JP3494789B2 - 樹脂組成物 - Google Patents
樹脂組成物Info
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Description
に詳しくは特定の末端構造を有する重合体を含み、成形
時の熱安定性、色相安定性などの滞留安定性に優れ、か
つ成形性にも優れた重合体を含む樹脂組成物に関する。
ト(ポリエステル)、エポキシ樹脂などのジヒドロキシ
化合物から導かれる重合体は、耐衝撃性などの機械的特
性に優れ、しかも耐熱性および透明性などにも優れてお
り、各種機械部品、電子部品、光学用ディスク、自動車
部品、シートなどの広範な用途に利用されている。この
ような重合体のうちでも光学用途に用いられるポリカー
ボネート、ポリアリレートなどは、上記の機械的特性に
加えて特に優れた透明性および色相が要求され、成形時
の滞留安定性(熱安定性、色相安定性など)が要求され
る。このため成形時には、一般的にこれら重合体に耐熱
安定剤などの各種添加剤を添加して成形時の滞留安定性
を高めている。
は、成形時に添加剤がプレートアウトしてしまい、金型
汚れを生じやすく、さらにはこの汚れが成形品に付着し
て外観不良を生じてしまうことがあるという問題点があ
った。特にレンズ、光ディスクなどの光学用途あるいは
電子部品などの精密用途においては、添加剤をなるべく
使用せず、滞留安定性に優れた樹脂組成物を用いること
が望ましい。
みて滞留安定性に優れたジヒドキシ化合物から導かれる
重合体について鋭意研究したところ、ジヒドキシ化合物
とホスゲン類、炭酸ジエステル類またはジカルボン酸類
とから導かれるポリエステル類特にポリカーボネートに
おいて、特定のo,p-ビスフェノール類から導かれる末端
構造を有する重合体が成形時の滞留安定性に優れている
ことを見出した。そしてこの重合体と、脂肪族カルボン
酸と多価アルコールとのエステルとを含む樹脂組成物
は、滞留安定性に優れるとともに、離型性などの成形性
にも優れており、連続成形も可能であって、色調および
透明性に優れた成形品を効率的に製造することができる
ことを見出して本発明を完成するに至った。
いなくても成形時の滞留安定性に優れ、しかも離型性な
どの成形性にも優れており、連続成形も可能であって、
色調および透明性に優れた成形品を効率的に製造するこ
とができる樹脂組成物を提供することを目的としてい
る。
酸ジエステル類またはジカルボン酸類との反応により形
成される繰返し単位を有し、かつ末端基の少なくとも一
部が下記一般式[I]で示される重合体;
ルコールとのエステルからなることを特徴としている。
100重量部に対して、(B)脂肪族カルボン酸と多価
アルコールとのエステルを0.01〜0.1重量部の量で
含有していることが好ましい。上記(A)重合体は、式
[I]で示される末端基を全末端基中0.1〜10%の
割合で有していればよい。本発明では、上記(A)重合
体が、(i)ジヒドロキシ化合物と、ホスゲン類または炭
酸ジエステル類とから導かれるポリカーボネートである
ことが好ましい。また(B)脂肪族カルボン酸と多価ア
ルコールとのエステルを形成する脂肪族カルボン酸は、
炭素数12〜24の飽和一価脂肪族カルボン酸であるこ
とが好ましく、多価アルコールは、エチレングリコー
ル、グリセリン、トリメチロールプロパンまたはエリス
リトールであることが好ましい。
成形時の滞留安定性に優れており、金型汚れを生じにく
く、また成形性にも優れており、連続成形により成形品
を効率的に製造することができる。また本発明に係る樹
脂組成物は、透明性および色調にも優れているので、レ
ンズ、光ディスクなどの光学用途、電子部品などの精密
用途などに好適であり、特に光ディスクなどの情報記録
媒体用途に好適である。
(A)特定のo,p-ビスフェノール類から導かれる末端構
造を有する重合体と、(B)脂肪族カルボン酸と多価ア
ルコールとのエステルを形成する脂肪族カルボン酸とか
ら形成される。以下まずこの(A)重合体について具体
的に説明する。
化合物と、(ii)ホスゲン類、炭酸ジエステル類またはジ
カルボン酸類との反応により形成される繰返し単位を有
し、かつ末端基の少なくとも一部が下記のような末端構
造で示される。
し、まず重合体(A)の骨格を構成する(i)ジヒドロキ
シ化合物と、(ii)ホスゲン類、炭酸ジエステル類または
ジカルボン酸類との反応により形成される繰返し単位に
ついて説明する。
ロキシ化合物は、特に限定されないが、たとえば下記一
般式[IIa]で示される。
合物は、一般にp,p-ビスフェノール、o,m-ビスフェノー
ル、m,m-ビスフェノールなどとして知られている。この
ようなジヒドロキシ化合物としては、具体的には、ビス
(4-ヒドロキシフェニル)メタン、1,1-ビス(4-ヒドロ
キシフェニル)エタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ブタ
ン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)オクタン、ビス
(4-ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、2,2-ビス
(4-ヒドロキシ-1-メチルフェニル)プロパン、1,1-ビ
ス(4-ヒドロキシ-t-ブチルフェニル)プロパン、2,2-
ビス(4-ヒドロキシ-3-ブロモフェニル)プロパン、4,
4'-ジヒドロキシジフェニル-1,1'-p-ジイソプロピルベ
ンゼン、4,4'-ジヒドロキシジフェニル-1,1'-m-ジイソ
プロピルベンゼン、4,4'- ジヒドロキシジフェニル-9,9
-フルオレン、などのビス(ヒドロキシアリール)アル
カン類、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)シクロペン
タン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、1-メチル-1-(4-ヒドロキシフェニル)-4-(ジメチ
ル-4-ヒドロキシフェニル)メチル−シクロヘキサン、4
-[1-[3-(4-ヒドロキシフェニル)-4-メチルシクロヘ
キシル]-1-メチルエチル]-フェノール、4,4'-[1-メ
チル-4-(1-メチルエチル)-1,3-シクロヘキサンジイ
ル]ビスフェノール、2,2,2',2'-テトラヒドロ-3,3,3',
