JP2000226506A - 安定性に優れたポリカーボネート組成物及び該組成物の成形品 - Google Patents
安定性に優れたポリカーボネート組成物及び該組成物の成形品Info
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Abstract
時に成形加工時の、耐熱安定性向上、色相安定性透明
性、色相安定性を要求される用途に好適な成形性、環境
安定性の良好な芳香族ポリカーボネート樹脂を提供する
ことである。 【解決手段】 溶融粘度安定性0.5%以下、且つ末端
OH基量100eq/ton以下の芳香族ポリカーボネ
ート100重量部と、次式(A)で表わされるラクトン
系安定剤; (式中R5,R6は水素原子及び/又は、炭素数1〜10
のアルキル基を表し、ARは置換基を有していてもよい
炭素数6〜20の芳香族基を表わす。) 0.0001〜5重量部とからなる芳香族ポリカーボネ
ート樹脂組成物。
Description
有する安定性に優れたポリカーボネート樹脂組成物およ
びその製造方法に関する。さらに詳しくはレンズ、プリ
ズム、光ディスク、シート、フィルムなどの透明性、色
相安定性を要求される用途に好適な成形性、環境安定性
の良好な前記芳香族ポリカーボネート樹脂組成物ならび
に該組成物の射出成形品に関する。
物は、光学特性、電気特性、寸法安定性に優れ、しかも
自己消火性を有し、且つ耐衝撃性、破断強度などの機械
的特性に優れ、しかも耐熱性、透明性などにも優れた性
質を持っており、このため広範な用途に、大量に使用さ
れている。とりわけその透明性を生かし、レンズ、プリ
ズム、光ディスク、シート、フィルム等に大量に使用さ
れている。
品及び該成形品の素材樹脂ならびに樹脂組成物に於いて
は、異物を含まないこと及び優れた透明性、色相が要求
され、さらに樹脂ならびに樹脂組成物に於いては成形時
の滞留安定性が要求される。
ート樹脂に耐熱安定剤などの各種添加剤を添加して、透
明性、及び色相安定性を高める提案が従来より多数なさ
れている。これら添加剤が、それぞれ一応の効果を有す
ることは従来良く知られた事実である。しかしながら、
かかる添加剤は透明性、及び色相安定性を高める効果は
ある程度有するが、副反応、分解反応を抑制し、副生物
に起因する異物の生成を低い水準に押さえる効果は十分
ではない。
ト結合は、とりわけアルカリ金属化合物触媒を特定量以
上含有する樹脂においては、溶融重合時あるいは成形加
工時に、負荷される240℃〜340℃あるいは380
℃の温度条件下、自発的にあるいは、成形加工機、重合
装置の金属表面、特に重合触媒としてポリマー中に導入
される金属化合物に触媒され、分解反応を起こし、ポリ
カーボネート樹脂中ゲル状異物を生成する。該ゲル状異
物は、溶媒、例えば塩化メチレン等に不溶であることは
よく知られている。
クなどの光学用途において重大な問題を引き起こすこと
は当該業者にとって容易に理解されることであり、かか
るゲル状異物を含有しない、優れた光学用樹脂を開発す
ることが長く待望されてきた。
湿熱耐久性に対し末端水酸基が悪影響を及ぼすことは例
えば特開昭61−87724号公報、特開昭61−87
725号公報に指摘されている通りである。
末端水酸基数が本質的に多く存在する溶融重合法、ある
いは固相重合法においては、とりわけ熱意を持ってポリ
カーボネート樹脂末端のOH基を減少せしめる方法が各
種提案されているがOH末端基の減少には限界がある事
も又よく知られている。
解、および副生物の生成を押さえうると同時に成形加工
時の、耐熱安定性、色相安定性に優れたポリカーボネー
ト樹脂を得ることである。
は、特定溶融粘度安定性を有するポリカーボネートに、
特定構造を有するラクトン系化合物を添加する事によ
り、とりわけ末端OH基濃度を極端に減少させなくて
も、ポリカーボネート樹脂の分解、および副生物の生成
を押さえうると同時に成形加工時の、耐熱安定性向上、
色相安定性を達成しうる事を発見し本発明に到達した。
化合物とカーボネート結合形成性化合物とを反応して成
る、主たる繰り返し単位が次式(1)
素原子、炭素数1〜10のアルキル基、アラルキル基又
はアリール基であり、Wは炭素数1〜10のアルキリデ
ン基、アルキレン基、シクロアルキリデン基、シクロア
ルキレン基、アリール基置換アルキレン基、酸素原子、
硫黄原子、スルホキシド基、またはスルホン基であ
る。)で表わされる粘度平均分子量13,000〜10
0,000、溶融粘度安定性0.5%以下、且つ末端O
H基濃度100eq/ton以下の芳香族ポリカーボネ
ート100重量部に、次式(A)
数1〜10のアルキル基を表し、ARは置換基を有して
いてもよい炭素数6〜20の芳香族基を表わす。)で表
わされるラクトン系安定剤を0.0001〜5重量部存
在せしめることにより、芳香族ポリカーボネート樹脂の
分解、および副生するゲル状異物の生成を抑制すると同
時に成形加工時の色相安定性、耐熱安定性、透明性悪化
を良化させるものである。
おいて、末端水酸基濃度を少なくとも100eq/to
n以下にすることにより安定性に優れたポリカーボネー
ト樹脂を提供することができるが、末端水酸基濃度は、
好ましくは80eq/ton以下、さらに好ましくは3
〜60eq/ton、特に好ましくは5〜50eq/t
onにより、さらに安定性に優れたポリカーボネート樹
脂を提供することができる。
分解反応に対し不安定であるが、ポリカーボネート樹脂
の溶融安定性を0.5%以下にしておくことが本発明の
目的を達成するために必須である。更に好ましくは0.
