、ネマティック液晶は、その駆動力が液晶材料の誘電
率の異方性と電場との弱い相互作用に基づくため、本質
的に応答速度が遅い（msecオーダー）という欠点を有し
ており、高速応答を要求される大画面の表示素子の材料
としては不利であった。これに対して、１９７５年マイ
ヤー( R. B. Meyer ) らにより初めて合成された強誘電
性液晶は、自発分極を有し、これが直接電界と作用する
ため、駆動力が大きく、１９８０年にクラーク( N. A.
Clark ）らが表面安定化型強誘電性液晶素子（ＳＳＦＬ
ＣＤ）において、そのμｓｅｃオーダーの高速応答性と
メモリー性を発表して以来、注目を集め、これまで多く
の強誘電性液晶化合物が合成されてきた。
ス，液晶センサなど、液晶の利用分野が著しく拡大しつ
つあり、それに伴って様々な構造の液晶化合物が提案さ
れてきた。特に、表示素子に用いられる液晶材料は、現
在のところネマティック液晶が主流であり、これを用い
たＴＮ型あるいはＳＴＮ型の単純マトリックス方式及び
個々の画素ごとに薄膜トランジスタを付与したＴＦＴ型
のアクティブマトリックス方式が用いられている。しか
し、ネマティック液晶は、その駆動力が液晶材料の誘電
率の異方性と電場との弱い相互作用に基づくため、本質
的に応答速度が遅い（msecオーダー）という欠点を有し
ており、高速応答を要求される大画面の表示素子の材料
としては不利であった。これに対して、１９７５年マイ
ヤー( R. B. Meyer ) らにより初めて合成された強誘電
性液晶は、自発分極を有し、これが直接電界と作用する
ため、駆動力が大きく、１９８０年にクラーク( N. A.
Clark ）らが表面安定化型強誘電性液晶素子（ＳＳＦＬ
ＣＤ）において、そのμｓｅｃオーダーの高速応答性と
メモリー性を発表して以来、注目を集め、これまで多く
の強誘電性液晶化合物が合成されてきた。
【０００３】強誘電性液晶の応答速度はτ＝η／（Ｐｓ
・Ｅ）で知られている。ここでηは回転粘性を示し、Ｐ
ｓは自発分極を示し、Ｅは電界強度を示す。これから、
高速応答性を得るため、粘性が小さく、自発分極の大き
な液晶材料が開発目標とされてきた。また、液晶材料と
しては、化学的安定性，広動作温度範囲などの特性が要
求されるが、単一の化合物でこれらの諸特性を満たすこ
とは困難であった。したがって、従来、複数のカイラル
スメクティックＣ相（ＳｍＣ* ) を有する化合物どうし
を混合したり、粘性の低いスメクティックＣ相（Ｓｍ
Ｃ）を有する母体液晶に光学活性な化合物を添加して所
望の性能を有するＳｍＣ* 相を示す強誘電性液晶組成物
を得る方法が用いられてきた。後者の場合には、添加す
るカイラルドーパントは、それ自体ＳｍＣ* 相を有して
いても、有していなくてもよく、母体液晶との相溶性が
良好で、大きな自発分極を誘起し、粘性を増大させない
ことが要求される。
・Ｅ）で知られている。ここでηは回転粘性を示し、Ｐ
ｓは自発分極を示し、Ｅは電界強度を示す。これから、
高速応答性を得るため、粘性が小さく、自発分極の大き
な液晶材料が開発目標とされてきた。また、液晶材料と
しては、化学的安定性，広動作温度範囲などの特性が要
求されるが、単一の化合物でこれらの諸特性を満たすこ
とは困難であった。したがって、従来、複数のカイラル
スメクティックＣ相（ＳｍＣ* ) を有する化合物どうし
を混合したり、粘性の低いスメクティックＣ相（Ｓｍ
Ｃ）を有する母体液晶に光学活性な化合物を添加して所
望の性能を有するＳｍＣ* 相を示す強誘電性液晶組成物
を得る方法が用いられてきた。後者の場合には、添加す
るカイラルドーパントは、それ自体ＳｍＣ* 相を有して
いても、有していなくてもよく、母体液晶との相溶性が
良好で、大きな自発分極を誘起し、粘性を増大させない
ことが要求される。
【０００４】自発分極は、分子長軸に対して垂直な方向
の双極子モーメントが不斉炭素の影響により長軸回りの
自由回転が制御された結果生じると考えられている。し
たがって、自発分極を増大させるためには、双極子部
分をコアと呼ばれる骨格部に近づける、双極子部分と
不斉炭素原子を近づける、不斉炭素に立体的に大きな
置換基をつけ、長軸回りの自由回転を抑制する等の方法
で自発分極を増大させる試みがなされてきた。さらに最
近、双極子部分と不斉炭素を５員環ラクトンに直結させ
た構造の化合物が効果的に自由回転を束縛し、大きな自
発分極を有することが報告された（Japanese Journal o
f Applied Physics, 29 巻，No.6、 ppL981 〜L 983)。
このような状況下で本発明者らは、さらに新たなタイプ
の液晶として有望なテトラヒドロピラン環を有する新規
な光学活性化合物を開発することを目的として鋭意研究
を重ねた。
の双極子モーメントが不斉炭素の影響により長軸回りの
自由回転が制御された結果生じると考えられている。し
たがって、自発分極を増大させるためには、双極子部
分をコアと呼ばれる骨格部に近づける、双極子部分と
不斉炭素原子を近づける、不斉炭素に立体的に大きな
置換基をつけ、長軸回りの自由回転を抑制する等の方法
で自発分極を増大させる試みがなされてきた。さらに最
近、双極子部分と不斉炭素を５員環ラクトンに直結させ
た構造の化合物が効果的に自由回転を束縛し、大きな自
発分極を有することが報告された（Japanese Journal o
f Applied Physics, 29 巻，No.6、 ppL981 〜L 983)。
このような状況下で本発明者らは、さらに新たなタイプ
の液晶として有望なテトラヒドロピラン環を有する新規
な光学活性化合物を開発することを目的として鋭意研究
を重ねた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】その結果、本発明者ら
は、テトラヒドロピラン環上の不斉炭素原子に、それ自
体大きな電子吸引性を有するフルオロアルキル基を有す
る新規化合物が、単品で液晶性を示すか、あるいは単品
では液晶性を示さないが、組成物とした場合に高速応答
が期待できる優れたドーパントとなりうることを見い出
した。本発明はかかる知見に基づいて完成したものであ
る。すなわち、本発明は下記一般式（Ｉ）
は、テトラヒドロピラン環上の不斉炭素原子に、それ自
体大きな電子吸引性を有するフルオロアルキル基を有す
る新規化合物が、単品で液晶性を示すか、あるいは単品
では液晶性を示さないが、組成物とした場合に高速応答
が期待できる優れたドーパントとなりうることを見い出
した。本発明はかかる知見に基づいて完成したものであ
る。すなわち、本発明は下記一般式（Ｉ）
【０００６】
【化３】
【０００７】〔式中、Ｒｆは炭素数１又は２のフルオロ
アルキル基を示し、Ｒ1 は炭素数３〜２０の直鎖又は分
岐鎖アルキル基を示し、Ｒ2 ，Ｒ3 及びＲ4 はそれぞれ
独立に水素又は炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキ
ル基，炭素数２〜１５のアルケニル基又は炭素数７〜１
０のアラルキル基を示し、Ｘ1 は−ＣＯＯ−，−Ｏ−又
は単結合を示し、Ｘ2 は−ＣＯＯ−，−ＯＣＯ−，−Ｃ
Ｈ2 Ｏ−，−ＯＣＨ2 −又は単結合を示し、Ｘ3 は−Ｃ
ＯＯ−，−ＣＨ2 Ｏ−又は−Ｏ−を示し、Ｘ4 は−Ｏ−
又は−ＯＣＯ−を示し、＊は不斉炭素を示し、Ａ及びＢ
はそれぞれ独立に
アルキル基を示し、Ｒ1 は炭素数３〜２０の直鎖又は分
岐鎖アルキル基を示し、Ｒ2 ，Ｒ3 及びＲ4 はそれぞれ
独立に水素又は炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキ
ル基，炭素数２〜１５のアルケニル基又は炭素数７〜１
０のアラルキル基を示し、Ｘ1 は−ＣＯＯ−，−Ｏ−又
は単結合を示し、Ｘ2 は−ＣＯＯ−，−ＯＣＯ−，−Ｃ
Ｈ2 Ｏ−，−ＯＣＨ2 −又は単結合を示し、Ｘ3 は−Ｃ
ＯＯ−，−ＣＨ2 Ｏ−又は−Ｏ−を示し、Ｘ4 は−Ｏ−
又は−ＯＣＯ−を示し、＊は不斉炭素を示し、Ａ及びＢ
はそれぞれ独立に
【０００８】
【化４】
【０００９】を示し、ｎは０または１を示す。〕で表さ
れる光学活性テトラヒドロピラン誘導体を提供するもの
である。また、本発明は上記光学活性テトラヒドロピラ
ン誘導体を含有する液晶組成物を提供し、さらに該誘導
体あるいはその液晶組成物からなる液晶素子をも提供す
るものである。
れる光学活性テトラヒドロピラン誘導体を提供するもの
である。また、本発明は上記光学活性テトラヒドロピラ
ン誘導体を含有する液晶組成物を提供し、さらに該誘導
体あるいはその液晶組成物からなる液晶素子をも提供す
るものである。
【００１０】一般式（Ｉ）において、上記のようなＲｆ
は炭素数１又は２のフルオロアルキル基を示し、具体的
にはトリフルオロメチル基，ジフルオロメチル基，クロ
ロジフルオロメチル基，ペンタフルオロエチル基などで
あり、好ましくはトリフルオロメチル基である。また、
Ｒ1 は炭素数３〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基、例
えばｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，
イソブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔｅｒｔ−ブチル
基，ｎ−ペンチル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−ヘプチル
基，ｎ−オクチル基，ｎ−ノニル基，ｎ−デシル基，ｎ
−ウンデシル基，ｎ−ドデシル基，ｎ−トリデシル基，
ｎ−テトラデシル基，ｎ−ペンタデシル基，ｎ−ヘキサ
デシル基，ｎ−ヘプタデシル基，ｎ−オクタデシル基，
ｎ−ノナデシル基，ｎ−エイコシル基などである。これ
らのうち、分岐鎖アルキル基であって、不斉炭素を有す
る基は、光学活性基である。
は炭素数１又は２のフルオロアルキル基を示し、具体的
にはトリフルオロメチル基，ジフルオロメチル基，クロ
ロジフルオロメチル基，ペンタフルオロエチル基などで
あり、好ましくはトリフルオロメチル基である。また、
Ｒ1 は炭素数３〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基、例
えばｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，
イソブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔｅｒｔ−ブチル
基，ｎ−ペンチル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−ヘプチル
基，ｎ−オクチル基，ｎ−ノニル基，ｎ−デシル基，ｎ
−ウンデシル基，ｎ−ドデシル基，ｎ−トリデシル基，
ｎ−テトラデシル基，ｎ−ペンタデシル基，ｎ−ヘキサ
デシル基，ｎ−ヘプタデシル基，ｎ−オクタデシル基，
ｎ−ノナデシル基，ｎ−エイコシル基などである。これ
らのうち、分岐鎖アルキル基であって、不斉炭素を有す
る基は、光学活性基である。
【００１１】さらに、Ｒ2 ，Ｒ3 及びＲ4 はそれぞれ独
立に水素又は炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキル
基、例えばメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソ
プロピル基，ｎ−ブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔｅｒ
ｔ−ブチル基，ｎ−ペンチル基，イソペンチル基，１−
メチルブチル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−ヘプチル基，１
−メチルヘプチル基，ｎ−オクチル基，１−エチルヘプ
チル基，１−メチルオクチル基，ｎ−ノニル基，１−エ
チルオクチル基，１−メチルノニル基，ｎ−デシル基，
ｎ−ウンデシル基，ｎ−ドデシル基，ｎ−トリデシル
基，ｎ−テトラデシル基，ｎ−ペンタデシル基などであ
る。また、炭素数２〜１５のアルケニル基としては、ビ
ニル基，アリル基，１−プロペニル基，イソプロペニル
基，１−ブテニル基，２−ブテニル基，２−メチルアリ
ル基，１−ペンテニル基，１−ヘキセニル基，１−ヘプ
テニル基，１−オクテニル基，２−オクテニル基，１−
ノネニル基，２−ノネニル基，１−デセニル基，２−デ
セニル基，１−ウンデセニル基，２−ウンデセニル基，
１−ドデセニル基，２−ドデセニル基，１−トリデセニ
ル基，２−トリデセニル基，１−テトラデセニル基，２
−テトラデセニル基，１−ペンタデセニル基，２−ペン
タデセニル基などが挙げられる。炭素数７〜１０のアラ
ルキル基としては、ベンジル基，フェネチル基，フェニ
ルプロピル基，フェニルブチル基などが挙げられる。
立に水素又は炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキル
基、例えばメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソ
プロピル基，ｎ−ブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔｅｒ
ｔ−ブチル基，ｎ−ペンチル基，イソペンチル基，１−
メチルブチル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−ヘプチル基，１
−メチルヘプチル基，ｎ−オクチル基，１−エチルヘプ
チル基，１−メチルオクチル基，ｎ−ノニル基，１−エ
チルオクチル基，１−メチルノニル基，ｎ−デシル基，
ｎ−ウンデシル基，ｎ−ドデシル基，ｎ−トリデシル
基，ｎ−テトラデシル基，ｎ−ペンタデシル基などであ
る。また、炭素数２〜１５のアルケニル基としては、ビ
ニル基，アリル基，１−プロペニル基，イソプロペニル
基，１−ブテニル基，２−ブテニル基，２−メチルアリ
ル基，１−ペンテニル基，１−ヘキセニル基，１−ヘプ
テニル基，１−オクテニル基，２−オクテニル基，１−
ノネニル基，２−ノネニル基，１−デセニル基，２−デ
セニル基，１−ウンデセニル基，２−ウンデセニル基，
１−ドデセニル基，２−ドデセニル基，１−トリデセニ
ル基，２−トリデセニル基，１−テトラデセニル基，２
−テトラデセニル基，１−ペンタデセニル基，２−ペン
タデセニル基などが挙げられる。炭素数７〜１０のアラ
ルキル基としては、ベンジル基，フェネチル基，フェニ
ルプロピル基，フェニルブチル基などが挙げられる。
【００１２】本発明による一般式（Ｉ）の化合物は、様
