JPS61131251A - 光デイスク基板 - Google Patents
光デイスク基板Info
- Publication number
- JPS61131251A JPS61131251A JP59252227A JP25222784A JPS61131251A JP S61131251 A JPS61131251 A JP S61131251A JP 59252227 A JP59252227 A JP 59252227A JP 25222784 A JP25222784 A JP 25222784A JP S61131251 A JPS61131251 A JP S61131251A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- optical disk
- layer
- compd
- tracking groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
- G11B7/2533—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
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- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
- G11B7/2531—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising glass
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光学的に記録、再生、または消去可能な光ディ
スクの基板に関するものである。
スクの基板に関するものである。
従来の技術
従来、光ディスクのトラッキング溝を形成する場合には
、第２図に示すフォトポリマー法による光ディスク基板
、まだは第３図に示す一体成形プラスチック光ディスク
基板が用いられている。なお図面はすべて各光ディスク
基板の断面図を示すものである。
、第２図に示すフォトポリマー法による光ディスク基板
、まだは第３図に示す一体成形プラスチック光ディスク
基板が用いられている。なお図面はすべて各光ディスク
基板の断面図を示すものである。
以下第２図、第３図を参照しながら上述した従来の光デ
ィスクの構成を述べる。第２図において、２ヘー、゛ ２は基材ディスクで、基材ディスク２上にフォトポリマ
ーでトラッキング溝層３を形成したものである。基材デ
ィスク２の材料としては透明なガラス、アクリル、ポリ
カーボネート、塩化ビニルなどが用いられる。また、第
３図はプラスチックを成形することによって基板をトラ
ッキング溝と一体にした一体成形〜プラスチック光ディ
スク基板４を示すものである。
ィスクの構成を述べる。第２図において、２ヘー、゛ ２は基材ディスクで、基材ディスク２上にフォトポリマ
ーでトラッキング溝層３を形成したものである。基材デ
ィスク２の材料としては透明なガラス、アクリル、ポリ
カーボネート、塩化ビニルなどが用いられる。また、第
３図はプラスチックを成形することによって基板をトラ
ッキング溝と一体にした一体成形〜プラスチック光ディ
スク基板４を示すものである。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記した従来の構成では、光ディスクの製
造工程において、蒸着、スパッタリングなどの光ディス
ク基板が高温にさらされる場合が □ある。
造工程において、蒸着、スパッタリングなどの光ディス
ク基板が高温にさらされる場合が □ある。
また一方で光ディスクに用いられている記録媒体の経時
変化の大きな要因である光ディスク基板の透水性９通気
性を防止する必要がある。
変化の大きな要因である光ディスク基板の透水性９通気
性を防止する必要がある。
ここで第２図に示す従来例に即して考えるとフォトポリ
マーで形成したトラッキング溝層３は材料として変性ア
クリルが用いられている場合が多く、また溝形状も１．
５〜３μｍピンチ、深さ６００３ぺ一／ 〜７００人であるだめ温度１００℃程度で変形が生じる
。
マーで形成したトラッキング溝層３は材料として変性ア
クリルが用いられている場合が多く、また溝形状も１．
５〜３μｍピンチ、深さ６００３ぺ一／ 〜７００人であるだめ温度１００℃程度で変形が生じる
。
従って記録媒体を形成する場合、低温に抑える必要があ
り、その場合蒸着膜形成速度、スパッタリング膜形成速
度を遅くしなければならず、従って生産性も悪くなると
いう問題点を有していた。
り、その場合蒸着膜形成速度、スパッタリング膜形成速
度を遅くしなければならず、従って生産性も悪くなると
いう問題点を有していた。
まだ基材にプラスチックを用いた場合は通気性。
透水性も高くなり記録媒体の経時変化も起りやすくなる
。
。
まだ第３図に示す従来例では、インジェクション法、ま
だはキャスティング法などを用いて作製された一体成形
による光ディスクで、材質はポリカーボネートまたはア
クリルが用いられているが、この材質では、耐熱温度が
低い１通気性、透水性が高いなどの問題点を有していた
。
だはキャスティング法などを用いて作製された一体成形
による光ディスクで、材質はポリカーボネートまたはア
クリルが用いられているが、この材質では、耐熱温度が
低い１通気性、透水性が高いなどの問題点を有していた
。
本発明は高温に耐えられる光ディスク基板を作製し、記
録媒体を高速で形成することができ、また通気性、透水
性を低減させることを目的とした光ディスク基板を提供
するものである。
録媒体を高速で形成することができ、また通気性、透水
性を低減させることを目的とした光ディスク基板を提供
するものである。
問題点を解決するだめの手段
上記問題点を解決するため本発明の光ディスク基板は、
トラッキング溝層にポリシロキサン系化合物を用いたも
のである。
トラッキング溝層にポリシロキサン系化合物を用いたも
のである。
作用
この構成により光ディスク基板の耐熱性を向」ニさせ、
蒸着膜形成速度、まだはスパッタリング膜形成速度の高
速化を可能にさせ、生産性をあげることができる。まだ
透水性１通気性を防止し、その結果記録媒体の経時変化
を防止することが可能である。
蒸着膜形成速度、まだはスパッタリング膜形成速度の高
速化を可能にさせ、生産性をあげることができる。まだ
透水性１通気性を防止し、その結果記録媒体の経時変化
を防止することが可能である。
実施例
以下本発明の一実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
第１図は本発明の一実施例である光ディスク基板の断面