3%以下、更に好ましくは0.1%以下、特に好ましく
は0%である。
香族ポリカーボネート樹脂が溶融重合法により製造され
たものであり、該芳香族ポリカーボネート溶融重合時に
使用される触媒系が塩基性エステル交換触媒であり、且
つ該塩基性エステル交換触媒が塩基性窒素化合物及び又
は塩基性リン化合物を含有し、さらにアルカリ金属化合
物をアルカリ金属元素として芳香族ジヒドロキシ化合物
1モル当たり1*10-8〜5*10-6当量含有すること
を特徴とし、芳香族ポリカーボネート樹脂の分解により
副生するゲル状異物の生成を抑制すると同時に成形加工
時の安定性、透明性悪化を良化させるものである。
カリ金属元素を含有する触媒系が使用されるが、アルカ
リ金属化合物は、前述したごとくカーボネート結合を分
解する能力も又有するため、重合反応速度の触媒能をで
きうる限り保持しつつ、その使用量を押さえることが好
ましい。本目的を達成するためには塩基性エステル交換
触媒中、塩基性窒素化合物及び又は塩基性リン化合物を
併用し、アルカリ金属元素量を芳香族ジヒドロキシ化合
物1モル当たり1*10-8〜5*10-6当量の範囲に保
つことが必要である。
ネートの分解副反応を押さえつつ、実用的な重合速度を
高い状態に保つため、本触媒系においては塩基性窒素化
合物及び又は塩基性リン化合物が触媒として好ましく併
用される。
(A)式で表わされるラクトン系安定剤を含有せしめる
事により、熱負荷時のポリカーボネート樹脂の分解及び
ゲル状異物の生成を抑制し、さらに成形加工時の、滞留
安定性を高い水準に保ち、色相安定性、透明性悪化を押
さえることができるという予期せぬ効果も見出した。こ
のため成形加工時の金型汚れを著しく低減させうる効果
をもあわせて発現する。
式で表わされるラクトン系安定剤をポリカーボネート樹
脂中に添加する方法は、従来公知の各種方法を使用し
て、好適に実施しうる。具体的には本発明の安定剤によ
り、いかなる効果を主として期待するかにより樹脂中へ
の添加時期、添加量が自ずと決定される。
ト製造時、重合装置内部における分解反応、ゲル状物生
成反応を抑制するためには、原料の芳香族ジヒドロキシ
化合物、及び又は以下記述する炭酸ジエステルと、とも
に重合装置中に添加することは、好ましい実施態様とい
える。この際、該安定剤を一度に添加することもできる
し反応の途中で、何回かに分割して添加することも好ま
しく実施可能である。
態に保つため、本方法を採用した場合、本安定剤(A)
が比較的蒸発しやすいため一度に大量の剤を添加しても
その効果は限定されたものとなるため好ましくは、何回
かに分割添加する方法が採用される。あるいは又重合反
応終了時以降の段階に置ける、各種処理の段階におい
て、各種添加剤とともに添加することも可能である。特
に成形加工時における、熱負荷による分解、副生物生成
を抑制するためには、成形加工時の直前、あるいは加工
中に添加するのも好ましい方法の一つとして例示され
る。
剤は下記一般式(A)で表わされる。
0のアルキル基を、ARは置換基を有していてもよい炭
素数6〜20の芳香族基を表わす)
ーボネート樹脂100重量部当たり0.0001〜5重
量部、好ましくは0.0005〜3重量部、さらに好ま
しくは0.001から1重量部、特に好ましくは0.0
01〜0.5重量部の範囲が挙げられる。
H基濃度と以下の(I)で表される関係を保つように使
用すると、単に樹脂当たりいくらとして添加されるよ
り、その効果が大きく好ましい。
剤としては具体的には以下のごとき化合物が例示され
る。
して使用しうる。
は、芳香族ジヒドロキシ化合物とカーボネート結合形成
性化合物との反応生成物であり、主たる繰り返し単位が
次式(1)
素原子、炭素数1〜10のアルキル基、アラルキル基又
はアリール基であり、Wは炭素数1〜10のアルキリデ
ン基、アルキレン基、シクロアルキリデン基、シクロア
ルキレン基、アリール基置換アルキレン基、酸素原子、
硫黄原子、スルホキシド基、またはスルホン基であ
る。)で表わされるものであり、界面重合法等のホスゲ
ン法あるいは溶融重合法、固相重合法のいずれの方法で
も製造可能である。
下記一般式(2)に示される化合物が好ましく用いられ
る。
素原子、炭素数1〜10のアルキル基、アラルキル基又
はアリール基であり、Wは炭素数1〜10のアルキリデ
ン基、アルキレン基、シクロアルキリデン基、シクロア
ルキレン基、フェニル基置換アルキレン基、酸素原子、
硫黄原子、スルホキシド基、またはスルホン基であ
る。)
(2)としては具体的には、ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)メタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチ
ルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)ヘプタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−
3,5−ジクロロフェニル)プロパン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)プロパ
ン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、
4,4−ジヒドロキシフェニル−1,1−m−ジイソプ
ロピルベンゼン、4,4−ジヒドロキシフェニルー9,
9−フルオレン、などのビス(4−ヒドロキシアリー
ル)アルカン類、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)シクロヘキサン、1−メチル−1−(4−ヒド
ロキシフェニル)−4−(ジメチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)メチル−シクロヘキサン、4−[1−〔3−
(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチルシクロヘキシ
ル〕−1−ネチルエチル]−フェノール、4,4−〔1
−メチル−4−(1−メチルエチル)−1,3−シクロ
ヘキサンジイル〕ビスフェノール、2,2,2,2−テ
トラヒドロ−3,3,3’,3’−テトラメチル−1、
1−スピロビス−〔1H−インデン〕−6,6’−ジオ
ールなどのビス(ヒドロキシアリール)シクロアルカン
類、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス
(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)エーテ
ル、4,4’−ジヒドロキシ−3,3−ジメチルフェニ
ルエーテルなどのジヒドロキシアリールエーテル類、
4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,
4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジメチルジフェニルス
ルフィド、などのジヒドロキシジアリールスルフィド
類、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、
4,4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジメチルジフェニ
ルスルホキシドなどのジヒドロキシジアリールスルスル
ホキシド類、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ン、4,4−ジヒドロキシ−3,3−ジメチルジフェニ
ルスルホン、などのジヒドロキシジアリールスルホン
類、4,4’−ジヒドロキシジフェニル−3,3’−イ
サチンなどのジヒドロキシジアリールイサチン類、3,
6−ジヒドロキシ−9,9−ジメチルキサンテン、など
のジヒドロキシジアリールキサンテン類、レゾルシン、
3−メチルレソルシン、3−エチルレゾルシン、3−ブ
チルレゾルシン、3−t−ブチルレゾルシン、3−フェ
ニルレゾルシン、3−クミルレゾルシンヒドロキノン、
2−メチルヒドロキノン、2−エチルヒドロキノン、2
−ブチルヒドロキノン、2−t−ブチルヒドロキノン、
2−フェニルヒドロキノン、2−クミルヒドロキノン、
などのジヒドロキシベンゼン類、4,4’−ジヒドロキ
シジフェニル、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジヒド
ロキシジフェニル等ジヒドロキシジフェニル類が挙げら
れる。
ニル)プロパンがモノマーとしての安定性、更にはそれ
に含まれる不純物の量が少ないものの入手が容易である
点等より好ましいものとしてあげられる。
ガラス転移温度の制御、あるいは流動性の向上、あるい
は、屈折率のアップ、あるいは複屈折の低減等、光学的
性質の制御等を目的として各種モノマーを必要に応じ
て、一種あるいは2種以上を含有させることも可能なこ
とは言うまでもない。
ジヒドロキシ化合物類例えばエチレングリコール、1,
4−ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノ
ール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、
1,10−デカンジオール、ジエチレングリコール、テ
トラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポ
リテトラメチレングリコール等、あるいはジカルボン酸
類、たとえばコハク酸、イソフタル酸、2,6−ナフタ
レンジカウボン酸、アジピン酸、シクロヘキサンジカル
ボン酸、テレフタル酸、あるいはオキシ酸類例えば、p
−ヒドロキシ安息香酸、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ
酸、乳酸等が挙げられる。
合物としては、ホスゲンなどのハロゲン化カルボニル、
ハロホーメート化合物があげられる。かかるカーボネー
ト結合形成性化合物と上記(2)式で示される芳香族ジ
ヒドロキシ化合物、さらに所望により各種の末端封止剤
を加えて公知の方法で反応せしめることにより上記
(1)式であらわされる繰り返し単位構造を有するポリ
カーボネート樹脂を製造することができる。
性化合物としては芳香族炭酸エステルが、具体的にはジ
フェニルカーボネート、ジトリルカーボネート、ビス
(2−クロロフェニル)カーボネート、m−クレシルカ
ーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス(4−フェ
ニルフェニル)カーボネート等が挙げられる。其の他、
ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチ
ルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート等も所
望により使用できることは当然である。
応性、得られる樹脂の着色に対する安定性、更にはコス
トの点よりも好ましいものとしてあげられる。
記(2)式で示される芳香族ジヒドロキシ化合物とを、
公知の方法で反応せしめることにより上記(1)式であ
らわされる繰り返し単位構造を有するポリカーボネート
樹脂を製造することができる。
溶融重合法で製造される分子量の小さなポリカーボネー
トオリゴマーを結晶化させ、高温、(所望により減圧)
下、固体状態で重合を進める事により、上記(1)式で
示される繰り返し単位構造を有するポリカーボネート樹
脂とすることができる。
方法において、ホスゲン、または炭酸ジエステルととも
にジカルボン酸、ジカルボン酸ハライド、ジカルボン
酸、エステル等のジカルボン酸誘導体を使用することに
よりポリエステルカーボネートを製造できる。
誘導体としてはテレフタル酸、イソフタル酸、テレフタ
ル酸クロリド、イソフタル酸クロリド、テレフタル酸ジ
フェニル、イソフタル酸ジフェニルなどの芳香族ジカル
ボン酸類、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリ
ン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカン二酸、ドデカ
ンニ酸、アジピン酸クロリド、スベリン酸クロリド、ア
ゼライン酸クロリド、セバシン酸クロリド、アゼライン
酸ジフェニル、セバシン酸ジフェニル、デカン二酸ジフ
ェニル、ドデカンニ酸ジフェニルなどの脂肪族ジカルボ
ン酸類、シクロプロパンジカルボン酸、1,2−シクロ
ブタンジカルボン酸、1,3−シクロブタンジカルボン
酸、1,2−シクロペンタンジカルボン酸、1,3−シ
クロペンタンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジ
カルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、
1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、シクロプロパン
ジカルボン酸クロリド、1,2−シクロブタンジカルボ
ン酸クロリド、1,3−シクロブタンジカルボン酸クロ
リド、1,2−シクロペンタンジカルボン酸クロリド、
1,3−シクロペンタンジカルボン酸クロリド、1,2
−シクロヘキサンジカルボン酸クロリド、1,3−シク
ロヘキサンジカルボン酸クロリド、1,4−シクロヘキ
サンジカルボン酸クロリド、シクロプロパンジカルボン
酸ジフェニル、1,2−シクロブタンジカルボン酸ジフ
ェニル、1,3−シクロブタンジカルボン酸ジフェニ
ル、1,2−シクロペンタンジカルボン酸ジフェニル、
1,3−シクロペンタンジカルボン酸ジフェニル、1,
2−シクロヘキサンジカルボン酸ジフェニル、1,3−
シクロヘキサンジカルボン酸ジフェニル、1,4−シク
ロヘキサンジカルボン酸ジフェニルなどの脂環式ジカル
ボン酸類をあげることができる。