々な方法で製造することができるが、例えば以下の工程
により製造することができる。 （１）Ｘ3 ＝−ＣＯＯ−，Ｘ4 ＝−ＯＣＯ− 及び ｎ
＝０の場合： 下記一般式（II） Ｒ1 −Ｘ1 −Ｂ−ＣＯHal ・・・（II） 〔式中、Ｒ1 ，Ｘ1 およびＢは前記と同じである。Hal
は塩素，臭素，沃素等のハロゲンを示す。〕で表される
化合物および下記一般式（III)
々な方法で製造することができるが、例えば以下の工程
により製造することができる。 （１）Ｘ3 ＝−ＣＯＯ−，Ｘ4 ＝−ＯＣＯ− 及び ｎ
＝０の場合： 下記一般式（II） Ｒ1 −Ｘ1 −Ｂ−ＣＯHal ・・・（II） 〔式中、Ｒ1 ，Ｘ1 およびＢは前記と同じである。Hal
は塩素，臭素，沃素等のハロゲンを示す。〕で表される
化合物および下記一般式（III)
【００１３】
【化５】
【００１４】〔式中、Ｒｆ，Ｒ2 ，Ｒ3 及び＊は前記と
同じである。ＴＢＳはｔ−ブチルジメチルシリル基を示
す。〕で表される化合物と反応させることにより下記一
般式（IV）
同じである。ＴＢＳはｔ−ブチルジメチルシリル基を示
す。〕で表される化合物と反応させることにより下記一
般式（IV）
【００１５】
【化６】
【００１６】〔式中、Ｒｆ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｂ，Ｘ
1 ，ＴＢＳ及び＊は前記と同じである。〕で表される化
合物を得ることができる。この反応は、有機塩基、例え
ばピリジン，トリエチルアミン等の存在下に、トルエ
ン，ベンゼン，塩化メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８
０℃の温度で行うことができる。次に、得られた一般式
（IV）で表される化合物の脱シリル化を行い、一般式
（Ｖ）
1 ，ＴＢＳ及び＊は前記と同じである。〕で表される化
合物を得ることができる。この反応は、有機塩基、例え
ばピリジン，トリエチルアミン等の存在下に、トルエ
ン，ベンゼン，塩化メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８
０℃の温度で行うことができる。次に、得られた一般式
（IV）で表される化合物の脱シリル化を行い、一般式
（Ｖ）
【００１７】
【化７】
【００１８】〔式中、Ｒｆ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｂ，Ｘ
1 及び＊は前記と同じである。〕で表される化合物を得
る。この脱シリル化反応は、種々の方法で行うことがで
きるが、例えばテトラヒドロフラン溶媒中、触媒として
テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライドを用い、
０〜５０℃で行うことができる。なお、上記一般式
（Ｖ）で表される化合物は、２種類のジアステレオマー
の混合物であるが、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより容易に分離することができる。この一般式
（Ｖ）で表される化合物を一般式（VI） Ｒ4 −ＣＯＨａｌ ・・・（VI） 〔式中、Ｒ4 及びＨａｌは前記と同じである。〕で表さ
れる化合物と反応させることにより、目的とする前記
（Ｉ）で表される化合物を得ることができる。この反応
は、有機塩基、例えばピリジン，トリエチルアミン等の
存在下に、トルエン，ベンゼン，塩化メチレン等の溶媒
中で−２０℃〜８０℃の温度で行うことができる。
1 及び＊は前記と同じである。〕で表される化合物を得
る。この脱シリル化反応は、種々の方法で行うことがで
きるが、例えばテトラヒドロフラン溶媒中、触媒として
テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライドを用い、
０〜５０℃で行うことができる。なお、上記一般式
（Ｖ）で表される化合物は、２種類のジアステレオマー
の混合物であるが、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより容易に分離することができる。この一般式
（Ｖ）で表される化合物を一般式（VI） Ｒ4 −ＣＯＨａｌ ・・・（VI） 〔式中、Ｒ4 及びＨａｌは前記と同じである。〕で表さ
れる化合物と反応させることにより、目的とする前記
（Ｉ）で表される化合物を得ることができる。この反応
は、有機塩基、例えばピリジン，トリエチルアミン等の
存在下に、トルエン，ベンゼン，塩化メチレン等の溶媒
中で−２０℃〜８０℃の温度で行うことができる。
【００１９】（２）Ｘ3 ＝−ＣＯＯ−，Ｘ4 ＝−Ｏ−
及び ｎ＝０の場合： 下記一般式（VII) Ｒ5 −ＯＨ ・・・（VII) 〔式中、Ｒ5 は炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキ
ル基，炭素数２〜１５のアルケニル基又は炭素数７〜１
０のアラルキル基を示す。〕で表される化合物および上
記一般式（III)で表される化合物と反応させることによ
り、下記一般式（VIII)
及び ｎ＝０の場合： 下記一般式（VII) Ｒ5 −ＯＨ ・・・（VII) 〔式中、Ｒ5 は炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキ
ル基，炭素数２〜１５のアルケニル基又は炭素数７〜１
０のアラルキル基を示す。〕で表される化合物および上
記一般式（III)で表される化合物と反応させることによ
り、下記一般式（VIII)
【００２０】
【化８】
【００２１】〔式中、Ｒｆ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ5 ，ＴＢＳ
及び＊は前記と同じである。〕で表される化合物を得る
ことができる。この反応は、無溶媒又はテトラヒドロフ
ラン等の溶媒中、酸触媒として例えばパラトルエンスル
ホン酸等を用いて０〜５０℃で行うことができる。次
に、得られた一般式（VIII）で表される化合物の脱シリ
ル化を行い、一般式（IX）
及び＊は前記と同じである。〕で表される化合物を得る
ことができる。この反応は、無溶媒又はテトラヒドロフ
ラン等の溶媒中、酸触媒として例えばパラトルエンスル
ホン酸等を用いて０〜５０℃で行うことができる。次
に、得られた一般式（VIII）で表される化合物の脱シリ
ル化を行い、一般式（IX）
【００２２】
【化９】
【００２３】〔式中、Ｒｆ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ5 及び＊は
前記と同じである。〕で表される化合物を得る。この脱
シリル化反応は、種々の方法で行うことができるが、例
えばテトラヒドロフラン溶媒中、触媒としてテトラ−ｎ
−ブチルアンモニウムフルオライドを用い、０〜５０℃
で行うことができる。次いで、一般式（Ｘ） Ｒ4 −Ｚ ・・・（Ｘ） 〔式中、Ｒ4 は前記と同じであり、Ｚは塩素，臭素，沃
素又はトシル基を示す。〕で表される化合物と上記一般
式（IX）で表される化合物を反応させることにより、一
般式（XI）
前記と同じである。〕で表される化合物を得る。この脱
シリル化反応は、種々の方法で行うことができるが、例
えばテトラヒドロフラン溶媒中、触媒としてテトラ−ｎ
−ブチルアンモニウムフルオライドを用い、０〜５０℃
で行うことができる。次いで、一般式（Ｘ） Ｒ4 −Ｚ ・・・（Ｘ） 〔式中、Ｒ4 は前記と同じであり、Ｚは塩素，臭素，沃
素又はトシル基を示す。〕で表される化合物と上記一般
式（IX）で表される化合物を反応させることにより、一
般式（XI）
【００２４】
【化１０】
【００２５】〔式中、Ｒｆ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 及
び＊は前記と同じである。〕で表される化合物を得るこ
とができる。この反応は、一般式（IX）で表される化合
物にアルカリ金属ヒドリド，水酸化ナトリウム又は水酸
化カリウム等の塩基を作用させた後、一般式（Ｘ）で表
される化合物を加えることにより行うことができる。さ
らに、得られた一般式（XI）で表される化合物を酸触媒
下で反応させることにより、一般式（XII)
び＊は前記と同じである。〕で表される化合物を得るこ
とができる。この反応は、一般式（IX）で表される化合
物にアルカリ金属ヒドリド，水酸化ナトリウム又は水酸
化カリウム等の塩基を作用させた後、一般式（Ｘ）で表
される化合物を加えることにより行うことができる。さ
らに、得られた一般式（XI）で表される化合物を酸触媒
下で反応させることにより、一般式（XII)
【００２６】
【化１１】
【００２７】〔式中、Ｒｆ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 及び＊は
前記と同じである。〕で表される化合物を得ることがで
きる。この反応は、水の存在下で、テトラヒドロフラ
ン，エーテル，トルエン等の溶媒中、酸触媒として例え
ばパラトルエンスルホン酸，塩酸，硫酸等を用いて０〜
１００℃で行うことができる。この一般式（XII)で表さ
れる化合物と前記一般式（II）で表される化合物を反応
させることにより、目的とする前記（Ｉ）で表される化
合物を得ることができる。この反応は、有機塩基、例え
ばピリジン，トリエチルアミン等の存在下に、トルエ
ン，ベンゼン，塩化メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８
０℃の温度で行うことができる。
前記と同じである。〕で表される化合物を得ることがで
きる。この反応は、水の存在下で、テトラヒドロフラ
ン，エーテル，トルエン等の溶媒中、酸触媒として例え
ばパラトルエンスルホン酸，塩酸，硫酸等を用いて０〜
１００℃で行うことができる。この一般式（XII)で表さ
れる化合物と前記一般式（II）で表される化合物を反応
させることにより、目的とする前記（Ｉ）で表される化
合物を得ることができる。この反応は、有機塩基、例え
ばピリジン，トリエチルアミン等の存在下に、トルエ
ン，ベンゼン，塩化メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８
０℃の温度で行うことができる。
【００２８】（３）Ｘ3 ＝−ＣＨ2 Ｏ−，Ｘ4 ＝−ＯＣ
Ｏ− 及び ｎ＝０の場合： 下記一般式（XIII) Ｒ1 −Ｘ1 −Ｂ−ＣＨ2 Ｚ ・・・（XIII) 〔式中、Ｒ1 ，Ｘ1 ，Ｂ及びＺは前記と同じである。〕
で表される化合物と前記一般式（III)で表される化合物
を反応させることにより下記一般式（XIV)
Ｏ− 及び ｎ＝０の場合： 下記一般式（XIII) Ｒ1 −Ｘ1 −Ｂ−ＣＨ2 Ｚ ・・・（XIII) 〔式中、Ｒ1 ，Ｘ1 ，Ｂ及びＺは前記と同じである。〕
で表される化合物と前記一般式（III)で表される化合物
を反応させることにより下記一般式（XIV)
【００２９】
【化１２】
【００３０】〔式中、Ｒｆ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｘ1 ，
Ｂ，ＴＢＳ及び＊は前記と同じである。〕で表される化
合物を得ることができる。この反応は、例えば酸触媒と
してパラトルエンスルホン酸，塩酸，硫酸等を用い、テ
トラヒドロフラン，ジエチルエーテル，塩化メチレン，
トルエン等の溶媒中、０〜１００℃で行うことができ
る。次に、得られた一般式（XIV)で表される化合物の脱
シリル化を行い、一般式（XV）
Ｂ，ＴＢＳ及び＊は前記と同じである。〕で表される化
合物を得ることができる。この反応は、例えば酸触媒と
してパラトルエンスルホン酸，塩酸，硫酸等を用い、テ
トラヒドロフラン，ジエチルエーテル，塩化メチレン，
トルエン等の溶媒中、０〜１００℃で行うことができ
る。次に、得られた一般式（XIV)で表される化合物の脱
シリル化を行い、一般式（XV）
【００３１】
【化１３】
【００３２】〔式中、Ｒｆ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｘ1 ，
Ｂ及び＊は前記と同じである。〕で表される化合物を得
る。この脱シリル化反応は、種々の方法で行われること
ができるが、例えばテトラヒドロフランの溶媒中、触媒
としてテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライドを
用い、０〜５０℃で行うことができる。なお、上記一般
式（XV）で表される化合物は、２種類のジアステレオマ
ーの混合物であるが、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより容易に分離することができる。この一般式
（XV）で表される化合物と前記一般式（VI）で表される
化合物を反応させることにより、目的とする前記（Ｉ）
で表される化合物を得ることができる。この反応は、有
機塩基、例えばピリジン，トリエチルアミン等の存在下
に、トルエン，ベンゼン，塩化メチレン等の溶媒中で−
２０℃〜８０℃の温度で行うことができる。
Ｂ及び＊は前記と同じである。〕で表される化合物を得
る。この脱シリル化反応は、種々の方法で行われること
ができるが、例えばテトラヒドロフランの溶媒中、触媒
としてテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライドを
用い、０〜５０℃で行うことができる。なお、上記一般
式（XV）で表される化合物は、２種類のジアステレオマ
ーの混合物であるが、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより容易に分離することができる。この一般式
（XV）で表される化合物と前記一般式（VI）で表される
化合物を反応させることにより、目的とする前記（Ｉ）
で表される化合物を得ることができる。この反応は、有
機塩基、例えばピリジン，トリエチルアミン等の存在下
に、トルエン，ベンゼン，塩化メチレン等の溶媒中で−
２０℃〜８０℃の温度で行うことができる。
【００３３】（４）Ｘ3 ＝−ＣＨ2 Ｏ−，Ｘ4 ＝−Ｏ−
及び ｎ＝０の場合：前記一般式（XV）で表される化
合物と前記一般式（Ｘ）で表される化合物を反応させる
ことにより、目的とする前記（Ｉ）で表される化合物を
得ることができる。この反応は、一般式（XV）で表され
る化合物に、アルカリ金属ヒドリド，水酸化ナトリウム
又は水酸化カリウム等の塩基を作用させた後、一般式
（Ｘ）で表される化合物を加えることによって得ること
ができる。
及び ｎ＝０の場合：前記一般式（XV）で表される化
合物と前記一般式（Ｘ）で表される化合物を反応させる
