JPH01118819A - 光学的位相機能を有する基板からなる液晶表示パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光学的位相機能を有する基板からなる液晶表
示パネル、殊に、軽量で耐破損性を有すると共に、色調
および視角依存性を改良した液晶表示パネルに関するも
のである。

従来の技術 液晶表示パネルは、基本的には、液晶セルの両側に偏光
板を配置した構成を有する。

偏光板ｉ液晶セルＵ偏光板 このうち液晶セルは、透明の電極層を形成した２枚の基
板をスペーサを介して対向配置し、両基板の間に液晶を
封入すると共に周縁をエポキシ系接着剤などの接着剤で
完全にシールした構成を有する。

基板１透明電極１液晶１透明電極ｌ基板ここで基板とし
ては、光学的に透明でかつ等方性であることが要求され
、さもないと、液晶表示パネルの着色が著しく、視認性
に欠けるようになる。そのため、基板としては非晶質材
料を用いることが必須であって、従来は専らガラス板か
らなる基板が使用されていた。ところが、ガラス基板は
重量が大きいこと、薄型にできないこと、破損しやすい
ため耐衝撃性に劣ること、巻き取りができないため量産
化することが困難であることなどの問題点があり、最近
では合成樹脂フィルムからなる基板も使用されるように
なってきている。

液晶表示パネルは、ワードプロセッサ、パーソナルコン
ピュータなどのＯＡ機器のデイスプレィ装置として大量
に使用されており、特に大型の液晶表示パネルには、Ｓ
ＴＮ　（スーパーツイステド・ネマティック）方式の液
晶が利用されている。ところがこの方式にあっては、バ
ックの色調が黄色や緑色あるいは紺色に着色するためコ
ントラストが悪く、また斜め方向から見るとさらにコン
トラストが悪くなるという視角依存性の問題もあり、ユ
ーザからの視認性改良の要望に充分に応えることができ
なかった。

しかるに、最近になって、液晶の構造と液晶材料の改良
によって、黒色レベルを上げたコントラストの良い大容
量の単純マトリックス液晶のサンプルが次々と公表され
ており、高コントラストのほぼ完全な白黒表示のパネル
や、これをカラー化したパネルが生産されるようになっ
てきている。

このうち最も注目されるものは、ＳＴＮ液晶セルを２枚
重ねて黄色、緑色あるいは紺色等の着色を消したもので
ある。２層目のセルでは、液晶分子の配列を逆にねじり
、１層目で生じた着色を元に戻している。（「日経マイ
クロデバイス、１９８７年８月号、３６〜３８頁」、お
よび「日経マイクロデバイス、１９８７年１０月号、８
４〜８８頁」の記事参照） 発明が解決しようとする問題点 しかしながら、白黒表示でコントラストの高い単純マト
リクス液晶パネルとして公表された前記のものは、液晶
セルを２段重ねにすることにより色調を中性色（グレー
色）にしてコントラストを改良しようとするものである
が、液晶セルを２枚用いることは液晶パネルがそれだけ
重くかつ厚くなることを免かれず、この方式によっては
液晶表示用パネルの軽量化、薄膜化の趨勢に反すること
になる。またこのものは、液晶セルの透明電極支持用の
基板としてガラス板を用いているため、破損の問題を解
消できないという不利もある。加えて、斜め方向から見
ると着色を生じ、視覚依存性が劣るので、この点も改良
の余地がある。

本発明は、上述の問題点を解決するためになされたもの
で、軽量化、薄膜化、耐破損性を確保しながらも、懸案
である色調の中性色化によるコントラストの改良や視角
依存性を解消した液晶表示パネルを提供することを目的
とするものである。

問題点を解決するための手段 本発明の光学的位相機能を有する基板からなる液晶表示
パネルは、液晶セル（１）の両側に偏光板（２）、　（
２）を配置した液晶表示パネルにおいて、前記液晶セル
（１）を構成する一方の透明電極支持用基板（３）が、
配向された合成樹脂フィルムからなる光学的位相差素膜
フィルム（Ａ）またはその少なくとも片面に光等方性非
晶質フィルム（Ｂ）が積層された積層フィルムからなる
光学的位相差基板よりなり、 かつ前記液晶セル（１）の他方の透明電極支持用基板（
４）が、単層または複層の光等方性非晶質フィルム（Ｂ
）からなる光学的等方性基板よりなること、 を特徴とするものである。

以下本発明の詳細な説明する。

１１幻■刀 従来の一般的な液晶セルは、透明電極支持用基板として
、光学的に等方な（光等方性を有する）材料としてのガ
ラス板を上下に各１枚づつ、計２枚配置している。

これに対し本発明における液晶セル（１）は、該液晶セ
ル（１）を構成する一方の透明電極支持用基板（３）と
して、配向された合成樹脂フィルムからなる光学的位相
差素膜フィルム（Ａ）またはその少なくとも片面に光等
方性非晶質フィルム（Ｂ）が積層された積層フィルムか
らなる光学的位相差基板を用いる。

