JP2663124B2 - 光学的位相機能を有する基板からなる液晶表示パネル - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光学的位相機能を有する基板からなる液晶
表示パネル、殊に、軽量で耐破損性を有すると共に、色
調および視角依存性を改良した液晶表示パネルに関する
ものである。 従来の技術 液晶表示パネルは、基本的には、液晶セルの両側に偏
光板を配置した構成を有する。 偏光板‖液晶セル‖偏光板 このうち液晶セルは、透明の電極層を形成した２枚の
基板をスペーサを介して対向配置し、両基板の間に液晶
を封入すると共に周縁をエポキシ系接着剤などの接着剤
で完全にシールした構成を有する。 基板｜透明電極｜液晶｜透明電極｜基板 ここで基板としては、光学的に透明でかつ等方性であ
ることが要求され、さもないと、液晶表示パネルの着色
が著しく、視認性に欠けるようになる。そのため、基板
としては非晶質材料を用いることが必須であって、従来
は専らガラス板からなる基板が使用されていた。ところ
が、ガラス基板は重量が大きいこと、薄型にできないこ
と、破損しやすいため耐衝撃性に劣ること、巻き取りが
できないため量産化することが困難であることなどの問
題点があり、最近では合成樹脂フィルムからなる基板も
使用されるようになってきている。 液晶表示パネルは、ワードプロセッサ、パーソナルコ
ンピュータなどのOA機器のディスプレイ装置として大量
に使用されており、特に大型の液晶表示パネルには、ST
N（スーパーツイステド・ネマティック）方式の液晶が
利用されている。ところがこの方式にあっては、バック
の色調が黄色や緑色あるいは紺色に着色するためコント
ラストが悪く、また斜め方向から見るとさらにコントラ
ストが悪くなるという視角依存性の問題もあり、ユーザ
からの視認性改良の要望に充分に応えることができなか
った。 しかるに、最近になって、液晶の構造と液晶材料の改
良によって、黒色レベルを上げたコントラストの良い大
容量の単純マトリックス液晶のサンプルが次々と公表さ
れており、高コントラストのほぼ完全な白黒表示のパネ
ルや、これをカラー化したパネルが生産されるようにな
ってきている。 このうち最も注目されるものは、STN液晶セルを２枚
重ねて黄色、緑色あるいは紺色等の着色を消したもので
ある。２層目のセルでは、液晶分子の配列を逆にねじ
り、１層目で生じた着色を元に戻している。（「日経マ
イクロデバイス、1987年８月号、36〜38頁」、および
「日経マイクロデバイス、1987年10月号、84〜88頁」の
記事参照） 発明が解決しようとする問題点 しかしながら、白黒表示でコントラストの高い単純マ
トリクス液晶パネルとして公表された前記のものは、液
晶セルを２段重ねにすることにより色調を中性色（グレ
ー色）にしてコントラストを改良しようとするものであ
るが、液晶セルを２枚用いることは液晶パネルがそれだ
け重くかつ厚くなることを免かれず、この方式によって
は液晶表示用パネルの軽量化、薄膜化の趨勢に反するこ
とになる。またこのものは、液晶セルの透明電極支持用
の基板としてガラス板を用いているため、破損の問題を
解消できないという不利もある。加えて、斜め方向から
見ると着色を生じ、視覚依存性が劣るので、この点も改
良の余地がある。 本発明は、上述の問題点を解決するためになされたも
ので、軽量化、薄膜化、耐破損性を確保しながらも、懸
案である色調の中性色化によるコントラストの改良や視
角依存性を解消した液晶表示パネルを提供することを目
的とするものである。 問題点を解決するための手段 本発明の光学的位相機能を有する基板からなる液晶表
示パネルは、液晶セル（１）の両側に偏光板（２），