ことにより、目的とする前記（Ｉ）で表される化合物を
得ることができる。この反応は、一般式（XV）で表され
る化合物に、アルカリ金属ヒドリド，水酸化ナトリウム
又は水酸化カリウム等の塩基を作用させた後、一般式
（Ｘ）で表される化合物を加えることによって得ること
ができる。
【００３４】（５）Ｘ2 ＝−ＣＯＯ−，Ｘ3 ＝−ＣＯＯ
−，Ｘ4 ＝−Ｏ− 及び ｎ＝１の場合： 一般式（XVI) Ｂｚ−Ｏ−Ｂ−ＣＯHal ・・・（XVI) 〔式中、Ｂｚはベンジル基を示し、Ｂ及びHal は前記と
同じである。〕で表される化合物と前記一般式（XII)で
表される化合物を反応させることにより、下記一般式
（XVII)
−，Ｘ4 ＝−Ｏ− 及び ｎ＝１の場合： 一般式（XVI) Ｂｚ−Ｏ−Ｂ−ＣＯHal ・・・（XVI) 〔式中、Ｂｚはベンジル基を示し、Ｂ及びHal は前記と
同じである。〕で表される化合物と前記一般式（XII)で
表される化合物を反応させることにより、下記一般式
（XVII)
【００３５】
【化１４】
【００３６】〔式中、Ｒｆ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｂ，Ｂ
ｚ及び＊は前記と同じである。〕で表される化合物を得
ることができる。この反応は、有機塩基、例えばピリジ
ン，トリエチルアミン等の存在下に、トルエン，ベンゼ
ン，塩化メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度
で行うことができる。次に、得られた一般式（XVII) で
表される化合物の脱ベンジル化反応を行い、一般式（XV
III)
ｚ及び＊は前記と同じである。〕で表される化合物を得
ることができる。この反応は、有機塩基、例えばピリジ
ン，トリエチルアミン等の存在下に、トルエン，ベンゼ
ン，塩化メチレン等の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度
で行うことができる。次に、得られた一般式（XVII) で
表される化合物の脱ベンジル化反応を行い、一般式（XV
III)
【００３７】
【化１５】
【００３８】〔式中、Ｒｆ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｂ及び
＊は前記と同じである。〕で表される化合物を得る。こ
の脱ベンジル化反応は、種々の方法で行うことができる
が、例えばパラジウム・カーボン（Ｐｄ／Ｃ）触媒存在
下、メタノール，エタノール，プロパノール等のアルコ
ール溶媒又は酢酸を用い、常圧で水素化分解することに
より行うことができる。 この一般式（XVIII)で表される化合物と一般式（XIX) Ｒ1 −Ｘ1 −Ａ−ＣＯＨａｌ ・・・（XIX) 〔式中、Ｒ1 ，Ｘ1 ，Ａ及びＨａｌは前記と同じであ
る。〕で表される化合物を反応させることにより、目的
とする前記（Ｉ）で表される化合物を得ることができ
る。この反応は、有機塩基、例えばピリジン，トリエチ
ルアミン等の存在下に、トルエン，ベンゼン，塩化メチ
レン等の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度で行うことが
できる。以上の様にして得られる本発明の一般式（Ｉ）
で表される化合物としては、例えば
＊は前記と同じである。〕で表される化合物を得る。こ
の脱ベンジル化反応は、種々の方法で行うことができる
が、例えばパラジウム・カーボン（Ｐｄ／Ｃ）触媒存在
下、メタノール，エタノール，プロパノール等のアルコ
ール溶媒又は酢酸を用い、常圧で水素化分解することに
より行うことができる。 この一般式（XVIII)で表される化合物と一般式（XIX) Ｒ1 −Ｘ1 −Ａ−ＣＯＨａｌ ・・・（XIX) 〔式中、Ｒ1 ，Ｘ1 ，Ａ及びＨａｌは前記と同じであ
る。〕で表される化合物を反応させることにより、目的
とする前記（Ｉ）で表される化合物を得ることができ
る。この反応は、有機塩基、例えばピリジン，トリエチ
ルアミン等の存在下に、トルエン，ベンゼン，塩化メチ
レン等の溶媒中で−２０℃〜８０℃の温度で行うことが
できる。以上の様にして得られる本発明の一般式（Ｉ）
で表される化合物としては、例えば
【００３９】
【化１６】
【００４０】
【化１７】
【００４１】
【化１８】
【００４２】
【化１９】
【００４３】
【化２０】
【００４４】
【化２１】
【００４５】
【化２２】
【００４６】
【化２３】
【００４７】
【化２４】
【００４８】
【化２５】
【００４９】
【化２６】
【００５０】〔式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｘ1 ，
Ｘ4 及び＊は前記と同じである。〕等が挙げられる。
Ｘ4 及び＊は前記と同じである。〕等が挙げられる。
【００５１】本発明の液晶組成物は、 （ａ）一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも１種
と （ｂ）（ａ）以外のカイラルスメクチックＣ相（ＳｍＣ
* ）を有する化合物あるいは混合物および／または （ｃ）（ａ）以外のスメクチックＣ相（ＳｍＣ）を有す
る化合物あるいは混合物を配合することにより得ること
ができる。この場合、一般式（Ｉ）で表される化合物の
配合量は各種状況に応じて適宜選定すれば良いが、好ま
しくは得られる液晶組成物の0.１〜９９重量％、特に好
ましくは１〜９０重量％である。また、本発明の液晶組
成物の別の態様として、一般式（Ｉ）で表される化合物
の少なくとも２種からなる液晶組成物を挙げることがで
きる。
と （ｂ）（ａ）以外のカイラルスメクチックＣ相（ＳｍＣ
* ）を有する化合物あるいは混合物および／または （ｃ）（ａ）以外のスメクチックＣ相（ＳｍＣ）を有す
る化合物あるいは混合物を配合することにより得ること
ができる。この場合、一般式（Ｉ）で表される化合物の
配合量は各種状況に応じて適宜選定すれば良いが、好ま
しくは得られる液晶組成物の0.１〜９９重量％、特に好
ましくは１〜９０重量％である。また、本発明の液晶組
成物の別の態様として、一般式（Ｉ）で表される化合物
の少なくとも２種からなる液晶組成物を挙げることがで
きる。
【００５２】上記（ｂ）及び（ｃ）の化合物あるいは混
合物としては従来知られている様々な物質を用いること
ができる。上記（ｂ）の化合物としては具体的には例え
ば、福田，竹添「強誘電性液晶の構造と物性」コロナ社
（１９９０），ｐ２２９，表7.１に記載した化合物が挙
げられる。上記（ｃ）の化合物としては好ましくは一般
式（Ａ）
合物としては従来知られている様々な物質を用いること
ができる。上記（ｂ）の化合物としては具体的には例え
ば、福田，竹添「強誘電性液晶の構造と物性」コロナ社
（１９９０），ｐ２２９，表7.１に記載した化合物が挙
げられる。上記（ｃ）の化合物としては好ましくは一般
式（Ａ）
【００５３】
【化２７】
【００５４】〔式中、Ｒ6 は置換基を有していてもよい
炭素数１〜１５のアルキル基又はアルコキシ基，Ｒ7 は
置換基を有していてもよい炭素数１〜１５のアルキル
基、Ｑは−Ｏ−，−ＣＯＯ−，−ＯＣＯ−，ＯＣＯＯ−
又は単結合、Ｅは
炭素数１〜１５のアルキル基又はアルコキシ基，Ｒ7 は
置換基を有していてもよい炭素数１〜１５のアルキル
基、Ｑは−Ｏ−，−ＣＯＯ−，−ＯＣＯ−，ＯＣＯＯ−
又は単結合、Ｅは
【００５５】
【化２８】
【００５６】を示す。また、Ｘ 1 及びｎは前記と同じで
ある。〕で表される化合物を挙げることができる。具体
的には下記の化合物を挙げることができる。
ある。〕で表される化合物を挙げることができる。具体
的には下記の化合物を挙げることができる。
【００５７】
【化２９】
【００５８】また、本発明の液晶素子は上述の一般式
（Ｉ）の化合物あるいは上記液晶組成物を一対の電極基
板間に配設してなるものである。この液晶素子は、例え
ばＩｎＯ3 ，ＳｎＯ2 ，ＩＴＯ（酸化インジウムと酸化
スズとの混合酸化物）などからなる透明電極を有する透
明基板上に、さらにポリビニルアルコール，ポリイミド
などからなる配向制御膜を設けた２枚の基板を張り合わ
せてセルを作製し、その上下に偏光板を配設することに
より得られる。この素子は複屈折モードを利用して、表
示素子あるいは電気光学素子として使用することができ
る。
（Ｉ）の化合物あるいは上記液晶組成物を一対の電極基
板間に配設してなるものである。この液晶素子は、例え
ばＩｎＯ3 ，ＳｎＯ2 ，ＩＴＯ（酸化インジウムと酸化
スズとの混合酸化物）などからなる透明電極を有する透
明基板上に、さらにポリビニルアルコール，ポリイミド
などからなる配向制御膜を設けた２枚の基板を張り合わ
せてセルを作製し、その上下に偏光板を配設することに
より得られる。この素子は複屈折モードを利用して、表
示素子あるいは電気光学素子として使用することができ
る。
【００５９】
【実施例】次に、参考例および実施例に基づいて本発明
をさらに具体的に説明するが、本発明はこれに限定され
るものではない。また、以下の各例において、本発明の
一般式（Ｉ）で表される光学活性化合物のＲ，Ｓ表示
は、下記の式
をさらに具体的に説明するが、本発明はこれに限定され
るものではない。また、以下の各例において、本発明の
一般式（Ｉ）で表される光学活性化合物のＲ，Ｓ表示
は、下記の式
【００６０】
【化３０】
【００６１】〔式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｘ1 ，
Ｘ2 ，Ｘ3 ，Ｘ4 ，Ａ，Ｂ，ｎ及び＊は前記と同じであ
る。〕の位置番号に基づいて行った。 参考例 （５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−５−ｔ−ブチルジメチ
ルシロキシ−６−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシ
ピランの合成
Ｘ2 ，Ｘ3 ，Ｘ4 ，Ａ，Ｂ，ｎ及び＊は前記と同じであ
る。〕の位置番号に基づいて行った。 参考例 （５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−５−ｔ−ブチルジメチ
ルシロキシ−６−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシ
ピランの合成
【００６２】
【化３１】
【００６３】〔式中、ＴＢＳ及び＊は前記と同じであ
る。〕 （ａ）窒素雰囲気下、フラン１3.６ｇ（２００ミリモ
ル）をテトラヒドロフラン１５０ミリリットルに加え、
1.５モル／リットルのｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液
１３３ミリリットル（２００ミリモル）を−２０℃で滴
下し、１時間反応させた。次に、トリメチルシリルクロ
リド２1.７ｇ（２００ミリモル）を滴下し、−２０℃で
１時間攪拌した。1.５モル／リットルのｎ−ブチルリチ
ウムヘキサン溶液１３３ミリリットル（２００ミリモ
ル）を加え、−２０℃で１時間反応させた後、−７８℃
でトリフルオロ酢酸エチル２8.４ｇ（２００ミリモル）
を滴下し、−７８℃で１時間、室温でさらに１時間反応
させた。この反応溶液に３規定の塩酸を加えて反応を停
止させ、酢酸エチルで抽出した。次いで、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液，飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し、フラ
ン誘導体の粗生成物を得た。
る。〕 （ａ）窒素雰囲気下、フラン１3.６ｇ（２００ミリモ
ル）をテトラヒドロフラン１５０ミリリットルに加え、
1.５モル／リットルのｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液
１３３ミリリットル（２００ミリモル）を−２０℃で滴
下し、１時間反応させた。次に、トリメチルシリルクロ
リド２1.７ｇ（２００ミリモル）を滴下し、−２０℃で
１時間攪拌した。1.５モル／リットルのｎ−ブチルリチ
ウムヘキサン溶液１３３ミリリットル（２００ミリモ
ル）を加え、−２０℃で１時間反応させた後、−７８℃
でトリフルオロ酢酸エチル２8.４ｇ（２００ミリモル）
を滴下し、−７８℃で１時間、室温でさらに１時間反応
させた。この反応溶液に３規定の塩酸を加えて反応を停
止させ、酢酸エチルで抽出した。次いで、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液，飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し、フラ
ン誘導体の粗生成物を得た。
【００６４】（ｂ）乾燥エタノール１００ミリリットル
に水素化ホウ素ナトリウム2.３ｇ（６０ミリモル）を加
え、上記反応で得たフラン誘導体の粗生成物を０℃で３
０分かけて滴下した。室温で２時間反応させた後、エタ
ノールを減圧留去し、３規定の塩酸を加えて反応を停止
させ、酢酸エチルにより抽出した。次いで、飽和炭酸水
素ナトリウム，飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去した後、減
圧蒸留を行い、アルコール化合物４0.５ｇ（１７０ミリ
モル）を得た。
に水素化ホウ素ナトリウム2.３ｇ（６０ミリモル）を加
え、上記反応で得たフラン誘導体の粗生成物を０℃で３
０分かけて滴下した。室温で２時間反応させた後、エタ
ノールを減圧留去し、３規定の塩酸を加えて反応を停止
させ、酢酸エチルにより抽出した。次いで、飽和炭酸水
素ナトリウム，飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去した後、減
圧蒸留を行い、アルコール化合物４0.５ｇ（１７０ミリ
モル）を得た。
【００６５】（ｃ）塩化メチレン３００ミリリットルに
上記（ｂ）の反応で得たアルコール化合物６4.１ｇ（２
６９ミリモル）とピリジン２7.７ミリリットル（３５０
ミリモル）を加え、０℃で塩化アセチル２7.５ｇ（３５
０ミリモル）を滴下し、室温で２時間反応させた。次い
で、３規定の塩酸を加えて反応を停止させ、塩化メチレ
ンで抽出した。その後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液，
蒸留水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。塩化メチレンを減圧留去した後、減圧蒸留を行い、
エステル化合物７5.１ｇ（２６８ミリモル）を得た。