返し単位構造を有するポリカーボネートを製造すると
き、上記のジヒドロキシ化合物とともに、一分子中に3
個以上の官能基を有する多官能化合物を併用することも
できる。このような多官能化合物としてはフェノール性
水酸基、カルボキシル基を有する化合物が好ましく使用
される。
(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2’,2−ト
リス(4−ヒドロキシフェニル)ジイソプロピルベンゼ
ン、α−メチル−α,α’,α−トリス(4−ヒドロキ
シフェニル)−1,4−ジエチルベンゼン、α,α’,
α−トリス(4−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−
トリイソプロピルベンゼン、フロログリシン、4,6ジ
メチルー2,4,6−トリス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−ヘプタン−2,1,3,5−トリス(4−ヒドロ
キシフェニル)ベンベン、2,2−ビス〔4,4−
(4,4−ジヒドロキシフェニル)−シクロヘキシル〕
−プロパン、トリメリット酸、1,3,5−ベンゼント
リカルボン酸、ピロメリット酸などがあげられる。
ドロキシフェニル)エタン、α,α’,α−トリス(4
−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリイソプロピ
ルベンゼンなどが好ましく使用できる。
リカーボネートの溶融粘度をあげる目的では、多官能化
合物は、芳香族ジヒドロキシ化合物に1モルに対して
0.03モル以下、好ましくは0.00005〜0.0
2モル、さらに好ましくは0.0001〜0.01モル
の範囲で選択される。
る方法において、前述したホスゲン法では、触媒として
3級アミン、4級アンモニウム塩、3級ホスフィン、4
級ホスホニウム塩、含窒素複素環化合物及びその塩、イ
ミノエーテルおよびその塩、アミド基を有する化合物な
どが使用される。
どのハロゲン化水素の捕捉剤として多量のアルカリ金属
化合物あるいはアルカリ土類金属化合物が使用されるの
で、製造後のポリマー中に、こうした不純物が残留しな
いように十分な洗浄、精製をする事が好ましい。
は、アルカリ金属化合物を含有する触媒系が好ましく使
用されるが、アルカリ金属としてのその使用量を芳香族
ジヒドロキシ化合物1モルに対し1*10-8から5*1
0-6当量に押さえておく事が重要である。
ルカリ金属元素量をかかる量範囲において使用すること
によりポリカーボネートの製造を効率的に生産性よく実
施しうるとともに得られたポリカーボネートの物性も本
発明の目的を達成するために好ましいものとなる。
属化合物としては、たとえばアルカリ金属の水酸化物、
炭化水素化合物、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、
亜硫酸塩、シアン酸塩チオシアン酸塩、ステアリン酸
塩、水素化硼素塩、安息香酸塩燐酸水素化物、ビスフェ
ノール、フェノールの塩等が挙げられる。
カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウム、酢酸ナトリ
ウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、硝酸ナトリウム、
硝酸カリウム、硝酸ルビジウム、硝酸リチウム、亜硝酸
ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸ルビジウム、亜硝
酸リチウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫
酸リチウム、シアン酸ナトリウム、シアン酸カリウム、
シアン酸リチウム、チオシアン酸ナトリウム、チオシア
ン酸カリウム、チオシアン酸リチウム、チオシアン酸セ
シウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウ
ム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸セシウム、水
素化ホウソナトリウム、水素化ホウソカリウム、水素化
ホウソリチウム、フェニル化硼素ナトリウム、安息香酸
ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リ
ン酸水素ジナトリウム、リン酸水素ジカリウム、リン酸
水素ジリチウム、ビスフェノールAのジナトリウム塩、
ジカリウム塩、ジリチウム塩、モノナトリウム塩、モノ
カリウム塩、ナトリウムカリウム塩、ナトリウムリチウ
ム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、リチウ
ム塩などが挙げられる。
は、芳香族ジヒドロキシ化合物1モルに対し、アルカリ
金属元素として1*10-8〜5*10-6当量の範囲で使
用される。上記範囲を逸脱すると、得られるポリカーボ
ネートの諸物性に悪影響及ぼしたり、またエステル交換
反応が十分に進行せず、高分子量のポリカーオネートが
得られない等の問題があり、好ましくない。
又は含りん塩基性化合物を併用するのが好ましい。
としてはたとえばテトラメチルアンモニウムヒドロキシ
ド(Me4NOH)、テトラエチルアンモニウムヒドロ
キシド(Et4NOH)、テトラブチルアンモニウムヒ
ドロキシド(Bu4NOH)、ベンジルトリメチルアン
モニウムヒドロキシド(φ−CH2(Me)3NOH)、
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムヒドロキシドなど
のアルキル、アリール、アルキルアリール基などを有す
るアンモニウムヒドロキシド類、テトラメチルアンモニ
ウムアセテート、テトラエチルアンモニウムフェノキシ
ド、テトラブチルアンモニウム炭酸塩、ベンジルトリメ
チルアンモニウム安息香酸塩ヘキサデシルトリメチルア
ンモニウムエトキシドなどのアルキル、アリール、アル
キルアリール基などを有する塩基性アンモニウム塩、ト
リエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルベンジル
アミン、ヘキサデシルジメチルアミンなどの第三級アミ
ン、あるいはテトラメチルアンモニウムボロハイドライ
ド(Me4NBH4)、テトラブチルアンモニウムボロハ
イドライド(Bu4NBH4)、テトラブチルアンモニウ
ムテトラフェニルボレート(Bu4NBPh4)、テトラ
メチルアンモニウムトラフェニルボレート(Me4NB
Ph4)などの塩基性塩などを挙げることができる。
たとえばテトラメチルホスホニウムヒドロキシド(Me
4POH)、テトラエチルホスホニウムヒドロキシド
(Et4POH)、テトラブチルホスホニウムヒドロキ
シド(Bu4POH)、ベンジルトリメチルホスホニウ
ムヒドロキシド(φ−CH2(Me)3POH)、ヘキサ
デシルトリメチルホスホニウムヒドロキシドなどのアル
