JP2647648B2 - 水なし平版印刷版の処理方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、湿し水なしに印刷が可能な水なし平版印刷
版の処理方法に関するものである。

［従来の技術］ 水なし平版印刷とは、画線部と非画線部とを基本的に
ほぼ同一平面に存在させ、画線部をインキ受容性、非画
線部をインキ反撥性とし、インキの付着性の差異を利用
して、画線部のみにインキを着肉させたのち、紙などの
被印刷体にインキを転写して印刷する平版印刷方法にお
いて、非画線部がシリコーンゴム、含むフッ素化合物な
どのインキ反撥性を有する物質層からなり、湿し水を用
いずに印刷可能であることを特徴とする印刷方法を意味
する。ところで、この水なし平版印刷版として実用上優
れた性質を有しているものとしては、インキ反撥性を有
している物質層としてシリコーンゴム層を利用したも
の、例えば、ポジティブワーキング用としては、特公昭
54−26923などが、またネガティブワーキング用として
は、特開昭55−59466や特開昭56−80046などがある。特
に、特開昭56−80046はネガティブワーキング用として
実用性の高い性能を有した版材構成について述べたもの
と言える。ここに提案された印刷版は、支持体に裏打ち
された光剥離性感光層の上にシリコーンゴム層を設けた
予備増感された平版印刷版である。

かかる構成による印刷版は、ネガパターンのフィルム
を通して、活性光線で露光することにより、露光部の感
光層が変化し、現像液で現像することにより、実質的に
露光部分のシリコーンゴム層のみが除去され、光剥離性
感光層が露出して、画線部となるものである。しかし、
このような版構成では、未露光部の非画線部となってい
るシリコーンゴム層を保持しているところの光剥離性感
光層中の感光性物質は、現像処理後においても、その感
光性を当然保持している。そして、太陽光、室内灯など
のもとで暴露されることにより、徐々に感光し変化して
ゆく。

このような変化によって、現像処理直後に比較して、
非画線部の感光層の物性、とりわけ、耐溶剤性が変化し
てしまう。印刷版は、印刷工程において、版面洗浄液あ
るいは印刷インキなどに含まれる各種の有機溶媒に接触
する。この場合、現像工程において、いかに良好な画像
が再現されようとも、先に述べた暴露により、有機溶媒
に対する耐性が劣化して、非画線部のシリコーンゴム層
を保持できなくなり、該シリコーンゴム層の剥離、脱落
などが生じる可能性がある。

また、紫外線硬化型インキなどを用いる場合、インキ
組成物中の溶剤成分や、これらのインキで汚れた版面を
洗浄する際に用いる洗浄液成分として、ジアセトンアル
コールやメチルセロソルブ、ブチルセロソルブといった
非常に極性の高い有機溶媒が一般に用いられている。こ
れらの溶媒と版面が接触した場合、現像処理直後の刷版
といえども感光層の耐溶剤性の不足から、非画線部のシ
リコーンゴム層の剥離、脱落が生じてしまうことがあ
る。

このような問題を解決する方法としては、例えば、特
開昭55−70847に提案されている現像工程を経たのち、
印刷版を熱処理する方法が挙げられる。

この処理方法は、非画線部の感光層を熱的に化学変化
せしめ、感光層の耐溶剤性を向上させることにより、シ
リコーンゴム層を保持せしめるというものである。しか
し、この処理方法の場合、確実にその効果を発現させる
ためには、100℃から200℃の高温のもとで、少なくとも
数分以上加熱することが必要であり、熱処理後の冷却時
間などを含めると、その作業性は極めて悪く、また、基
板がアルミ板などの金属板と比較して熱的寸法安定性の
悪いプラスチックフィルムなどの場合には採用できな
い。

［発明が解決しようとする問題点］ 本発明は、上記の水なし平版印刷版の感光層の耐溶剤
性を向上させ、非画線部シリコーンゴム層の剥離、脱落
などを防ぐための有効かつ簡便な方法を提供しようとす
るものである。