（２）を配置した液晶表示パネルにおいて、 前記液晶セル（１）を構成する一方の透明電極支持用
基板（３）が、配向された合成樹脂フィルムからなる光
学的位相差素膜フィルム（Ａ）の少なくとも片面に耐透
気性樹脂層（Ｂ−１）および硬化性樹脂硬化物層（Ｂ−
２）を隣接配置状態で含む光等方性非晶質フィルム
（Ｂ）が積層された積層フィルムからなる光学的位相差
基板よりなり、 かつ前記液晶セル（１）の他方の透明電極支持用基板
（４）が、単層または複層の光等方性非晶質フィルム
（Ｂ）からなる光学的等方性基板よりなること、 を特徴とするものである。 以下本発明を詳細に説明する。 液晶セル（１） 従来の一般的な液晶セルは、透明電極支持用基板とし
て、光学的に等方な（光等方性を有する）材料としての
ガラス板を上下に各１枚ずつ、計２枚配置している。 これに対し本発明における液晶セル（１）は、該液晶
セル（１）を構成する一方の透明電極支持用基板（３）
として、配向された合成樹脂フィルムからなる光学的位
相差素膜フィルム（Ａ）の少なくとも片面に耐透気性樹
脂層（Ｂ−１）および硬化性樹脂硬化物層（Ｂ−２）を
隣接配置状態で含む光等方性非晶質フィルム（Ｂ）が積
層された積層フィルムからなる光学的位相差基板を用い
る。 また本発明においては、前記液晶セル（１）の他方の
透明電極支持用基板（４）として、単層または複層の光
等方性非晶質フィルム（Ｂ）からなる光学的等方性基板
を用いる。 〈光学的位相差基板〉 光学的位相差基板としては、上述のように、配向され
た合成樹脂フィルムからなる光学的位相差素膜フィルム
（Ａ）の少なくとも片面に耐透気性樹脂層（Ｂ−１）お
よび硬化性樹脂硬化物層（Ｂ−２）を隣接配置状態で含
む光等方性非晶質フィルム（Ｂ）が積層された積層フィ
ルムが用いられる。 ここで光学的位相差素膜フィルム（Ａ）としては、ガ
ラス転移点が60℃以上の非晶質の高分子、たとえばポリ
カーボネート、フェノキシ樹脂、ポリパラバン酸樹脂、
フマール酸樹脂、ポリアミノ酸樹脂、ポリスチレン、ポ
リスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリーレンエ
ステル、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアル
コール共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリメチルメタクリ
レート、ポリエステル、セルロース系高分子などの高分
子からなる分子配向されたフィルムが用いられる。 このような光学的位相差素膜フィルム（Ａ）は、上述
の如き高分子のフィルムを適当な温度条件下において分
子配向させ、さらに必要に応じてエージング（熱緩和）
を行うことにより作成される。光学的位相差素膜フィル
ム（Ａ）を延伸により得る場合、延伸温度、延伸倍率、
エージング温度、エージング時間などの条件は、使用す
る高分子の種類により異なるので一概に規定することは
できないが、たとえば、延伸温度はガラス転移点以上
（特にガラス転移点より10℃以上高い温度）、延伸倍率
は1.1〜８倍程度、エージング温度はガラス転移点以
上、エージング時間は１〜300秒程度とすることが多
い。延伸は一軸方向に行うのが通常であるが、高分子に
よっては二軸方向に行うことができる場合もある。 このように分子配向は、延伸により行うことが多い
が、延伸しなくとも製膜時に分子配向がなされることも
あり、またある種の高分子においては、それ自体が旋光
性を有するため、分子配列が自然になされている場合も
ある。 光学的位相差基板全体のレターデーション値は60nm以
上、特に70nm以上であることが望ましい。上限は特に限
定はないが、1000nm程度とすることが多い。また、透明