キル、アリール、アルキルアリール基などを有するホス
ホニウムヒドロキシド類、あるいはテトラメチルホスホ
ニウムボロハイドライド(Me4PBH4)、テtラブチ
ルホスホニウムボロハイドライド(Bu4PBH4)、テ
トラブチルホスホニウムテトラフェニルボレート(Bu
4PBPh4)、テトラメチルホスホニウムトラフェニル
ボレート(Me4PBPh4)などの塩基性塩などを挙げ
ることができる。
塩基性化合物は、塩基性窒素原子あるいは塩基性リン原
子が芳香族ジヒドロキシ化合物、1モルに対し、1*1
0-5〜5*10-4当量となる割合で用いるのが好まし
い。
*10-5〜5*10-4当量となる割合である。特に好ま
しい割合は同じ基準に対し5*10-5〜4*10-4当量
となる割合である。
使用するアルカリ金属化合物として、(ア)周期律表第
14族元素のアート錯体アルカリ金属塩又は(イ)周期
律表第14族元素のオキソ酸のアルカリ金属塩を用いる
ことができる。ここで周期律表第14族の元素とは、ケ
イ素、ゲルマニウム、スズのことをいう。かかるアルカ
リ金属化合物を重縮合反応の触媒として用いることによ
り、重縮合反応を迅速にかつ十分に進めることができる
利点を有する。
な好ましくない副反応を低いレベルに押さえることがで
きる。
しょに、必要により周期律表第14属元素のオキソ酸、
酸化物および同元素のアルコキシド、フェノキシドより
成る群から選ばれるすくなくとも、一種の化合物を助触
媒として共存させることができる。
により末端の封鎖反応、重縮合反応速度を損なうことな
く重縮合反応中に生成しやすい分岐反応、主鎖開裂反応
や、成形加工時における装置内での異物の生成、焼けと
いった好ましくない現象を効果的に抑止でき本発明の目
的に好ましい。
て、末端水酸基濃度が100eq/ton以下であり、
さらに溶融粘度安定性0.5%以下のものが使用され
る。溶融粘度安定性とは短期間での溶融粘度の変化率で
あり、溶融粘度の変化の絶対値を特定時間測定したとき
の1分当たりの変化率で表される。溶融粘度安定性は小
さい値ほど好ましく、好ましくは0.3%以下さらに好
ましくは0.1%以下特に好ましくは0である。
施態様においては上記芳香族ポリカーボネート樹脂にお
いて、末端水酸基濃度が少なくとも80eq/ton以
下、さらに好ましくは3〜60eq/ton、さらに好
ましくは5〜50eq/tonとすることが好ましい。
ホスゲン法においては分子量調節剤として使用される末
端封止剤により必然的に上記範囲内に収まるが、反応プ
ロセスの特徴上、OH末端基が多く生成する溶融重合
法、あるいは固相重合法においては、特別のOH末端基
減少策を講じる必要がある。
法;重合反応仕込み時のDPC/BPAモル比を高める
ことにより、たとえば重合反応装置の特徴を考え1.0
3から1.10の間に設定する。
例えば、米国特許公報5696222号記載の方法に従
い、サリチル酸エステル系化合物によりOH末端基を封
止することにより達成される。
止反応前の末端OH基、1化学当量当たり0.8〜10
モル、より好ましくは0.8〜5モル、特に好ましくは
0.9〜2モルの範囲である。かかる量比で添加するこ
とにより、末端OH基の80%以上を好適に封止するこ
とができる。又本封止反応を行う時、上記特許記載の触
媒を使用するのが好ましい。
には;2−メトキシカルボニルフェニル−フェニルカー
ボネート、2−メトキシカルボニルフェニル−2’−メ
チルフェニルカーボネート、2−メトキシカルボニルフ
ェニル−4’−エチルフェニルカーボネート、2−メト
キシカルボニルフェニル−3’−ブチルフェニルカーボ
ネート、2−メトキシカルボニルフェニル−4’−ドデ
シルフェニルカーボネート、2−メトキシカルボニルフ
ェニル−4’−ヘキサデシルフェニルカーボネート、2
−メトキシカルボニルフェニル−2’,4’−ジブチル
フェニルカーボネート、2−メトキシカルボニルフェニ
ル−ジノニルフェニルカーボネート、2−メトキシカル
ボニルフェニル−シクロヘキシルフェニルカーボネー
ト、2−メトキシカルボニルフェニル−ビフェニルカー
ボネート、2−メトキシカルボニルフェニル−クミルフ
ェニルカーボネート、2−メトキシカルボニルフェニル
−2’−メトキシフェニルカーボネート、2−メトキシ
カルボニルフェニル−4’−ブトキシフェニルカーボネ
ート、2−メトキシカルボニルフェニル−4’−クミル
オキシフェニルカーボネート、ジ(2−メトキシカルボ
ニルフェニル)カーボネート、2−メトキシカルボニル
フェニル−2−エトキシフェニルカーボネート、2−メ
トキシカルボニルフェニル−2’−(O−メトキシカル
ボニルフェニル)オキシクミルフェニルカーボネートの
ごとき2−メトキシカルボニルフェニルアリールカーボ
ネート類、2−メトキシカルボニルフェニル−メチルカ
ーボネート、2−メトキシカルボニルフェニル−ブチル
カーボネート、2−メトキシカルボニルフェニル−セチ
ルカーボネート、2−メトキシカルボニルフェニル−ラ
ウリルカーボネート、2−メトキシカルボニルフェニル
−2’−エトキシカルボニルエチルカーボネート、2−
メトキシカルボニルフェニル−2’−(O−メトキシカ
ルボニルフェニル)オキシカルボニルエチルカーボネー
トのごとき2−メトキシカルボニルフェニル−アルキル
カーボネート類、2−エトキシカルボニルフェニル−フ
ェニルカーボネート、2−エトキシカルボニルフェニル
−プロピルフェニルカーボネート、2−エトキシカルボ
ニルフェニル−ヘキシルフェニルカーボネート、2−エ
トキシカルボニルフェニル−ジブチルフェニルカーボネ
ート、2−エトキシカルボニルフェニル−ジノニルフェ
ニルカーボネート、2−エトキシカルボニルフェニル−
シクロヘキシルフェニルカーボネート、2−エトキシカ
ルボニルフェニル−クミルフェニルカーボネート、2−
エトキシカルボニルフェニル−4’−エトキシカルボニ
ルフェニルカーボネート、2−エトキシカルボニルフェ
ニル−4’−クミルオキシフェニルカーボネート−2−
エトキシカルボニルフェニル−カーボネート、ジ(2−
エトキシカルボニルフェニル)カーボネートのごとき2
−エトキシカルボニルフェニル−アリールカーボネート
類、2−エトキシカルボニルフェニル−メチルカーボネ
ート、2−エトキシカルボニルフェニル−オクチルカー
ボネート、2−エトキシカルボニルフェニル−2’−メ
トキシカルボニルエチルカーボネート、2−エトキシカ
ルボニルフェニル−カーボネート、2−エトキシカルボ
ニルフェニル−2−(O−エトキシカルボニルフェニ
ル)オキシカルボニルエチルカーボネートのごとき2−
エトキシカルボニルフェニル−アルキルカーボネート
類、(2−メトキシカルボニルフェニル)ベンゾエー
ト、(2−メトキシカルボニルフェニル)−4−メチル
ベンゾエート、(2−メトキシカルボニルフェニル)−
4−ブチルベンゾエート、(2−メトキシカルボニルフ
ェニル)−4−クミルベンゾエート、(2−メトキシカ
ルボニルフェニル)−4−ブトキシベンゾエート、(2