また本発明においては、前記液晶セル（１）の他方の透
明電極支持用基板（４）として、単層または複層の光等
方性非晶質フィルム（Ｂ）からなる光学的等方性基板を
用いる。

〈光学的位相差基板〉 光学的位相差基板としては、上述のように、■　配向さ
れた合成樹脂フィルムからなる光学的位相差素膜フィル
ム（Ａ）、または、 ■　前記光学的位相差素膜フィルム（Ａ）の少なくとも
片面に光等方性非晶質フィルムＣＢ）が積層された積層
フィルム、 が用いられる。

ここで光学的位相差素膜フィルム（Ａ）としては、ガラ
ス転移点が６０℃以上の非晶質の高分子、たとえばポリ
カーボネート、フェノキシ樹脂、ポリパラバン酸樹脂、
フマール酸樹脂、ポリアミノ酸樹脂、ポリスチレン、ポ
リスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリーレンエ
ステル。

ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共
重合体、ポリ塩化ビニル、ポリメチルメタクリレート、
ポリエステル、セルロース系高分子などの高分子からな
る分子配向されたフィルムが用いられる。

このような光学的位相差素膜フィムル（Ａ）は、上述の
如き高分子のフィルムを適当な温度条件下において分子
配向させ、さらに必要に応じてエージング（熱緩和）を
行うことにより作成される。

光学的位相差素膜フィルム（Ａ）を延伸により得る場合
、延伸温度、延伸倍率、エージング温度、エージング時
間などの条件は、使用する高分子の種類により異なるの
で一顧に規定することはできないが、たとえば、延伸温
度はガラス転移点以上（特にガラス転移点より１０℃以
上高い温度）、延伸倍率は１．１〜８倍程度、エージン
グ温度はガラス転移点以上、エージング時間は１〜３０
０秒程度とすることが多い。延伸は一軸方向に行うのが
通常であるが、高分子によっては二軸方向に行うことが
できる場合もある。

このように分子配向は、延伸により行うことが多いが、
延伸しなくとも製膜時に分子配向がなされることもあり
、またある種の高分子においては、それ自体が旋光性を
有するため、分子配列が自然になされている場合もある
。

上に説明した光学的位相差素膜フィルム（Ａ）は、それ
単独で液晶セル（１）を構成する一方の透明電極支持用
基板（３）として用いることができる。ただし、耐液晶
性・耐溶剤性、一定以上の硬度、一定以上の厚さを有す
るものを選択することが必要である。

光学的位相差素膜フィルム（Ａ）は、より一般的には、
その少なくとも片面に光等方性非晶質フィルム（Ｂ）が
積層された積層フィルムとして使用される。積層構成の
例としては、（Ａ）／（Ｂ）　、　（Ｂ）／（Ａ）／（
Ｂ）　、　（Ａ）／（Ｂ）／（Ｂ）　、　（Ｂ）／（Ｂ
）／（Ａ）／（Ｂ）／（Ｂ）などがあげられる。各層間
には接着剤層を介在させることもできる。

光学的位相差基板が上記■または■のいずれの場合であ
っても、その全体のレターデーション値は６０ｎｍ以上
、特に７０ｎｓ＋以上であることが望ましい、上限は特
に限定はないが、１１０００ｎ程度とすることが多い、
また、透明性は６０％以上、耐熱性は６０℃以上である
ことが好ましく、さらには耐薬品性（耐溶剤性）を有す
ることが好ましい。光学的位相差基板の厚さは、５〜３
０００ｐ−ｍ、特に７〜３００ｕＬ■程度に設定するこ
とが好ましい。

ここで光等方性非晶質フィルム（Ｂ）としては、ポリカ
ーボネート、ポリパラバン酸樹脂、フマール酸樹脂、ポ
リスチレン、ポリエーテルスルホン、ポリアリーレンエ
ステル、セルロース系高分子、耐透気性合成樹脂、架橋
性樹脂硬化物などが好ましいものとしてあげられる。

上記中、架橋性樹脂硬化物の層としては、フェノキシエ
ーテル型架橋性樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ア
クリルエポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂お
よびウレタン樹脂よりなる群から選ばれた少なくとも１
種以上の樹脂に活性水素と反応しうる架橋剤を配合して
なる硬化性樹脂組成物から形成された層があげられ、特
にフェノキシエーテル型架橋性樹脂が重要である。活性
水素と反応しうる架橋剤とは、インシアネート基、カル
ボキシル基、メルカプト基などを言う。