性は60％以上、耐熱性は60℃以上であることが好まし
く、さらには耐薬品性（耐溶剤性）を有することが好ま
しい。光学的位相差基板の厚さは、５〜3000μｍ、特に
７〜300μｍ程度に設定することが好ましい。 ここで光等方性非晶質フィルム（Ｂ）としては、耐透
気性樹脂層（Ｂ−１）および硬化性樹脂硬化物層（Ｂ−
２）を隣接配置状態で含むものがあげられる。 上記中、架橋性樹脂硬化物の層としては、フェノキシ
エーテル型架橋性樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、
アクリルエポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂
およびウレタン樹脂よりなる群から選ばれた少なくとも
１種以上の樹脂に活性水素と反応しうる架橋剤を配合し
てなる硬化性樹脂組成物から形成された層があげられ、
特にフェノキシエーテル型架橋性樹脂が重要である。活
性水素と反応しうる架橋剤とは、イソシアネート基、カ
ルボキシル基、メルカプト基などを言う。硬化手段とし
ては、加熱のほか、活性エネルギー線（紫外線や電子
線）照射法も採用される。 上記中、耐透気性合成樹脂の層としては、酸素透過率
（ASTM D−1434−75に準じて測定）が30cc/24hr・m²・a
tm以下、好ましくは20cc/24hr・m²・atm以下の層、殊
に、アクリロニトリル成分、ビニルアルコール成分また
はハロゲン化ビニリデン成分を50モル％以上含有し、か
つ前述の架橋性樹脂との反応基を含有する重合体から形
成された層があげられる。これらの中では、とくにポリ
ビニルアルコールまたはその共重合変性物あるいはグラ
フト物、エチレン含量が15〜50モル％のエチレン−ビニ
ルアルコール共重合体などOH基を有するポリマーが重要
である。 架橋性樹脂硬化物層と耐透気性合成樹脂のフィルム層
とを隣接配置すると、両層間に接着剤層を設けなくて
も、前者の硬化に用いた架橋剤により同時に後者の層と
の密着が図られるので有利であり、また両層の積層によ
り、前者の脆さは後者の層によりカバーされ、後者の層
の透湿性は前者の層によりカバーされる。 光等方性非晶質フィルム（Ｂ）としては、上記の耐透
気性樹脂層（Ｂ−１）および硬化性樹脂硬化物層（Ｂ−
２）に加えて、さらにポリエステル、ポリスルホン、ポ
リメチルメタアクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリアセテート、ポリ−４−メチルペンテ
ン−１、ポリフェニレンオキサイド系樹脂、アモルファ
スポリオレフィン等のフィルムを含むものを用いること
もできる。 上記で用いる光等方性非晶質フィルム（Ｂ）のレター
デーション値（複層用いるときは全体のレターデーショ
ン値）は、50nm以下、特に40nm以下であることが望まし
い。 〈光学的等方性基板〉 液晶セル（１）の他方の透明電極支持用基板（４）を
構成する光学的等方性基板としては、単層または複層の
光等方性非晶質フィルム（Ｂ）が用いられる。 ここで光等方性非晶質フィルム（Ｂ）としては、上述
の〈光学的位相差基板〉の個所で述べたのと同様のもの
が用いられる。 光等方性非晶質フィルム（Ｂ）は、それ単層で液晶セ
ル（１）を構成する他方の透明電極支持用基板（４）と
して用いることができる。ただし、耐液晶性・耐溶剤
性、一定以上の硬度、一定以上の厚さを有するものを選
択することが必要である。 光等方性非晶質フィルム（Ｂ）は、より一般的には、
２種以上の光等方性非晶質フィルム（Ｂ）を接着剤層を
介してまたは介さずして積層して用いる。特に、架橋性
樹脂硬化物層と耐透気性合成樹脂のフィルム層とを隣接
配置して用いると、各層の長所が生かされると共に、各