上記（ｂ）の反応で得たアルコール化合物６4.１ｇ（２
６９ミリモル）とピリジン２7.７ミリリットル（３５０
ミリモル）を加え、０℃で塩化アセチル２7.５ｇ（３５
０ミリモル）を滴下し、室温で２時間反応させた。次い
で、３規定の塩酸を加えて反応を停止させ、塩化メチレ
ンで抽出した。その後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液，
蒸留水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。塩化メチレンを減圧留去した後、減圧蒸留を行い、
エステル化合物７5.１ｇ（２６８ミリモル）を得た。
【００６６】（ｄ）蒸留水１８００ミリリットルに上記
反応により得られたエステル化合物５8.５ｇ（２０９ミ
リモル）を加えて、ミニジャーファーメンター中で４０
℃で攪拌した。リパーゼＰＳを３０ｇ加え、１０時間反
応させた。３規定の塩酸を加え、０℃に冷却して反応を
停止し、セライトによりろ過した。ろ液を酢酸エチルに
より抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、酢酸エチルを減圧留去した。次いで、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製して光
学活性アルコール化合物２3.２ｇ（９7.４ミリモル）と
光学活性エステル化合物２5.６ｇ（９1.４ミリモル）を
得た。なお、得られたアルコール化合物の光学純度は９
8.０％e.e.であった。
反応により得られたエステル化合物５8.５ｇ（２０９ミ
リモル）を加えて、ミニジャーファーメンター中で４０
℃で攪拌した。リパーゼＰＳを３０ｇ加え、１０時間反
応させた。３規定の塩酸を加え、０℃に冷却して反応を
停止し、セライトによりろ過した。ろ液を酢酸エチルに
より抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、酢酸エチルを減圧留去した。次いで、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製して光
学活性アルコール化合物２3.２ｇ（９7.４ミリモル）と
光学活性エステル化合物２5.６ｇ（９1.４ミリモル）を
得た。なお、得られたアルコール化合物の光学純度は９
8.０％e.e.であった。
【００６７】（ｅ）上記反応で得られた光学活性アルコ
ール化合物２5.８ｇ（１０８ミリモル）を塩化メチレン
２００ミリリットルに溶かし、イミダゾール１0.５ｇ
（１５１ミリモル）とｔ−ブチルジメチルシリルクロリ
ド２3.０ｇ（１５１ミリモル）を０℃で加えて１５分攪
拌し、室温で１６時間反応させた。蒸留水を加えて反応
を停止させ、塩化メチレンにより抽出した。次いで、蒸
留水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化
メチレンを減圧留去した後、カラムクロマトグラフィー
により分離精製してシリルエーテル化合物３7.２ｇ（１
０６ミリモル）を得た。
ール化合物２5.８ｇ（１０８ミリモル）を塩化メチレン
２００ミリリットルに溶かし、イミダゾール１0.５ｇ
（１５１ミリモル）とｔ−ブチルジメチルシリルクロリ
ド２3.０ｇ（１５１ミリモル）を０℃で加えて１５分攪
拌し、室温で１６時間反応させた。蒸留水を加えて反応
を停止させ、塩化メチレンにより抽出した。次いで、蒸
留水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。塩化
メチレンを減圧留去した後、カラムクロマトグラフィー
により分離精製してシリルエーテル化合物３7.２ｇ（１
０６ミリモル）を得た。
【００６８】（ｆ）窒素雰囲気下、酢酸１２０ミリリッ
トルに上記反応で得られたシリルエーテル化合物１4.１
ｇ（４０ミリモル）及びモノパーオキシフタル酸マグネ
シウム２3.２ｇ（６０ミリモル）を加え、８０℃で１２
時間反応させた。酢酸を減圧留去した後、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液を加え、酢酸エチルにより抽出した。次
いで、得られた抽出物を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去した
後、カラムクロマトグラフィーにより分離精製し、（４
Ｓ，１’Ｓ）ブテノリド化合物 4.7ｇ（１６ミリモル）
及び（４Ｒ，１’Ｓ）ブテノリド化合物 3.0ｇ（１０ミ
リモル）を得た。なお、4.２ｇ（１２ミリモル）の原料
も回収された。
トルに上記反応で得られたシリルエーテル化合物１4.１
ｇ（４０ミリモル）及びモノパーオキシフタル酸マグネ
シウム２3.２ｇ（６０ミリモル）を加え、８０℃で１２
時間反応させた。酢酸を減圧留去した後、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液を加え、酢酸エチルにより抽出した。次
いで、得られた抽出物を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去した
後、カラムクロマトグラフィーにより分離精製し、（４
Ｓ，１’Ｓ）ブテノリド化合物 4.7ｇ（１６ミリモル）
及び（４Ｒ，１’Ｓ）ブテノリド化合物 3.0ｇ（１０ミ
リモル）を得た。なお、4.２ｇ（１２ミリモル）の原料
も回収された。
【００６９】（ｇ）上記反応で得られた（４Ｓ，１’
Ｓ）及び（４Ｒ，１’Ｓ）ブテノリド化合物１3.７ｇ
（４６ミリモル）を分離せずにエタノール４０ミリリッ
トルに溶かし、１０％Ｐｄ／Ｃ（Ｐｄ １０重量％含
有）を1.４ｇ加え、水素雰囲気下、室温で１５時間反応
した。反応溶液を濾過し、溶媒を減圧留去した後、シリ
カゲルラカムクロマトグラフィーで分離精製して、（４
Ｓ，１’Ｓ）ブタノリド化合物8.２ｇ（２９ミリモル）
及び（４Ｒ，１’Ｓ）ブタノリド化合物3.６ｇ（１２ミ
リモル）を得た。
Ｓ）及び（４Ｒ，１’Ｓ）ブテノリド化合物１3.７ｇ
（４６ミリモル）を分離せずにエタノール４０ミリリッ
トルに溶かし、１０％Ｐｄ／Ｃ（Ｐｄ １０重量％含
有）を1.４ｇ加え、水素雰囲気下、室温で１５時間反応
した。反応溶液を濾過し、溶媒を減圧留去した後、シリ
カゲルラカムクロマトグラフィーで分離精製して、（４
Ｓ，１’Ｓ）ブタノリド化合物8.２ｇ（２９ミリモル）
及び（４Ｒ，１’Ｓ）ブタノリド化合物3.６ｇ（１２ミ
リモル）を得た。
【００７０】（ｈ）窒素雰囲気下、ジエチルエーテル４
０ミリリットルに上記反応により得られた（４Ｓ，１’
Ｓ）ブタノリド化合物7.５ｇ（２５ミリモル）を加え、
−７８℃で水素化ジイソブチルアルミニウムの0.９３モ
ル／リットルのｎ−ヘキサン溶液３２ミリリットル（３
０ミリモル）を滴下し、３時間反応した。蒸留水を加え
て反応を停止し、１規定の塩酸を加え中和した後、ジエ
チルエーテルで抽出した。飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、ジエチルエーテルを減圧留去
した。次いでシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製して、ラクトール化合物7.３ｇ（２４ミリモル）を得
た。
０ミリリットルに上記反応により得られた（４Ｓ，１’
Ｓ）ブタノリド化合物7.５ｇ（２５ミリモル）を加え、
−７８℃で水素化ジイソブチルアルミニウムの0.９３モ
ル／リットルのｎ−ヘキサン溶液３２ミリリットル（３
０ミリモル）を滴下し、３時間反応した。蒸留水を加え
て反応を停止し、１規定の塩酸を加え中和した後、ジエ
チルエーテルで抽出した。飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、ジエチルエーテルを減圧留去
した。次いでシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製して、ラクトール化合物7.３ｇ（２４ミリモル）を得
た。
【００７１】（ｉ）窒素雰囲気下、テトラヒドロフラン
５０ミリリットルに上記反応により得られたラクトール
化合物7.３ｇ（２４ミリモル）を加え、−７８℃でカリ
ウム−ｔ−ブトキシド3.０ｇ（２７ミリモル）のテトラ
ヒドロフラン１０ミリリットル溶液を滴下し、３時間反
応した。蒸留水を加えて反応を停止し、１規定の塩酸を
加え中和した後、ジエチルエーテルで抽出した。飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ジエチ
ルエーテルを減圧留去した。次いでシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製して、目的とする（５Ｓ，６
Ｓ）−テトラヒドロ−５−ｔ−ブチルジメチルシロキシ
−６−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシピラン6.４
ｇ（２１ミリモル）を得た。得られた化合物は、同位体
フッ素による核磁気共鳴法から、モル比が８２：１８の
ジアステレオマーの混合物であった。
５０ミリリットルに上記反応により得られたラクトール
化合物7.３ｇ（２４ミリモル）を加え、−７８℃でカリ
ウム−ｔ−ブトキシド3.０ｇ（２７ミリモル）のテトラ
ヒドロフラン１０ミリリットル溶液を滴下し、３時間反
応した。蒸留水を加えて反応を停止し、１規定の塩酸を
加え中和した後、ジエチルエーテルで抽出した。飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ジエチ
ルエーテルを減圧留去した。次いでシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製して、目的とする（５Ｓ，６
Ｓ）−テトラヒドロ−５−ｔ−ブチルジメチルシロキシ
−６−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシピラン6.４
ｇ（２１ミリモル）を得た。得られた化合物は、同位体
フッ素による核磁気共鳴法から、モル比が８２：１８の
ジアステレオマーの混合物であった。
【００７２】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 （１） （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）体 分子式：Ｃ12Ｈ23Ｆ3 Ｏ3 Ｓｉ1 Ｈ−ＮＭＲ（プロトン核磁気共鳴法）；δ（ｐｐｍ） 0.０３ （ｓ，６Ｈ） 0.８５ （ｓ，９Ｈ） 1.４０〜2.１０（ｍ，４Ｈ） 2.９０〜3.１０（ｍ，１Ｈ） 3.７８ （ｄｔ，Ｊ＝5.６，8.９Ｈｚ，１Ｈ） 4.１１ （ｄｑ，Ｊ＝9.２，6.９Ｈｚ，１Ｈ） 5.２０〜5.４０（ｍ，１Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（同位体フッ素による核磁気共鳴法，基
準：ＣＦＣＯＯＨ) ；δ（ｐｐｍ） 4.９０ （ｄ，Ｊ＝6.１Ｈｚ）
す。 （１） （２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）体 分子式：Ｃ12Ｈ23Ｆ3 Ｏ3 Ｓｉ1 Ｈ−ＮＭＲ（プロトン核磁気共鳴法）；δ（ｐｐｍ） 0.０３ （ｓ，６Ｈ） 0.８５ （ｓ，９Ｈ） 1.４０〜2.１０（ｍ，４Ｈ） 2.９０〜3.１０（ｍ，１Ｈ） 3.７８ （ｄｔ，Ｊ＝5.６，8.９Ｈｚ，１Ｈ） 4.１１ （ｄｑ，Ｊ＝9.２，6.９Ｈｚ，１Ｈ） 5.２０〜5.４０（ｍ，１Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（同位体フッ素による核磁気共鳴法，基
準：ＣＦＣＯＯＨ) ；δ（ｐｐｍ） 4.９０ （ｄ，Ｊ＝6.１Ｈｚ）
【００７３】（２） （２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）体 分子式：Ｃ12Ｈ23Ｆ3 Ｏ3 Ｓｉ1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.０５ （ｓ，６Ｈ） 0.８５ （ｓ，９Ｈ） 1.４０〜2.１０（ｍ，４Ｈ） 3.２０〜3.４０（ｍ，１Ｈ） 3.６７ （ｄｑ，Ｊ＝8.８，6.２Ｈｚ，１Ｈ） 3.７０〜3.９０（ｍ，１Ｈ） 4.８０〜5.００（ｍ，１Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣＯＯＨ) ；δ（ｐｐｍ） 4.８０ （ｄ，Ｊ＝7.６Ｈｚ）
【００７４】実施例１ （２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−５−ヘキサノイルオキシ−２−（４″−ヘキ
シルオキシビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピラ
ンの合成
ロメチル−５−ヘキサノイルオキシ−２−（４″−ヘキ
シルオキシビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピラ
ンの合成
【００７５】
【化３２】
【００７６】（ａ） ４’−ヘキシルオキシ−４−ビフ
ェニルカルボン酸クロリド1.１４ｇ(3.６ミリモル）と
参考例と同様の操作で得られた（５Ｒ，６Ｒ）−テトラ
ヒドロ−５−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−６−トリフ
ルオロメチル−２−ヒドロキシピラン0.９０ｇ( 3.０ミ
リモル）のトルエン溶液５ミリリットル中に無水ピリジ
ン２ミリリットルを加え、室温で２０時間反応した。こ
の反応溶液に蒸留水を加えて反応を停止し、エーテルに
より抽出した。次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。エーテルを減圧留去した後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、エステル
化合物1.１２ｇ( 1.９ミリモル）を得た。
ェニルカルボン酸クロリド1.１４ｇ(3.６ミリモル）と
参考例と同様の操作で得られた（５Ｒ，６Ｒ）−テトラ
ヒドロ−５−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−６−トリフ
ルオロメチル−２−ヒドロキシピラン0.９０ｇ( 3.０ミ
リモル）のトルエン溶液５ミリリットル中に無水ピリジ
ン２ミリリットルを加え、室温で２０時間反応した。こ
の反応溶液に蒸留水を加えて反応を停止し、エーテルに
