JP2625453B2 - パターン膜形成法 - Google Patents
パターン膜形成法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は金属アルコキシドゾルを加水分解によりゲル
化し、さらに焼成するいわゆるゾル−ゲル法を適用して
酸化物等の被膜を任意の形状にパターニングする方法に
関するもので、その利用分野は電子材料、光学材料、装
飾用材料等多岐にわたる。
化し、さらに焼成するいわゆるゾル−ゲル法を適用して
酸化物等の被膜を任意の形状にパターニングする方法に
関するもので、その利用分野は電子材料、光学材料、装
飾用材料等多岐にわたる。
(従来技術とその問題点) 従来薄膜のパターニングの方法としては、所望パター
ンにマスキングした基板に真空蒸着、スパッタリング等
公知のPVD法を適用する方法や、SnO2やITOなどの半導体
薄膜等において、まずフォトリソグラフィーでレジスト
のパターニングを行ない次に酸や金属塩化物水溶液によ
り、あるいは金属粉末と酸を反応させ、発生する水素を
利用してエッチングする方法、他の例としてはレーザー
スキャニングによるパターニング法などが公知である。
しかしながらこれらの方法ではSiO2、TiO2、ZrO2あるい
はAl2O3などの酸化物やTiN、SiNなどの窒化物等耐食性
薄膜をパターニングするうえで必ずしも効果的でなく、
あるいは人体に有害な弗酸などの侵食性の著しい薬品を
用いる必要があるなどの弊害もある。
ンにマスキングした基板に真空蒸着、スパッタリング等
公知のPVD法を適用する方法や、SnO2やITOなどの半導体
薄膜等において、まずフォトリソグラフィーでレジスト
のパターニングを行ない次に酸や金属塩化物水溶液によ
り、あるいは金属粉末と酸を反応させ、発生する水素を
利用してエッチングする方法、他の例としてはレーザー
スキャニングによるパターニング法などが公知である。
しかしながらこれらの方法ではSiO2、TiO2、ZrO2あるい
はAl2O3などの酸化物やTiN、SiNなどの窒化物等耐食性
薄膜をパターニングするうえで必ずしも効果的でなく、
あるいは人体に有害な弗酸などの侵食性の著しい薬品を
用いる必要があるなどの弊害もある。
ゾル−ゲル法におけるパターンエッチングの例では、
基板にシリコンアルコキシドゲルを被覆し、加熱硬化後
その上に所望パターンの耐アルカリレジスト膜を形成
し、レジスト膜の被覆されない不要部をアルカリエッチ
ングし除去する方法(特開昭60−1171号)や、基板をパ
ターンエッチングする一過程で、金属アルコキシドゲル
を加熱硬化させた膜上に所望パターンにレジスト膜を形
成し、不要部の硬化膜を反応性ガス等によりエッチング
する方法(特開昭59−6541号)等が公知である。
基板にシリコンアルコキシドゲルを被覆し、加熱硬化後
その上に所望パターンの耐アルカリレジスト膜を形成
し、レジスト膜の被覆されない不要部をアルカリエッチ
ングし除去する方法(特開昭60−1171号)や、基板をパ
ターンエッチングする一過程で、金属アルコキシドゲル
を加熱硬化させた膜上に所望パターンにレジスト膜を形
成し、不要部の硬化膜を反応性ガス等によりエッチング
する方法(特開昭59−6541号)等が公知である。
これらの方法は共通してゲルを熱処理乾燥して硬膜と
し、その必要部にレジスト膜を施して不要部をエッチン
グ除去することを提唱しているが、すでに硬膜化するこ
とにより耐食性の増大した塗膜をエッチングすることは
効率が悪く、長時間あるいは侵食力の強い酸、アルカリ
でエッチングする必要がある。さらに塗膜必要部への侵
食も生じ易く精緻なパターン形成が困難となる等の問題
があり効果的な方法とは言い難い。
し、その必要部にレジスト膜を施して不要部をエッチン
グ除去することを提唱しているが、すでに硬膜化するこ
とにより耐食性の増大した塗膜をエッチングすることは
効率が悪く、長時間あるいは侵食力の強い酸、アルカリ
でエッチングする必要がある。さらに塗膜必要部への侵
食も生じ易く精緻なパターン形成が困難となる等の問題
があり効果的な方法とは言い難い。
本発明はこれらの問題点に鑑み鋭意検討の結果達成し
たものであり、特別な装置を要せずに容易かつ低コスト
で被膜をパターンエッチングする方法を提供することを
目的とする。
たものであり、特別な装置を要せずに容易かつ低コスト
で被膜をパターンエッチングする方法を提供することを
目的とする。
(問題点を解決するための手段) 本発明は金属アルコキシドゾルを基板に被覆し、加水
分解によりゲル膜となし、該ゲル膜を所望パターンに選
択エッチングした後、焼成するパターン膜形成法におい
て、選択エッチングは、ゲル膜不要部にゲル分解性の粘
稠液を被覆、浸透させ、数百℃程度での熱処理の後、洗
浄により該ゲル膜不要部を溶出除去するようにしたこと
を特徴とする。
分解によりゲル膜となし、該ゲル膜を所望パターンに選