−メトキシカルボニルフェニル)−2−メトキシカルボ
ニルベンゾエート、(2−メトキシカルボニルフェニ
ル)−4−メトキシカルボニルベンゾエート、(2−メ
トキシカルボニルフェニル)−4−エトキシカルボニル
ベンゾエート、3−(O−メトキシカルボニルフェニ
ル)オキシカルボニル安息香酸(2’−メトキシカルボ
ニルフェニル)エステル、4−(O−エトキシカルボニ
ルフェニル)オキシカルボニル安息香酸(2’−メトキ
シカルボニルフェニル)エステルのごとき、芳香族カル
ボン酸の(2’−メトキシカルボニルフェニル)エステ
ル、(2−エトキシカルボニルフェニル)ベンゾエー
ト、(2−エトキシカルボニルフェニル)−4−メチル
ベンゾエート、(2−エトキシカルボニルフェニル)−
4−ブチルベンゾエート、(2−エトキシカルボニルフ
ェニル)−4−ノニルベンゾエート、(2−エトキシカ
ルボニルフェニル)−4−クミルベンゾエート、(2−
エトキシカルボニルフェニル)−4−メトキシベンゾエ
ート、(2−エトキシカルボニルフェニル)−4−ノニ
ルオキシベンゾエート、(2−エトキシカルボニルフェ
ニル)−4−クミルオキシベンゾエート、(2−エトキ
シカルボニルフェニル)−4−エトキシカルボニルベン
ゾエートのごとき芳香族カルボン酸の(2’−エトキシ
カルボニルフェニル)エステル、(2−メトキシカルボ
ニルフェニル)アセテート、(2−メトキシカルボニル
フェニル)ステアレート、(2−メトキシカルボニルフ
ェニル)オレート、(2−エトキシカルボニルフェニ
ル)シクロヘキサンカルボン酸エステル、ビス(2−メ
トキシカルボニルフェニル)サクシネート、ビス(2−
メトキシカルボニルフェニル)アジペートのごとき脂肪
族カルボン酸エステルが挙げられる。
0.5%以下のものが好ましく使用されるが、ポリカー
ボネートの溶融粘度安定性を0.5%以下にするために
は、重縮合反応後、より好ましくは、末端封止反応終了
後のポリカーボネート樹脂に対し溶融粘度安定剤(D)
を特定量を添加すること等により達成しうる。溶融粘度
安定性の劣ったポリカーボネート樹脂においては、成形
加工時の安定性不良に加えて、高湿条件化および成型品
の長期使用時の機械的物性の安定性不良とりわけ耐衝撃
性の悪化=低下が著しく、実用性に耐えないものとなっ
てしまう。
平8−59975号公報記載のように、(D)−1のス
ルホン酸ホスホニウム塩、アンモニウム塩及び/又は
(D)−2のスルホン酸、及びあるいはスルホン酸低級
エステルが使用できる。
造されたポリカーボネートに対しても有効であるが、特
に溶融重合法、あるいは固相重合法で製造したポリカー
ボネートに対し、ポリカーボネート樹脂中残存する塩基
性アルカリ金属化合物、すなわち塩基性アルカリ金属化
合物触媒のアルカリ金属元素、1化学当量あたり、
(D)−1の化合物においては0.7〜100化学当量
を好ましくは0.8〜30化学当量を、さらに好ましく
は、0.9〜20化学当量を、特に好ましくは0.9〜
10化学当量を使用する。
0化学当量、好ましくは0.8〜10化学当量を、さら
に好ましくは0.9〜5化学当量使用することにより、
ポリカーボネート樹脂の溶融粘度安定性を0.5%以下
に押さえることができる。(D)−2の溶融粘度安定剤
を使用した場合、溶融粘度安定処理を施した、ポリカー
ボネート樹脂に対し減圧処理を加えるのが、好ましい。
は、優れた安定性、成形加工時の滞留安定性を有し、熱
的、色相安定性がとりわけ良好で他の耐熱安定剤を添加
しなくても、耐熱安定性が良好で、たとえば金型汚れを
低減できる利点を有する。本発明ポリカーボネート樹脂
は特にレンズ、光ディスクなどの光学用に好適である。
剤他の安定剤を添加する必要はないが、本発明の目的を
損なわない限り、所望により以下のごとき通常の耐熱安
定剤を添加することができる。かかる安定剤としては具
体的には、たとえばリン系安定剤、フェノール系安定
剤、有機チオエーテル系安定剤、ヒンダードアミン系安
定剤などを挙げることができる。
来公知の一般的なものが良好に使用できる。例えば脂肪
族カルボン酸とアルコールよりなる脂肪酸エステル系離
形剤が好ましく使用できる。
の各種添加剤を使用できる。例えば光安定剤、紫外線吸
収剤、クエンチャー、金属不活性化剤、金属石鹸、造核
剤、帯電防止剤、難燃剤が挙げられる。また本発明の樹
脂においては所望により有機、あるいは無機の、染料、
顔料等の着色剤を使用できる。
明は、これらの実施例に限定されるものではない。
中、20℃ウベローデ粘度管にて測定した。固有粘度よ
り粘度平均分子量は字式より計算した。 〔η〕=1.23MW0.83
0.4mlのクロロホルムに溶解し、20℃で1H−N
MR(日本電子社製EX−270)を用いて、末端水酸
基、(A)構造末端基及び末端フェニル基濃度を測定し
た。
のRAA型流動解析装置を用い窒素気流下、剪断速度1
rad/sec.300℃で測定した溶融粘度の変化の
絶対値を30分間測定し、1分当たりの変化率を求め
た。ポリカーボネート樹脂組成物の長期安定性が良好で
あるためには、この値が0.5%を超えてはならない。
ト衝撃強度ASTM D−790(ノッチ付き)によ
る。厚さ1/8インチの試験片を85℃*90%RHの
恒温、恒湿槽中、1000hr保持後アイゾット衝撃強
度の保持率を求めた。
mmの平板を名機製作所(株)M50B射出成形機によ
りシリンダー温度350℃成形サイクル20秒、金型温
度75℃、射出圧300Kg、型締め力50トンで成形
した、この成形品につき色相;YIを測定、さらに樹脂
同温度で15分間シリンダー内に滞留させた後成形を行
い色相YI、光透過率を測定、滞留前後のYI値の変化
量ΔYIを求めた。
本電色(株)製Z−1001DP色差計により測定し
た。YI値は次式により求めた。
060Z)
の)で目視で黄色味をあまり感じないYI値1.5以下
をOKとした。初期YIがOKでもΔYIが大で滞留後
のYIが1.5を超えるものはNGと判定、汎用グレー
ドではYI値の限界を2.0とした。
窒素ガス雰囲気下280℃、24Hr保持した。該サン
プルを塩化メチレン2Lに溶解、得られた溶液を10ミ
クロンフィルターで濾過、フィルター上のゲル状異物個
数(波長365nmのブラックライトで照射で蛍光を発
したもののうち、FTーIRでプロティン、綿糸等を除
いたもの)を測定。ゲル状異物の個数は100個以下の
ロットをOKと判定した。
ペレットを使用し、東芝機械社製IS80EPN、成形
機を使用し、 型締め力;50トン、 射出速度;250CM3/秒、 射出圧力;1500Kg/CM2; 金型材質;ジュラルミン2024; 成形温度;380℃、 金型温度;115℃ 冷却時間;5秒 キャビティ部;無電解ニッケルメッキ の条件で径120mm、厚さ0.6mmのDVD基板1
0K枚を作成した。なお成形時スプルー部とディスクが
切断され成形機内にスプルー部が残った組成物ロットは
成形性不良、と判断した。
を目視、判定した。 ◎;良好汚れ認めがたし ○;良好汚れ極めて小 △;不良汚れやや認められる ×;不良汚れ明瞭に認められる