硬化手段としては、加熱のほか、活性エネルギー線（紫
外線や電子線）照射法も採用される。

上記中、耐透気性合成樹脂の層としては、酸素透過率（
ＡＳＴＮ　Ｄ−１４３４−７５に準じて測定）が３０ｃ
ｃ／　２４ｈｒ　＊　ｒｎ”　＊　ａｔｓ以下、好まし
くは２０ｃｃ／２４ｈｒ１１ｒｒｆ・ａｔｍ以下の層、
殊に、アクリロニトリル成分、ビニルアルコール成分ま
たはハロゲン化ビニリデン成分を５０モル％以上含有し
、かつ前述の架橋性樹脂との反応基を含有する重合体か
ら形成された層があげられる。これらの中では、とくに
ポリビニルアルコールまたはその共重合変性物あるいは
グラフト物、エチレン含量が１５〜５０モル％のエチレ
ン−ビニルアルコール共ｆｆ！合体などＯＨ基を有する
ポリマーが重要である。

架橋性樹脂硬化物層と耐透気性合成樹脂のフィルム層と
を隣接配置すると、両層間に接着剤層を設けなくても、
前者の硬化に用いた架橋剤により同時に後者の層との密
着が図られるので有利であり、また両層の積層により、
前者の脆さは後者の層によりカバーされ、後者の層の透
湿性は前者の層によりカバーされる。

光等方性非晶質フィルム（Ｂ）としては、上記に例示し
たもののほか、ポリエステル、ポリスルホン、ポリメチ
ルメタアクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリアセテート、ポリ−４−メチルペンテン−１
、ポリフェニレンオキサイド系樹脂等のフィルムも用い
ることができる。

上記で用いる光等方性非晶質フィルム（Ｂ）のレターデ
ーション値（複層用いるときは全体のレターデーション
値）は、５０ｒ＋＋ｓ以下、特に４０ｎ■以下であるこ
とが望ましい。

〈光学的等方性基板〉 液晶セル（１）の他方の透明電極支持用基板（４）を構
成する光学的等方性基板としては、単層または複層の光
等方性非晶質フィルム（Ｂ）が用いられる。

ここで光等方性非晶質フィルム（Ｂ）としては、上述の
く光学的位相差基板）の個所で述べたのと同様のものが
用いられる。

光等方性非晶質フィルム（Ｂ）は、それ単層で液晶セル
（１）を構成する他方の透明電極支持用基板（４）とし
て用いることができる。ただし、耐液晶性ｅ耐溶剤性、
一定以上の硬度、一定以上の厚さを有するものを選択す
ることが必要である。

光等方性非晶質フィルム（Ｂ）は、より一般的には、２
種以上の光等方性非晶質フィルム（Ｂ）を接着剤層を介
してまたは介さずして積層して用いる。特に、架橋性樹
脂硬化物層と耐透気性合成樹脂のフィルム層とを隣接配
置して用いると、各層の長所が生かされると共に、各層
の短所がカバーされる。

単層または複層の光等方性非晶質フィルム（Ｂ）からな
る光学的等方性基板としては、その全体のレターデーシ
ョン値が５Ｏｎ＋ｓ以下、特に４０ｎｍ以下であること
が望ましい。また、透明性は６０％以上、＃熱性は６０
℃以上であることが好ましく、さらには耐薬品性（＃溶
剤性）を有することが好ましい。光学的等方性基板の厚
さは、２０〜１０００ｇｍ、特に５０〜８００７ｔｍ程
度に設定することが好ましい。

１里ユｊ 透明電極は透明導電層からなり、該導電層の形成は、真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティング法
、金属溶射法、金属メツキ法、化学蒸着法、スプレー法
などが採用される。これらのうち、薄層が形成できるこ
とおよび均一層が形成できることの２点を満足するもの
として、真空蒸着法とスパッタリング法が特に推奨され
る。

透明導電層を形成するための素材としては、Ｓｎ、Ｉｎ
、Ｔｉ　、Ｐｂ、Ｔｂ等の金属、またはそれらの酸化物
が汎用され、金属単体を上記の方法で基板上に形成した
ときは、希望に応じてその後醸化することもある。当初
から酸化物層として付着形成させる方法もあるが、最初
は金属単体または低酸化物の形態で被膜を形成し、しか
るのち加熱酸化、陽極酸化あるいは液相酸化等の酸化処
理を施して透明化する手段を採用することもできる。低
温スパッタリング装置を用いる場合は、酸化加熱工程を
省略することが可能である。なお上記以外に、Ａｕ、Ｐ
ｔ、Ａｇ等の貴金属を用いる場合もある。

これらの金属あるいはそれらの酸化物からなる導電層は
、透明性や導電性等の要求特性に応じた層厚に設定する
が、通常は１００Ａ以上とし、安定な導電性を与えるた
めには３００Ａ以上とすることが望ましい。

