JP2664465B2 - 半導体装置のセル配置方法 - Google Patents

半導体装置のセル配置方法

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Description

【発明の詳細な説明】 [概要] 半導体装置の基板上のセルの配置に係り、詳しくは特
定ネットにおける配線容量が予め定めた値以下となるよ
うにセル配置を行なう半導体装置のセル配置方法に関
し、 セル位置及び配線の修正作業をする必要がなく、設計
者が意図した配線容量以下になるようにセル配置を決定
し配線をすることができ、配置及び配線の作業能率の向
上を図ることを目的とし、 多数のセルが配置された基板上において、特定ネット
における配線容量が予め設定した値以下となるように配
線経路を仮定した後、その配線経路で決まるセル配置領
域内で当該特定ネットにおけるセルの配置処理を行なう
ようにした。
[産業上の利用分野] 本発明は半導体装置の基板上のセルの配置に係り、詳
しくは特定ネットにおける配線容量が予め定めた値以下
となるようにセル配置を行なう半導体装置のセル配置方
法に関するものである。
ゲートアレイ等のLSIの論理設計をする上で周波数の
高いネット、ファンアウト数が多いネット等の特定ネッ
トにおける配線は特に配線容量を考慮する必要がある。
その結果、特定ネットを構成するセルの配置処理もその
配線容量を満足する配線を考慮したセルの配置が必要と
なる。
[従来の技術] 従来、例えばCMOSゲートアレイ等の半導体装置におけ
るセル配置及び配線方法には、設計者が各特定のネット
の配線容量を考慮することなく配置位置を指定し、配線
を自動的に決定して終了する場合と、まず、配置・配線
を自動で行なった後、当該ネットに対して配線容量を計
算し、所望の配線容量以下になるように手作業でセル位
置及び配線の修正を行なって配置・配線をする場合とが
ある。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、前者の場合には各特定のネットの配線
容量を考慮しない配置・配線であることから、配線経路
は周りの配線に依存し一定化せず、設計者が意図した配
線容量を得ることは困難であるとともに、エレクトロマ
イグレーション等の電気的障害の発生するおそれがあっ
た。
又、後者の場合にはセル位置及び配線の修正を手作業
で行なわなければならず、その作業に膨大な時間を要
し、作業能率が低下する問題があった。
本発明は、セル位置及び配線の修正作業をする必要が
なく、設計者が意図した配線容量以下になるようにセル
配置を決定し配線をすることができ、配置及び配線の作
業能率の向上を図ることができる半導体装置のセル配置
方法を提供することを目的とするものである。
[課題を解決するための手段] 第1図は本発明の原理説明図である。
まず、特定のネット1におけるセル配置領域2を優先
的に設定するために、当該特定ネット1における所望の
配線容量を予め設定する。続いて、第1図(a)に示す
ようにI/Oセル5からの配線容量が前記設定した配線容
量以下となるような配線経路3を仮定する。
そして、第1図(b)に示すようにその仮定した配線
経路3で決まるセル領域をセル配置領域2とし、そのセ
ル配置領域2内で当該特定ネット1におけるセル4の配
置処理を行なう。
[作用] セル配置領域2はI/Oセル5からの配線容量が設定し
た配線容量以下となる領域であることから、設計者はそ
のセル配置領域2内での特定ネット1におけるセル4の
配置処理を行なう限り、意図した通りの配線容量を得る
ことができる。又、セル配置領域2は配線容量のみを特
定しているだけなので、特定ネット1を構成する各セル
4の配置位置を完全に固定しなくてもよく、セル配置領
域2内においては他のセル結線関係を考慮した自由なセ
ルの配置が行なえる。
[実施例] 以下、本発明を具体化した一実施例について説明す
る。
第2図は本発明のセル配置方法の一実施例を示す工程
図である。図中、第1図で示したものと同一のものは同
一符号を付して説明する。
基板11の中央部にはセルを多数配設したセル列12が複
数設けられている。基板11の外周縁部には前記セル列12
を囲撓するように複数のI/Oセル5がほぼ四角環状に配
設されている。そして、各セル列12の間、及び全セル列
12と環状に配設されたI/Oセル5との間を配線領域13,14
としている。
さて、上記のように構成された基板11上において、特
定ネット1を構成するセル配置・配線を行なうには、ま
ず、特定のネット1におけるセル配置領域2を優先的に
設定するために、当該特定ネット1における所望の配線
容量を予め計算して設定する。
次に、第2図(a)に示すように、特定のI/Oセル5
からの配線容量が前記設定した配線容量以下となるよう
な配線経路3を前記配線領域13,14上で仮定する。即
ち、前記設定した配線容量に到達する直前まで隣接する
セルを結びながら順次延ばしていく。この場合、エレク
トロマイグレーションを考慮に入れて行なう。
そして、第2図(a)に示すように前記設定した配線
容量以内に納まる配線経路3が決まると、その仮定した
配線経路3で結ばれる全セルをセル配置領域2とする。
続いて、第2図(b)に示すようにそのセル配置領域2
内で当該特定ネット1におけるセル4の配置処理を行な
う。この後、前記I/Oセル5より配置したセル4に対し
て配線処理することにより特定ネット1が形成される。
以上のように、本実施例ではセル配置領域2はI/Oセ
ル5からの配線容量が設定した配線容量以下となる領域
であることから、設計者はそのセル配置領域2内での特
定ネット1におけるセル4の配置処理を行なう限り、セ
ル位置及び配線の修正作業をする必要がなく、意図した
配線容量以下になるようにセル配置を決定し配線をする
ことができ、配置及び配線の作業能率の向上を図ること
ができる。
又、セル配置領域2は配線容量のみを特定しているだ
けなので、特定ネット1を構成する各セル4の配置位置
を完全に固定しなくてもよく、セル配置領域2内におい
ては他のセル結線関係を考慮した自由なセルの配置を行
なうことができる。
なお、本実施例では1つの特定ネット1、即ち、設定
した配線容量に対して1つのセル配置領域2の設定につ
いて説明したが、配線経路の延設方向を変えることによ
って複数種類のセル配置領域が考えられ、その中で最も
優れたセル配置領域を設定してもよい。
[発明の効果] 以上詳述したように、本発明によればセル位置及び配
線の修正作業をする必要がなく、設計者が意図した配線
容量以下になるようにセル配置を決定し配線をすること
ができ、配置及び配線の作業能率の向上を図ることがで
きる優れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の原理説明図、 第2図は本発明のセル配置方法の一実施例を示す工程図
である。 図において、1は特定ネット、2はセル配置領域、3は
配線経路、4はセル、5はI/Oセル、11は基板、13,14は
配線領域である。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】多数のセルが配置された基板上において、
    特定ネットにおける配線容量が予め設定した値以下とな
    るように配線経路を仮定した後、その配線経路で決まる
    セル配置領域内で当該特定ネットにおけるセルの配置処
    理を行なうようにしたことを特徴とする半導体装置のセ
    ル配置方法。
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