JP2662049B2 - 光学式ディスク基板及び光学式情報記録媒体 - Google Patents
光学式ディスク基板及び光学式情報記録媒体Info
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- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
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- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
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- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
光学式ディスク基板、及び該ディスク基板を用いた光学
式情報記録媒体に関する。
モリ,または光磁気ディスク等のレーザ光を利用して情
報の再生,追記書換えを行なう光学式情報記録媒体に用
いられる光学式ディスク基板には、成形性,強度,光線
透過率及び耐湿性等の点で優れているポリカーボネート
樹脂が多く用いられている。
ーボネート樹脂製の基板も、高温,高湿下において白点
を発生するという欠点がある。
光学式情報記録媒体に要求される特性の一つとして、長
期間(十年以上)にわたって高い信頼性を維持できるよ
うにすることが必要である。ところが、上述したように
ポリカーボネート樹脂は高温,高湿下において、成形品
に白点を発生させるためビットエラー率(BER)の増加
をもたらし、光学式情報記録媒体の使用寿命を縮める大
きな原因となっていた。
法が種々研究されており、次のようなディスク基板用の
ポリカーボネート樹脂あるいはその製造方法が提案され
ている。
繰り返し単位数nが1〜3の低分子量体を0.2重量%以
下、未反応ビスフェノールを10ppm以下としたポリカー
ボネート樹脂成形材料が、また、特開昭64−56729号
においては、低分子量成分4〜8重量%、未反応ビスフ
ェノール類70〜150ppm、及び塩化メチレン50〜150ppmを
含有する粉末状ポリカーボネートを40℃以上でケトン類
を用いて抽出処理する方法が、さらに、特開昭63−31
6313号においては、低分子量成分3重量%以下、未反応
ビスフェノール類20ppm以下、及び塩化メチレン20ppm以
下としたポリカーボネート樹脂がそれぞれ提案されてい
る。
料を得るためには、ポリカーボネートの塩化メチレン溶
液をノルマルヘキサン等の非溶媒を用いて沈殿化させる
必要があるが、ポリカボネートの分子量が15,000程度の
ものでは、微粉化して取扱いあるいは成形が困難となる
という問題がある。
ト樹脂製造方法及び特開昭63−316313号におけるポリ
カーボネート樹脂では、純度の向上が必ずしも十分では
ない。
ネート樹脂の最終用途、製品である光学式ディスク基板
の高温,高湿下における白点発生について、何等認識さ
れておらず、光学式ディスク基板として実用上要求され
る特性について何等の提案もなかった。
り、白点の発生を最小限に抑制し得る、信頼性の高い光
学式ディスク基板及び光学式情報記録媒体の提供を目的
とする。
重ねてきた結果、ポリカーボネート樹脂を用いた光学式
ディスク基板に発生する白点の原因が、樹脂中に含まれ
る末端水酸基とナトリウムとの相互作用によるものであ
ることを見い出した。
ート樹脂中における末端水酸基の量と残留微量ナトリウ
ムの量とを、それぞれある基準値以下にすると、基板に
発生する白点を最小限に抑制できることを知見し、本発
明に至った。
の末端水酸基の含有量が、重合体鎖の繰り返し単位当り
0.3モル%以下であり、かつ残留ナトリウム量が1ppm以
下であるポリカーボネート樹脂で構成されてなることを
特徴とする光学式ディスク基板が提供される。
12,000〜20,000であることを特徴とする光学式ディスク
基板が提供される。
録層が形成されてなることを特徴とする光学式情報記録
媒体が提供される。
カーボネート樹脂としては、粘度平均分子量が12,000〜
20,000のものが好ましく、たとえば二価フェノール類
と、ホスゲンまたはジフェニルカーボネートのような炭
酸エステルとの反応により製造することができる。
−ジヒドロキシフェニル、ビス(ヒドロキシフェニル)
アルカン、ビス(ヒドロキシフェニル)シクロアルカ
ン、ビス(ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(ヒド
ロキシフェニル)ケトン、ビス(ヒドロキシフェニル)
スルフィド、ビス(ヒドロキシフェニル)スルホン、及
びこれらの低級アルキル、ハロゲン等の置換体をあげる
ことができるが、2,2′−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン(以下、ビスフェノールAという)1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−ヘキサフルオロプロパン
等を使用することが好ましい。
て使用することもできる。
は、一部分枝構造を有するものであってもよい。粘度平
均分子量はポリカーボネートの製造時に、p−ターシャ
リーブチルフェノール、パラクミルフェノールのような
末端停止剤の添加により制御することができる。
用に耐えられなくなり、20,000を越えると成形性,光学
的特性の点で十分な性能を得られなくなる。