層の短所がカバーされる。 単層または複層の光等方性非晶質フィルム（Ｂ）から
なる光学的等方性基板としては、その全体のレターデー
ション値が50nm以下、特に40nm以下であることが望まし
い。また、透明性は60％以上、耐熱性は60℃以上である
ことが好ましく、さらには耐薬品性（耐溶剤性）を有す
ることが好ましい。光学的等方性基板の厚さは、20〜10
00μｍ、特に50〜800μｍ程度に設定することが好まし
い。 透明電極 透明電極は透明導電層からなり、該導電層の形成は、
真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法、金属溶射法、金属メッキ法、化学蒸着法、スプレー
法などが採用される。これらのうち、薄層が形成できる
ことおよび均一層が形成できることの２点を満足するも
のとして、真空蒸着法とスパッタリング法が特に推奨さ
れる。 透明導電層を形成するための素材としては、Sn、In、
Ti、Pb、Tb等の金属、またはそれらの酸化物が汎用さ
れ、金属単体を上記の方法で基板上に形成したときは、
希望に応じてその後酸化することもある。当初から酸化
物層として付着形成させる方法もあるが、最初は金属単
体または低酸化物の形態で被膜を形成し、しかるのち加
熱硬化、陽極酸化あるいは液相酸化等の酸化処理を施し
て透明化する手段を採用することもできる。低温スパッ
タリング装置を用いる場合は、酸化加熱工程を省略する
ことが可能である。なお上記以外に、Au、Pt、Ag等の貴
金属を用いる場合もある。 これらの金属あるいはそれらの酸化物からなる導電層
は、透明性や導電性等の要求特性に応じた層厚に設定す
るが、通常は100Å以上とし、安定な導電性を与えるた
めには300Å以上とすることが望ましい。 液晶 液晶としては、STN（スーパーツイステド・ネマティ
ック）液晶が好適に用いられる。 偏光板（２） 偏光板（２）としては、 ポリビニルアルコール／ヨウ素系、エチレン−ビニ
ルアルコール共重合体／ヨウ素系、 ポリビニルアルコール/2色性染料系、エチレン−ビ
ニルアルコール共重合体/2色性染料系、エチレン−ビニ
ルアルコール共重合体／ポリエン系、ポリビニルアルコ
ール／ポリエン系、ポリハロゲン化ビニル／ポリエン
系、ポリアクリロニトリル／ポリエン系、ポリアクリレ
ート／ポリエン系、ポリメタクリレート／ポリエン系、 などの偏光素膜または該素膜と上述のような光等方性非
晶質フィルム（Ｂ）との積層物が用いられる。 作用 本発明の液晶表示パネルにあっては、液晶セル（１）
を構成する一方の透明電極支持用基板（３）として、従
来のガラス基板に置換して、配向された合成樹脂フィル
ムからなる光学的位相差素膜フィルム（Ａ）の少なくと
も片面に耐透気性樹脂層（Ｂ−１）および硬化性樹脂硬
化物層（Ｂ−２）を隣接配置状態で含む光等方性非晶質
フィルム（Ｂ）が積層された積層フィルムからなる光学
的位相差基板を用いている。すなわち、この光学的位相
差基板に、透明電極支持用基板の役割を果たさせると同
時に、コントラストの改良の役割および視角依存性解消
の役割を果たさせるようにしたのである。 また本発明においては、前記液晶セル（１）の他方の
透明電極支持用基板（４）として、従来のガラス基板に
置換して、単層または複層の光等方性非晶質フィルム
（Ｂ）からなる光学的等方性基板を用いている。これに
より、ガラス板を用いた場合に比し、液晶セルの軽量
化、薄膜化、耐破損性が向上するのである。 実 施 例 次に実施例をあげて本発明をさらに説明する。以下
「部」とあるのは、重量基準で示したものである。 実施例１ 第１図は、本発明の液晶表示パネルの一例を示した断
面図である。 〈光学的位相差素膜フィルム（Ａ）〉 ビスフェノールＡから誘導されたポリカーボネート10
