JP2720435B2

JP2720435B2 - 溝つき基板

Info

Publication number: JP2720435B2
Application number: JP62170379A
Authority: JP
Inventors: 好洋松野; 慎也片山; 裕一青木
Original assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date: 1987-07-08
Filing date: 1987-07-08
Publication date: 1998-03-04
Anticipated expiration: 2013-03-04
Also published as: JPS6414082A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、溝付き基板に関し、特にグレーティングレ
ンズ用および光ディスク用に用いるのに適した溝付き基
板に関する。〔従来の技術〕従来、ガラス板等の透光性基板の上に有機金属化合物
を含む溶液を塗布した後、微細な凹凸表面を有するプレ
ス型を押しあてて塗布膜上にプレス型の峰形状に対応す
る峰形状を転写し、その後該塗布膜を焼成して固化させ
る溝付き基板の製造方法が知られている。（例えば特願
昭60−241193）〔発明の解決しようとする問題点〕上記従来の溝付き基板の製造方法によれば、表面に微
細な凹凸を有する塗膜を備えた光ディスク基板のような
溝付き基板を簡単に作製できる利点があるものの、該製
造方法により作製した溝付き基板は、基板上の塗膜の厚
さが不均一になりやすく、かつ塗膜を形成しているのが
無機物のみであるため、しばしば膜厚の厚い場所でクラ
ック・膜はがれ等が生ずる、という問題点をもっていた。さらにグレーティングレン
ズ等のように大きな溝深さが必要とされる溝付き基板に
おいては、峰部分にクラックを生ずるため、この方法で
は製作できないという問題点をもっていた。〔問題点を解決するための手段〕本発明は、上記問題点を解決するためになされたもの
であって、透光性基板の表面に、表面に凹凸を有する膜体が設け
られた溝付き基板において、前記膜体が、（ただし、式中R¹は炭素数１〜６のアルキル基、または
アルコキシアルキル基、R²は炭素数１〜６の炭化水素
基、R³は炭化水素基、エポキシ基、（メタ）アクリロイ
ル基、ビニル基、アリル基、メルカプト基、ハロゲン原
子、アミノ基、ウレイド基、もしくはアミド基を含んだ
有機基、ｎは２または３、ｍは０または１）で示される
珪素化合物より選ばれる一種類もしくは二種類以上の一
部または全部が加水分解・脱縮合した生成物、（Ｂ）粒径1nm〜200nmの無機微粒子、（Ｃ）水溶性でかつ有機溶媒に可溶な高分子材料、（Ｄ）M(OR)_n′ （II）（ただし、ＭはSi、Ti、Zr、Alで、Ｒは炭素数１〜４の
アルキル基であり、ｎ′は３〜４の整数である）で表さ
れる金属アルコレートの一部または全部が加水分解・脱
縮合した生成物、からなるもののうち、Ａ、Ａ＋Ｂ、あるいはＣ＋Ｄから
なることを特徴とする溝付き基板である。本発明に用いる透光性基板としては、ガラス板、プラ
スチック板等が例示されるが、内でもガラス板が耐熱
性、吸水性、低熱膨張性などの点でプラスチック板より
も良い特性をもっているので、好ましい。該ガラス板と
しては石英ガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケー
トガラス等任意のガラスの板が使用できる。本発明に使用される珪素化合物には次のようなものが
挙げられる。すなわち、ジメチルジメトキシシラン、メ
チルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルメチルジメトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シ
ラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メタクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルト
リエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス（β−ヒド
ロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、Ｎ−（β−アミノエチル−γ−アミノプロピル（メ
チル）ジメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメト
キシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、3.3.3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランなどで
ある。また本発明に使用される粒径１〜200nmの無機微粒子
とは、SiO₂，GeO₂，TiO₂，ZrO₂，Ta₂O₅，Al₂O₃，Sb
₂O₅，SnO₂，Yb₂O₃，Yb₂O₅，Y₂O₃，Ce₂O₃，窒化ケイ素、
窒化チタン等の金属の酸化物や窒化物であって粒径１〜
200nm、好ましくは５〜20nmのものである。これらの微粒子は粉体でも市販されているが、粉体は
二次粒子を形成していることが多いので、水や有機溶媒
にさせたものを用いるのが好ましい。これらの無機質粒
子は単独で用いることができるが諸物性のバランスをと
るために複数種混合して用いても良い。本発明に使用される金属アルコレートとしては、例え
ば、 Si(OCH₃)₄，Si(OC₂H₅)₄，Ti(OC₃H₇)₄，Ti(OC₄H₉)₄，Zr
(OC₃H₇)₄，Zr(OC₄H₉)₄，Al(OC₃H₇)₃等が挙げられる。本発明に使用される水溶性でかつ有機溶媒に可溶な高
分子材料としては、ポリエチレングリコール、テラタン
（登録商標）等の鎖状ポリエーテル、ポリ（２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート）、ポリ（２−ヒドロキシエ
チルアクリレート）などの側鎖に水酸基を有した（メ
タ）アクリル系高分子、ポリアクリル酸やポリメタクリ
ル酸、セルロースおよび部分的にエステル化したセルロ
ース、ポバール（商品名）、ポリ酢酸ビニルの部分ケン
化物、およびこれを更に部分的にアルデヒドと反応させ
たもの、ビニルアルコールやヒドロキシエチル（メタ）
アクリレートと他のモノマーとの共重合体等があげられ
る。上記一般式（Ｉ）で示される珪素化合物および一般式
（II）で示される金属アルコレートの加水分解物とは、
該化合物中のアルコキシ基、または、アルコキシアルキ
ル基の一部または全部が水酸基に置換されたもの、およ
び置換された水酸基同志が一部自然に縮合したものを含
んでいる。これらの加水分解物は公知のように、例えば水とアル
コールのごとき混合溶媒中、酸の存在下手加水分解する
ことによって得られる。一般式（Ｉ）で示される珪素化
合物および一般式（II）で示される金属アルコレートを
加水分解しないで用いた場合は、塗膜が白化し、また機
械的性質も不充分である。本発明の溝付き基板は、例えば、前述した特許請求の
範囲第１項に記載のＡ、Ａ＋Ｂ、あるいはＣ＋Ｄを含む
溶液および微細な凹凸を有する型材を用いて基板上に凹
凸塗布膜を作製した後、比較的低温度で焼成固化させる
方法などによって作製することができる。本発明において塗布膜層を形成させるために用いられ
る液状物中には、上記各成分の他に有機溶媒、硬化触媒
および所望により各種添加剤を含有することができる。塗布膜層を形成させるための組成物に含ませてよい溶
剤としては、一価、二価、三価および多価アルコール
類、ケトン類、エステル類、エーテル類、セロソルブ
類、ハロゲル化物、カルボン酸類、芳香族化合物エーテ
ルアルコール、ケトンアルコール等をあげることがで
き、これらのうち１種または２種以上の混合溶剤として
用いることができる。特にメタノール、エタノール、プ
ロパノール、イソプロパノール、ブタノール等の低級ア
ルコール；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブ等のセロソルブ類；ギ酸、酢酸、プロピオ
ン酸等の低級アルキルカルボン酸類；トルエン、キシレ
ン等の芳香族化合物；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエス
テル類；およびアセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトンなどのケトン類等を単独もしくは混合