より抽出した。次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。エーテルを減圧留去した後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、エステル
化合物1.１２ｇ( 1.９ミリモル）を得た。
【００７７】（ｂ） （ａ）で得られたエステル化合物
1.１２ｇをテトラヒドロフラン１０ミリリットルに溶か
し、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライドの1.
０モル／リットルのテトラヒドロフラン溶液1.０ミリリ
ットルを加え、０℃で１時間、室温で６時間反応させ
た。この反応液に蒸留水を加えて反応を停止し、反応物
をエーテルで抽出した。次いで、抽出物を飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。エーテルを
減圧留去した後、シリカゲルクロマトグラフィーで分離
精製して、（２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）の不斉炭素を有するア
ルコール化合物0.０８ｇ（0.２ミリモル）および（２
Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）の不斉炭素を有するアルコール化合物
0.７４ｇ（1.６ミリモル）を得た。
1.１２ｇをテトラヒドロフラン１０ミリリットルに溶か
し、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライドの1.
０モル／リットルのテトラヒドロフラン溶液1.０ミリリ
ットルを加え、０℃で１時間、室温で６時間反応させ
た。この反応液に蒸留水を加えて反応を停止し、反応物
をエーテルで抽出した。次いで、抽出物を飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。エーテルを
減圧留去した後、シリカゲルクロマトグラフィーで分離
精製して、（２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）の不斉炭素を有するア
ルコール化合物0.０８ｇ（0.２ミリモル）および（２
Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）の不斉炭素を有するアルコール化合物
0.７４ｇ（1.６ミリモル）を得た。
【００７８】（ｃ） （ｂ）で得られた（２Ｓ，５Ｒ，
６Ｒ）の不斉炭素を有するアルコール化合物0.０８ｇを
トルエン３ミリリットルに溶かし、ピリジン0.５ミリリ
ットル，ヘキサノイルクロライド0.０３ミリリットル
（0.２ミリモル）を順次加え、室温で２０時間反応させ
た。この反応溶液に蒸留水を加え反応を停止し、反応物
をエーテルで抽出した。次いで、抽出物を飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。エーテルを
減圧留去した後、シリカゲルクロマトグラフィーで分離
精製して、目的の化合物である（２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−
テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−５−ヘキサノ
イルオキシ−２−（４″−ヘキシルオキシビフェニル−
４’−カルボニルオキシ）ピラン0.０９ｇ（0.２ミリモ
ル）を得た。
６Ｒ）の不斉炭素を有するアルコール化合物0.０８ｇを
トルエン３ミリリットルに溶かし、ピリジン0.５ミリリ
ットル，ヘキサノイルクロライド0.０３ミリリットル
（0.２ミリモル）を順次加え、室温で２０時間反応させ
た。この反応溶液に蒸留水を加え反応を停止し、反応物
をエーテルで抽出した。次いで、抽出物を飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。エーテルを
減圧留去した後、シリカゲルクロマトグラフィーで分離
精製して、目的の化合物である（２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−
テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−５−ヘキサノ
イルオキシ−２−（４″−ヘキシルオキシビフェニル−
４’−カルボニルオキシ）ピラン0.０９ｇ（0.２ミリモ
ル）を得た。
【００７９】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ31Ｈ39Ｆ3 Ｏ6 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８２〜1.０１（ｍ，６Ｈ） 1.２０〜2.３１（ｍ，１８Ｈ） 2.３３ （ｔ，Ｊ＝7.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.０２ （ｔ，Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 4.２９ （ｄｑ，Ｊ＝9.８，5.９Ｈｚ，１Ｈ） 5.１０〜5.２２（ｍ，１Ｈ） 6.４８ （ｍ，１Ｈ） 7.００ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.５９ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.６７ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ） 8.１１ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７6.０５ （ｄ，Ｊ＝5.９Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1 ) １７４０，１７３０，１６０５，１５００，１２６５，
１１７０ １０７０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５６4.２６９９ 実測値 ５６4.２７０４ ［α］27 D ＝−５1.６°（Ｃ（濃度）＝0.９２，溶媒：
クロロホルム）
す。 分子式：Ｃ31Ｈ39Ｆ3 Ｏ6 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８２〜1.０１（ｍ，６Ｈ） 1.２０〜2.３１（ｍ，１８Ｈ） 2.３３ （ｔ，Ｊ＝7.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.０２ （ｔ，Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 4.２９ （ｄｑ，Ｊ＝9.８，5.９Ｈｚ，１Ｈ） 5.１０〜5.２２（ｍ，１Ｈ） 6.４８ （ｍ，１Ｈ） 7.００ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.５９ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.６７ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ） 8.１１ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７6.０５ （ｄ，Ｊ＝5.９Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1 ) １７４０，１７３０，１６０５，１５００，１２６５，
１１７０ １０７０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５６4.２６９９ 実測値 ５６4.２７０４ ［α］27 D ＝−５1.６°（Ｃ（濃度）＝0.９２，溶媒：
クロロホルム）
【００８０】実施例２ （２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−５−ヘキサノイルオキシ−２−（４″−ヘプ
チルビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピランの合
成
ロメチル−５−ヘキサノイルオキシ−２−（４″−ヘプ
チルビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピランの合
成
【００８１】
【化３３】
【００８２】４’−ヘプチル−４−ビフェニルカルボン
酸クロリド0.７４ｇ( 2.４ミリモル）を用いた以外は、
実施例１と同様の操作を行い、目的化合物である（２
Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメ
チル−５−ヘキサノイルオキシ−２−（４″−ヘプチル
ビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピラン0.１５ｇ
( 0.３ミリモル）を得た。
酸クロリド0.７４ｇ( 2.４ミリモル）を用いた以外は、
実施例１と同様の操作を行い、目的化合物である（２
Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメ
チル−５−ヘキサノイルオキシ−２−（４″−ヘプチル
ビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピラン0.１５ｇ
( 0.３ミリモル）を得た。
【００８３】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。分子式：Ｃ32Ｈ41Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８２〜0.９７（ｍ，６Ｈ） 1.１８〜1.４５（ｍ，１１Ｈ） 1.５３〜1.７６（ｍ，５Ｈ） 1.９４〜2.２９（ｍ，４Ｈ） 2.３３ （ｔ，Ｊ＝7.６Ｈｚ，２Ｈ） 2.６７ （ｔ，Ｊ＝7.７Ｈｚ，２Ｈ） 4.２９ （ｄｑ，Ｊ＝9.８，5.９Ｈｚ，１Ｈ） 5.１０〜5.２３（ｍ，１Ｈ） 6.４９ （ｍ，１Ｈ） 7.３０ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.５６ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ） 7.７０ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ） 8.１３ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７6.０７ （ｄ，Ｊ＝5.９Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７３５，１６１０，１４９０，１２６５，１１７０，
１０７０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５６2.２９０６ 実測値 ５６2.２９３４ ［α］25 D ＝−５0.３°（Ｃ（濃度）＝0.６８，溶媒：
クロロホルム）
す。分子式：Ｃ32Ｈ41Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８２〜0.９７（ｍ，６Ｈ） 1.１８〜1.４５（ｍ，１１Ｈ） 1.５３〜1.７６（ｍ，５Ｈ） 1.９４〜2.２９（ｍ，４Ｈ） 2.３３ （ｔ，Ｊ＝7.６Ｈｚ，２Ｈ） 2.６７ （ｔ，Ｊ＝7.７Ｈｚ，２Ｈ） 4.２９ （ｄｑ，Ｊ＝9.８，5.９Ｈｚ，１Ｈ） 5.１０〜5.２３（ｍ，１Ｈ） 6.４９ （ｍ，１Ｈ） 7.３０ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.５６ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ） 7.７０ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ） 8.１３ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７6.０７ （ｄ，Ｊ＝5.９Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７３５，１６１０，１４９０，１２６５，１１７０，
１０７０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５６2.２９０６ 実測値 ５６2.２９３４ ［α］25 D ＝−５0.３°（Ｃ（濃度）＝0.６８，溶媒：
クロロホルム）
【００８４】実施例３ （２Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−５−ヘキサノイルオキシ−２−（４″−ヘキ
シルオキシビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピラ
ンの合成
ロメチル−５−ヘキサノイルオキシ−２−（４″−ヘキ
シルオキシビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピラ
ンの合成
【００８５】
【化３４】
【００８６】実施例１（ｂ）の操作で得られた（２Ｒ，
５Ｒ，６Ｒ）の不斉炭素を有するアルコール化合物0.３
７ｇ（0.８ミリモル）とヘキサノイルクロライド0.１３
ミリリットル（1.０ミリモル）を用いた以外は、実施例
１（ｃ）と同様の操作を行い、目的化合物である（２
Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメ
チル−５−ヘキサノイルオキシ−２−（４″−ヘキシル
オキシビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピラン0.
４１ｇ（0.７ミリモル）を得た。
５Ｒ，６Ｒ）の不斉炭素を有するアルコール化合物0.３
７ｇ（0.８ミリモル）とヘキサノイルクロライド0.１３
ミリリットル（1.０ミリモル）を用いた以外は、実施例
１（ｃ）と同様の操作を行い、目的化合物である（２
Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメ
チル−５−ヘキサノイルオキシ−２−（４″−ヘキシル
オキシビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピラン0.