3'-テトラメチル-1,1'-スピロビ-[IH-インデン]-6,6'
-ジオール、などのビス(ヒドロキシアリール)シクロ
アルカン類、4,4'-ジヒドロキシジフェニルエーテル、
4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジメチルフェニルエーテルな
どのジヒドロキシアリールエーテル類、4,4'-ジヒドロ
キシジフェニルスルフィド、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-
ジメチルジフェニルスルフィドなどのジヒドロキシジア
リールスルフィド類、4,4'-ジヒドロキシジフェニルス
ルホキシド、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジメチルジフェ
ニルスルホキシドなどのジヒドロキシジアリールスルホ
キシド類、4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,
4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジメチルジフェニルスルホンな
どのジヒドロキシジアリールスルホン類、4,4'-ジヒド
ロキシジフェニル-3,3- イサチンなどのジヒドロキシジ
アリールイサチン類が挙げられる。
シ化合物としては、3,6-ジヒドロキシ-9,9- ジメチルキ
サンテンなどのジヒドロキシジアリールキサンテン類、
レゾルシンおよび3-メチルレゾルシン、3-エチルレゾル
シン、3-プロピルレゾルシン、3-ブチルレゾルシン、3-
t-ブチルレゾルシン、3-フェニルレゾルシン、3-クミル
レゾルシン、2,3,4,6-テトラフルオロレゾルシン、2,3,
4,6-テトラブロムレゾルシンなどの置換レゾルシン、ハ
イドロキノンおよび3-メチルハイドロキノン、3-エチル
ハイドロキノン、3-プロピルハイドロキノン、3-ブチル
ハイドロキノン、3-t-ブチルハイドロキノン、3-フェニ
ルハイドロキノン、3-クミルハイドロキノン、2,3,5,6-
テトラメチルハイドロキノン、2,3,5,6-テトラ-t-ブチ
ルハイドロキノン、2,3,5,6-テトラフルオロハイドロキ
ノン、2,3,5,6-テトラブロムハイドロキノンなどの置換
ハイドロキノンなどが挙げられる。
形成する(i)ジヒドロキシ化合物中に後述するo,p-ビス
フェノールが含まれていてもよい。これらのうちでは、
特に2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン(以下
p,p-ビスフェノールAまたはp,p-BPAともいう)が好
ましく、工業的にも有用である。
もに重合体を形成するホスゲン類としては、たとえばホ
スゲンなどのハロゲン化カルボニル化合物、ハロホーメ
ート化合物ホスゲンなどが挙げられる。また(i)ジヒド
ロキシ化合物とともに重合体を形成する炭酸ジエステル
類としては、たとえばジフェニルカーボネート、ジトリ
ールカーボネート、ビス(クロロフェニル)カーボネー
ト、m-クレジルカーボネート、ジナフチルカーボネー
ト、ビス(ジフェニル)カーボネート、ジエチルカーボ
ネート、ジメチルカーボネート、ジブチルカーボネー
ト、ジシクロヘキシルカーボネートなどが挙げられる。
体を形成するジカルボン酸類としては、ジカルボン酸、
ジカルボン酸エステル、ジカルボン酸ハライドなどが挙
げられ、たとえばテレフタル酸、イソフタル酸、テレフ
タル酸クロリド、イソフタル酸クロリド、テレフタル酸
ジフェニル、イソフタル酸ジフェニルなどの芳香族ジカ
ルボン酸類、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメ
リン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカ
ン二酸、ドデカン二酸、セバシン酸クロリド、デカン二
酸クロリド、ドデカン二酸クロリド、セバシン酸ジフェ
ニル、デカン二酸ジフェニル、ドデカン二酸ジフェニル
などの脂肪族ジカルボン酸類、シクロプロパンジカルボ
ン酸、1,2-シクロブタンジカルボン酸、1,3-シクロブタ
ンジカルボン酸、1,2-シクロペンタンジカルボン酸、1,
3-シクロペンタンジカルボン酸、1,2-シクロヘキサンジ
カルボン酸、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸、1,4-シ
クロヘキサンジカルボン酸、シクロプロパンジカルボン
酸クロリド、1,2-シクロブタンジカルボン酸クロリド、
1,3-シクロブタンジカルボン酸クロリド、1,2-シクロペ
ンタンジカルボン酸クロリド、1,3-シクロペンタンジカ
ルボン酸クロリド、1,2-シクロヘキサンジカルボン酸ク
ロリド、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸クロリド、1,
4-シクロヘキサンジカルボン酸クロリド、シクロプロパ
ンジカルボン酸ジフェニル、1,2-シクロブタンジカルボ
ン酸ジフェニル、1,3-シクロブタンジカルボン酸ジフェ
ニル、1,2-シクロペンタンジカルボン酸ジフェニル、1,
3-シクロペンタンジカルボン酸ジフェニル、1,2-シクロ
ヘキサンジカルボン酸ジフェニル、1,3-シクロヘキサン
ジカルボン酸ジフェニル、1,4-シクロヘキサンジカルボ
ン酸ジフェニルなどの脂環族ジカルボン酸類が挙げられ
る。
は、(i)上記のような式[IIa]で示されるジヒドロキシ
化合物と、(ii)ホスゲン類、炭酸ジエステル類またはジ
カルボン酸類との反応により形成される繰返し単位から
なるが、(i)ジヒドロキシ化合物と、(ii)ホスゲン類ま
たは炭酸ジエステル類からは下記式[II]で示されるよ
うな繰返し単位が形成される。このような繰返し単位を
有する重合体はポリカーボネートと称される。
るいはホスゲン類とともに、ジカルボン酸類を用いて得
られる重合体は、一般的にポリエステルカーボネートと
称される。また(ii)として、炭酸ジエステル類あるいは
ホスゲン類を用いずに、ジカルボン酸類を用いて得られ
る重合体は、一般的にポリエステルと称され、特に芳香
族ジカルボン酸類から得られる重合体はポリアリレート
と称される。本発明では、上記のうちでもポリカーボネ
ートが好ましい。
ような繰返し単位の末端基の少なくとも一部が前述した
式[I]で示される構造を有しているが、この末端基は