直腸 液晶としては、ＳＴＮ（スーパーツイステド・ネマティ
ック）液晶が好適に用いられる。

ｉ連り狙゛ 偏光板（２）としては、 ■　ポリビニルアルコール／ヨウ素系、エチレン−ビニ
ルアルコール共重合体／ヨウ素系、■　ポリビニルアル
コ−シフ２色性染料系、エチレン−ビニルアルコール共
重合体／２色性染料系、エチレン−ビニルアルコール共
重合体／ポリエン系、ポリビニルアルコール／ポリエン
系、ポリハロゲン化ビニル／ポリエン系、ポリアクリロ
ニトリル／ポリエン系、ポリアクリレート／ポリエン系
、ポリメタクリレート／ポリエン系、などの偏光素膜ま
たは該素膜と上述のような光等方性非晶質フィルム（Ｂ
）との積層物が用いられる。

作　　　用 本発明の液晶表示パネルにあっては、液晶セル（１）を
構成する一方の透明電極支持用基板（３）として、従来
のガラス基板に置換して、配向された合成樹脂フィルム
からなる光学的位相差素膜フィルム（Ａ）またはその少
なくとも片面に光等方性非晶質フィルム（Ｂ）が積層さ
れた積層フィルムからなる光学的位相差基板を用いてい
る。すなわち、この光学的位相差基板に、透明電極支持
用基板の役割を果たさせ名と同時に、コントラストの改
良の役割および視角依存性解消の役割を果たさせるよう
にしたのである。

また本発明においては、前記液晶セル（１）の他方の透
明電極支持用基板（４）として、従来のガラス基板に置
換して、単層または複層の光等方性非晶質フィルム（Ｂ
）からなる光学的等方性基板を用いている。これにより
、ガラス板を用いた場合に比し、液晶セルの軽量化、薄
膜化、耐破損性が向上するのである。

実施例 次に実施例をあげて本発明をさらに説明する。

以下「部」とあるのは、重量基準で示したものである。

実施例１ 第１図は、本発明の液晶表示パネルの一例を示した断面
図である。

（光学的位相差素膜フィルム（Ａ）） ビスフェノールＡから誘導されたポリカーボネートｔｏ
部を塩化メチレン１５０部中に加え、攪拌溶解した。こ
の溶液をガラス板上に流延し、４０℃で乾燥して、膜厚
５８　ｌＬｍの透明なフィルムを作成した。さらにこの
フィルムを１８０℃の雰囲気温度下で一方向に３倍に延
伸し、ついでエージングしだ。

これにより、厚さ３２　ＪＬＩｌｌ、レターデーション
値１４３ｎｍの光学的位相差素膜フィルム（Ａ）が得ら
れた。

〈光等方性非晶質フィルム（Ｂ）〉 厚さ１８８　ｐ−ｒａの二軸延伸ポリエステルフィルム
上に、エチレン含量３２モル％のエチレン−ビニルアル
コール共重合体の水／イソプロピルアルコール（５０１
５０）混合溶剤による１６％溶液を流延した後乾燥して
、厚さ１２ＪＬ１１の耐透気性合成樹脂フィルム層（Ｂ
−１）を形成させると共に、ざらにその上から直接に下
記組成からなるフェノキシエーテル樹脂系の架橋性樹脂
組成物を流延した後乾燥して、厚さ２０ＩＬ１１の架橋
性樹脂硬化物層（Ｂ−２）を形成させた。

ついで二軸延伸ポリエステルフィルムから積層フィルム
を剥離することにより、（Ｂ−１）／（Ｂ−２）の層構
成を有する２層構造の光等方性非晶質フィルムが得られ
た。

また、この（Ｂ−１）／（Ｂ−２）の層構成を有する光
等方性非晶質フィルム２枚を、その（Ｂ−１）面同士が
対向するようにアクリル系接着剤を用いて積層接着し、
（Ｂ−２）／（Ｂ−１）／（Ｂ−１）／（Ｂ−２）の層
構成を有する４層構造の光等方性非晶質フィルムを得た
。

〈光学的位相差基板〉 次に、上記の光学的位相差素膜フィルム（Ａ）の両面に
、上記で得た２層構造の光等方性非晶質フィルム（Ｂ−
１）／（Ｂ−２）をアクリル系接着剤を介して接着積層
して、ＣＢ−２）／ＣＢ−１）／（Ａ）／（Ｂ−１）／
（Ｂ−２）型の光学的位相差基板を作成した。

この光学的位相差基板の厚さは約１０６ＩＬ腸、レター
デーション値は１４５ｎ■、可視光線透過率は８７％、
酸素透過率（ＡＳＴＭ　Ｄ−１４３４−７５に準じて測
定）は１．２　ｃｃ／　２４ｈｒ　＠　ｒｎ”　ｅ　ａ
ｔｍ　、表面の鉛筆硬度は２Ｈであり、透湿性を有して
いなかった。