４１ｇ（0.７ミリモル）を得た。
【００８７】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ31Ｈ39Ｆ3 Ｏ6 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８２〜1.００（ｍ，６Ｈ） 1.２１〜2.４８（ｍ，１８Ｈ） 2.３４ （ｔ，Ｊ＝7.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.０１ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.１４ （ｄｑ，Ｊ＝6.８，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 5.０９〜5.２０（ｍ，１Ｈ） 6.１８ （ｄｄ，Ｊ＝2.７，7.０Ｈｚ，１Ｈ） 6.９９ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.５６ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.６３ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ） 8.１１ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.３９ （ｄ，Ｊ＝6.８Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７４０，１６０５，１５００，１２７０，１１８０，
１０８０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５６4.２６９９ 実測値 ５６4.２６８１ ［α］25 D ＝−１5.３°（Ｃ（濃度）＝1.２０，溶媒：
クロロホルム）
す。 分子式：Ｃ31Ｈ39Ｆ3 Ｏ6 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８２〜1.００（ｍ，６Ｈ） 1.２１〜2.４８（ｍ，１８Ｈ） 2.３４ （ｔ，Ｊ＝7.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.０１ （ｔ，Ｊ＝6.５Ｈｚ，２Ｈ） 4.１４ （ｄｑ，Ｊ＝6.８，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 5.０９〜5.２０（ｍ，１Ｈ） 6.１８ （ｄｄ，Ｊ＝2.７，7.０Ｈｚ，１Ｈ） 6.９９ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.５６ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.６３ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ） 8.１１ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.３９ （ｄ，Ｊ＝6.８Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1) １７４０，１６０５，１５００，１２７０，１１８０，
１０８０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５６4.２６９９ 実測値 ５６4.２６８１ ［α］25 D ＝−１5.３°（Ｃ（濃度）＝1.２０，溶媒：
クロロホルム）
【００８８】実施例４ （２Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−５−ヘキサノイルオキシ−２−（４″−ヘプ
チルビフェニル−４’−メチレンオキシ）ピランの合成
ロメチル−５−ヘキサノイルオキシ−２−（４″−ヘプ
チルビフェニル−４’−メチレンオキシ）ピランの合成
【００８９】
【化３５】
【００９０】（ａ） ４’−ヘプチル−４−ヒドロキシ
メチルビフェニル0.８５ｇ( 3.０ミリモル）と参考例と
同様の操作で得られた（５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−
５−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−６−トリフルオロメ
チル−２−ヒドロキシピラン0.６０ｇ( 2.０ミリモル）
のテトラヒドロフラン溶液８ミリリットル中に酸触媒と
してパラトルエンスルホン酸0.１ｇを加え、室温で５０
時間還流した。この反応溶液に蒸留水を加えて反応を停
止し、反応物をエーテルにより抽出した。次いで得られ
た抽出物を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。乾燥物中のエーテルを減圧留去した後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、アセター
ル化合物0.６９ｇ( 1.２ミリモル）を得た。
メチルビフェニル0.８５ｇ( 3.０ミリモル）と参考例と
同様の操作で得られた（５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−
５−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−６−トリフルオロメ
チル−２−ヒドロキシピラン0.６０ｇ( 2.０ミリモル）
のテトラヒドロフラン溶液８ミリリットル中に酸触媒と
してパラトルエンスルホン酸0.１ｇを加え、室温で５０
時間還流した。この反応溶液に蒸留水を加えて反応を停
止し、反応物をエーテルにより抽出した。次いで得られ
た抽出物を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。乾燥物中のエーテルを減圧留去した後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、アセター
ル化合物0.６９ｇ( 1.２ミリモル）を得た。
【００９１】（ｂ） 実施例４（ａ）で得られたアセタ
ール化合物0.６９ｇをテトラヒドロフラン１０ミリリッ
トルに溶かし、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオ
ライドの1.０モル／リットルテトラヒドロフラン溶液1.
２ミリリットルを加え、０℃で１時間、室温で１４時間
反応させた。この反応液に蒸留水を加えて反応を停止
し、反応物をエーテルで抽出した。次いで、抽出物を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
エーテルを減圧留去した後、シリカゲルクロマトグラフ
ィーで分離精製して、（２Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）の不斉炭素
を有するアルコール化合物0.３９ｇ（0.９ミリモル）お
よび（２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）の不斉炭素を有するアルコー
ル化合物0.１３ｇ（0.３ミリモル）を得た。
ール化合物0.６９ｇをテトラヒドロフラン１０ミリリッ
トルに溶かし、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオ
ライドの1.０モル／リットルテトラヒドロフラン溶液1.
２ミリリットルを加え、０℃で１時間、室温で１４時間
反応させた。この反応液に蒸留水を加えて反応を停止
し、反応物をエーテルで抽出した。次いで、抽出物を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
エーテルを減圧留去した後、シリカゲルクロマトグラフ
ィーで分離精製して、（２Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）の不斉炭素
を有するアルコール化合物0.３９ｇ（0.９ミリモル）お
よび（２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）の不斉炭素を有するアルコー
ル化合物0.１３ｇ（0.３ミリモル）を得た。
【００９２】（ｃ） 実施例４（ｂ）で得られた（２
Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）の不斉炭素を有するアルコール化合物
0.３９ｇをトルエン５ミリリットルに溶かし、ピリジン
1.０ミリリットル，ヘキサノイルクロライド0.１４ミリ
リットル（1.０ミリモル）を順次加え、室温で２０時間
反応させた。この反応溶液に蒸留水を加え反応を停止
し、反応物をエーテルで抽出した。次いで、抽出物を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
エーテルを減圧留去した後、シリカゲルクロマトグラフ
ィーで分離精製して、目的の化合物である（２Ｒ，５
Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−
５−ヘキサノイルオキシ−２−（４″−ヘプチルビフェ
ニル−４’−メチレンオキシ）ピラン0.４３ｇ（0.８ミ
リモル）を得た。
Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）の不斉炭素を有するアルコール化合物
0.３９ｇをトルエン５ミリリットルに溶かし、ピリジン
1.０ミリリットル，ヘキサノイルクロライド0.１４ミリ
リットル（1.０ミリモル）を順次加え、室温で２０時間
反応させた。この反応溶液に蒸留水を加え反応を停止
し、反応物をエーテルで抽出した。次いで、抽出物を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
エーテルを減圧留去した後、シリカゲルクロマトグラフ
ィーで分離精製して、目的の化合物である（２Ｒ，５
Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−
５−ヘキサノイルオキシ−２−（４″−ヘプチルビフェ
ニル−４’−メチレンオキシ）ピラン0.４３ｇ（0.８ミ
リモル）を得た。
【００９３】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ32Ｈ43Ｆ3 Ｏ4 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８２〜0.９６（ｍ，６Ｈ） 1.２０〜1.４２（ｍ，１１Ｈ） 1.５１〜1.７３（ｍ，５Ｈ） 1.８４〜2.０７（ｍ，４Ｈ） 2.２９ （ｔ，Ｊ＝7.５Ｈｚ，２Ｈ） 2.６５ （ｔ，Ｊ＝7.７Ｈｚ，２Ｈ） 4.１９ （ｄｑ，Ｊ＝9.７，6.２Ｈｚ，１Ｈ） 4.５７ （ｄ，Ｊ＝１1.９Ｈｚ，１Ｈ） 4.７８ （ｄ，Ｊ＝１1.９Ｈｚ，１Ｈ） 5.０１〜5.１３（ｍ，２Ｈ） 7.２６ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.４１ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ） 7.５１ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ） 7.５９ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７6.０６ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1 ) １７４０，１６１０，１５００，１２７０，１１７０，
１０９０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５４8.３１１４ 実測値 ５４8.３１３０ ［α］25 D ＝−７1.１°（Ｃ（濃度）＝1.００，溶媒：
クロロホルム）
す。 分子式：Ｃ32Ｈ43Ｆ3 Ｏ4 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８２〜0.９６（ｍ，６Ｈ） 1.２０〜1.４２（ｍ，１１Ｈ） 1.５１〜1.７３（ｍ，５Ｈ） 1.８４〜2.０７（ｍ，４Ｈ） 2.２９ （ｔ，Ｊ＝7.５Ｈｚ，２Ｈ） 2.６５ （ｔ，Ｊ＝7.７Ｈｚ，２Ｈ） 4.１９ （ｄｑ，Ｊ＝9.７，6.２Ｈｚ，１Ｈ） 4.５７ （ｄ，Ｊ＝１1.９Ｈｚ，１Ｈ） 4.７８ （ｄ，Ｊ＝１1.９Ｈｚ，１Ｈ） 5.０１〜5.１３（ｍ，２Ｈ） 7.２６ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.４１ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ） 7.５１ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ） 7.５９ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７6.０６ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1 ) １７４０，１６１０，１５００，１２７０，１１７０，
１０９０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５４8.３１１４ 実測値 ５４8.３１３０ ［α］25 D ＝−７1.１°（Ｃ（濃度）＝1.００，溶媒：
クロロホルム）
【００９４】実施例５ （２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−５−ヘキサノイルオキシ−２−（４″−ヘプ
チルビフェニル−４’−メチレンオキシ）ピランの合成
ロメチル−５−ヘキサノイルオキシ−２−（４″−ヘプ
チルビフェニル−４’−メチレンオキシ）ピランの合成
【００９５】
【化３６】
【００９６】実施例４（ｂ）の操作で得られた（２Ｓ，
５Ｒ，６Ｒ）の不斉炭素を有するアルコール化合物0.１
３ｇ（0.３ミリモル）を用い、実施例４（ｃ）と同様の
操作を行い、目的化合物である（２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−
テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−５−ヘキサノ
イルオキシ−２−（４″−ヘプチルビフェニル−４’−
メチレンオキシ）ピラン0.１３ｇ（0.２ミリモル）を得
た。
５Ｒ，６Ｒ）の不斉炭素を有するアルコール化合物0.１
３ｇ（0.３ミリモル）を用い、実施例４（ｃ）と同様の
操作を行い、目的化合物である（２Ｓ，５Ｒ，６Ｒ）−
テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−５−ヘキサノ
イルオキシ−２−（４″−ヘプチルビフェニル−４’−
メチレンオキシ）ピラン0.１３ｇ（0.２ミリモル）を得
た。
【００９７】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ32Ｈ43Ｆ3 Ｏ4 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８０〜0.９８（ｍ，６Ｈ） 1.１４〜1.４３（ｍ，１３Ｈ） 1.４９〜2.０２（ｍ，６Ｈ） 2.１８〜2.３２（ｍ，１Ｈ） 2.２９ （ｔ，Ｊ＝7.５Ｈｚ，２Ｈ） 2.６４ （ｔ，Ｊ＝7.７Ｈｚ，２Ｈ） 3.８９ （ｄｑ，Ｊ＝8.８，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.６４ （ｄ，Ｊ＝１2.０Ｈｚ，１Ｈ） 4.６５ （ｄｄ，Ｊ＝2.４，8.１Ｈｚ，１Ｈ） 4.９２ （ｄ，Ｊ＝１1.９Ｈｚ，１Ｈ） 4.９７〜5.１１（ｍ，１Ｈ） 7.２５ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.４０ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ） 7.５０ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.５７ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.８３ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1 ) １７３０，１６００，１５００，１２７０，１１６５，
１０６０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５４8.３１１４ 実測値 ５４8.３１２１ ［α］24 D ＝＋３8.８°（Ｃ（濃度）＝0.７５，溶媒：
クロロホルム）
す。 分子式：Ｃ32Ｈ43Ｆ3 Ｏ4 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８０〜0.９８（ｍ，６Ｈ） 1.１４〜1.４３（ｍ，１３Ｈ） 1.４９〜2.０２（ｍ，６Ｈ） 2.１８〜2.３２（ｍ，１Ｈ） 2.２９ （ｔ，Ｊ＝7.５Ｈｚ，２Ｈ） 2.６４ （ｔ，Ｊ＝7.７Ｈｚ，２Ｈ） 3.８９ （ｄｑ，Ｊ＝8.８，6.３Ｈｚ，１Ｈ） 4.６４ （ｄ，Ｊ＝１2.０Ｈｚ，１Ｈ） 4.６５ （ｄｄ，Ｊ＝2.４，8.１Ｈｚ，１Ｈ） 4.９２ （ｄ，Ｊ＝１1.９Ｈｚ，１Ｈ） 4.９７〜5.１１（ｍ，１Ｈ） 7.２５ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.４０ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ） 7.５０ （ｄ，Ｊ＝8.１Ｈｚ，２Ｈ） 7.５７ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.８３ （ｄ，Ｊ＝6.３Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1 ) １７３０，１６００，１５００，１２７０，１１６５，
１０６０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５４8.３１１４ 実測値 ５４8.３１２１ ［α］24 D ＝＋３8.８°（Ｃ（濃度）＝0.７５，溶媒：
クロロホルム）
【００９８】実施例６ （２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−２−（４″−ヘキシル
オキシビフェニル−４’−メチレンオキシ）ピランの合
成
ロメチル−２−ヘキシルオキシ−２−（４″−ヘキシル
オキシビフェニル−４’−メチレンオキシ）ピランの合
成
【００９９】
【化３７】
【０１００】（ａ） ４’−ヘキシルオキシ−４−ヒド
ロキシメチルビフェニル0.８５ｇ( 3.０ミリモル）と参
考例で得られた（５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−５−ｔ
−ブチルジメチルシロキシ−６−トリフルオロメチル−
２−ヒドロキシピラン0.６０ｇ( 2.０ミリモル）を用
い、実施例４（ａ）及び（ｂ）と同様の操作を行い（２
Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）の不斉炭素を有するアルコール化合物
0.３７ｇ（0.８ミリモル）および（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）
の不斉炭素を有するアルコール化合物0.１２ｇ（0.３ミ
リモル）を得た。
ロキシメチルビフェニル0.８５ｇ( 3.０ミリモル）と参
考例で得られた（５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−５−ｔ
−ブチルジメチルシロキシ−６−トリフルオロメチル−
２−ヒドロキシピラン0.６０ｇ( 2.０ミリモル）を用
い、実施例４（ａ）及び（ｂ）と同様の操作を行い（２
Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）の不斉炭素を有するアルコール化合物
0.３７ｇ（0.８ミリモル）および（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）
の不斉炭素を有するアルコール化合物0.１２ｇ（0.３ミ
リモル）を得た。
【０１０１】（ｂ） 実施例６（ａ）で得られた（２
Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）の不斉炭素を有するアルコール化合物
0.３７ｇのテトラヒドロフラン（４ミリリットル）溶液
を６０％水素化ナトリウム0.０４ｇ（1.０ミリモル）の
テトラヒドロフラン（４ミリリットル）溶液に窒素雰囲
気下０℃で滴下し、３０分間攪拌した。次いで、１−ブ
ロモヘキサン0.１５ミリリットル（1.１ミリモル）及び
ジメチルスルホキシド３ミリリットルを室温で加え、１
４時間反応させた。この反応溶液に蒸留水を加え反応を
停止し、反応物をエーテルで抽出した。次いで、抽出物
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。エーテルを減圧留去した後、シリカゲルクロマトグ
ラフィーで分離精製して、目的の化合物である（２Ｓ，
５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル
−５−ヘキシルオキシ−２−（４″−ヘキシルオキシビ
フェニル−４’−メチレンオキシ）ピラン0.２７ｇ（0.