0mm×5mmの平板を名機製作所(株)M50B射出
成形機によりシリンダー温度280℃成形サイクル20
秒、金型温度75℃、射出圧300Kg、型締め力50
トンで1Kショット成形した、この時成形品が金型より
良好に離型ロットをOkロットと判定した。又金型汚れ
性については1K枚成形時金型の汚れを目視判定した。 ◎;良好汚れ認めがたし ○;良好汚れ極めて小 △;不良汚れやや認められる ×;不良汚れ明瞭に認められる
較例1,2]ホスゲン吹き込み管、温度計及び攪拌機を
設けた、容量500lの反応槽に、ビスフェノールA、
50、280g(221モル)、7.2%水酸化ナトリ
ウム水溶液、221L(水酸化ナトリウム419モル)
及び、ハイドロサルファイトナトリウム、98g(0。
56モル)を仕込んで溶解し、攪拌下、塩化メチレン、
127L及び48.5%水酸化ナトリウム水溶液、80
70g(水酸化ナトリウム、98モル)を加えた後、ホ
スゲン、25、080g(25.3モル)を25℃で1
80分かけて加え、ホスゲン化反応を行った。
ェノール、1751g(11.7モル)、及び48.5
%水酸化ナトリウム水溶液、8、040g(97モル)
及び触媒としてトリエチルアミン、181ml(1.3
モル)を加え、33℃に保持し、2時間攪拌して反応を
終了させた。反応混合液より、塩化メチレン層を分離
し、水洗を5回繰り返し精製して、粘度平均分子量1
5,300のポリカーボネート樹脂を得た。該ポリカー
ボネート100重量部中、下記表1中に記載の種類、添
加量のラクトン系安定剤及びトリス(2,4ジ−t−ブ
チルフェニル)フォスファイト;5*10−3重量部及
びペンタエリスリチル−テトラキステアレート5*10
−2重量部を添加、1軸押し出し機で混練ペレット化し
た。このポリマーの物性を表1中に示す。
3]ホスゲン吹き込み管、温度計及び攪拌機を設けた、
容量500lの反応槽に、ビスフェノールA50、28
0g(221モル)、7.2%水酸化ナトリウム水溶
液、221L(水酸化ナトリウム419モル)及び、ハ
イドロサルファイトナトリウム、98g(0.56モ
ル)を仕込んで溶解し、攪拌下、塩化メチレン、127
L及び48.5%水酸化ナトリウム水溶液、8、070
g(水酸化ナトリウム98モル)を加えた後、ホスゲ
ン、25、080g(253モル)を25℃で180分
かけて加え、ホスゲン化反応を行った。
ェノール、930g(6.2モル)、及び48.5%水
酸化ナトリウム水溶液、8、040g(97モル)及び
触媒としてトリエチルアミン、181ml(1.3モ
ル)を加え、33℃に保持し2時間攪拌して反応を終了
させた。反応混合液より、塩化メチレン層を分離し、水
洗を5回繰り返し精製して、粘度平均分子量25,10
0のポリカーボネート樹脂を得た。該ポリカーボネート
100重量部中、表中種類、添加量記載のラクトン系安
定剤及びトリス(2,4−ジt−ブチルフェニル)フォ
スファイト;1*10-2重量部及びペンタエリスリチル
−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオネート〕5*10-2重量部
を添加1軸押し出機で混練ペレット化した。このポリマ
ーの物性を表1中に示す。
ーの製造例2において重合後、水洗を回数を3回とした
以外同様の処理を行ったところ溶融粘度安定性0.8%
のポリカーボネートが得られた。(ちなみに該ポリカー
ボネート中イオンクロマト分析の結果、NaイオンがP
C繰り返し単位1モル当たり11*10-6含有されてい
た。)
ーの製造例4においては、上記安定剤のほかに該ポリマ
ー100重量部当たりドデシルベンゼンスルホン酸テト
ラブチルホスホニウム塩(以下DBSPと略称)3*1
0-3重量部を添加、混練ペレット化した。結果を表1中
に示す。
フェニル)フォスファイト f−1;ペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オネート] 0−1;ペンタエリスリチルテトラステアレート
3、比較例5〜10]ビスフェノールA22.8Kg,
ジフェニルカーボネート22.0Kgと重合触媒として
NaOH;0.004g、テトラメチルアンモニウムヒ
ドロキシド;0.91gを攪拌装置,蒸留塔及及び、減
圧装置を備えた反応槽に仕込み、窒素置換した後、14
0℃で溶解した。30分間攪拌後、内温を180℃に昇
温し,内圧100mmHgで30分間反応させ、生成す
るフェノールを溜去した。
減圧し50mmHgで30分間フェノールを溜去しつつ
反応させた。さらに220℃、30mmHgまで徐々に
昇温、減圧し、同温度、同圧力条件下で30分間反応さ
せ、この時点で反応系にポリマー100重量部当たり表
2、3中記載の所定量のラクトン系安定剤を添加した。
℃、1mmHg、260℃、1mmHg以下にまで上記
と同じ手順で昇温、減圧を繰り返し反応を続行した。
合反応装置の攪拌電力より判断し、ポリカーボネートの
粘度平均分子量が15300(ポリマーの製造例5)、
あるいは25100(ポリマーの製造例6)に成った時
点で、ポリマーの一部を採取し粘度平均分子量、末端水
酸基濃度を測定しつつ粘度平均分子量15300(OH
末端基濃度110eq/tonn)、25100の(O
H末端基濃度70eq/tonn)樹脂を製造した。前
者はディスク成形用途に、後者は一般成形品用として、
評価した。
ーボネート100重量部当たり表中記載量の末端封止剤
(2−メトキシカルボニルフェニル−フェニル−カーボ
ネート;以下SAM−DPCと略称する。)を常圧下2
70℃で添加した。その後270℃、1mmHg以下で
5分間末端封止反応を継続した。その後表中の溶融粘度
安定化剤DBSP;3.4*10-4重量部(Na触媒の
1.5倍当量)を添加し.同温,同圧にて10分間混合
攪拌し,触媒を失活、不活性化した。得られたポリカー
ボネートの粘度平均分子量、末端水酸基濃度、溶融粘度
安定性を表2、3中に示す。
部当たりポリマーの製造例5においては、トリス(2,
4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト、5*1
0-3重量部及びペンタエリスリチルテトラステアレー
ト、5*10−2重量部を、又参考例6においてはトリ
ス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイ
ト;1*10-2重量部及びペンタエリスリチル−テトラ
キス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオネート〕、5*10-2重量部を添加
し2軸ルーダーで押し出しチップ化した。
ポリマーの製造例5においてDBSPを使用しないもの
をポリマーの製造例7、又ポリマーの製造例6において
NaOHを0.028g(7*10-6eq/1モル芳香
族ジヒドロキシ化合物)使用したものをポリマーの製造
例8とした。なおこの時DBSP使用量は、ポリカーボ