〈光学的等方性基板） 上記（Ｂ−２）／（Ｂ−１）／ＣＢ−１）／（Ｂ−２）
の層構成を有する４層構造の光等方性非晶質フィルムを
光学的等方性基板として用いた。

この光学的等方性基板の厚さは約７５終腸、レターデー
ション値は２Ｈｍ、可視光線透過率は９２％、酸素透過
率（ＡＳＴＭ　Ｄ−１４３４−７５に準じて測定）は０
．８　ｃｃ／　２４ｈｒ　拳ｒｒｘ”　ａ　ａｔｍ　、
表面の鉛筆硬度は２Ｈであり、透湿性を有していなかっ
た。

〈透明電極の形成〉 上述の光学的位相差基板および光学的等方性基板のそれ
ぞれの片面に、スパッタリング法により厚さ３２０Ａの
ＩＴＯ（酸化インジウム−スズ）層を形成した。

〈液晶セル（１）の作成〉 透明電極形成後の光学的位相差基板と透明電極形成後の
光学的等方性基板との間に、エポキシ系接着剤をシール
剤として、ねじれ角が約２１０゜のＳＴＮ　（スーパー
ツイステド・ネマティック）液晶を封入して、ＳＴＮ液
晶セルを作成した。

〈液晶表示パネル〉 この液晶セルの両面に、可視光線透過率４２％、偏光度
８６％のヨウ素系偏光板（２）、　（２）を、それぞれ
光軸を直交させて重ね合せ、目的とする液晶表示パネル
を作成した。

このようにして得られた液晶表示パネルは、無印加状態
では中性色の色相であるが、７ボルトの電荷を印加する
と表示部分は濃い灰青色になり、その表示コントラスト
比は９：１と良好であり、また視覚依存性も改良されて
いた。

比較例１ 実施例１における透明電極形成後の光学的等方性基板２
枚の間にＳＴＮ液晶を封入したほかは実施例１と同様に
して液晶表示セルを作成したが。

このものは無印加状態では、緑色であり、電圧を数ボル
ト印加すると濃青色であり、そのコントラスト比は３対
ｌであった。

実施例２ 〈光学的位相差素膜フィルム（Ａ）〉 ポリ塩化ビニル樹脂２２部とポリメチルメタアクリレー
ト樹脂６部とを、テトラヒドロフランとジメチルホルム
アミドとの１＝１の混合溶剤に溶解し、ガラス板上に流
延して製膜し、８５℃で乾爆して厚さ８２　ｐ、ｔｓの
フィルムを得た。

このフィルムを１３０℃の雰囲気温度で一方向に５倍延
伸し、さらに同温度でエージングした。

これにより、厚さ４３ＪＬｍ、　　レターデーション値
１３８ｎ＋ｓの光学的位相差素膜フィルム（Ａ）が得ら
れた。

〈光学的位相差基板〉 上記光学的位相差素膜フィルム（Ａ）の両面に、実施例
１で用いた（Ｂ−１）／（Ｂ−２）の層構成を有する２
層構造の光等方性非晶質フィルムを接着積層して、光学
的位相差基板を得た。

この光学的位相差基板の厚さは約１１７．腸、レターデ
ーション値は１４１ｎｍ、可視光線透過率は８６％、酸
素透過率（ＡＳＴＭ　０−１４３４−７５に準じて測定
）は０．９　ｃｃ／　２４ｈｒ　＠ｒｎ”　ｅ　ａｔ層
、表面の鉛筆硬度は２Ｈであり、透湿性を有していなか
った。

〈光学的等方性基板〉 厚さ９０ｇｍ、　レターデーション（Ｉｌａｎ層のポリ
カーボネートフィルム（三菱化成工業株式会社製）の両
面に、実施例１で用いた（Ｂ−１）／（Ｂ−２）の層構
成を有する２層構造の光等方性非晶質フィルムを接着積
層して、光学的等方性基板を得た。

この光学的等方性基板の厚さは約１６４１Ｌ■。

レターデーション値は２３ｎ朧、可視光線透過率は９０
％、酸素透過率（ＡＳＴＭ　０−１４３４−７５に準じ
て測定）は０．７　ｃｃ／　２４ｂｒ　＠ｒｎ”　＊　
ａｔｍ　、表面の鉛筆硬度は２Ｈであり、透湿性を有し
ていなかった。

〈透明電極の形成） 実施例１と同様にして透明電極を形成させた。

ただし、ＩＴＯ層の厚さは４６０Ａとした。

〈液晶セル（１）の作成〉 実施例１と同様にして液晶セルを作成した。

〈液晶表示パネル〉 この液晶セルの両面に、可視光線透過率３８％、偏光度
９８％のヨウ素系偏光板（２）、　（２）を、それぞれ
光軸を直交させて重ね合せ、目的とする液晶表示パネル
を作成した。