下記式[Ia]で示されるo,p-ビスフェノールから導かれ
る。
ノールとしては、たとえば、2,4'-ジヒドロキシジフェ
ニル-1,1-メタン、2,4'-ジヒドロキシジフェニル-1,1-
エタン、2,4'-ジヒドロキシジフェニル-2,2-プロパン、
2,4'-ジヒドロキシジフェニル-2,2-ブタン、2,4'-ジヒ
ドロキシジフェニル-2,2-オクタン、2,4'-ジヒドロキシ
ジフェニル-1,1-シクロペンタン、2,4'-ジヒドロキシジ
フェニル-1,1-シクロヘキサン、2,4'-ジヒドロキシジフ
ェニル-3,3-イサチン、2,4'-ジヒドロキシジフェニル-
9,9-フルオレン、2,4'-ジヒドロキシジフェニル-1,1'-p
-ジイソプロピルベンゼン、2,4'-ジヒドロキシジフェニ
ル-1,1'-m-ジイソプロピルベンゼン、1-メチル-1-(4-
ヒドロキシフェニル)-4-(ジメチル-2-ヒドロキシフェ
ニル)メチル-シクロヘキサン、2-[1-[3-(4-ヒドロ
キシフェニル)-4-メチルシクロヘキシル]-1-メチルエ
チル]-フェノール、2,4'-[1-メチル-4-(1-メチルエ
チル)-1,3-シクロヘキサンジイル]ビスフェノール、
2,4'-ジヒドロキシジフェニルエーテル、2,4'-ジヒドロ
キシジフェニルスルフィド、2,4'-ジヒドロキシジフェ
ニルスルホキシド、2,4'-ジヒドロキシジフェニルスル
ホン、カテコールなどを挙げることができる。
の骨格を構成する(i)ジヒドロキシ化合物の異性体であ
ることが好ましい。上記例示のうちでも、特に2,4'-ジ
ヒドロキシジフェニル-2,2-プロパン(以下、o,p-ビス
フェノールまたはo,p-BPAともいう)が好ましく、工
業的にも有用である。
ビスフェノールは、式中Xで示される基のo‐位とp‐位
とにそれぞれヒドロキシ基を有しているが、この2個の
ヒドロキシ基のうちo‐位にあるヒドロキシ基は、X基
の立体障害によってp‐位にあるヒドロキシ基に比べて
反応性が著しく低い。このためo,p-ビスフェノールは1
価のヒドロキシ化合物とほぼ同様に末端封止剤として作
用(反応)し、X基のp‐位にあるヒドロキシ基がポリ
マー単位の末端部に結合して一般式[I]で示される末
端基を形成すると考えられる。このことは重合体(A)
の13C−NMRを測定することによって確認することが
できる。上記のようなo,p-ビスフェノールは、従来公知
のジヒドロキシ化合物の合成方法によって合成すること
ができる。
重合体は、式[I]で示される末端基を全末端基に対し
て任意の割合で有していてもよいが、0.1〜10%の
割合で有していることが好ましい。式[IIa]で示され
る末端基をこのような割合で有していれば、重合体
(A)は優れた滞留安定性を示す。
合体は滞留安定性に劣ることがある。一方10%より多
くなっても重合体の滞留安定性は0.1〜10%の割合
で有するものとほぼ同程度であって、Tgは低下する傾
向にあり、また重合体の流動特性が変化することがあ
る。本発明で用いられる重合体(A)は、o,p-ビスフェ
ノールとともに他の公知の末端封止剤から導かれる末端
基を有していてもなんら支障ない。
上記のような式[IIa]で示されるジヒドロキシ化合
物、(ii)ホスゲン類、炭酸ジエステル類またはジカルボ
ン酸類、式[Ia]で示されるo,p‐ビスフェノール、お
よび必要に応じて他の末端封止剤とを用いて、公知のポ
リカーボネート製造方法あるいはポリエステル製造方法
により製造することができる。ポリカーボネート製造方
法は、ホスゲン法(界面重合法、溶液重合法)、溶融
法、固相重合法のいずれの方法であってもよい。
うな一般式[Ia]で示されるo,p-ビスフェノールが、一
般式[IIa]で示されるジヒドロキシ化合物(i)と混合さ
れた状態で用いても良いし、それぞれ別々に反応系に供
給されてもよい。この際には、o,p-ビスフェノールを、
得られる重合体の全末端基中0.1〜10%の末端基が
o,p-ビスフェノールから形成されるように添加すること
が好ましい。
して用いられる一般式[IIa]で示されるジヒドロキシ
化合物(i)中に、たとえば不純物として含有されている
ことがある。このため反応系に供給されるo,p-ビスフェ
ノールの量は、このジヒドロキシ化合物(i)中に含まれ
るo,p-ビスフェノールの量を測定するか、あるいはジヒ
ドロキシ化合物(i)を99%以上の高純度に精製するこ
とにより実質的に制御することができる。o,p-ビスフェ
ノールとジヒドロキシ化合物(i)とを、別々にあるいは
予め混合して用いる場合であっても、o,p-ビスフェノー
ル以外のジヒドロキシ化合物(i)を精製して純度を高め
ることにより用いることが好ましい。具体的に説明す
る。
ドロキシ化合物とカルボニル化合物とを、塩酸あるいは
強酸型のイオン交換樹脂などの酸触媒の存在下で反応さ
せて、次いで反応混合物からo,p-ビスフェノールを単離
することにより得られる。より具体的には、フェノール
とアセトンとを酸触媒下に反応させると、p,p-BPA
(2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニルプロパン)とともに
副生物としてのo,p-BPA(o,p-ビスフェノール)を含
む反応混合物が得られる。
BPAをそれぞれ精製分離する場合には、p,p-BPA
は、反応混合物に過剰のフェノールを加え、これを溶解
させた後冷却して、p,p-BPAとフェノールとのアダク
ト(付加物)として晶析させる。析出したアダクト結晶
は、濾過、遠心分離などにより母液と分離する。一方o,
p-BPAは、母液中にフェノールあるいは他の副生物と
ともに比較的高濃度で存在しており、他の溶媒を用いて
晶析精製を繰り返したり、または蒸留精製で99%以上
の純度でo,p-BPAを得ることができる。
接、精密蒸留することにより高純度o,p-BPAを得るこ
ともできる。一方、o,pービスフェノール以外のジヒドロ
キシ化合物(i)は、o,p-ビスフェノールを製造する際に
示したような従来公知の合成方法により合成することが
でき、得られた合成物を精製することにより純度99%
以上の(i)ジヒドロキシ化合物を得ることが好ましい。
たとえば前記のようにフェノールとアセトンとを酸触媒
下に反応させて得られる反応混合物から、フェノールと
p,p-BPAとのアダクト(付加物)として晶析精製する
ことにより得られる。また必要によって、この晶析精製