の比粘度ηspを測定し、式 ηsp/C=[η](1+0.28ηsp) C=ポリカーボネート樹脂濃度g/1 および [η]=1.23×10-5Mv0.83 によって測定できる。
公知の方法により製造した後、溶液状態において酸洗,
アルカリ洗,水洗を繰返したり、酸,アルカリの濃度を
変更したり、濾過処理をしたり、あるいは粒状の原料
を、例えば加熱条件下でアセトンなどの貧溶媒で洗浄し
たりして低分子量成分,未反応成分、金属成分などの不
純物や異物を除去することが好ましい。
の組合せによって異物,不純物,溶媒などの含有量を極
力低くしておくとともに、重縮合条件をも含めて、末端
水酸基の量を低く制御することが必要である。
の添加剤を加えることも可能である。
式ディスク基板を製造する場合、原料の異物強度(有機
溶媒溶液中における異物の粒径と個数の積算値)は、通
常30,000μm2/g以下、好ましくは15,000μm2/g以下のも
のを用いる。また、射出成形時における樹脂温度は300
〜400℃とし、金型温度は通常50〜140℃、好ましくは80
〜130℃とする。さらに、この射出成形時における金属
成分の混入が少なくなるような材質の選定等を行なうこ
とが好ましい。
移温度以上に加熱し、樹脂射出後にディスク基板取出可
能温度まで冷却するようにしてもよい。このようにする
と、より光学的特性にすぐれた基板を得ることができ
る。
るポリカーボネート樹脂中の末端水酸基の量は、重合鎖
の繰り返し単位当り0.3モル%以下に、またナトリウム
の量は1ppm以下とする必要がある。
ウムの量がそれぞれ上記の量を越えると、光学式ディス
ク基板に発生する白点が急激に増加することが判明し
た。
0、好ましくは炭素数16〜24の脂肪酸モノグリセリドを
0.002〜0.5重合%、好ましく0.005〜0.1重量%含有させ
ると、その理由は明らかではないが白点の発生がさらに
抑制されることも判明した。
モノグリセリドで、ステアリン酸モノグリセリド,ベヘ
ン酸モノグリセリドなどや、これらの混合物を例示でき
る。
0.3モル%以下に、またナトリウムの量を1ppm以下とす
るには、重縮合,重縮合後のポリカーボネート樹脂の塩
化メチレン溶液のアルカリ洗,酸洗,高純度の水による
水洗及び/または粒状ポリマーにした後の貧溶媒(アセ
トン)による洗浄等の有効な除去方法を組み合わせるこ
とによって行なう。
での十分な洗浄によつて得られた溶液により、例えば特
開平1−74231号記載の方法により温水中で粒状体を
得、この粒状体を塩化メチレンとアセトンなどからなる
混合溶液で洗浄する方法を採用できる。この方法によれ
ば分子量が低くても、1mm程度の粒状体が得られ、取扱
いや、溶融成形が容易にできる。
録媒体の一具体例を第1図にもとづいて説明する。
光学式ディスク基板である。2は情報記録層であり、F
e,Co等の遷移金属とTb,Nd,Nd,Dy等の希土類を組み合わ
せてなる材料が蒸着,スパッタリング等により形成され
ている。3は記録層2を保護するための保護層であり、
シリコン形成セラミックス等を用いている。4はオーバ
ーコート層または接着層であり、紫外線硬化樹脂等を用
いている。
形成した光学式情報記録媒体は、主に追記型,書換え型
として用いる。
〜3の光学式ディスク基板を比較する。
ポリカーボネート樹脂を得た。
水洗条件を種々変更した。
溶媒であるアセトンとの混合溶液で下記条件により粒状
ポリカーボネートを抽出処理した。
ne11の粘度式 [η]=1.23×10-5Mv0.83 ここでηは、固有粘度 (3)末端水酸基 測定法:1H−NMR ここでnは、 (4)残留ナトリウム量 測定法:原子吸光法 ○ 射出成形 上記原料のうち、末端水酸基量、残留ナトリウム量の
異なる原料を成形(成形温度:340℃,金型温度:120℃)
し、光ディスク基板を得た。
て50μm以上の白点の数を測定した。これを10枚の光学
式ディスク基板について行ない、その平均値を求めた。
以下の結果をまとめて表1に示す。
合には、従来のものに比べて白点の発生が大幅に減少し
ていることが判明した。
スク基板より、それぞれ実施例1〜4と、比較例1〜3
の光学式情報記録媒体を得て比較した。
造のものを用いた。
変化を第3図のグラフに示す。
いた光学式情報記録媒体のビットエラー率の変化の少な
いことが判明した。
ば、白点の発生を十分抑制することができる。
湿下でのビットエラー率の悪化を抑制でき、長期間の使
用に際して信頼性の向上を図ることができる。
第2図は実施例と比較例における光学式情報記録媒体の
構成図、第3図は第2図の光学式情報記録媒体を用いて
行なったビットエラー率の変化を示す図。 1:基板 2:情報記録層 3:保護層 4:オーバーコート層
Claims (3)
- 【請求項1】ポリカーボネート樹脂中の末端水酸基の含
有量が、重合体鎖の繰り返し単位当り0.3モル%以下で
あり、かつ残留ナトリウム量が1ppm以下であるポリカー
ボネート樹脂で構成されてなることを特徴とする光学式
ディスク基板。 - 【請求項2】前記ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子
量が12,000〜20,000であることを特徴とする請求項1記
載の光学式ディスク基板。 - 【請求項3】請求項1または2記載の光学式ディスク基
板の表面に、光学的記録層が形成されてなることを特徴
とする光学式情報記録媒体。
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