このようにして得られた液晶表示パネルは、無印加状態
では中性色の色相であるが、７ボルトの電荷を印加する
と表示部分は濃い灰青色になり、その表示コントラスト
比は８：１と良好であり、また視覚依存性も改良されて
いた。

実施例３ 実施例１のフェノキシエーテル樹脂系の架橋性樹脂組成
物をガラス板上に流延したのち、７０〜８０℃の雰囲気
中で６０分乾燥し、厚さ１３０ＪＬＩ１１の架橋性樹脂
硬化物層からなるフィルムを得た。ついでこのフィルム
を１４５℃で一軸方向に２倍延伸し、さらに同温度で２
０分間エージングした。

これにより、厚さ９８井鵬、レターデーション値１１０
８ｎの光学的位相差素膜フィルム（Ａ）が得られたので
、これを単層で光学的位相差基板として用いた。

他の条件は実施例１と同様にして液晶表示パネルを作成
したが、色相、表示コントラストは実施例１に準する結
果を示し、また、視角依存性の改良の程度は実施例１よ
りもさらにすぐれていた。

実施例４ く光学的位相差素膜フィルム（Ａ）〉 メチルエチルケトン５０部のセロソルブアセテート５０
部との混合溶液に実施例１で用いたフェノキシエーテル
系樹脂５５部とコロネートＬ５０部とを加え、室温で攪
拌溶解した。この溶液をガラス板上に流延し、７０℃の
雰囲気で約４０分間静置し、厚さ８０ＩＬｔｘの架橋性
樹脂硬化物層からなる均一な透明フィルムを得た。

ついでこのフィルムを１５０℃で一軸方向に３．８倍延
伸し、さらに同温度で２０分間エージングした。

これによ、す、厚さ５３＃１．ｍ、　　レターデーショ
ン値１２５ｎｉの光学的位相差素膜フィルム（Ａ）が得
られた。

〈光等方性非晶質フィルム（Ｂ）） 厚さ１００１Ｌ１１の二軸延伸ポリエステルフィルム上
に実施例１で用いたのと同じエチレン−ビニルアルコー
ル共重合体溶液を流延した後乾燥して、厚さ２５　ＩＬ
ｔｘの耐透気性合成樹脂フィルム層（Ｂ−１）を形成さ
せると共に、さらにその上から直接に実施例１で用いた
のと同じ組成のフェノキシエーテル樹脂系の架橋性樹脂
組成物を流延した後乾燥し、１３０℃で２０分間エージ
ングして厚さ１８ＩＬ１１の架橋性樹脂硬化物Ｍ（Ｂ−
２）を形成させた。

ついで二軸延伸ポリエステルフィルムから積層フィルム
を剥離することにより、（Ｂ−１）／（Ｂ−２）の層構
成を有する厚さ４３ｇｍの２層構造の光等方性非晶質フ
ィルムを得た。

また、この（Ｂ−１）／（Ｂ−２）の層構成を有する光
等方性非晶質フィルム２枚を、その（Ｂ−１）面同士が
対向するようにアクリル系接着剤を用いて積層接着し、
（Ｂ−２）／（Ｂ−１）／（Ｂ−１）／（Ｂ−２）の層
構成を有する４層構造の光等方性非晶質フィルムを得た
。

〈光学的位相差基板〉 次に、上記の光学的位相差素膜フィルム（Ａ）の両面に
、上記で得た２層構造の光等方性非晶質フィルム（Ｂ−
１）／（Ｂ−２）をアクリル系接着剤を介して接着積層
して、（Ｂ−２）／（Ｂ−１）／（Ａ）／（Ｂ−１）／
（Ｂ−２）型の光学的位相差基板を作成した。

この光学的位相差基板の厚さは約１４９％層、レターデ
ーション値は１２７ｎｍ、可視光線透過率は８７％、酸
素透過率（ＡＳＴＭ　Ｄ−１４３４−７５に準じて測定
）は０．８　ｃｃ／　２４ｈｒ　ｅ　ｒｎ’　＠　ａｔ
ｍ　、表面の鉛筆硬度は２Ｈであり、透湿性を有してい
なかった。

〈光学的等方性基板〉 上記（Ｂ−２）／（Ｂ−１）／（Ｂ−１）／（Ｂ−２）
の層構成を有する４層構造の光等方性非晶質フィルムを
光学的等方性基板として用いた。

この光学的等方性基板の厚さは約２０２　ｐ、ｔｓ、レ
ターデーション値は４Ｈ層、可視光線透過率は８９％、
酸素透過率（ＡＳＴＭ　Ｄ−１４３４−７５に準じて測
定）は０．８　ｃｃ／　２４ｈｒ　＊　ｒｎ”　＊　ａ
ｔｍ　、表面の鉛筆硬度は２Ｈであり、透湿性を有して
いなかった。