を2回以上繰り返し行い、減圧蒸留、ストリッピング、
バブリングなどの公知の技術でフェノールを除去するこ
とで99.95%以上のp,p-BPAを得ることができ
る。
ロキシ化合物(i)、ホスゲン類、炭酸ジエステル類また
はジカルボン酸類(ii)、式[Ia]で示されるo,p‐ビス
フェノールと、必要に応じて他の末端封止剤とを用いて
重合体を製造する際には、目的重合体によってホスゲン
類、炭酸ジエステル類またはジカルボン酸類を用いる。
ホスゲン法でポリカーボネートを製造する際にはホスゲ
ン類が用いられ、溶融法でポリカーボネートを製造する
際には炭酸ジエステル類が用いられ、ポリエステルを製
造する際にはジカルボン酸類が用いられる。またホスゲ
ン類あるいは炭酸ジエステル類とともにジカルボン酸類
を用いてポリエステルカーボネートを製造してもよく、
ホスゲン類あるいは炭酸ジエステル類を用いずにジカル
ボン酸類を用いてポリエステルあるいはポリアリレート
を製造してもよい。
溶融法などで製造される分子量の低いポリカーボネート
を結晶化させ、高温下に重合を進めることによりポリカ
ーボネートを製造することができる。
シ化合物とともに、1分子中に3個以上の官能基を有す
る多官能化合物とを用いることもできる。この多官能化
合物としては、フェノール性水酸基またはカルボキシル
基を有する化合物が好ましく、特にフェノール性水酸基
を3個含有する化合物が好ましい。具体的にはたとえ
ば、1,1,1-トリス(4-ヒドロキシフェニル) エタン、2,
2',2"-トリス(4-ヒドロキシフェニル)ジイソプロピル
ベンゼン、α-メチル-α,α',α'-トリス(4-ヒドロキシ
フェニル)-1,4-ジエチルベンゼン、α, α',α"-トリス
(4-ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリイソプロピルベ
ンゼン、フロログリシン、4,6-ジメチル-2,4,6-トリ(4
-ヒドロキシフェニル)-ヘプタン-2、1,3,5-トリ(4-ヒ
ドロキシフェニル) ベンゼン、2,2-ビス-[4,4-(4,4'-
ジヒドロキシフェニル)-シクロヘキシル]-プロパン、
トリメリット酸、1,3,5-ベンゼントリカルボン酸、ピロ
メリッ ト酸などが挙げられる。
ロキシフェニル) エタン、α, α',α"-トリス(4-ヒド
ロキシフェニル)-1,3,5-トリイソプロピルベンゼンなど
が好ましく用いられる。上記のような多官能化合物は、
(i)ジヒドロキシ化合物1モルに対して通常0.03モル
以下、好ましくは0.001〜0.02モル、さらに好ま
しくは0.001〜0.01モルの量で用いることができ
る。
ト(A)を製造する際には触媒を用いることができる。
たとえばホスゲン法でポリカーボネートを製造する際に
は、触媒として、三級アミン、四級アンモニウム塩、三
級ホスフィン、四級ホスホニウム塩、含窒素複素環化合
物およびその塩、イミノエーテルおよびその塩、アミド
基を有する化合物などが使用される。
酸などのハロゲン化水素の補足剤として多量のアルカリ
金属化合物あるいはアルカリ土類金属化合物が使用され
るので、製造後のポリマー中に、こうした不純物が残留
しないように充分な洗浄、精製をすることが好ましい。
ートを製造する際には、触媒として、(a) アルカリ金属
化合物および/またはアルカリ土類金属化合物を用いる
ことが好ましい。アルカリ金属化合物およびアルカリ土
類金属化合物としては、具体的には、アルカリ金属およ
びアルカリ土類金属の有機酸塩、無機酸塩、酸化物、水
酸化物、水素化物あるいはアルコラートなどが好ましく
挙げられる。
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素
リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウ
ム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、ス
テアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステア
リン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ
素リチウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナ
トリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リン
酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水
素二リチウム、ビスフェノールAの二ナトリウム塩、二
カリウム塩、二リチウム塩、フェノールのナトリウム
塩、カリウム塩、リチウム塩などを挙げることができ
る。
体的に、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マ
グネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシウ
ム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水
素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭
酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カルシウ
ム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチ
ウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウ
ム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロン
チウムなどを挙げることができる。これら2種以上組合
わせて用いることもできる。
/またはアルカリ土類金属化合物は、上記(i)ジヒドロ
キシ化合物合計1モルに対して、1×10-8〜1×10
-3モル好ましくは1×10-7〜2×10-6モルさらに好
ましくは1×10-7〜8×10-7モルの量で用いられ
る。
び/またはアルカリ土類金属化合物を、(i)ジヒドロキ
シ化合物1モルに対して1×10-8〜1×10-3モルの
量で使用して溶融法によりポリカーボネートを製造する
と、高い重合活性で重合体を製造できるとともに、得ら
