JPS60175228A - 光磁気デイスク用基板 - Google Patents

光磁気デイスク用基板

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Publication number
JPS60175228A
JPS60175228A JP2989984A JP2989984A JPS60175228A JP S60175228 A JPS60175228 A JP S60175228A JP 2989984 A JP2989984 A JP 2989984A JP 2989984 A JP2989984 A JP 2989984A JP S60175228 A JPS60175228 A JP S60175228A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass substrate
substrate
film
group
magneto
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2989984A
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Tsuchiya
土谷 昭
Tadao Iwaki
忠雄 岩城
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Instruments Inc filed Critical Seiko Instruments Inc
Priority to JP2989984A priority Critical patent/JPS60175228A/ja
Publication of JPS60175228A publication Critical patent/JPS60175228A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B11/00Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
    • G11B11/10Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
    • G11B11/105Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B23/00Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
    • G11B23/0057Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、レーザー光を用いて記録・再生・消去を行な
う光磁気ディスクにおいて、レーデ−カッティングによ
ってプリグループを形成した光磁気ディスク用基板に関
するものである。
(従来技術) 従来、光磁気ディスク用基板として、ガラスやプラスチ
ック(PC! 、PMMA)が用いられ、トラッキング
等の必要性から、基板にプリグループを形成する怒力が
なされてきた。プラスチックを光磁気ディスク用基板と
して用いる場合には、射出成形などによってプリグルー
プを形成し、その後、プラスチック基板を二枚のガラス
ではさむというサンドインチ構造が用いられている。
しかしながら、ガラス基板にプリグループを形成する事
は、従来の技術では困難であった。又、プラスチック基
板は吸湿性に富み、プラスチックを基板として用いる場
合には上記のようなサンドインチ構造を必要としていた
。そのため、プラスチックを基板とした光磁気ディスク
は、工程数が多く、構造も複雑であるという欠点′に7
にしていた。
(発明の目的) 本発明は、上記のガラス基板にプリグループを形成する
事が困難であったという欠点、及びプラスチック基板を
使用した場合の工程数が多く、構造が複雑であるという
欠点を除去し、ガラス基板にレーザーカッティングによ
ってプリグループを形成する事を技術的に可能にし、プ
ラスチックのような吸湿性に富んだ材質を基板として使
用しなくても良いようKする事を目的としたものである
゛ (発明の構成・作用) 本発明によるプリグループ付ガラス基板(D 構造を一
実施・列について、工程にそって図面を参照して説明す
る。
第1図は、プリグループ付ガラス基板の製造工程を示す
断面図である。(a)はプリグループ勿付ける前のガラ
ス基板の図であシ、(b)はS1膜をガラス基板上にス
パッタによって形成した図であシ、(C)はS1膜をレ
ーザーカンテイイブした図であシ、(d)ハレーサーカ
ッティングによって形成シタプリグループ付ガラス基板
の図である。製造工程は(a)→(0→(c)→(d)
の順であるb第1図において、1はガラス基板、2はS
1膜2′ はレーザーカッティングされfcBl、5は
レーザー光である。
レーザーカッティング用レーザーとしては、ガスレーザ
ーなどを用いる。第V族元素半導体、あるいは第m−v
族元素化合物半導体の換は、レーザーカッティング用レ
ーザーの光をよく吸収する。
そのため、プリグループを形成するための膜として、第
V族元素半導体、あるいFi第m−v族元素化合物半導
体の膜は適している。
42図は、形成したプリグループ付ガラス基板上に記録
媒体(Gd−Tb−Fe )及び保護膜(sio)をス
パッタによって形成した断面図である。第2図において
4は記録媒体(Gd−Tb−Fe)、5は保護膜(Si
O)である。保護膜5は、記録媒体4を保護することを
目的としたものであるから、2(100A以上である事
が望ましい。
レーザーによる記録会再生・消去はガラス面から行ない
、ビットの記録は基板面に対して凹部に、トラッキング
は凸部で行なう。
次に発明者は、第2図に示すようなプリグループ付ガラ
ス基板を用いた光−気ディスクを作製し、情報再生a 
/ Nとディスクの熱処理温度との関係を調べた。
第3図は、その時の情報再生a / Nとディスクの熱
処理温度との関係を示したグラフであシ、横軸にガラス
転位点温展と熱処理温度との差、縦軸にc / Nをと
っである。
光磁気ディスクの記録・再生は、基板側から半導体レー
ザーを用いて行なう。本光磁気ディスクを熱処理するこ
とによって、プリグループ付半導体膜のレーザー光追過
率が向上し、情報再生0/Nが向上する。
本光磁気ディスクの再生には、O/Nが35dB以上で
ある必要があるから、ディスクの熱処理最適温度を一5
℃から一15℃とし;/c、。
(発明の効果) 箒1図に示すように、ガラス基板上に81膜をスパッタ
によシ形成し、レーザーカッティングによってプリグル
ープを作製することによって、従来技術では困難である
と考えられている、プリグ □ループ付ガラス基板を作
製することが可能になった。
光磁気ディスクの作製にあたシ、プリグループ付ガラス
基板上に記録媒体を形成する事が可能になったため、プ
ラスチックを基板としfC場合と比較して、膜品質が安
定し、信頼性も向上した。
【図面の簡単な説明】
第1図(、)〜(d)は、プリグループ付ガラス基板の
製造工程を示す断面図であシ、第2図は、形成したプリ
グループ付ガラス基板上に記録媒体及び保!!l膜をス
パッタによって形成した断面図である。 第5図は、プリグループ付ガラス基板を用いて作製した
光磁気ディスクの情報再生07 Nとディスりの熱処理
温度との関係を示したグラフである。 1・・・・・・ガラス基板 2・・・・・・S1膜 2′・・・・・・レーザーカッティングされfcS13
・・・・・・レーザー光 4・・・・・・記録媒体([)(1−Tb−Fe)5・
・・・・・保護膜(Sin)’ 以 上 出願人 セイコー電子工業株式会社 代哩人 弁理士 最 上 務 第1図(0) 第1図(C) 第1図(b) 第1図(d) がラス虐ム鋒点、温度との座tで)

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) ガラス基板とこの基板上に形成されたプリグル
    ープ付半導体膜とからなシ、かつ、前記半導体膜が第V
    族元素もしくは第1−V族元素化合物によシ形成されて
    いることを特徴とする光磁気ディスク用基板。
  2. (2) 第■族元素半導体、あるいは第m−v族元素化
    合物半導体膜を、蒸着又はスパッタでガラス基板上に形
    成した後、レーザーカッティングしてプリグループ全形
    成する事を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光磁
    気ディスク用基板。
  3. (3) 半導体がGa−As 、8i 、Geである特
    許請求の範囲第1項記載の光磁気ディスク用基板。
  4. (4) プリグループ付ガラス基板を、ガラス転移点温
    匿よシ5℃〜15℃低温で1時間以上大気中処理する特
    許請求の範囲第5項記載の光$気ディスク用基板。
JP2989984A 1984-02-20 1984-02-20 光磁気デイスク用基板 Pending JPS60175228A (ja)

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JPS60175228A true JPS60175228A (ja) 1985-09-09

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6129439A (ja) * 1984-07-20 1986-02-10 Nec Corp 光磁気記録媒体

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6129439A (ja) * 1984-07-20 1986-02-10 Nec Corp 光磁気記録媒体

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