部を塩化メチレン150部中に加え、撹拌溶解した。この
溶液をガラス板上に流延し、40℃で乾燥して、膜厚58μ
ｍの透明なフィルムを作成した。さらにこのフィルムを
180℃の雰囲気温度下で一方向に３倍に延伸し、ついで
エージングした。 これにより、厚さ32μｍ、レターデーション値143nm
の光学的位相差素膜フィルム（Ａ）が得られた。 〈光等方性非晶質フィルム（Ｂ）〉 厚さ188μｍの二軸延伸ポリエステルフィルム上に、
エチレン含量32モル％のエチレン−ビニルアルコール共
重合体の水／イソプロピルアルコール（50/50）混合溶
剤による16％溶液を流延した後乾燥して、厚さ12μｍの
耐透気性合成樹脂フィルム層（Ｂ−１）を形成させると
共に、さらにその上から直接に下記組成からなるフェノ
キシエーテル樹脂系の架橋性樹脂組成物を流延した後乾
燥して、厚さ20μｍの架橋性樹脂硬化物層（Ｂ−２）を
形成させた。 ついで二軸延伸ポリエステルフィルムから積層フィル
ムを剥離することにより、（Ｂ−１）／（Ｂ−２）の層
構成を有する２層構造の光等方性非晶質フィルムが得ら
れた。 また、この（Ｂ−１）／（Ｂ−２）の層構成を有する
光等方性非晶質フィルム２枚を、その（Ｂ−２）面同士
が対向するようにアクリル系接着剤を用いて積層接着
し、（Ｂ−２）／（Ｂ−１）／（Ｂ−１）／（Ｂ−２）
の層構成を有する４層構造の光等方性非晶質フィルムを
得た。 〈光学的位相差基板〉 次に、上記の光学的位相差素膜フィルム（Ａ）の両面
に、上記で得た２層構造の光等方性非晶質フィルム（Ｂ
−１）／（Ｂ−２）をアクリル系接着剤を介して接着積
層して、（Ｂ−２）／（Ｂ−１）／（Ａ）／（Ｂ−１）
／（Ｂ−２）型の光学的位相差基板を作成した。 この光学的位相差基板の厚さは約106μｍ、レターデ
ーション値は145nm、可視光線透過率は87％、酸素透過
率（ASTM D−1434−75に準じて測定）は1.2cc/24hr・m²
・atm、表面の鉛筆硬度は2Hであり、透湿性を有してい
なかった。 〈光学的等方性基板〉 上記（Ｂ−２）／（Ｂ−１）／（Ｂ−１）／（Ｂ−
２）の層構成を有する４層構造の光等方性非晶質フィル
ムを光学的等方性基板として用いた。 この光学的等方性基板の厚さは約75μｍ、レターデー
ション値は2nm、可視光線透過率は92％、酸素透過率（A
STM D−1434−75に準じて測定）は0.8cc/24hr・m²・at
m、表面の鉛筆硬度は2Hであり、透湿性を有していなか
った。 〈透明電極の形成〉 上述の光学的位相差基板および光学的等方性基板のそ
れぞれの片面に、スパッタリング法により厚さ320ÅのI
TO（酸化インジウム−スズ）層を形成した。 〈液晶セル（１）の作成〉 透明電極形成後の光学的位相差基板と透明電極形成後
の光学的等方性基板との間に、エポキシ系接着剤をシー
ル剤として、ねじれ角が210゜のSTN（スーパーツイステ
ド・ネマティック）液晶を封入して、STN液晶セルを作
成した。 〈液晶表示パネル〉 この液晶セルの両面に、可視光線透過率42％、偏光度
86％のヨウ素系偏光板（２），（２）を、それぞれ光軸
を直交させて重ね合せ、目的とする液晶表示パネルを作
成した。 このようにして得られた液晶表示パネルは、無印加状
態では中性色の色相であるが、７ボルトの電荷を印加す
ると表示部分は濃い灰青色になり、その表示コントラス
ト比は9:1と良好であり、また視覚依存性も改良されて
いた。 比較例１ 実施例１における透明電極形成後の光学的等方性基板
２枚の間にSTN液晶を法入したほかは実施例１と同様に
して液晶表示セルを作成したが、このものは無印加状態
では、緑色であり、電圧を数ボルト印加すると濃青色で