〈液晶表示パネル〉 他の条件は実施例１と同様にして液晶表示パネルを作成
したが、色相、表示コントラスト、視角依存性は実施例
１とほぼ同等の結果を示した。

実施例５ 〈光学的位相差素膜フィルム（Ａ）〉 アクリロニトリル９５部とアクリル酸メチル５部との共
重合体であるアクリロニトリル−アクリル酸メチル共重
合体ｌＯ部をジメチルホルムアミド８０部に温度的６０
℃で溶解した溶液をガラス板上に流延し、約７５℃の雰
囲気中で乾燥させて製膜し、厚さ１１５ル腸の透明なフ
ィルムを作成した。その後、このフィルムを１３０〜１
４０℃の雰囲気温度で、まず一方向に１．５倍延伸し、
ついで前記延伸方向と直角の方向に５倍延伸した。

得られた分子配向フィルムの厚さは４６＃Ｌｍ。

レターデーション値は２８０ｎｓ＋であり、これを光学
的位相差素膜フィルム（Ａ）とした。

く光学的位相差基板〉 上記の光学的位相差素膜フィルム（Ａ）の両面に、後述
のレターデーション値が３Ｈｍ、厚さ３３ＪＬｍの（Ｂ
−１）／ＣＢ−２）型の光学的等方性フィルムを（Ｂ−
１）面が対向するようにウレタン系接着剤を用いて積層
して、（Ｂ−２）／（Ｂ−１）／（Ａ）／（Ｂ−１）／
（Ｂ−２）型の構成を有する厚さ１３０　ｐ、ｔａの光
学的位相差基板を作成した。この基板のレターデーショ
ン値は２９２ｎｓ、可視光線透過率は８５％、酸素ガス
透過率は１．４　ｃｃ／２４ｈｒ　＊　ｒｎ”　＊　ａ
ｔｍであった。

なお、ウレタン系接着剤としては、次の配合の接着剤を
用いた。

〈光等方性非晶質フィルム（Ｂ）〉 エチレン含量２８％のエチレン−ビニルアルコール共重
合体を、水／イソプロピルアルコール（５０１５０）の
混合溶剤に１３％濃度となるように溶解して、厚さ１０
０＝■の二軸延伸ポリエステルフィルム上に流延乾燥し
て、厚さ９ｇｍの耐透気性合成樹脂フィルム層（Ｂ−１
）を形成し、さらにその表面に下記組成からなる光硬化
性樹脂組成物を流延し、８０℃で乾燥したのち、２００
ワツトのケミカルランプを用いて紫外線を５分間全面に
照射して、厚さ２４　ｇｒａ紫外線硬化樹脂層（Ｂ−２
）を形成した。

ついで、二軸延伸ポリエステルフィルムから積層フィル
ム（Ｂ−１）／（Ｂ−２）を剥離して厚さ３３ｇｒｒｒ
、　レターデーション値３ｎｍの光等方性非晶質フィル
ムを作成した。

〈光学的等方性基板〉 上記の光等方性非晶質フィルム（Ｂ−１）／（Ｂ−２）
を、厚さ５０ｇｍ、　　レターデーション値７ｎｍのポ
リカーボネートフィルムの両面に、（Ｂ−１）が対向す
るように、前記のウレタン系接着剤を用いて積層接着し
、（Ｂ−２）／（Ｂ−１）／ポリカーボネート／（Ｂ−
１）／（Ｂ−２）の層構成を有する光等方性基板を作成
した。この基板の厚さは１２６！腸、可視光線透過率は
８９％、酸素ガス透過率は１．８　ｃｃ／　２４ｈｒ　
＊　ｒｎ’・ａｔｍであった。

〈透明電極の形成〉 上述の光学的位相差基板および光学的等方性基板のそれ
ぞれの片面に、下記のスパッタリング条件により、厚さ
４２０ＡのＩＴＯ膜を形成した。

ターゲット　　Ｉ　ｎ　ｚ　Ｏ３９５重量２ＳｎＯｚ　
　　　５重量２ 圧　　　　　力　　　４　　ＸＩＯＴｏｒｒ出　　　　
　力　　　　４５０　誓ａｔｔ析出速度　　　８　Ａ／
秒 〈液晶セル（１）の作成〉 実施例１と同様にして液晶セルを作成した。

〈液晶表示パネル〉 この液晶セルの両面に、可視光線透過率４２％、偏光度
８６％のヨウ素系偏光板（２）、　（２）を、それぞれ
光軸を直交させて重ね合せ、目的とする液晶表示パネル
を作成した。

このようにして得られた液晶表示パネルは、無印加状態
では中性色の色相であるが、ｌＯポルトの電荷を印加す
ると表示部分は濃い灰青色になり、その表示コントラス
ト比は６：１と良好であり、また視角依存性も改良され
ていた。