［問題点を解決するための手段］ 本発明は、基板上に、エステル化度が20〜44％のオル
トキノンジアジド化合物を含有する感光層、インキ反撥
性層を順次積層した水なし平版印刷版を、露光現像処理
したのち、版面に350nm以下の波長の紫外線を含む活性
光線を照射することを特徴とする水なし平版印刷版の処
理方法である。

オルトキノンジアジド化合物としては、分子内に1,2
−キノンジアジドあるいは、1,2−ナフトキノンジアジ
ド構造を有するもので通常よく用いられるのは、スルホ
ン酸誘導体、例えばオルトキノンジアジドスルホン酸お
よびその誘導体と水酸基、アミノ基を持つ化合物（特に
高分子化合物）との反応で得られるエステルあるいはア
ミドである。本発明に適用しうるエステルとしては、例
えば、ベンゾキノン−1,2−ジアジドスルホン酸とポリ
ヒドロキシフェニルとのエステル、ナフトキノン−1,2
−ジアジドスルホン酸とピロガロールアセトン樹脂との
エステル、ナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸と
フェノールホルムアムデヒドノボラック樹脂とのエステ
ルなどがある。

本発明を実施する場合の感光層として好適なものは、
例えば、エステル化度が20から80％好ましくは20から44
％のノボラック樹脂のナフトキノン−1,2−ジアジド−
５−スルホン酸部分エステル化物である。ここで言うノ
ボラック樹脂とは、フェノールまたはクレゾールをホル
ムアルデヒドと縮合して得られるノボラック型フェノー
ル樹脂である。また、本発明に適用しうる感光層として
は、上記の公知のキノンジアジド化合物を、多官能化合
物で架橋せしめるか、あるいは、単官能化合物と結合さ
せるなどして変性した構造を有するものも含まれる。上
記の架橋構造を導入させるために用いられる化合物とし
ては、多官能イソシアナート類、例えば、パラフェニレ
ンジイソシアナート、4,4′−ジフェニルメタンジイソ
シアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、イソホ
ロンジイソシアナート、もしくはこれらのアダクト体な
ど、あるいは、多官能エポキシ化合物、たとえばポリエ
チレングリコールジグリシジルエーテル類、ポリプロピ
レングリコールジグリシジルエーテル類、ビスフェノー
ルＡジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパント
リグリシジルエーテルなどがある。これらの架橋反応
は、加熱することにより進行するが、この加熱範囲は、
キノンジアジド化合物の熱分解を急速に進行させないた
めには、通常150℃以下で行なう必要があり、一般には
触媒などが併用される。また、変性せしめる方法として
は、該感光性化合物の活性な基を、例えば、エステル
化、アミド化、ウレタン化することなどが挙げられる。
該感光性化合物の活性な基と反応させる化合物として
は、低分子であっても比較的高分子であっても良いし、
該感光性化合物にモノマーをグラフト重合させるなどの
方法でも良い。本発明で用いられる感光層に架橋構造を
導入せしめる方法として好適なものは、ナフトキノン−
1,2−ジアジド−５−スルホン酸とフェノールホルムア
ルデヒドノボラック樹脂の部分エステル化物を多官能イ
ソシアナートで架橋するものが挙げられる。

本発明で用いられる感光層の厚さは、約0.1から100ミ
クロン、好ましくは、約0.5から10ミクロンが適当であ
る。また、本発明で用いられる感光層中には、本発明の
効果を損わない範囲で、塗膜形成性向上や、支持体との
接着性向上などの目的で、上記以外の成分を加えたり、
また現像時あるいは、露光時に像を可視化するために塗
料などを加えたりすることも可能である。