溶剤として用いることが好ましい。硬化触媒としては、過塩素酸アンモニウム、硝酸アン
モニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、チオ
シアン酸アンモニウム、過塩素酸、塩酸、硝酸、リン
酸、硫酸、スルホン酸、パラトルエンスルホン酸、三フ
ッ化ホウ素およびその電子供与体との錯体；SnCl₄，ZnC
l₃，FeCl₃，AlCl₃，SbCl₅，TiCl₄などのルイス酸および
その錯体；酢酸ナトリウム、ナフテン酸亜鉛、ナフテン
酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オクチル酸スズなどの有
機酸金属塩；ホウフッ化亜鉛、ホウフッ化スズ等のホウ
フッ化金属塩類；ホウ酸エチル、ホウ酸メチル等のホウ
酸有機エステル類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等のアルカリ類；テトラブトキシチタン、テトライソプ
ロポキシチタン等のチタネートエステル類；クロムアセ
チルアセトネート、チタニルアセチルアセトネート、ア
ルミニウムアセチルアセトネート、コバルトアセチルア
セトネート、ニッケルアセチルアセトネートなどの金属
アセチルアセトネート類;n−ブチルアミン、ジ−ｎ−ブ
チルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、グアニジン、ピ
グアニド、イミダゾールなどのアミン類；トリフルオロ
メチルスルホン酸アンモニウム、トリフルオロメチルス
ルホン酸カリウム、トリフルオロメチルスルホン酸ナト
リウムなどの高フッ化脂肪族スルホン酸塩、NH₄(CF₃S
O₂)₂CBr、Ｋ(CF₃SO₂)₂CH、Ba〔CF₃SO₂)₂CH〕₂などの高
フッ化脂肪族スルホニル系化合物が挙げられる。これらの硬化触媒の中で、塗布膜の硬度、透明性等が
良好で、しかも液状物のポットライフが良い硬化触媒と
して過塩素酸アンモニウム、塩化アンモニウム、硫酸ア
ンモニウム、硝酸アンモニウム、酢酸ナトリウム、トリ
フルオロメチルスルホウ酸アンモニウムおよびビス（ト
リフルオロメチルスルホニル）ブロモメチルアンモニウ
ムに代表される過塩素酸塩、塩酸塩、硫酸塩、カルボン
酸塩、高フッ化脂肪族スルホン酸塩、および高フッ化脂
肪族スルホニル系化合物が適している。塗布膜層を形成させるために用いてもよい硬化触媒と
しては前記各種の硬化触媒の一種もしくは二種以上を併
用して用いても差しつかえない。これら硬化触媒の添加量は、塗布膜層を形成させるた
めに用いられる液状物中の固形分に対して0.05〜10重量
部％、より好ましくは0.1〜５重量％である。塗布膜層
を形成させるために用いてもよい、液状物に混入される
添加剤の代表的なものは、フローコントロール剤であ
り、該フローコントロール剤としてはフッ素系界面活性
剤、アルキレンオキシドとジメチルシロキサンとのブロ
ック共重合体などを挙げることができる。これらのフロ
ーコントロール剤の添加量は、少量で十分であり、塗布
膜層を形成させるために用いられる液状物全体に対し、
0.01〜５重量％、より好ましくは、0.03〜３重量％であ
る。また酸化防止剤、紫外線吸収剤等を少量添加するこ
ともできる。〔作用〕本発明によれば、基板上に形成された塗膜が、無機物
成分と有機物成分の複合体あるいは無機物と有機物の混
合物となっているため、塗膜中の有機物が塗膜の乾燥や
熱処理に伴なう収縮を抑え、クラックを防止するために
作用する。〔実施例〕実施例−１珪素化合物としてCH₃−Si(OC₂H₅)₃を１モル秤量し、
これに15モルのエタノールと６モルの水を加え均一に溶
かしたものを塗布溶液とした。この塗布溶液中へ、峰高
さ0.12μｍ、峰巾0.8μｍ、峰間隔1.6μｍの多数の峰部
を有するアセチルセルロース製（弾性係数10⁴kgf/cm²）
の厚さ50μｍの型を浸漬した後、ゆっくりと引き上げて
型上に塗布膜を形成した。次いで厚さ1.1mm,直径130mmの円板状のソーダライム
ガラスよりなるガラス基板１とこの型を塗布膜を間に挟
んで接合した。このとき型は薄く柔軟性を有しているた
め、ガラス基板と型間の塗布液の表面張力によって、基
板表面に簡単にすきまなく接合することができた。その後このままの状態で加熱してゆき、最終的に180