５ミリモル）を得た。
Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）の不斉炭素を有するアルコール化合物
0.３７ｇのテトラヒドロフラン（４ミリリットル）溶液
を６０％水素化ナトリウム0.０４ｇ（1.０ミリモル）の
テトラヒドロフラン（４ミリリットル）溶液に窒素雰囲
気下０℃で滴下し、３０分間攪拌した。次いで、１−ブ
ロモヘキサン0.１５ミリリットル（1.１ミリモル）及び
ジメチルスルホキシド３ミリリットルを室温で加え、１
４時間反応させた。この反応溶液に蒸留水を加え反応を
停止し、反応物をエーテルで抽出した。次いで、抽出物
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。エーテルを減圧留去した後、シリカゲルクロマトグ
ラフィーで分離精製して、目的の化合物である（２Ｓ，
５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル
−５−ヘキシルオキシ−２−（４″−ヘキシルオキシビ
フェニル−４’−メチレンオキシ）ピラン0.２７ｇ（0.
５ミリモル）を得た。
【０１０２】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ31Ｈ43Ｆ3 Ｏ4 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.７９〜0.９８（ｍ，６Ｈ） 1.１８〜2.０９（ｍ，２０Ｈ） 3.３５〜3.６４（ｍ，３Ｈ） 4.００ （ｔ，Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 3.９８〜4.１２（ｍ，１Ｈ） 4.５２ （ｄ，Ｊ＝１1.８Ｈｚ，１Ｈ） 4.７５ （ｄ，Ｊ＝１1.８Ｈｚ，１Ｈ） 4.９７ （ｍ，１Ｈ） 6.９６ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.３８ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ） 7.５１ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.５３ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.３２ （ｄ，Ｊ＝6.７Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1 ) １６１０，１５００，１２４５，１１７０，１０８０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５３6.３１１４ 実測値 ５３6.３１２５ ［α］25 D ＝＋７6.７°（Ｃ（濃度）＝1.２２，溶媒：
クロロホルム）
す。 分子式：Ｃ31Ｈ43Ｆ3 Ｏ4 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.７９〜0.９８（ｍ，６Ｈ） 1.１８〜2.０９（ｍ，２０Ｈ） 3.３５〜3.６４（ｍ，３Ｈ） 4.００ （ｔ，Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 3.９８〜4.１２（ｍ，１Ｈ） 4.５２ （ｄ，Ｊ＝１1.８Ｈｚ，１Ｈ） 4.７５ （ｄ，Ｊ＝１1.８Ｈｚ，１Ｈ） 4.９７ （ｍ，１Ｈ） 6.９６ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.３８ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ） 7.５１ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.５３ （ｄ，Ｊ＝8.２Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.３２ （ｄ，Ｊ＝6.７Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1 ) １６１０，１５００，１２４５，１１７０，１０８０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５３6.３１１４ 実測値 ５３6.３１２５ ［α］25 D ＝＋７6.７°（Ｃ（濃度）＝1.２２，溶媒：
クロロホルム）
【０１０３】実施例７ （２Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）−テトラヒドロ−５−アセトキシ
−６−トリフルオロメチル−２−（４″−ヘキシルオキ
シビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピランの合成
−６−トリフルオロメチル−２−（４″−ヘキシルオキ
シビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピランの合成
【０１０４】
【化３８】
【０１０５】実施例１（ｂ）の操作で得られた（２Ｒ，
５Ｒ，６Ｒ）の不斉炭素を有するアルコール化合物0.３
７ｇ（0.８ミリモル）及びアセチルクロライド0.０７ミ
リリットル（1.０ミリモル）を用い、実施例１（ｃ）と
同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｒ，５Ｒ，６
Ｒ）−テトラヒドロ−５−アセトキシ−６−トリフルオ
ロメチル−２−（４″−ヘキシルオキシビフェニル−
４’−カルボニルオキシ）ピラン0.３９ｇ（0.８ミリモ
ル）を得た。
５Ｒ，６Ｒ）の不斉炭素を有するアルコール化合物0.３
７ｇ（0.８ミリモル）及びアセチルクロライド0.０７ミ
リリットル（1.０ミリモル）を用い、実施例１（ｃ）と
同様の操作を行い、目的化合物である（２Ｒ，５Ｒ，６
Ｒ）−テトラヒドロ−５−アセトキシ−６−トリフルオ
ロメチル−２−（４″−ヘキシルオキシビフェニル−
４’−カルボニルオキシ）ピラン0.３９ｇ（0.８ミリモ
ル）を得た。
【０１０６】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ27Ｈ31Ｆ3 Ｏ6 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.９１ （ｔ，Ｊ＝6.９Ｈｚ，３Ｈ） 1.２２〜1.５６（ｍ，６Ｈ） 1.７０〜2.１３（ｍ，８Ｈ） 2.３３〜2.４６（ｍ，１Ｈ） 4.００ （ｔ，Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 4.１４ （ｄｑ，Ｊ＝6.８，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 5.０９〜5.１９（ｍ，１Ｈ） 6.１８ （ｄｄ，Ｊ＝2.７，7.０Ｈｚ，１Ｈ） 6.９８ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.５６ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.６３ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ） 8.１０ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.５０ （ｄ，Ｊ＝6.８Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1 ) １７４０，１６１０，１５００，１２４０，１１７５，
１０８０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５０8.２０７３ 実測値 ５０8.２０７７ ［α］23 D ＝−１4.９°（Ｃ（濃度）＝1.０３，溶媒：
クロロホルム）
す。 分子式：Ｃ27Ｈ31Ｆ3 Ｏ6 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.９１ （ｔ，Ｊ＝6.９Ｈｚ，３Ｈ） 1.２２〜1.５６（ｍ，６Ｈ） 1.７０〜2.１３（ｍ，８Ｈ） 2.３３〜2.４６（ｍ，１Ｈ） 4.００ （ｔ，Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 4.１４ （ｄｑ，Ｊ＝6.８，6.８Ｈｚ，１Ｈ） 5.０９〜5.１９（ｍ，１Ｈ） 6.１８ （ｄｄ，Ｊ＝2.７，7.０Ｈｚ，１Ｈ） 6.９８ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.５６ （ｄ，Ｊ＝8.７Ｈｚ，２Ｈ） 7.６３ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ） 8.１０ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７5.５０ （ｄ，Ｊ＝6.８Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1 ) １７４０，１６１０，１５００，１２４０，１１７５，
１０８０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５０8.２０７３ 実測値 ５０8.２０７７ ［α］23 D ＝−１4.９°（Ｃ（濃度）＝1.０３，溶媒：
クロロホルム）
【０１０７】実施例８ （２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−６−トリフルオ
ロメチル−５−ヘキシルオキシ−２−（４″−ヘキシル
オキシビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピランの
合成
ロメチル−５−ヘキシルオキシ−２−（４″−ヘキシル
オキシビフェニル−４’−カルボニルオキシ）ピランの
合成
【０１０８】
【化３９】
【０１０９】（ａ） （５Ｓ，６Ｓ）−テトラヒドロ−
５−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−６−トリフルオロメ
チル−２−ヒドロキシピラン6.４ｇ( ２１ミリモル）を
ヘキサノール４０ミリリットルに溶かし、パラトルエン
スルホン酸0.１ｇを加え、室温で１８時間反応した。こ
の反応溶液をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、アセタール化合物8.０ｇ( ２１ミリモ
ル）を得た。
５−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−６−トリフルオロメ
チル−２−ヒドロキシピラン6.４ｇ( ２１ミリモル）を
ヘキサノール４０ミリリットルに溶かし、パラトルエン
スルホン酸0.１ｇを加え、室温で１８時間反応した。こ
の反応溶液をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、アセタール化合物8.０ｇ( ２１ミリモ
ル）を得た。
【０１１０】（ｂ） 実施例８（ａ）で得られたアセタ
ール化合物8.０ｇをテトラヒドロフラン２０ミリリット
ルに溶かし、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオラ
イドの1.０モル／リットルのテトラヒドロフラン溶液１
０ミリリットルを加え、０℃で１時間、室温で４０時間
反応させた。この反応液に蒸留水を加えて反応を停止
し、反応物をエーテルで抽出した。次いで、抽出物を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
エーテルを減圧留去した後、シリカゲルクロマトグラフ
ィーで分離精製して、（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）の不斉炭素
を有するアルコール化合物3.０ｇ（１１ミリモル）およ
び（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）の不斉炭素を有するアルコール
化合物2.３ｇ（8.０ミリモル）を得た。
ール化合物8.０ｇをテトラヒドロフラン２０ミリリット
ルに溶かし、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオラ
イドの1.０モル／リットルのテトラヒドロフラン溶液１
０ミリリットルを加え、０℃で１時間、室温で４０時間
反応させた。この反応液に蒸留水を加えて反応を停止
し、反応物をエーテルで抽出した。次いで、抽出物を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
エーテルを減圧留去した後、シリカゲルクロマトグラフ
ィーで分離精製して、（２Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）の不斉炭素
を有するアルコール化合物3.０ｇ（１１ミリモル）およ
び（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）の不斉炭素を有するアルコール
化合物2.３ｇ（8.０ミリモル）を得た。
【０１１１】（ｃ） 実施例８（ｂ）で得られた（２
Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）の不斉炭素を有するアルコール化合物
0.５６ｇ（2.１ミリモル）のテトラヒドロフラン（５ミ
リリットル）溶液を、６０％水素化ナトリウム0.１０ｇ
（2.５ミリモル）のテトラヒドロフラン（３ミリリット
ル）溶液に窒素雰囲気下０℃で滴下し３０分間攪拌し
た。次いで、１−ブロモヘキサン0.３５ミリリットル
（2.５ミリモル）及びジメチルスルホキシド２ミリリッ
トルを加え室温で１８時間反応させた。この反応溶液に
蒸留水を加え反応を停止し、反応物をエーテルで抽出し
た。次いで、抽出物を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。エーテルを減圧留去した後、シ
リカゲルクロマトグラフィーで精製して、エーテル化合
物0.７２ｇ（2.０ミリモル）を得た。
Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）の不斉炭素を有するアルコール化合物
0.５６ｇ（2.１ミリモル）のテトラヒドロフラン（５ミ
リリットル）溶液を、６０％水素化ナトリウム0.１０ｇ
（2.５ミリモル）のテトラヒドロフラン（３ミリリット
ル）溶液に窒素雰囲気下０℃で滴下し３０分間攪拌し
た。次いで、１−ブロモヘキサン0.３５ミリリットル
（2.５ミリモル）及びジメチルスルホキシド２ミリリッ
トルを加え室温で１８時間反応させた。この反応溶液に
蒸留水を加え反応を停止し、反応物をエーテルで抽出し
た。次いで、抽出物を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。エーテルを減圧留去した後、シ
リカゲルクロマトグラフィーで精製して、エーテル化合
物0.７２ｇ（2.０ミリモル）を得た。
【０１１２】（ｄ） 実施例８（ｃ）で得られたエーテ
ル合物0.５２ｇ（1.５ミリモル）をテトラヒドロフラン
１０ミリリットルに溶かし、蒸留水１０ミリリットル及
び濃硫酸２ミリリットルを加え、５０時間還流した。１
規定水酸化カリウム水溶液を加え反応を停止し、反応物
をエーテルで抽出した。次いで、抽出物を飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。エーテルを
減圧留去した後、シリカゲルクロマトグラフィーで分離