あり、そのコントラスト比は３対１であった。 実施例２ 〈光学的位相差素膜フィルム（Ａ）〉 ポリ塩化ビニル樹脂22部とポリメチルメタアクリレー
ト樹脂６部とを、テトラヒドロフランとジメチルホルム
アミドとの1:1の混合溶剤に溶解し、ガラス板上に流延
して製膜し、85℃で乾燥して厚さ82μｍのフィルムを得
た。 このフィルムを130℃の雰囲気温度で一方向に５倍延
伸し、さらに同温度でエージングした。 これにより、厚さ43μｍ、レターデーション値138nm
の光学的位相差素膜フィルム（Ａ）が得られた。 〈光学的位相差基板〉 上記光学的位相差素膜フィルム（Ａ）の両面に、実施
例１で用いた（Ｂ−１）／（Ｂ−２）の層構成を有する
２層構造の光等方性非晶質フィルムを接着積層して、光
学的位相差基板を得た。 この光学的位相差基板の厚さは約117μｍ、レターデ
ーション値は141nm、可視光線透過率は86％、酸素透過
率（ASTM D−1434−75に準じて測定）は0.9cc/24hr・m²
・atm、表面の鉛筆硬度は2Hであり、透湿性を有してい
なかった。 〈光学的等方性基板〉 厚さ90μｍ、レターデーション値18nmのポリカーボネ
ートフィルム（三菱化成工業株式会社製）の両面に、実
施例１で用いた（Ｂ−１）／（Ｂ−２）の層構成を有す
る２層構造の光等方性非晶質フィルムを接着積層して、
光学的等方性基板を得た。 この光学的等方性基板の厚さは約164μｍ、レターデ
ーション値は23nm、可視光線透過率は90％、酸素透過率
（ASTM D−1434−75に準じて測定）は0.7cc/24hr・m²・
atm、表面の鉛筆硬度は2Hであり、透湿性を有していな
かった。 〈透明電極の形成〉 実施例１と同様にして透明電極を形成させた。ただ
し、ITO層の厚さは460Åとした。 〈液晶セル（１）の作成〉 実施例１と同様にして液晶セルを作成した。 〈液晶表示パネル〉 この液晶セルの両面に、可視光線透過率38％、偏光度
98％のヨウ素系偏光板（２），（２）を、それぞれ光軸
を直交させて重ね合せ、目的とする液晶表示パネルを作
成した。 このようにして得られた液晶表示パネルは、無印加状
態では中性色の色相であるが、７ボルトの電荷を印加す
ると表示部分は濃い灰青色になり、その表示コントラス
ト比は8:1と良好であり、また視覚依存性も改良されて
いた。 実施例３ 〈光学的位相差素膜フィルム（Ａ）〉 メチルエチレケトン50部のセロソルブアセテート50部
との混合溶液に実施例１で用いたフェノキシエーテル系
樹脂55部とコロネートL50部とを加え、室温で撹拌溶解
した。この溶液をガラス板上に流延し、70℃の雰囲気で
約40分間静置し、厚さ80μｍの架橋性樹脂硬化物層から
なる均一な透明フィルムを得た。 ついでこのフィルムを150℃で一軸方向に3.6倍延伸
し、さらに同温度で20分間エージングした。 これにより、厚さ53μｍ、レターデーション値125nm
の光学的位相差素膜フィルム（Ａ）が得られた。 〈光等方性非晶質フィルム（Ｂ）〉 厚さ100μｍの二軸延伸ポリエステルフィルム上に実
施例１で用いたのと同じエチレン−ビニルアルコール共
重合体溶液を流延した後乾燥して、厚さ25μｍの耐透気
性合成樹脂フィルム層（Ｂ−１）を形成させると共に、
さらにその上から直接に実施例１で用いたのと同じ組成
のフェノキシエーテル樹脂系の架橋性樹脂組成物を流延
した後乾燥し、130℃で20分間エージングして厚さ18μ
ｍの架橋性樹脂硬化物層（Ｂ−２）を形成させた。 ついで二軸延伸ポリエステルフィルムから積層フィル
ムを剥離することにより、（Ｂ−１）／（Ｂ−２）の層
構成を有する厚さ43μｍの２層構造の光等方性非晶質フ
ィルムを得た。 また、この（Ｂ−１）／（Ｂ−２）の層構成を有する
光等方性非晶質フィルム２枚を、その（Ｂ−１）面同士