℃、15分間の熱処理を行なった。その後型を機械的に剥
離させたところ、この塗布膜はエタノールおよび水分等
が飛散して、ガラス体と類似の平均0.2μｍ厚の非晶質
膜（膜体２）となっていた。上記操作により作製された溝付き基板の表面を電子顕
微鏡により観察したところ、模式的に第１図に示すよう
な断面形状で、溝深さ約75nm、溝巾約0.8μｍ、溝間隔
約1.6μｍの良好な溝形状が作製されていた。この溝付
き基板の表面を光学顕微鏡により観察したところ、クラ
ックや膜はがれ等の欠陥は存在しなかった。これは、こ
の実施例−１の膜が珪素化合物が加水分解・脱縮合した
生成物（Ａ）から構成されているためと考えられる。比較例−１金属アルコレートであるSi（OC₂H₅)₄を１モル秤量
し、これに15モルのエタノールと６モルの水を加え均一
に溶かしたものを塗布溶液とした。以下実施例−１と同一の操作を行なったところ、ガラ
ス体と類似の平均0.2μｍ厚の非晶質膜となっていた。
しかし、上記操作により作製された溝付き基板の表面を
光学顕微鏡により観察したところ、いくつかの部分にク
ラックや膜はがれが存在していた。これは、この膜が無
機物のみで構成されているため、膜の乾燥や熱処理に伴
なう収縮のため、クラックや膜はがれが発生したものと
考えられる。実施例−２金属アルコレートであるSi（OC₂H₅)₄を１モル秤量
し、これに15モルのエタノールと６モルの水を加え、さ
らに水溶性でかつ有機溶媒に可溶な高分子材料として、
分子量600のポリエチレングリコール（PEG600）を、最
終生成物であるSiO₂に対するモル比で（PEG600）／SiO₂＝0.1の量を加え均一に溶かしたもの
を塗布溶液とした。この塗布溶液を用いて、峰高さ2.0μm,峰幅1.6μｍ〜
160μｍの多数の峰部を有するアセチルセルロース製
（弾性係数10⁴kgf/cm²）の厚さ50μｍの型を浸漬した
後、ゆっくりと引き上げて型上に塗布膜を形成した。次いで厚さ0.5mm,50mm角のソーダライムガラスよりな
るガラス基板２とこの型を塗布膜を間に挟んで接合し
た。このとき型は薄く柔軟性を有しているため、ガラス
基板と型間の塗布液の表面張力によって、基板表面にす
きまなく接合することができた。その後このままの状態で加熱してゆき、最終的に180
℃、15分間の熱処理を行なった。その後型を機械的に剥
離させたところ、この塗布膜はエタノールおよび水分等
が飛散して、ガラス体と類似の平均0.5μｍ厚の非晶質
膜となっていた。上記操作により作製された溝付き基板の表面を電子顕
微鏡により観察したところ、模式的に第２図に示すよう
な断面形状で、溝深さ約1.5μｍ、溝幅1.6μｍ〜160μ
ｍの良好な溝形状が作製されていた。この溝付き基板の
表面を光学顕微鏡により観察したところ、クラックや膜
はがれ等の欠陥は存在しなかった。これは、この実施例
−２の膜が水溶性でかつ有機溶媒に可溶な高分子材料
（Ｃ）と、金属アルコレート（Ｄ）とから構成されてい
るためと考えられる。実施例−３珪素化合物として、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン944.4部、無機微粒子としてコロイダルシ
リカ（日産化学工業（株）製、スノーテックスＣ（商品
名）、固形分20％）835.2部および1.2N−塩酸8.0部を混
合し、80℃で５時間還流後、168部の溶媒を溜出温度80
〜90℃で溜出した。得られた溶液は、として計算されたγ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン加水分解物41％、およびSiO₂として計算された
コロイダルシリカ10％を含んでいた。このようにして得られたコロイダルシリカを含むγ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシランの加水分解物
溶液140部に、エチルアルコール149部、過塩素酸アンモ
ニウム0.75部、フローコントロール剤少々を添加し、塗
布溶液とした。この塗布溶液中へ、峰高さ0.12μm,峰巾0.8μｍ、峰
間隔1.6μｍの多数の峰部を有するアセチルセルロース
製（弾性係数10⁴kgf/cm²）の厚さ50μｍの型を浸漬した