本発明に用いられるインキ反撥性層としては、シリコ
ーンゴム、含フッ素化合物（例えば分子中にフッ素を有
するゴムなど）が挙げられるが、特にシリコーンゴムが
好ましく用いられる。このようなシリコーンゴム層は、
線状ポリジオルガノシロキサンに、必要に応じて架橋剤
および触媒を添加したシリコーンガム組成物を適当な溶
媒で希釈したものを、該感光層中に塗布し、加熱乾燥し
硬化させることにより形成される。ここで言う線状ポリ
ジオルガノシロキサンは、下記の一般式で示されるよう
な繰返し単位を有するポリマーで、ＲおよびＲ′は炭素
数１から10のアルキル、ビニル、炭素数６から10のアリ
ール基であり、それらは他の適当な置換基を有していて
も良い。またポリマー主鎖にそって、繰返し単位が異な
っても良い。一般的には、ＲおよびＲ′の60％以上がメ
チル基であり、40％以下がビニル基、フェニル基、ある
いはハロゲン化フェニル基などであるものが好ましい。

このような線状ポリジオルガノシロキサンは、例えば
有機過酸化物の添加などにより強固に架橋させることが
できるが、本発明の目的を有利に遂行するには縮合型の
架橋を行なわせるのが好ましい。中でも、両末端が水酸
基の線状ポリジオルガノシロキサン（数平均分子量5,00
0から1,000,000）に、縮合型の架橋剤、またはその縮合
物を添加して縮合架橋せしめるようにするのが有利であ
る。ここで述べた縮合型の架橋剤としては次の一般式で
示されるようなものが好ましい。

Rm・Si・Xn （ｍ＋ｎ＝４、ｎは２以上の整数） ここでＲは先に説明したＲと同じ意味であり、Ｘは次
に示すような置換基である。

Cl,Br,Iなどのハロゲン ＨまたはOH,OCOR₁,OR₂, などの有機置換基。

ここでR₁,R₂,R₃,R₄,R₅,R₆は炭素数１から10のアルキ
ル基または置換アルキル基またはフェニル基または置換
フェニル基を示す。R₇は３から10の置換もしくは非置換
のアルキレン基を示す。このような縮合型の架橋を行な
うシリコーンガム組成物には反応促進の目的で、錫、亜
鉛、鉛、カルシウム、マンガンなどの金属の有機カルボ
ン酸塩、たとえばラウリン酸ジブチルスズ、オクチル酸
鉛、ナフテン酸鉛など、あるいは塩化白金酸のような触
媒を添加してもよい。

本発明において用いられるシリコーンガム組成物の好
ましい組成比は次のようなものである。

線状ポリジオルガノシロキサン（数平均分子量5,00
0から1,000,000） 100重量部 縮合型架橋剤 ３から70重量部 触媒 ０から10重量部 上記のシリコーンガム組成物の溶媒としては、パラフ
ィン系炭化水素、イソパラフィン系炭化水素、シクロパ
ラフィン系炭化水素および芳香族炭化水素、さらには、
これらの混合物などが有利に用いられる。このような炭
化水素類の代表的な例としては、石油の分留品およびそ
の改質品などがある。

本発明に用いられるシリコーンゴム層の厚さは、耐刷
力およびインキ反撥性をある程度以上に保ち、かつ良好
な現像性を維持する点から、約0.5から約100ミクロン、
より好ましくは約0.5から約10ミクロンがよい。

本発明に用いられる水なし平版印刷版において、基板
と感光層、感光層とシリコーンゴム層との間の接着は、
画像再現性や耐刷力などの基本的な版性能にとり、極め
て重要であるので、必要に応じて、各層間に接着剤層を
設けたり、各層に接着改良成分を添加したりすることが
可能である。特に感光層とシリコーンゴム層間の接着の
ために、層間に公知のシリコーンプライマーやシランカ
ップリング剤層を設けたり、シリコーンゴム層あるいは
感光層にシリコーンプライマーやシランカップリング剤
を添加すると効果的である。

本発明に用いられる平版印刷版の基板としては、通常
の平版印刷機に取り付けられるたわみ性と印刷時に加わ
る荷重に耐えうるものでなければならない。代表的なも
のとしては、アルミ、銅、鉄などの金属板、ポリエステ
ルフィルムやポリプロピレンフィルムなどのプラスチッ
クフィルムあるいはコート紙、ゴムなどが挙げられる。