精製して、ヘミアセタール化合物0.３７ｇ（1.４ミリモ
ル）を得た。
ル合物0.５２ｇ（1.５ミリモル）をテトラヒドロフラン
１０ミリリットルに溶かし、蒸留水１０ミリリットル及
び濃硫酸２ミリリットルを加え、５０時間還流した。１
規定水酸化カリウム水溶液を加え反応を停止し、反応物
をエーテルで抽出した。次いで、抽出物を飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。エーテルを
減圧留去した後、シリカゲルクロマトグラフィーで分離
精製して、ヘミアセタール化合物0.３７ｇ（1.４ミリモ
ル）を得た。
【０１１３】（ｅ） 実施例８（ｄ）で得られたヘミア
セタール化合物0.２９ｇ（1.１ミリモル）及び４’−ヘ
キシルオキシ−４−ビフェニルカルボン酸クロリド0.４
９ｇ（1.６ミリモル）を用い、実施例１（ａ）と同様の
反応を行い、目的化合物である（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−
テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−５−ヘキシル
オキシ−２−（４″−ヘキシルオキシビフェニル−４’
−カルボニルオキシ）ピラン0.３４ｇ（0.６ミリモル）
を得た。
セタール化合物0.２９ｇ（1.１ミリモル）及び４’−ヘ
キシルオキシ−４−ビフェニルカルボン酸クロリド0.４
９ｇ（1.６ミリモル）を用い、実施例１（ａ）と同様の
反応を行い、目的化合物である（２Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）−
テトラヒドロ−６−トリフルオロメチル−５−ヘキシル
オキシ−２−（４″−ヘキシルオキシビフェニル−４’
−カルボニルオキシ）ピラン0.３４ｇ（0.６ミリモル）
を得た。
【０１１４】得られた化合物の物理的性質を以下に示
す。 分子式：Ｃ31Ｈ41Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８１〜0.９９（ｍ，６Ｈ） 1.１９〜1.６８（ｍ，１５Ｈ） 1.７０〜1.９３（ｍ，４Ｈ） 2.１２〜2.２５（ｍ，１Ｈ） 2.２９〜2.４２（ｍ，１Ｈ） 3.４０〜3.６５（ｍ，３Ｈ） 4.０１ （ｔ，Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 6.１４ （ｄｄ，Ｊ＝2.７，6.６Ｈｚ，１Ｈ） 6.９８ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.５６ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.６２ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ） 8.１０ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７4.９８ （ｄ，Ｊ＝7.４Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1 ) １７３０，１６０５，１４９５，１２６５，１１８０，
１０８０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５５0.２９０６ 実測値 ５５0.２９１４ ［α］26 D ＝＋１0.７°（Ｃ（濃度）＝1.０３，溶媒：
クロロホルム）
す。 分子式：Ｃ31Ｈ41Ｆ3 Ｏ5 1 Ｈ−ＮＭＲ；δ（ｐｐｍ） 0.８１〜0.９９（ｍ，６Ｈ） 1.１９〜1.６８（ｍ，１５Ｈ） 1.７０〜1.９３（ｍ，４Ｈ） 2.１２〜2.２５（ｍ，１Ｈ） 2.２９〜2.４２（ｍ，１Ｈ） 3.４０〜3.６５（ｍ，３Ｈ） 4.０１ （ｔ，Ｊ＝6.６Ｈｚ，２Ｈ） 6.１４ （ｄｄ，Ｊ＝2.７，6.６Ｈｚ，１Ｈ） 6.９８ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.５６ （ｄ，Ｊ＝8.８Ｈｚ，２Ｈ） 7.６２ （ｄ，Ｊ＝8.５Ｈｚ，２Ｈ） 8.１０ （ｄ，Ｊ＝8.４Ｈｚ，２Ｈ）19 Ｆ−ＮＭＲ（基準：ＣＦＣｌ3 ）；δ（ｐｐｍ） −７4.９８ （ｄ，Ｊ＝7.４Ｈｚ） ＩＲ（ｃｍ-1 ) １７３０，１６０５，１４９５，１２６５，１１８０，
１０８０ 質量分析 ｍ／ｅ（Ｍ+ ) 計算値 ５５0.２９０６ 実測値 ５５0.２９１４ ［α］26 D ＝＋１0.７°（Ｃ（濃度）＝1.０３，溶媒：
クロロホルム）
【０１１５】実施例９ 下記化合物
【０１１６】
【化４０】
【０１１７】それぞれ２５重量％からなる母体液晶Ａを
作製した。この化合物に実施例２で得られた光学活性テ
トラヒドロピラン誘導体が２重量％となるように混合
し、液晶組成物を作製した。この液晶組成物の相転移温
度は次の通りであった。
作製した。この化合物に実施例２で得られた光学活性テ
トラヒドロピラン誘導体が２重量％となるように混合
し、液晶組成物を作製した。この液晶組成物の相転移温
度は次の通りであった。
【０１１８】
【化４１】
【０１１９】Ｃｒｙ ：結晶状態 ＳｍＣ* ：強誘電性カイラルスメクチックＣ相 ＳｍＡ ：スメクチックＡ相 Ｎ* ：カイラルネマチック相 Ｉｓｏ ：等方性液体状態 この組成物を、等方相でパラレルラビング処理を施した
ポリイミド配向膜を有するセル間隔1.６μｍの液晶素子
に注入した。徐冷して配向させ、温度３０℃でＶPP＝１
６Ｖの矩形波電圧を印加したときの応答速度（τ0-90）
は５７μｓｅｃであった。なお、応答速度は、直交ニコ
ル下における透過光強度が０〜９０％まで変化する時間
として求めた。また、三角波法で測定した自発分極値は
5.０ｎＣ／ｃｍ2 であった。
ポリイミド配向膜を有するセル間隔1.６μｍの液晶素子
に注入した。徐冷して配向させ、温度３０℃でＶPP＝１
６Ｖの矩形波電圧を印加したときの応答速度（τ0-90）
は５７μｓｅｃであった。なお、応答速度は、直交ニコ
ル下における透過光強度が０〜９０％まで変化する時間
として求めた。また、三角波法で測定した自発分極値は
5.０ｎＣ／ｃｍ2 であった。
【０１２０】実施例１０ 実施例９で作製した母体液晶Ａに、実施例１で得られた
光学活性テトラヒドロピラン誘導体が２重量％となるよ
うに混合し、液晶組成物を作製した。この液晶組成物の
相転移温度は次の通りであった。
光学活性テトラヒドロピラン誘導体が２重量％となるよ
うに混合し、液晶組成物を作製した。この液晶組成物の
相転移温度は次の通りであった。
【０１２１】
【化４２】
【０１２２】得られた液晶組成物を、等方相でパラレル
ラビング処理を施したポリイミド配向膜を有するセル間
隔1.６μｍの液晶素子に注入した。この液晶素子を徐冷
し配向させた後、３０℃でＶPP＝１６Ｖの矩形波電圧を
印加した結果、応答速度（τ0-90）は７１μ秒であっ
た。また、三角波法で測定した自発分極値は4.９ｎＣ／
ｃｍ2 であった。
ラビング処理を施したポリイミド配向膜を有するセル間
隔1.６μｍの液晶素子に注入した。この液晶素子を徐冷
し配向させた後、３０℃でＶPP＝１６Ｖの矩形波電圧を
印加した結果、応答速度（τ0-90）は７１μ秒であっ
た。また、三角波法で測定した自発分極値は4.９ｎＣ／
ｃｍ2 であった。
【０１２３】
【発明の効果】本発明の光学活性テトラヒドロピラン誘
導体は、化学的に安定で着色がなく、光安定性にも優れ
た新規化合物であり、高速応答性を有するものである。
したがって、本発明の光学活性テトラヒドロピラン誘導
体は、特に組成物とした場合に高速応答性を向上させる
ことができ、大きな自発分極を誘起する強誘電性液晶の
配合成分として有用である。
導体は、化学的に安定で着色がなく、光安定性にも優れ
た新規化合物であり、高速応答性を有するものである。
したがって、本発明の光学活性テトラヒドロピラン誘導
体は、特に組成物とした場合に高速応答性を向上させる
ことができ、大きな自発分極を誘起する強誘電性液晶の
配合成分として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｋ 19/42 Ｃ０９Ｋ 19/42 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ (72)発明者 竹田 充範 茨城県鹿島郡神栖町東和田４番地 鹿島 石油株式会社鹿島製油所内 (72)発明者 村山 義信 茨城県鹿島郡神栖町東和田４番地 鹿島 石油株式会社鹿島製油所内 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 309/10 C07D 405/12 213 - 239 C07D 405/14 213 ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＣＡ（ＳＴＮ)
Claims (4)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒｆは炭素数１又は２のフルオロアルキル基を
示し、Ｒ1 は炭素数３〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル
基を示し、Ｒ2 ，Ｒ3 及びＲ4 はそれぞれ独立に水素又
は炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキル基，炭素数
２〜１５のアルケニル基又は炭素数７〜１０のアラルキ
ル基を示し、Ｘ1 は−ＣＯＯ−，−Ｏ−又は単結合を示
し、Ｘ2 は−ＣＯＯ−，−ＯＣＯ−，−ＣＨ2 Ｏ−，−
ＯＣＨ2 −又は単結合を示し、Ｘ3 は−ＣＯＯ−，−Ｃ
Ｈ2 Ｏ−又は−Ｏ−を示し、Ｘ4 は−Ｏ−又は−ＯＣＯ
−を示し、＊は不斉炭素を示し、Ａ及びＢはそれぞれ独
立に 【化２】 を示し、ｎは０または１を示す。〕で表される光学活性
テトラヒドロピラン誘導体。 - 【請求項２】 （ａ）請求項１記載の光学活性テトラヒ
ドロピラン誘導体を少なくとも１種と（ｂ）前記（ａ）
以外のカイラルスメクチックＣ相（ＳｍＣ*）を有する
化合物あるいは混合物および／または（ｃ）前記（ａ）
以外のスメクチックＣ相（ＳｍＣ）を有する化合物ある
いは混合物からなる液晶組成物。 - 【請求項３】 請求項１記載の光学活性テトラヒドロピ
ラン誘導体の少なくとも２種からなる液晶組成物。 - 【請求項４】 請求項１記載の光学活性テトラヒドロピ
ラン誘導体あるいは請求項２又は３記載の液晶組成物
を、一対の電極基板間に配設してなることを特徴とする
液晶素子。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4117488A JP2786776B2 (ja) | 1992-05-11 | 1992-05-11 | 光学活性テトラヒドロピラン誘導体及び液晶組成物 |
| KR1019930702333A KR0135260B1 (ko) | 1991-12-26 | 1992-12-15 | 광학활성 테트라히드로피란 유도체 그것을 함유하는 액정조성물 및 액정소자 |
| DE69224836T DE69224836T2 (de) | 1991-12-26 | 1992-12-15 | Optisch aktive tetrahydropyran derivate, flüssigkristallzusammensetzungen und diese enthaltende flüssigkristallelemente |
| JP5510430A JP2755821B2 (ja) | 1991-12-26 | 1992-12-15 | 光学活性テトラヒドロピラン誘導体，それを含有する液晶組成物及び液晶素子 |
| PCT/JP1992/001628 WO1993013088A1 (en) | 1991-12-26 | 1992-12-15 | Optically active tetrahydropyran derivative, and liquid crystal composition and liquid crystal element both containing the same |
| US08/107,717 US5368771A (en) | 1991-12-26 | 1992-12-15 | Optically active tetrahydropyrane derivatives, liquid crystal composition and liquid crystal device containing the same |
| EP92924916A EP0594861B1 (en) | 1991-12-26 | 1992-12-15 | Optically active tetrahydropyran derivative, and liquid crystal composition and liquid crystal element both containing the same |
| TW081110344A TW290584B (ja) | 1991-12-26 | 1992-12-24 | |
| US08/255,985 US5443755A (en) | 1991-12-26 | 1994-06-08 | Optically active tetrahydropyrane derivatives, liquid crystal composition and liquid crystal device containing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4117488A JP2786776B2 (ja) | 1992-05-11 | 1992-05-11 | 光学活性テトラヒドロピラン誘導体及び液晶組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05310725A JPH05310725A (ja) | 1993-11-22 |
| JP2786776B2 true JP2786776B2 (ja) | 1998-08-13 |
Family
ID=14712964
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|---|---|---|---|
| JP4117488A Expired - Fee Related JP2786776B2 (ja) | 1991-12-26 | 1992-05-11 | 光学活性テトラヒドロピラン誘導体及び液晶組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2786776B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69522494T2 (de) * | 1994-04-14 | 2002-04-25 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Flüssigkristallzusammensetzung, Anzeigevorrichtung und Verfahren diese verwendend |
-
1992
- 1992-05-11 JP JP4117488A patent/JP2786776B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05310725A (ja) | 1993-11-22 |
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