れる重合体に悪影響を及ぼさない量で後述するような酸
性化合物を添加して、これら化合物が示す塩基性を充分
に中和するかあるいは弱めることができる。
て、上記のような(a) アルカリ金属化合物および/また
はアルカリ土類金属化合物とともに(b) 塩基性化合物を
用いることも好ましい。このような(b) 塩基性化合物と
しては、たとえば高温で易分解性あるいは揮発性の含窒
素塩基性化合物が挙げられ、具体的には以下のような化
合物を挙げることができる。
(Me4NOH)、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド
(Et4NOH)、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド
(Bu4NOH)、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキ
シド(φ−CH2(Me)3NOH)などのアルキル、アリール、
アルアリール基などを有するアンモニウムヒドロキシド
類、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルベ
ンジルアミン、トリフェニルアミンなどの三級アミン
類、R2NH(式中Rはメチル、エチルなどのアルキ
ル、フェニル、トルイルなどのアリール基などである)
で示される二級アミン類、RNH2(式中Rは上記と同
じである)で示される一級アミン類、2-メチルイミダゾ
ール、2-フェニルイミダゾールなどのイミダゾール類、
グアニジン類、あるいはアンモニア、テトラメチルアン
モニウムボロハイドライド(Me4NBH4)、テトラブチル
アンモニウムボロハイドライド(Bu4NBH4)、テトラブ
チルアンモニウムテトラフェニルボレート(Bu4NBP
h4)、テトラメチルアンモニウムテトラフェニルボレー
ト(Me4NBPh4)などの塩基性塩。
ムヒドロキシド類、特に金属不純物の少ない電子用テト
ラアルキルアンモニウムヒドロキシド類が好ましく用い
られる。上記のような(b) 含窒素塩基性化合物は、(i)
ジヒドロキシ化合物合計1モルに対して、1×10-6〜
1×10-1モル以下、好ましくは1×10-5〜1×10
-2モルの量で用いることができる。
/またはアルカリ土類金属化合物と(b) 含窒素塩基性化
合物とを上記のような量で組合せて用いると、重縮合反
応を十分な速度で進行させることができ、高分子量のポ
リマーを高い重合活性で生成させることができて好まし
い。
合法では、反応生成物に酸性化合物を添加して中和する
ことが好ましい。この酸性化合物としては、ベンゼンス
ルホン酸、p-トルエンスルホン酸などのスルホン酸、ベ
ンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸エチル、
ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼンスルホン酸オクチ
ル、ベンゼンスルホン酸フェニル、p-トルエンスルホン
酸メチル、p-トルエンスルホン酸エチル、p-トルエンス
ルホン酸ブチル、p-トルエンスルホン酸オクチル、p-ト
ルエンスルホン酸フェニルなどのスルホン酸エステルな
どが用いられる。
スゲン法のような精製を行わないので、触媒を中和した
後の重合体に減圧処理を施すことが好ましい。このよう
な減圧処理をするに際しては、処理装置は特に限定され
ないが、たとえば減圧装置付反応器を用いてもよく、減
圧装置付押出機を用いてもよい。
いずれでもよいが、好ましくは横型槽型反応器が用いら
れる。減圧装置付反応器を用いての減圧処理は、圧力
0.05〜750mmHg好ましくは0.05〜5mmHg、
温度240〜350℃程度の条件下で、5分〜3時間程
度行なわれることが望ましい。
軸押出機いずれが用いられてもよく、押出機で減圧処理
をしながらペレタイズすることもできる。減圧装置付押
出機を用いての減圧処理は、圧力1〜750mmHg好ま
しくは5〜700mmHg、温度240〜350℃程度の
条件下で、10秒〜15分間程度行なうことが望まし
い。上記のような減圧処理を施すと、重合体中に残留す
る原料モノマーが低減されるかまたは完全に除去される
ので好ましい。
とのエステル 本発明に係る樹脂組成物を形成する(B)脂肪族カルボ
ン酸と多価アルコールとのエステルは、部分エステルで
あってもフルエステルであってもよく、たとえば多価ア
ルコールの部分エステル化物であってもフルエステル化
物であってもよい。
酸であっても不飽和脂肪族カルボン酸であってもよくた
とえば水素添加された動物油などが挙げられる。また価
数も特に限定されないが一価のカルボン酸であることが
好ましく、炭素数12〜24の飽和一価脂肪族カルボン
酸が特に好ましい。このような炭素数を有する脂肪族カ
ルボン酸エステルからは、熱安定性に優れた樹脂組成物
を形成することができる。なお脂肪族カルボン酸の炭素
数が11以下であると、熱安定性に優れた樹脂組成物が
得られないことがあり、また加熱成形中にガスを発生し
易くなる。一方炭素数が25以上であると、樹脂組成物
は離形性に劣る傾向がある。上記のような脂肪族カルボ
ン酸としては、具体的には、ドデシル酸、ミリスチン
酸、ペンタデシル酸、パルチミン酸、ヘプタデシル酸、
ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、
リグノセリン酸などが挙げられる。
価数を有するアルコールであれば特に限定されず、2
価、3価、4価、5価、6価のアルコールを挙げること
ができるが、エチレングリコール、グリセリン、トリメ
チルロールプロパン、ペンタエリスリトールなどが好ま
しい。
酸と多価アルコールとのエステルとして、ステアリン酸
モノグリセリド、ステアリン酸ジグリセリド、ステアリ
ン酸トリグリセリド、ペンタエルスリトールモノステア
レート、ペンタエルスリトールジステアレート、ペンタ
エルスリトールトリステアレート、ペンタエルスリトー
ルテトラステアレートなどが用いられる。
と、(B)脂肪族カルボン酸と多価アルコールとのエス
テルとから形成されるこれらの含有比率は特に限定され
ないが、重合体(A)100重量に対して、脂肪族カル
ボン酸と多価アルコールとのエステル(B)を下限量と
して0.01重量部以上、好ましくは0.04重量部以
上、かつ上限量として0.1重量部以下好ましくは、0.