該基板は、これらが複合されたものであってもよい。
また、これらの基板上にハレーションなどを防止する目
的で、さらにコーティングなどを施して基板とすること
も可能である。

以上説明したようにして構成された水なし平版印刷版
のシリコーンゴム層側の表面には、本発明の効果を損わ
ない範囲で、シリコーンゴム層を保護するなどの目的で
保護フィルムをラミネートすることも可能である。

以上説明したような構成を持つ水なし平版印刷版は、
一般に用いられるコーティングの手法によって製造され
る。

次に水なし平版印刷版の露光現像工程について説明す
る。上記の水なし平版印刷版は、例えば真空密着された
ネガフィルムを通して通常の光源により露光される。こ
の通常の露光工程で用いられる光源としては、例えば高
圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ、メタル
ハライドランプ、螢光灯などがある。これらの光源は、
いずれもその発光波長の分布に、350nm以下の波長の紫
外線を含むが、実際の露光機においては、短波長側の紫
外線をカットするガラス、即ち短波長紫外線遮光用透明
板が光源と印刷用原版との間に存在するので、該印刷用
原版に到達しうる350nm以下の波長の紫外線は事実上非
常に少ない。

このような通常の露光を行なったのち、版面を現像液
を含んだ現像用パッドでこすると、露光部のシリコーン
ゴム層が除去され、インキ受容部が露出する。該感光層
が架橋されたり、変性されたりしていない場合、その膜
厚の一部もしくは全部が現像処理過程において脱落し、
現像処理の後、露出した表面がインキ受容部となる。ま
た、架橋されたり、変性されたりすることにより、現像
液に対して不溶化させられた感光層の場合は、実質的に
その厚みを減ずることなく残存し、その露出した感光層
表面がインキ受容部となる。

次に、本発明で提案されている刷版の処理方法につい
て説明する。上記のようにして、通常の露光現像処理し
て得られた刷版を以下に説明するような350nm以下の波
長の紫外線を含む活性光線で照射することにより、感光
層の耐溶剤性を向上する。本発明に用いられる光源は35
0nm以下の波長の紫外線を含むものであれば基本的には
制限を受けない。すなわち、一般に用いられている高圧
水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン
ランプ、カーボンアーク灯などが使用され得る。ただし
上記したような理由から、通常の露光光源の場合、刷版
表面に到達しうる350nm以下の波長の紫外線は、非常に
少ない。従って、本発明の効果を効果的に発現させるた
めに、350nm以下の波長の紫外線が刷版表面に豊富に照
射されるように工夫する必要がある。例えば、高圧水銀
灯は、314,335,365,436,546,578nmなどの輝線スペクト
ルを主な発光ピークとして有するが、314,335nmの発光
ピークは、上記した短波長側の紫外線をカットするガラ
ス、即ち短波長紫外線遮光用透明板が、露光光源と印刷
用原版との間に存在するため、ほぼ完全に遮断され、刷
版表面には到達し得ない。従って、本発明の効果を効果
的に発現させるためには、該短波長紫外線遮光用透明板
を、光源と印刷用原版との間から取り除き、314,335nm
の波長の光を刷版表面に有効に到達させる必要がある。
すなわち、光源自身にいかに多くの350nm以下の波長の
紫外線が含まれていても、光源と刷版表面との間には該
短波長側の紫外線を遮るガラス板などが存在すると、そ
の効果は発現しにくいので、これらのガラス板などは取
り除くことが望ましい。

すなわち、刷版表面に到達する該波長範囲の紫外線の
光量が多いと、その効果の発現の度合は大きい。

350nm以下の波長の紫外線を主体とする露光光源とし
ては、前述の高圧水銀灯のような各種輝線スペクトルを
主な発光ピークとしてもつ光源を用い、これを回折格子
などを用いて単色光に分光し、この分光された単色光の
中から350nm以下の成分を集光し、これを露光光源とし
て用いることができる。