図である。第１図において、１はポリシロキサン系化合
物で形成したトラッキング溝層（以下トラッキング溝層
という）で、ポリシロキサン系化合物は珪素化合物（Ｒ
ｎＳｉ’（ＯＨ） ４ 、。
図である。第１図において、１はポリシロキサン系化合
物で形成したトラッキング溝層（以下トラッキング溝層
という）で、ポリシロキサン系化合物は珪素化合物（Ｒ
ｎＳｉ’（ＯＨ） ４ 、。
ただしＲは水素（Ｈ）またはアルキル基である。〕を原
料としており、この原料を加熱して形成され５ベーノ る。２は透明な材質のガラスからなる基材ディスクで、
この基材ディスク２上にポリシロキサン系化合物を用い
てトラッキング溝を形成する。
料としており、この原料を加熱して形成され５ベーノ る。２は透明な材質のガラスからなる基材ディスクで、
この基材ディスク２上にポリシロキサン系化合物を用い
てトラッキング溝を形成する。
珪素化合物（ＲｎＳｉ（ＯＨ）４ ｎ）を加熱して形成
されたポリシロキサン系化合物の特性は耐熱性が高く、
通気性、透水性が少ない。
されたポリシロキサン系化合物の特性は耐熱性が高く、
通気性、透水性が少ない。
また、基材ディスク２にガラスを用いているので、光デ
ィスク基板の耐熱性は著しく向上する。
ィスク基板の耐熱性は著しく向上する。
まだ通気性、透水性も完全に遮断される。
なお、基材ディスク２にプラスチックを用いても、ポリ
シロキサン系化合物がガラス質であるため、トラッキン
グ溝層１側表面の耐熱温度は向上する。まだ通気性、透
水性についても減少する。
シロキサン系化合物がガラス質であるため、トラッキン
グ溝層１側表面の耐熱温度は向上する。まだ通気性、透
水性についても減少する。
発明の効果
本発明はトラッキング溝層をポリシロキサン系化合物で
形成することにより、耐熱温度が高くなり、生産性が向
上した。まだ、通気性、透水性が減少しただめ耐久性の
高い光ディスクを得ることができる。
形成することにより、耐熱温度が高くなり、生産性が向
上した。まだ、通気性、透水性が減少しただめ耐久性の
高い光ディスクを得ることができる。
６ベーン
第１図は本発明の一実施例における光ディスク基板の断
面図、第２図は従来のフォトポリマー法による光ディス
ク基板の断面図、第３図は従来の一体成形プラスチック
光ディスク基板の断面図である。 １・・・・・・（ポリシロキサン系化合物で形成した）
トラッキング溝層、２・・・・・・基材ディスク。
面図、第２図は従来のフォトポリマー法による光ディス
ク基板の断面図、第３図は従来の一体成形プラスチック
光ディスク基板の断面図である。 １・・・・・・（ポリシロキサン系化合物で形成した）
トラッキング溝層、２・・・・・・基材ディスク。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 珪素化合物〔ＲｎＳｉ（ＯＨ）＿４＿−＿ｎ〕を原料と
したポリシロキサン系化合物でトラッキング溝層を形成
したことを特徴とする光ディスク基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59252227A JPS61131251A (ja) | 1984-11-29 | 1984-11-29 | 光デイスク基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59252227A JPS61131251A (ja) | 1984-11-29 | 1984-11-29 | 光デイスク基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61131251A true JPS61131251A (ja) | 1986-06-18 |
Family
ID=17234281
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59252227A Pending JPS61131251A (ja) | 1984-11-29 | 1984-11-29 | 光デイスク基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61131251A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6414082A (en) * | 1987-07-08 | 1989-01-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Grooved substrate |
| JPH01107350A (ja) * | 1987-10-20 | 1989-04-25 | Ricoh Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPH01235044A (ja) * | 1988-03-14 | 1989-09-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光ディスク基板およびその製造方法 |
| JPH04232629A (ja) * | 1990-08-17 | 1992-08-20 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 溝付き基板の製法および多層構造体 |
-
1984
- 1984-11-29 JP JP59252227A patent/JPS61131251A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6414082A (en) * | 1987-07-08 | 1989-01-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Grooved substrate |
| JPH01107350A (ja) * | 1987-10-20 | 1989-04-25 | Ricoh Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPH01235044A (ja) * | 1988-03-14 | 1989-09-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光ディスク基板およびその製造方法 |
| JPH04232629A (ja) * | 1990-08-17 | 1992-08-20 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 溝付き基板の製法および多層構造体 |
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