08重量部以下の量で含有していることがのぞましい。
脂肪族カルボン酸と多価アルコールとのエステル(B)
をこのような量で含有していると、樹脂組成物は熱安定
性に優れ、かつ優れた成形性を発現することができる。
なお脂肪族カルボン酸と多価アルコールとのエステル
(B)の量が上記上限値より多いと、樹脂組成物は熱安
定性が低下したり、金型汚れに悪影響を及ぼすことがあ
り、一方上記下限値より少ないと離形性が不十分にな
り、成形性が悪化することがある。
の末端基自体が酸化防止剤として作用するので耐熱安定
性に優れており、他の耐熱安定剤を添加する必要がほと
んどなく、金型汚れを低減できるとともに、しかも必要
充分な離形性能を有しているので、成形が中断されるこ
とがなく連続成形を行なうことができ、成形生産性に優
れている。上記のような本発明に係る樹脂組成物は、特
に光ディスクなどの情報記録媒体用に好適に利用するこ
とができる。
添加をほとんど必要としないが、本発明の目的を損なわ
ない範囲であれば通常の耐熱安定剤を含有していてもよ
い。このような耐熱安定剤としては、具体的にはたとえ
ば、リン系安定剤、フェノール系安定剤、有機チオエー
テル系安定剤、ヒンダードアミン系安定剤などを挙げる
ことができる。
酸、次亜リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸、リン酸エス
テルおよび亜リン酸エステルを用いることができる。こ
のようなリン酸エステルとしては、具体的にはたとえ
ば、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェー
ト、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェー
ト、トリデシルホスフェート、トリオクタデシルホスフ
ェート、ジステアリルペンタエリスリチルジホスフェー
ト、トリス(2-クロロエチル)ホスフェート、トリス
(2,3-ジクロロプロピル)ホスフェートなどのトリアル
キルホスフェート、トリシクロヘキシルホスフェートな
どのトリシクロアルキルホスフェート、トリフェニルホ
スフェート、トリクレジルホスフェート、トリス(ノニ
ルフェニル)ホスフェート、2-エチルフェニルジフェニ
ルホスフェートなどのトリアリールホスフェートなどを
挙げることができる。
式で示される化合物を挙げることができる。 P(OR)3 (式中、Rは脂環族炭化水素基、脂肪族炭化水素基また
は芳香族炭化水素基を表す。これらは同一であっても異
なっていてもよい。) このような式で示される化合物としては、たとえば、ト
リメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリ
ブチルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリ
ス(2-エチルヘキシル)ホスファイト、トリノニルホス
ファイト、トリデシルホスファイト、トリオクタデシル
ホスファイト、トリステアリルホスファイト、トリス
(2-クロロエチル)ホスファイト、トリス(2,3-ジクロ
ロプロピル)ホスファイトなどのトリアルキルホスファ
イト、トリシクロヘキシルホスファイトなどのトリシク
ロアルキルホスファイト、トリフェニルホスファイト、
トリクレジルホスファイト、トリス(エチルフェニル)
ホスファイト、トリス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)ホ
スファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、
トリス(ヒドロキシフェニル)ホスファイトなどのトリ
アリールホスファイト、フェニルジデシルホスファイ
ト、ジフェニルデシルホスファイト、ジフェニルイソオ
クチルホスファイト、フェニルイソオクチルホスファイ
ト、2-エチルヘキシルジフェニルホスファイトなどのア
リールアルキルホスファイトなどを挙げることができ
る。
リルペンタエリスリチルジホスファイト、ビス(2,4-ジ
-t-ブチルフェニル)ペンタエリスリチルジホスファイ
トなどを挙げることができる。これらのうちでは、亜リ
ン酸エステルが好ましく、さらに芳香族亜リン酸エステ
ルが好ましく、特にトリス(2,4-ジ-t-ブチルフェニ
ル)ホスファイトが好ましく 用いられる。
オクタデシル-3-(4-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-ブチルフェ
ニル)プロピオネート、テトラキス[メチレン-3-(3',
5'-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト]メタン、1,1,3-トリス (2-メチル-4-ヒドロキシ-5
-t-ブチルフェニル)ブタン、ジステアリル(4-ヒドロ
キシ-3-メチル-5-t-ブチル)ベンジルマロネート、4-ヒ
ドロキシメチル-2,6-ジ-t-ブチルフェノール、ステアリ
ル-β-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロ
ピオネートなどが挙げられる。
ば、ジラウリル・チオジプロピオネート、ジステアリル
・チオジプロピオネート、ジミリスチル-3,3'-チオジプ
ロピオネート、ジトリデシル-3,3'-チオジプロピオネー
ト、ペンタエリスリトール-テトラキス-(β-ラウリル-
チオプロピオネート)などを挙げることができる。
たとえば、ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジ
ル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピ
ペリジル)セバケート、1-[2-{3-(3,5-ジ-t-ブチル-
4-ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]
-4-{3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プ
ロピオニルオキシ}-2,2,6,6-テトラメチルピペリジ
ン、8-ベンジル-7,7,9,9-テトラメチル-3-オクチル-1,
2,3-トリアザスピロ[4,5]ウンデカン-2,4-ジオン、4-
ベンゾイルオキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、2
-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)-2-n-ブチ
ルマロン酸ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジ
ル)、テトラキス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジ
ル)1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレートなどを挙げ
ることができる。
用いてもよく、(A)重合体100重量部に対して、
0.001〜5重量部 、好ましくは0.005〜0.5重
量部、さらに好ましくは0.01〜0.3重量部の量で用
いられることができる。
捕捉剤として、1分子中にエポキシ基を1個以上有する
化合物を含有していてもよい。具体的には、エポキシ化
大豆油、エポキシ化アマニ油、フェニルグリシジルエー
テル、アリルグリシジルエーテル、t-ブチルフェニルグ
リシジルエーテル、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル
-3',4'-エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、3,4
-エポキシ-6-メチルシクロヘキシルメチル-3',4'-エポ
キシ-6'-メチルシクロヘキシルカルボキシレート、2,3-
エポキシシクロヘキシルメチル-3',4'-エポキシシクロ
ヘキシルカルボキ シレート、4-(3,4-エポキシ-5-メチ
ルシクロヘキシル)ブチル-3',4'-エポキシシクロヘキ
シルカルボキシレート、3,4-エポキシシクロヘキシルエ
チレンオキシド、シクロヘキシルメチル3,4-エポキシシ
クロヘキシルカルボキシレート、3,4-エポキシ-6-メチ
ルシクロヘキシルメチル-6'- メチルシロヘキシルカル
ボキシレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテ
ル、テトラブロモビスフェノールAグリシジルエーテ
ル、フタル酸のジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフ
タル酸のジグリシジルエステル、ビス-エポキシジシク
ロペンタジエニルエーテル、ビス-エポキシエチレング
リコール、ビス-エポキシシクロヘキシルアジペート、
ブタジエンジエポキシド、テトラフェニルエチレンエポ
キシド、オクチルエポキシタレート、エポキシ化ポリブ
タジエン、3,4-ジメチル-1,2-エポキシシクロヘキサ
ン、3,5-ジメチル-1,2-エポキシシクロヘキサン、3-メ
チル-5-t-ブチル-1,2-エポキシシクロヘキサン、オクタ
デシル-2,2-ジメチル-3,4-エポキシシクロヘキシルカル
ボキシレート、N-ブチル-2,2-ジメチル-3,4-エポキシシ
クロヘキシルカルボキシレート、シクロヘキシル-2-メ
チル-3,4-エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、N
-ブチル-2-イソプロピル-3,4-エポキシ-5-メチルシクロ
ヘキシルカルボキシレート、オクタデシル-3,4-エポキ
シシクロヘキシルカルボキシレート、2-エチルヘキシル
-3',4'-エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、4,6
-ジメチル-2,3-エポキシシクロヘキシル-3',4'-エポキ
シシクロヘキシルカルボキシレート、4,5-エポキシ無水
テトラヒドロフタル酸、3-t-ブチル-4,5-エポキシ無水
テトラヒドロフタル酸、ジエチル4,5-エポキシ-シス-1,
2-シクロヘキシルジカルボキシレート、ジ-n-ブチル-3-
t-ブチル-4,5-エポキシ-シス-1,2-シクロヘキシルジカ
ルボキシレートなどを挙げることができる。
が好ましく、特に3,4-エポキシ特に3,4-エポキシシクロ
ヘキシルメチル-3',4'-エポキシシクロヘキシルカルボ
キシレートが好ましく用いられる。これらをい2種以上
組合せて用いてもよい。本発明に係る樹脂組成物は、こ
のようなエポキシ化合物は、(A)重合体に対して1〜
2000ppm の量で、好ましくは10〜1000ppm の
量で含有していてもよい。
優れ、成形時の金型汚れが少なく、かつ必要充分な離形
性を有している。したがって光ディスク等の情報記録媒
体用の材料として特に好適であり、またこのような成形
品を成形生産性よく製造することができる。
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
なお実施例および比較例では、(A)重合体として下記
のように製造したポリカーボネートを用いた。
粗ビスフェノールA(p,p-BPA)を合成した。この粗
ビスフェノールAとフェノールとを1対5(重量比)で
混合し、この混合物を80℃に加熱して均一溶液とした
後、42℃に冷却し、析出してきた固体を窒素雰囲気下
で濾過した。次いで、濾取した固体を溶融フェノールで
洗浄し、白色の固体としてビスフェノールAとフェノー
ルとの付加体を得た。この付加体は、ビスフェノールA
とフェノールが1:1のモル比で結合した付加体である
が、フェノールをビスフェノールA1モルに対して0.
58モルだけ過剰に含有する混合物の形態をなしてお
り、この混合物中におけるビスフェノールAとフェノー
ルとのモル比は、1:1.58であった。
ノールAとフェノールとを1対5(重量比)で混合し、
この混合物を80℃に加熱して均一溶液とした後、42
℃に冷却し、析出してきた固体を窒素雰囲気下で濾過し
た。次いで、濾取した固体を溶融フェノールで洗浄し、
白色の固体としてビスフェノールAとフェノールとの付
加体を得た。ビスフェノールAとフェノールとのモル比
は、1:1.52であった。
℃に加熱し、50torrに減圧してフェノールを除去し、
精製ビスフェノールA(p,p-BPA)を得た。HPLC
により分析したところ、純度は99.97重量%であっ
た。また元素分析よると、Fe、Ni、Cr含有量は
0.05ppm以下、Cl、S含有量は0.1ppm以下
であった。
ール洗浄液を回収し、減圧蒸留により、粗o,p-ビスフェ
ノール(o,p-BPA)を得た。これを、トルエン溶媒に
より晶析精製を3回繰り返して、HPLCで分析される
純度が99. 53重量%の精製o,p-BPAを得た。元素
分析よると、Fe、Ni、Cr含有量は0.05ppm
以下、Cl、S含有量は0.1ppm以下であった。
p-BPA200モル、精製o,p-BPA0.8モル(p,p-
BPA1モルに対して4×10-3モル)、フェノール8
モル、ジクロロメタン200リットルおよびイオン交換
水200リットルを入れ、窒素を吹き込みながら懸濁液
とした。
ナトリウム60gおよび水酸化ナトリウム540モルを
溶解した水溶液を110リットル添加し、15℃で上記
のジヒドロキシ化合物を溶解した。この溶液にホスゲン
250モルを4.2モル/分の速度で供給した。反応温
度は36℃まで上昇した。
ミン32gを添加して、反応液をさらに60分間攪拌
し、重合反応を行った。その後、反応液を静置し、有機
層を分液し、塩酸により中和し、電解質がなくなるまで
イオン交換水で洗浄した。得られたポリカーボネートの
ジクロロメタン溶液にトルエン100リットル、イオン
交換水250リットルを加え、98℃まで加熱すること
によりジクロロメタンとトルエンを留去して、ポリカー
ボネートの粉体を得た。
ボネート(以下PC(1)という)の極限粘度〔IV〕
は0.35dl/gであり、o,p-BPA由来の末端基(一
般式[I])は全末端基中9%であった。
製p,p-BPA200モル、精製o,p-BPA0.8モル:
p,p-BPA1モルに対して4×10-3モル)0.44キ
ロモルと、ジフェニ ルカーボネート0.48キロモルと
を、250リットル槽型攪拌槽に仕込み、窒素置換をし
た後に、140℃で溶融した。
媒として水酸化ナトリウムを0.000176モル(4
×10-7モル/モル−ビスフェノールA)およびテトラ
メチルアンモニウムヒドロキシドを0.11モル(2.5
×10-4モル/モル−ビスフェノールA)添加し30分
間攪拌した。
時に除々に200mmHgまで下げて30分後温度を24
0℃まで昇温させると同時に徐々に15mmHgまで下げ
て、温度圧力を一定に保ち留出するフェノールの量を測
定し、留出するフェノールがなくなった時点で窒素にて
大気圧に戻した。反応に要した時間は1時間であった。
得られた反応物の極限粘度[IV]は0.15dl/gで
あった。
心式薄膜蒸発機に送入し、反応を進めた。薄膜蒸発機の
温度、圧力はそれぞれ270℃、2mmHgにコントロー
ルした。蒸発機下部よりギヤポンプにて270℃、0.