照射時間は、光源の種類、照射光強度によって様々で
あるが、通常１秒から10分であり、350nm以下の波長の
紫外線が豊富に照射される光源であるほど短時間の照射
時間でその効果が発現する。以下に実施例を示し、本発
明をさらに詳しく説明する。

実施例１ 住友金属（株）製、化成処理アルミ板（厚さ0.3mm
に、下記の感光層組成物を回転塗布し、120℃、２分間
加熱処理して、厚さ3.5ミクロンの感光層を設けた。

（ａ） エステル化度44％のフェノールノボラック樹脂
（スミライトレジンPR50235,住友デュレス（株）製）の
ナフトキノン−1,2−ジアジド−５−スルホン酸エステ
ル 100 重量部 （ｂ） 4,4′−ジフェニルメタンジイソシアナート 20 重量部 （ｃ） ジブチル錫ジラウレート 0.2重量部 （ｄ） メチルセロソルブアセテート 2000 重量部 続いて、この上に下記の組成のシリコーンガム組成物
を回転塗布後、120℃、２分で加熱硬化して、厚さ2.2ミ
クロンのシリコーンゴム層を設けた。

（ａ） 両末端OHのポリジメチルシロキサン（分子量30
00） 100 重量部 （ｂ） ビニルトリ（メチルエチルケトキシム）シラン ８ 重量部 （ｃ） γ−アミノプロピルトリエトキシシラン 0.1重量部 （ｄ） ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 （ｅ） アイソパーＥ（エッソ（株）製）1800 重量部 上記のようにして得られた印刷原版に150千／インチ
の網点画像を持つネガフィルムを真空密着し、メタルハ
ライドランプ（アイドルフィン2000、2KW、岩崎電気
（株）製、365,400,420,435nmに主な発光ピークあ
り。）を用いて1mの距離から、350nm以下の短波長側の
紫外線を遮るガラス板を通じて、60秒露光した。

現像液（アイソパーE/エタノール＝9:1,重量比）に約
１分間浸漬し、現像パッドで軽くこすると露光部シリコ
ーンゴム層のみが除去され、ネガフィルムの画像を忠実
に再現した、感光層の露出した印刷版が得られた。

この印刷版を、高圧水銀灯（100W,大科工業（株）製,
314,335,365,436,546,578nmに主な発光ピークあり。）
を用いて、10cmの距離から短波長側の紫外線を遮るガラ
ス板を取り除いて、15秒間全面露光した。その後、10g/
cm²の荷重をかけて、UVインキ“ダイキュア”用のロー
ラー洗い油（大日本インキ（株）製）［UVインキ“ダイ
キュア”を刷版から洗い落す際用いる洗浄液］を含ませ
たソフパッド（大日本スクリーン（株）販売）付きのヘ
ッドを備えた摩擦堅牢度試験機でこすりテストした。そ
の結果、約1000回の往復こすり後でもシリコーンゴム層
の剥離は見られなかった。

比較例１ 実施例１と同じ構成の水なし平版印刷版を、同様の現
像処理で刷版としたのち、紫外線照射処理せずに、“ダ
イキュア”用のローラー洗い油を用いて、実施例１と同
様の摩擦堅牢度試験を行なった。その結果、約100回の
往復こすりの時点でシリコーンゴム層の脱落を生じた。

実施例２ 実施例１のアルミ板を東レ（株）製ポリエステルフィ
ルム“ルミラー”（80ミクロン）に代えて、実施例１と
同じ組成で水なし平版印刷原版を作製した後、同様の通
常の露光現像処理を行ない、刷版とした。その後、刷版
を低圧水銀灯（30W,大科工業（株）製,254,365nmに主な
発光ピークあり。）を用いて、10cmの距離で、短波長側
の紫外線を遮るガラス板を取り除いて、15秒間全面露光
した。その後、“ダイキュア”用のローラー洗い油を用
いて、実施例１と同様の摩擦堅牢度試験機でこすりテス
トした。その結果、約1000回の往復こすりでもシリコー
ンゴム層の剥離は見られなかった。またフィルムには熱
などによるしわは、一切発生しなかった。