実施例６ 〈光学的位相差素膜フィルム（Ａ）） ポリアミノ酸樹脂（味の素株式会社製：商品名「アジコ
ー１−Ｊ）１０部を、ジクロルエタン／パークレンの７
二３（重量比）混合溶剤９０部に溶解し、これを厚さ１
００ル鵬の二軸延伸ポリエステルフィルム上に流延製膜
して、厚さ４７１Ｌ■、レターデーシゴン値１１０ル鵬
、可視光線透過率９２％の光学的位相差素膜フィルム（
Ａ）を作成した。

く光等方性非晶質フィルム（Ｂ）〉 アクリロニトリル９５部とアクリル酸メチル５部との共
重合体であるアクリロニトリル−アクリル酸メチル共重
合体１０部をジメチルホルムアミド９０部に溶解した溶
液を、厚さ１００　）ｔ、ｔａの二軸延伸ポリエステル
フィルム上に流延製膜して、厚さ９Ｊｊ、１１の耐透気
性合成樹脂フィルム（Ｂ−１）を形成し、さらにその上
にポリパラバン酸樹脂をジメチルホルムアミド／Ｎ−メ
チルピロリドン（５０１５０）の混合溶剤に２０％濃度
となるように溶解し、流延製膜して、厚さ２１１ｔ、ｔ
ａのポリパラバン酸樹脂フィルム層（Ｂ−３）を形成さ
せた。

乾燥後、前記二輪延伸ポリエステルフィルムから剥離し
て、（Ｂ−１）／（Ｂ−３）の層構成を有する光等方性
非晶質フィルムを作成した。

〈光学的位相差基板〉 上記の光学的位相差素膜フィルム（Ａ）の両面に、前述
の光等方性非晶質フィルムを実施例５のウレタン系接着
剤を用いて接着積層し、　（Ｂ−３）／（Ｂ−１）／（
Ａ）／（Ｂ−１）／（Ｂ−３）型の構成を有する厚さ１
１７ｐｍの光学的位相差基板を作成した。

〈光学的等方性基板） 実施例５と同じ光学的等方性基板を用いた。

〈液晶セル（１）の作成） 実施例１と同様にして液晶セルを作成した。

（液晶表示パネル〉 得られた液晶セルの両面に、可視光線透過率４２％、偏
光度８６％のヨウ素系偏光板（２）、　（２）を、それ
ぞれ光軸を直交させて重ね合せ、目的とする液晶表示パ
ネルを作成した。

このようにして得られた液晶表示パネルは、無印加状態
では中性色の色相であるが、５ポルトの電荷を印加する
と表示部分は濃い灰青色になり、その表示コントラスト
比は７：１と良好であり、また視角依存性も改良されて
いた。

発明の詳細 な説明したように、本発明の液晶表示パネルにあっては
、軽量化、薄膜化、耐破損性を確保しながらも、懸案で
ある色調の中性色化によるコントラストの改良および視
角依存性の改良が図られる。

また本発明にあっては、光学的位相差基板自体が液晶セ
ルの透明電極支持用基板を兼ねるので、位相板を液晶セ
ルに別個付加する液晶表示パネルと比較すると１位相板
を粘着剤で液晶パネルに貼着する煩雑な工程が省略でき
る上、位相板を粘着剤で液晶パネルに貼着したときの粘
着剤層の温度変化や経時変化に基く「ずり現象」や「ト
ンネル現象（ボイドの発生）」が生じなくなる点でも有
利である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の液晶表示パネルの一例を示した断面
図である。 （１）・・・液晶セル、（２）・・・偏光板、（３）・
・・一方の透明電極支持用基板、（４）・・・他方の透
明電極支持用基板

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、液晶セル（１）の両側に偏光板（２）、（２）を配
   置した液晶表示パネルにおいて、前記液晶セル（１）を
   構成する一方の透明電極支持用基板（３）が、配向され
   た合成樹脂フィルムからなる光学的位相差素膜フィルム
   （Ａ）またはその少なくとも片面に光等方性非晶質フィ
   ルム（Ｂ）が積層された積層フィルムからなる光学的位
   相差基板よりなり、かつ前記液晶セル（１）の他方の透
   明電極支持用基板（４）が、単層または複層の光等方性
   非晶質フィルム（Ｂ）からなる光学的等方性基板よりな
   ることを特徴とする光学的位相機能を有する基板からな
   る液晶表示パネル。 ２、一方の透明電極支持用基板（３）である光学的位相
   差機能基板のレターデーション値が６０ｎｍ以上である
   特許請求の範囲第１項記載の液晶表示パネル。 ３、他方の透明電極支持用基板（４）である光学的等方
   性基板のレターデーション値が５０ｎｍ以下である特許
   請求の範囲第１項記載の液晶表示パネル。 ４、液晶セル（１）に封入する液晶が、ＳＴＮ（スーパ
   ーツイステド・ネマティック）液晶である特許請求の範
   囲第１項記載の液晶表示パネル。