後、ゆっくりと引き上げて型上に塗布膜を形成した。次いで厚さ1.1mm,直径130mmの円板状ソーダライムガ
スよりなるガラス基板１とこの型を塗布膜を間に挟んで
接合した。このとき型は薄く柔軟性を有しているため、
ガラス基板と型間の塗布液の表面張力によって、基板表
面に簡単にすきまなく接合することができた。その後このままの状態で加熱してゆき、最終的に110
℃、120分間の熱処理を行なった。その後型を機械的に
剥離させたところ、この塗布膜はエタノールおよび水分
等が飛散して、ガラス体と類似の平均３μｍ厚の非晶質
膜となっていた。上記操作により作製された溝付き基板の表面を電子顕
微鏡により観察したところ、模式的に第１図に示すよう
断面形状で、溝深さ約75nm、溝巾約0.8μm,溝間隔約1.6
μｍの良好な溝形状が作製されていた。この溝付き基板
の表面を光学顕微鏡により観察したところ、クラックや
膜はがれ等の欠陥は存在しなかった。これは、この実施
例−３の膜が珪素化合物が加水分解・脱縮合した生成物
（Ａ）と、無機微粒子（Ｂ）とから構成されているため
と考えられる。実施例−４珪素化合物として、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン141部、同じく珪素化合物としてメチルト
リメトキシシラン122部、無機微粒子としてコロイダル
シリカ（日産化学工業（株）製、スノーテックスＣ（商
品名）、固形分20％）200部および0.1規定塩酸水溶液19
0部を混合し、80〜85℃で２時間還流して加水分解を行
なった。得られた溶液は、として計算されたγ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン加水分解物15.3％，CH₃SiO_1.5として計算され
たメチルメトキシシラン9.2％、およびSiO₂として計算
されたコロイダルシリカ6.1％を含んでいた。このようにして得られた３元共加水分解物溶液100部
に過塩素酸アンモニウム0.31部、フローコントロール剤
少々、エチルアルコール81.4部を添加し、塗布溶液とし
た。この塗布溶液中へ、峰高さ0.12μm,峰巾0.8μm,峰
間隔1.6μｍの多数の峰部を有するアセチルセルロース
製（弾性係数10⁴kgf/cm²）の厚さ50μｍの型を浸漬した
後、ゆっくりと引き上げて型上に塗布膜を形成した。次いで厚さ1.1mm,直径130mmの円板状ソーダライムガ
ラスよりなるガラス基板１とこの型を塗布膜を間に挟ん
で接合した。このとき型は薄く柔軟性を有しているた
め、ガラス基板と型間の塗布液の表面張力によって、基
板表面に簡単にすきまなく接合することができた。その後このままの状態で加熱してゆき、最終的に120
℃,60分間の熱処理を行なった。その後型を機械的に剥
離させたところ、この塗布膜はエタノールおよび水分等
が飛散して、ガラス体と類似の平均３μｍ厚の非晶質膜
となっていた。上記操作により作製された溝付き基板の表面を電子顕
微鏡により観察したところ、模式的に第１図に示すよう
な断面形状で、溝深さ約75nm,溝巾約0.8μｍ、溝間隔約
1.6μｍの良好な溝形状が作製されていた。この溝付き
基板の表面を光学顕微鏡により観察したところ、クラッ
クや膜はがれ等の欠陥は存在しなかった。これは、この
実施例−４の膜が珪素化合物が加水分解・脱縮合した生
成物（Ａ）と、無機微粒子（Ｂ）とから構成されている
ためと考えられる。実施例−５珪素化合物として、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン60部、同じく珪素化合物としてメチルトリ
メトキシシラン173部、無機微粒子としてコロイダルシ
リカ（日産化学工業（株）製、スノーテックスＣ（商品
名）、固形分20％）71部および0.1規定酢酸水溶液190部
を混合し、 80〜85℃で２時間還流して加水分解を行なった。得られた溶液は、として計算されたγ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン加水分解物8.6％，CH₃SiO_1.5として計算された
メチルトリメトキシシラン加水分解物17.3％、およびSi
O₂として計算されたコロイダルシリカ2.9％を含んでい
た。この様にして得られた３元共加水分解物溶液450部に
イソプロピルアルコール42部、過塩素散アンモニウム0.