が対向するようにアクリル系接着剤を用いて積層接着
し、（Ｂ−２）／（Ｂ−１）／（Ｂ−１）／（Ｂ−２）
の層構成を有する４層構造の光等方性非晶質フィルムを
得た。 〈光学的位相差基板〉 次に、上記の光学的位相差素膜フィルム（Ａ）の両面
に、上記で得た２層構造の光等方性非晶質フィルム（Ｂ
−１）／（Ｂ−２）をアクリル系接着剤を介して接着積
層して、（Ｂ−２）／（Ｂ−１）／（Ａ）／（Ｂ−１）
／（Ｂ−２）型の光学的位相差基板を作成した。 この光学的位相差基板の厚さは約149μｍ、レターデ
ーション値は127nm、可視光線透過率は87％、酸素透過
率（ASTM D−1434−75に準じて測定）は0.6cc/24hr・m²
・atm、表面の鉛筆硬度は2Hであり、透湿性を有してい
なかった。 〈光学的等方性基板〉 上記（Ｂ−２）／（Ｂ−１）／（Ｂ−１）／（Ｂ−
２）の層構成を有する４層構造の光等方性非晶質フィル
ムを光学的等方性基板として用いた。 この光学的等方性基板の厚さは約202μｍ、レターデ
ーション値は4nm、可視光線透過率は89％、酸素透過率
（ASTM D−1434−75に準じて測定）は0.6cc/24hr・m²・
atm、表面の鉛筆硬度は2Hであり、透湿性を有していな
かった。 〈液晶表示パネル〉 他の条件は実施例１と同様にして液晶表示パネルを作
成したが、色相、表示コントラスト、視角依存性は実施
例１とほぼ同等の結果を示した。 実施例４ 〈光学的位相差素膜フィルム（Ａ）〉 アクリロニトリル95部とアクリル酸メチル５部との共
重合体であるアクリロニトリル−アクリル酸メチル共重
合体10部をジメチルホルムアミド80部に温度約60℃で溶
解した溶液をガラス板上に流延し、約75℃の雰囲気中で
乾燥させて製膜し、厚さ115μｍの透明なフィルムを作
成した。その後、このフィルムを130〜140℃の雰囲気温
度で、まず一方向に1.5倍延伸し、ついで前記延伸方向
と直角の方向に５倍延伸した。 得られた分子配向フィルムの厚さは46μｍ、レターデ
ーション値は280nmであり、これを光学的位相差素膜フ
ィルム（Ａ）とした。 〈光学的位相差基板〉 上記の光学的位相差素膜フィルム（Ａ）の両面に、後
述のレターデーション値が3nm、厚さ33μｍの（Ｂ−
１）／（Ｂ−２）型の光学的等方性フィルムを（Ｂ−
１）面が対向するようにウレタン系接着剤を用いて積層
して、（Ｂ−２）／（Ｂ−１）／（Ａ）／（Ｂ−１）／
（Ｂ−２）型の構成を有する厚さ130μｍの光学的位相
差基板を作成した。この基板のレターデーション値は29
2nm、可視光線透過率は85％、酸素ガス透過率は1.4cc/2
4hr・m²・atmであった。 なお、ウレタン系接着剤としては、次の配合の接着剤
を用いた。 〈光等方性非晶質フィルム（Ｂ）〉 エチレン含量28％のエチレン−ビニルアルコール共重
合体を、水／イソプロピルアルコール（50/50）の混合
溶剤に13％濃度となるように溶解して、厚さ100μｍの
二軸延伸ポリエステルフィルム上に流延乾燥して、厚さ
９μｍの耐透気性合成樹脂フィルム層（Ｂ−１）を形成
し、さらにその表面に下記組成からなる光硬化性樹脂組
成物を流延し、80℃で乾燥したのち、200ワットのケミ
カルランプを用いて紫外線を５分間全面に照射して、厚
さ24μｍ紫外線硬化樹脂層（Ｂ−２）を形成した。 ついで、二軸延伸ポリエステルフィルムから積層フィ
ルム（Ｂ−１）／（Ｂ−２）を剥離して厚さ33μｍ、レ
ターデーンション値3nmの光等方性非晶質フィルムを作
成した。 〈光学的等方性基板〉 上記の光等方性非晶質フィルム（Ｂ−１）／（Ｂ−
２）を、厚さ50μｍ、レターデーション値7nmのポリカ
ーボネートフィルムの両面に、（Ｂ−１）が対向するよ
うに、前記ウレタン系接着剤を用いて積層接着し、（Ｂ