2mmHgにコントロールされた二軸横型攪拌重合槽(L
/D=3、攪拌翼回転直径220mm、内容積80リット
ル)に40kg/時間で送り込み、滞留時間30分にて重
合させた。
ヤポンプにて二軸押出機(L/D=17.5、バレル温
度270℃)に送入し、ポリマーに対して、p-トルエン
スルホン酸ブチル0.7ppm を添加して混練し、ダイを
通してストランド状とし、カッターで切断してペレット
とした。
ト(以下PC(2)という)の極限粘度〔IV〕は0.
35dl/gであった。o,p-BPA由来の末端基(一般式
[I])は全末端基中7%であった。
えて市販のBPA200モルを用い、精製o,p-BPAを
使用しなかった以外は、製造例1と同様にポリマーを得
た。上記製造例3で製造されたポリカーボネート(以下
PC(3)という)の極限粘度〔IV〕は0.35dl/
gであった。o,p-BPA由来の末端基(一般式[I])
は全末端基中0%であった。
トPC(1)またはPC(2)それぞれ100重量部に
対して、各成分を表1に示す量で配合して、一軸押出機
(L/D=17.5)を用いて260℃で溶融混練し、樹
脂組成物のペレットを得た。
とのエステル SMG:ステアリン酸モノグリセリド PEMS:ペンタエリスリトールモノステアレート PETS:ペンタエリスリトールテトラステアレート 添加剤 stab.-1:アデカスタブ マークIIAO50:旭電化工
業(株)製フェノール系酸化防止剤(ステアリル-β-
(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネ
ート 得られた樹脂組成物から、ディスク成形機(住友重機械
工業製DISK3成形機)およびニッケル製鏡面スタンパー
を用いて、シリンダー温度330℃、1サイクル6.5
秒、金型温度80℃の条件で、直径12cm×1.2m
m厚のディスク基板に成形した。この基板について、
(1)黄色度、(2)光線透過率、(3)ヘイズを下記
のように評価した。結果を表1に示す。また樹脂組成物
の(4)滞留安定性、(5)連続成形性および金型汚れ
についても下記のように評価した結果を表1に示す。
eter ND-1001 DP を用いて上記基板のX、Y、Z値を透
過法で測定し、黄色度〔YI〕を求めた。 YI=100(1.277X−1.060Z)/Y (2)光線透過率 ASTM D 1003の方法に従って上記基板の光線
透過率を測定した。 (3)ヘイズ 日本電色工業( 株) 製NDH−200を用い、上記基板
のヘイズを測定した。
樹脂を滞留させた後、その温度で成形を行い、色相(Y
I)を測定した。
5秒、金型温度80℃に設定し、ニッケル製鏡面スタン
パーを用いて連続10000ショット成形した際の、デ
ィスク取り出し不良率を連続成形性の指標とした。また
連続10000ショット後のスタンパー表面を目視にて
観察し、金型汚れを評価した。
C(1)を実施例1と同様に評価した。結果を表1に示
す。
ートPC(3)100重量部に対して、各添加剤を表1
に示す量で配合した以外は実施例1と同様にして樹脂組
成物を得た。結果を表1に示す。
Claims (6)
- 【請求項1】(A)(i)ジヒドロキシ化合物と、(ii)ホ
スゲン類、炭酸ジエステル類またはジカルボン酸類との
反応により形成される繰返し単位を有し、かつ末端基の
少なくとも一部が下記一般式[I]で示される重合体; 【化1】 および、 (B)脂肪族カルボン酸と多価アルコールとのエステル
からなることを特徴とする樹脂組成物。 - 【請求項2】(A)重合体100重量部に対して、
(B)脂肪族カルボン酸と多価アルコールとのエステル
を0.01〜0.1重量部の量で含有する請求項1に記載
の樹脂組成物。 - 【請求項3】前記(A)重合体が、上記一般式[I]で
示される末端基を全末端中0.1〜10%の割合で含有
することを特徴とする請求項1または2に記載の樹脂組
成物。 - 【請求項4】前記(A)重合体が、(i)ジヒドロキシ化
合物と、ホスゲン類または炭酸ジエステル類とから導か
れるポリカーボネートであることを特徴とする請求項
1、2または3に記載の樹脂組成物。 - 【請求項5】前記(B)脂肪族カルボン酸と多価アルコ
ールとのエステルを形成する脂肪族カルボン酸が、炭素
数12〜24の飽和一価脂肪族カルボン酸である請求項
1〜4のいずれかに記載の樹脂組成物。 - 【請求項6】前記(B)脂肪族カルボン酸と多価アルコ
ールとのエステルを形成する多価アルコールが、エチレ
ングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパンま
たはペンタエリスリトールである請求項1〜5のいずれ
かに記載の樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33966395A JP3494789B2 (ja) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | 樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33966395A JP3494789B2 (ja) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | 樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09176474A JPH09176474A (ja) | 1997-07-08 |
JP3494789B2 true JP3494789B2 (ja) | 2004-02-09 |
Family
ID=18329635
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33966395A Expired - Fee Related JP3494789B2 (ja) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | 樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3494789B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19859050A1 (de) * | 1998-12-21 | 2000-06-29 | Bayer Ag | Neue Polymergemische mit Entformungsmitteln |
JP4499049B2 (ja) * | 2006-03-07 | 2010-07-07 | 出光興産株式会社 | ブルーレイディスク基板用成形材料及びエイチ・ディー・デジタルバーサタイルディスク基板用成形材料 |
JP5905655B2 (ja) * | 2007-04-25 | 2016-04-20 | 帝人株式会社 | ポリカーボネート樹脂組成物 |
JP2008274008A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-13 | Teijin Ltd | ポリカーボネート樹脂組成物 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09176474A (ja) | 1997-07-08 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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