8部、塩化アンモニウム0.5部、酢酸ナトリウム1.3部、
フローコントロール剤少々を添加し、塗布溶液とした。
この塗布溶液中へ、峰高さ0.12μm,峰巾0.8μm,峰間隔
1.6μｍの多数の峰部を有するアセチルセルロース製
（弾性係数10⁴kgf/cm²）の厚さ50μｍの型を浸漬した
後、ゆっくりと引き上げて型上に塗布膜を形成した。次いで厚さ1.1mm,直径130mmの円板状のソーダライム
ガラスよりなるガラス基板１とこの型を塗布膜を間に挟
んで接合した。このとき型は薄く柔軟性を有しているた
め、ガラス基板と型間の塗布液の表面張力によって、基
板表面に簡単にすきまなく接合することができた。その後このままの状態で加熱してゆき、最終的に120
℃,60分間の熱処理を行なった。その後型を機械的に剥
離させたところ、この塗布膜はエタノールおよび水分等
が飛散してガラス体と類似の平均３μｍ厚の非晶質膜と
なっていた。上記操作により作製された溝付き基板の表面を電子顕
微鏡により観察したところ、模式的に第１図に示すよう
な断面形状で、溝深さ約75nm,溝巾約0.8μm,溝間隔約1.
6μｍの良好な溝形状が作製されていた。この溝付き基
板の表面を光学顕微鏡により観察したところ、クラック
や膜はがれ等の欠陥は存在しなかった。これは、この実
施例−５の膜が珪素化合物が加水分解・脱縮合した生成
物（Ａ）と、無機微粒子（Ｂ）とから構成されているた
めと考えられる。実施例−６珪素化合物として、メチルトリメトキシシラン173
部、無機微粒子としてコロイダルシリカ（日産化学工業
（株）製、スノーテックスＣ（商品名）、固形分20％）
71部および0.1規定酢酸水溶液190部を混合し、80〜85℃
で２時間還流して加水分解を行なった。得られた溶液は
CH₃SiO_1.5として計算されたメチルトリメトキシシラン
加水分解物19.7％、およびSiO₂として計算されたコロイ
ダルシリカ3.3％を含んでいた。この様にして得られたSiO₂を含むメチルトリメトキシ
シラン加水分解物395部にエチルアルコール36.9部、酢
酸ナトリウム1.3部、フローコントロール剤少々を添加
し、塗布溶液とした。この塗布溶液中へ、峰高さ0.12μ
m,峰巾0.8μm,峰間隔1.6μｍの多数の峰部を有するアセ
チルセルロース製（弾性係数10⁴kgf/cm²）の厚さ50μｍ
の型を浸漬した後、ゆっくりと引き上げて型上に塗布膜
を形成した。次いで厚さ1.1mm,直径130mmの円板状ソーダライムガ
ラスよりなるガラス基板１とこの型を塗布膜を間に挟ん
で接合した。このとき型は薄く、柔軟性を有しているた
めガラス基板と型間の塗布液の表面張力によって基板表
面に簡単にすきまなく接合することができた。その後このままの状態で加熱してゆき、最終的に120
℃,60分間の熱処理を行なった。その後型を機械的に剥
離させたところ、この塗布膜はエタノールおよび水分等
が飛散してガラス体と類似の平均３μｍ厚の非晶質膜と
なっていた。上記操作により作製された溝付き基板の表面を電子顕
微鏡により観察したところ、模式的に第１図に示すよう
な断面形状で、溝深さ約75nm,溝巾約0.8μm,溝間隔約1.