比較例２ 東レ（株）製ポリエステルフィルム“ルミラー”（80
ミクロン）の上に実施例１と同じ組成で水なし平版印刷
原版を作製した後、同様の通常の露光現像処理で刷版と
した。その後、刷版を160℃で10分間熱処理した。その
結果、刷版に印刷版として不適当な熱によるしわが発生
した。また120℃で20分間熱処理したところ、しわは非
常に軽微になったが、“ダイキュア”用のローラー洗い
油を用いて、実施例１と同様の摩擦堅牢度試験を行なっ
た結果、約500回から600回の往復こすりでシリコーンゴ
ム層に傷が発生した。

実施例３ 実施例１と同様の構成の水なし平版印刷原版を、同様
の露光現像処理で刷版とした後、メタルハライドランプ
（アイドルフィン2000,2KW,岩崎電気（株）製）下50cm
の距離で、短波長側の紫外線を遮るガラス板を取り除い
て、10秒間全面照射した。

その後、“ダイキュア”用のローラー洗い油を用い
て、実施例１と同様の摩擦堅牢度試験を行なった。その
結果、約1000回の往復こすり後でもシリコーンゴム層の
剥離や傷は見られなかった。

実施例４ 住友金属（株）製の化成処理アルミ板（厚さ0.3mm）
に下記の組成の感光層組成物を回転塗布し、120℃で２
分間加熱処理して厚さ3.8ミクロンの感光層を設けた。

（ａ） エステル化度44％のフェノールノボラック樹脂
（スミライトレジンPR50235,住友デュレス製）のナフト
キノン−1,2−ジアジド−５−スルホン酸エステル 100重量部 （ｂ） ジオキサン 1500重量部 続いて、この上に下記の組成のシリコーンガム組成物
を回転塗布後、120℃で２分間加熱硬化させて、厚さ３
ミクロンのシリコーンゴム層を設けた。

（ａ） 両末端OHのポリジメチルシロキサン（分子量8
0,000） 100 重量部 （ｂ） ビニルトリ（メチルエチルケトオキシム）シラ
ン ６ 重量部 （ｃ） ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 （ｄ） ジｎ−ブトキシビス（アセチルアセトナート）
チタン ２ 重量部 上記のようにして得られた印刷原版を用いて、実施例
１と同様の露光現像および紫外線照射処理を行ない、そ
の後“ダイキュア”用のローラー洗い油を用いて実施例
１と同様の摩擦堅牢度試験を行なった。その結果、約10
00回の往復こすり後もシリコーンゴム層の脱落は見られ
なかった。

比較例２ 実施例３と同様の構成の水なし平版印刷原版を、同様
の露光現像処理をして刷版とした。この刷版を何も後処
理せずに、“ダイキュア”用ローラー洗い油を用いて実
施例１と同様の摩擦堅牢度試験を行なったところ、約50
回から100回の往復こすりでシリコーンゴム層の脱落が
生じた。

［発明の効果］ 本発明は、特定のエステル化度のオルトキノンジアジ
ド化合物を感光層に有する水なし平版印刷版の後処理と
して、短波長紫外線の照射という簡便な操作を行うこと
によって良好な画像再現性を有しながら、短時間に効率
的に刷版の耐溶剤性を確実に向上させることができる上
に、熱的寸法安定性の悪い基板を用いた場合にも、寸法
を狂わすことなく簡便に、耐溶剤性を向上させることが
できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−70847（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−135943（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−45247（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−18035（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−169852（ＪＰ，Ａ)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に、エステル化度が20〜44％のオル
   トキノンジアジド化合物を含有する感光層、インキ反撥
   性層を順次積層した水なし平版印刷版を、露光現像処理
   したのち、版面に350nm以下の波長の紫外線を含む活性
   光線を照射することを特徴とする水なし平版印刷版の処
   理方法。
2. 【請求項２】光線と被照射物の間に短波長紫外線遮光用
   透明板を有しない露光機を用いて活性光線を照射するこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の水なし
   平版印刷版の処理方法。