ネート100重量部当たり2.4*10-3重量部(Na
触媒の1.5倍化学当量)を使用した。ポリマーの粘度
平均分子量は25100、末端OH基濃度は75eq/
tonnであった。
フェニル)フォスファイト 0−1;ペンタエリスリチルテトラステアレート
フェニル)フォスファイト 0−1;ペンタエリスリチルテトラステアレート
Claims (4)
- 【請求項1】 芳香族ジヒドロキシ化合物とカーボネー
ト結合形成性化合物とを重合反応して成る、主たる繰り
返し単位が次式(1) 【化1】 (R1,R2,R3,R4はそれぞれ独立に水素原子、炭素
数1〜10のアルキル基、アラルキル基又はアリール基
であり、Wは炭素数1〜10のアルキリデン基、アルキ
レン基、シクロアルキリデン基、シクロアルキレン基、
アリール基置換アルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ス
ルホキシド基、またはスルホン基である。)で表わされ
る粘度平均分子量13,000〜100,000、溶融
粘度安定性0.5%以下、且つ末端OH基量100eq
/ton以下の芳香族ポリカーボネート100重量部
と、次式(A)で表わされるラクトン系安定剤; 【化2】 (式中R5,R6は水素原子及び/又は、炭素数1〜10
のアルキル基を表し、ARは置換基を有していてもよい
炭素数6〜20の芳香族基を表わす。) 0.0001〜5重量部とからなることを特徴とする安
定性に優れた芳香族ポリカーボネート組成物。 - 【請求項2】 上記芳香族ポリカーボネートが、塩基性
エステル交換触媒により溶融重縮合されたものであり、
該塩基性エステル交換触媒が、塩基性窒素化合物及び/
又は塩基性リン化合物とアルカリ金属化合物とを含有
し、該アルカリ金属化合物を、アルカリ金属元素とし
て、芳香族ジヒドロキシ化合物1モル当たり1*10-8
〜5*10-6当量含有することを特徴とする請求項1記
載の安定性に優れた芳香族ポリカーボネート組成物。 - 【請求項3】 請求項1または2に記載の上記芳香族ポ
リカーボネート組成物の射出成形品。 - 【請求項4】 芳香族ジヒドロキシ化合物とカーボネー
ト結合形成性化合物とを重合反応して成る、主たる繰り
返し単位が次式(1) 【化3】 (R1,R2,R3,R4はそれぞれ独立に水素原子、炭素
数1〜10のアルキル基、アラルキル基又はアリール基
であり、Wは炭素数1〜10のアルキリデン基、アルキ
レン基、シクロアルキリデン基、シクロアルキレン基、
アリール基置換アルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ス
ルホキシド基、またはスルホン基である。)で表わされ
る芳香族ポリカーボネート100重量部と、次式(A)
で表わされるラクトン系安定剤; 【化4】 (式中R5,R6は水素原子及び/又は、炭素数1〜10
のアルキル基を表し、ARは置換基を有していてもよい
炭素数6〜20の芳香族基を表わす。) 0.0001〜5重量部との芳香族ポリカーボネート組
成物の製造方法であって、該芳香族ポリカーボネートの
重合反応中に、上記ラクトン系安定剤を添加することを
特徴とする芳香族ポリカーボネート組成物の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP02773299A JP4259662B2 (ja) | 1999-02-04 | 1999-02-04 | 安定性に優れたポリカーボネート組成物及び該組成物の成形品 |
TW89117533A TW526236B (en) | 1998-10-28 | 2000-08-29 | Aromatic polycarbonate resin |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP02773299A JP4259662B2 (ja) | 1999-02-04 | 1999-02-04 | 安定性に優れたポリカーボネート組成物及び該組成物の成形品 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000226506A true JP2000226506A (ja) | 2000-08-15 |
JP4259662B2 JP4259662B2 (ja) | 2009-04-30 |
Family
ID=12229207
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP02773299A Expired - Lifetime JP4259662B2 (ja) | 1998-10-28 | 1999-02-04 | 安定性に優れたポリカーボネート組成物及び該組成物の成形品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4259662B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002322265A (ja) * | 2001-04-26 | 2002-11-08 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 芳香族―脂肪族共重合ポリカーボネートの製造方法 |
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JP4886153B2 (ja) * | 2000-06-01 | 2012-02-29 | 帝人株式会社 | 芳香族ポリカーボネート、その組成物および用途 |
EP4198092A4 (en) * | 2020-08-13 | 2024-01-24 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | THERMOPLASTIC RESIN COMPOSITION FOR OPTICAL MATERIAL, MOLDED BODY, COMPOUNDING AGENT, METHOD FOR PRODUCING THE THERMOPLASTIC RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR IMPROVING TRANSMISSIVITY |
-
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- 1999-02-04 JP JP02773299A patent/JP4259662B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP4259662B2 (ja) | 2009-04-30 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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