6μｍの良好な溝形状が作製されていた。この溝付き基
板の表面を光学顕微鏡により観察したところ、クラック
や膜はがれ等の欠陥は存在しなかった。これは、この実
施例−６の膜が珪素化合物が加水分解・脱縮合した生成
物（Ａ）と、無機微粒子（Ｂ）とから構成されているた
めと考えられる。〔発明の効果〕本発明によれば、従来不可能であったクラックや膜は
がれ等の欠陥のない光ディスク用基板等の溝付き基板が
実現できる。またグレーティングレンズ等のより大きな
溝深さが必要とされる溝付き基板も実現できる。

【図面の簡単な説明】第１図および第２図は、本実施例により作製した溝付き
基板の概略を示す断面図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開昭61−131251（ＪＰ，Ａ) 特開昭59−215036（ＪＰ，Ａ) 特開昭59−190211（ＪＰ，Ａ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】１．透光性基板の表面に、表面に凹凸を有する膜体が設
けられた溝付き基板において、前記膜体が、（ただし、式中R¹は炭素数１〜６のアルキル基、または
アルコキシアルキル基、R²は炭素数１〜６の炭化水素
基、R³は炭化水素基、エポキシ基、（メタ）アクリロイ
ル基、ビニル基、アリル基、メルカプト基、ハロゲン原
子、アミノ基、ウレイド基、もしくはアミド基を含んだ
有機基、ｎは２または３、ｍは０または１）で示される
珪素化合物より選ばれる一種類もしくは二種類以上の一
部または全部が加水分解・脱縮合した生成物、（Ｂ）粒径1nm〜200nmの無機微粒子、（Ｃ）水溶性でかつ有機溶媒に可溶な高分子材料、（Ｄ）M(OR)_n′ （II）（ただし、ＭはSi、Ti、Zr、Alで、Ｒは炭素数１〜４の
アルキル基であり、ｎ′は３〜４の整数である）で表さ
れる金属アルコレートの一部または全部が加水分解・脱
縮合した生成物、からなるもののうち、Ａ、Ａ＋Ｂ、あるいはＣ＋Ｄから
なることを特徴とする溝付き基板。２．前記無機微粒子は、SiO₂、GeO₂、TiO₂、ZrO₂、Ta₂O
₅、Al₂O₃、Sb₂O₅、SnO₂、Yb₂O₃、Yb₂O₅、Y₂O₃、Ce₂O₃、
窒化珪素、あるいは窒化チタンである特許請求の範囲第
１項に記載の溝付き基板。３．前記無機微粒子は、SiO₂である特許請求の範囲第２
項に記載の溝付き基板。４．前記高分子材料は、鎖状ポリエーテルである特許請
求の範囲第１項に記載の溝付き基板。５．前記金属アルコレートは、テトラメトキシシラン、
テトラエトキシシラン、チタニウムテトラブトキシド、
チタニウムテトラプロポキシド、ジルコニウムテトラブ
トキシド、ジルコニウムテトラプロポキシド、アルミニ
ウムトリブトキシドである特許請求の範囲第１項に記載
の溝付き基板。