−２）／（Ｂ−１）／ポリカーボネート／（Ｂ−１）／
（Ｂ−２）の層構成を有する光等方性基板を作成した。
この基板の厚さは126μｍ、可視光線透過率は89％、酸
素ガス透過率は1.8cc/24hr・m²・atmであった。 〈透明電極の形成〉 上述の光学的位相差基板および光学的等方性基板のそ
れぞれの片面に、下記のスパッタリング条件により、厚
さ420ÅのITO膜を形成した。 ターゲット In₂O₃ 95重量％ SnO₂ ５重量％ 圧 力 ４×10^-3Torr 出 力 450Watt 析出速度 ８Å／秒 〈液晶セル（１）の作成〉 実施例１と同様にして液晶セルを作成した。 〈液晶表示パネル〉 この液晶セルの両面に、可視光線透過率42％、偏光度
86％のヨウ素系偏光板（２），（２）を、それぞれ光軸
を直交させて重ね合せ、目的とする液晶表示パネルを作
成した。 このようにして得られた液晶表示パネルは、無印加状
態では中性色の色相であるが、10ボルトの電荷を印加す
ると表示部分は濃い灰青色になり、その表示コントラス
ト比は6:1と良好であり、また視角依存性も改良されて
いた。 発明の効果 以上説明したように、本発明の液晶表示パネルにあっ
ては、軽量化、薄膜化、耐破損性を確保しながらも、懸
案である色調の中性色化によるコントラストの改良およ
び視角依存性の改良が図られる。 また本発明にあっては、光学的位相差基板自体が液晶
セルの透明電極支持用基板を兼ねるので、位相板を液晶
セルに別個付加する液晶表示パネルと比較すると、位相
板を粘着剤で液晶パネルに貼着する煩雑な工程が省略で
きる上、位相板を粘着剤で液晶パネルに貼着したときの
粘着剤層の温度変化や経時変化に基く「ずり現象」や
「トンネル現象（ボイドの発生）」が生じなくなる点で
も有利である。

【図面の簡単な説明】 第１図は、本発明の液晶表示パネルの一例を示した断面
図である。 （１）……液晶セル、（２）……偏光板、（３）……一
方の透明電極支持用基板、（４）……他方の透明電極支
持用基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭64−18122（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−86252（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

1. (57)【特許請求の範囲】 １．液晶セル（１）の両側に偏光板（２），（２）を配
   置した液晶表示パネルにおいて、前記液晶セル（１）を
   構成する一方の透明電極支持用基板（３）が、配向され
   た合成樹脂フィルムからなる光学的位相差素膜フィルム
   （Ａ）の少なくとも片面に耐透気性樹脂層（Ｂ−１）お
   よび硬化性樹脂硬化物層（Ｂ−２）を隣接配置状態で含
   む光等方性非晶質フィルム（Ｂ）が積層された積層フィ
   ルムからなる光学的位相差基板よりなり、かつ前記液晶
   セル（１）の他方の透明電極支持用基板（４）が、単層
   または複層の光等方性非晶質フィルム（Ｂ）からなる光
   学的等方性基板よりなることを特徴とする光学的位相機
   能を有する基板からなる液晶表示パネル。 ２．一方の透明電極支持用基板（３）である光学的位相
   差基板のレターデーション値が60nm以上である特許請求
   の範囲第１項記載の液晶表示パネル。 ３．他方の透明電極支持用基板（４）である光学的等方
   性基板のレターデーション値が50nm以下である特許請求
   の範囲第１項記載の液晶表示パネル。 ４．液晶セル（１）に封入する液晶が、STN（スーパー
   ツイステド・ネマティック）液晶である特許請求の範囲
   第１項記載の液晶表示パネル。