択エッチングした後、焼成するパターン膜形成法におい
て、選択エッチングは、ゲル膜不要部にゲル分解性の粘
稠液を被覆、浸透させ、数百℃程度での熱処理の後、洗
浄により該ゲル膜不要部を溶出除去するようにしたこと
を特徴とする。
通例ゾル−ゲル法においては、金属アルコキシドをア
ルコール中に分散したものに水を添加することにより、
加水分解してゲル化する。これを自然乾燥あるいは100
℃以下の低温乾燥を行うことにより表面固化するが、未
だアルキル基や水酸基等が多く残留していて安定した状
態にはなっていない。これを湿潤ゲルと称する。次に数
百℃程度で熱処理することにより上記残留成分が揮散し
酸化物となるが、これを硬化体、特に膜形成においては
硬膜と称する。この段階においては多孔質であって緻密
体ではないので脆く、充分使用に耐える状態にはなって
いない。したがってシンター温度付近まで加熱すること
により緻密化する。
ルコール中に分散したものに水を添加することにより、
加水分解してゲル化する。これを自然乾燥あるいは100
℃以下の低温乾燥を行うことにより表面固化するが、未
だアルキル基や水酸基等が多く残留していて安定した状
態にはなっていない。これを湿潤ゲルと称する。次に数
百℃程度で熱処理することにより上記残留成分が揮散し
酸化物となるが、これを硬化体、特に膜形成においては
硬膜と称する。この段階においては多孔質であって緻密
体ではないので脆く、充分使用に耐える状態にはなって
いない。したがってシンター温度付近まで加熱すること
により緻密化する。
本発明においては、前記湿潤ゲルの状態においてゲル
膜不要部にゲル分解性を有する粘度1poise以上の粘稠液
を塗装する。該粘稠液としてはアルコール可溶性フェノ
ール樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂等の樹脂ペースト
に金属アルコキシド液と相溶性の溶媒例えば酢酸エステ
ル、ケトン、アルコール類を添加し調製したものや、有
機酸例えば酢酸、蓚酸、クエン酸、プロピオン酸等を添
加したもの、あるいは希釈アルカリ例えば水酸ナトリウ
ムやアンモニア等を添加し調製したもの等が採用でき、
更にこれらを複合して用いるが、特にこれらに水を添加
することが好ましい。あるいは樹脂ペーストに替え保
湿、増粘剤としてのポリエチレングリコール、プロピレ
ングリコール等に増粘、充填剤としてのセリア、硫酸バ
リウム、タルク等を混合してペーストとし、これに前記
した如くの金属アルコキシド液と相溶性の溶媒、または
有機酸、もしくは希釈アルカリを添加し調製したものを
適宜採用することもできる。
膜不要部にゲル分解性を有する粘度1poise以上の粘稠液
を塗装する。該粘稠液としてはアルコール可溶性フェノ
ール樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂等の樹脂ペースト
に金属アルコキシド液と相溶性の溶媒例えば酢酸エステ
ル、ケトン、アルコール類を添加し調製したものや、有
機酸例えば酢酸、蓚酸、クエン酸、プロピオン酸等を添
加したもの、あるいは希釈アルカリ例えば水酸ナトリウ
ムやアンモニア等を添加し調製したもの等が採用でき、
更にこれらを複合して用いるが、特にこれらに水を添加
することが好ましい。あるいは樹脂ペーストに替え保
湿、増粘剤としてのポリエチレングリコール、プロピレ
ングリコール等に増粘、充填剤としてのセリア、硫酸バ
リウム、タルク等を混合してペーストとし、これに前記
した如くの金属アルコキシド液と相溶性の溶媒、または
有機酸、もしくは希釈アルカリを添加し調製したものを
適宜採用することもできる。
これら粘稠液はゲル内に浸潤し、これを徐々に分解す
るが、一方非塗装部のゲルは数百℃程度の熱処理過程で
酸化が促進されて硬膜化し、次工程のアルカリ、酸等の
処理に充分耐え得るようになる。
るが、一方非塗装部のゲルは数百℃程度の熱処理過程で
酸化が促進されて硬膜化し、次工程のアルカリ、酸等の
処理に充分耐え得るようになる。
その後希釈アルカリ水溶液(例えば水酸化ナトリウム
水溶液)あるいは水によって塗装部を溶出、剥離しさら
に要すれば酸により不要部残査を溶解した後、焼成する
ことにより緻密化したパターン膜を得ることができる。
水溶液)あるいは水によって塗装部を溶出、剥離しさら
に要すれば酸により不要部残査を溶解した後、焼成する
ことにより緻密化したパターン膜を得ることができる。
(実施例) 以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1 チタニウムイソプロポキシドにイソプロパノールとエ
チルセロソルブを加えて充分撹拌し、アルコキシド溶液
を調製した。この溶液中に30cm×30cmの2mm厚の板ガラ
スを浸漬した後5mm/secの一定速度でゆっくり引き上
げ、室温にて放置乾燥し、ガラス上にTiO2系ゲル膜を形
成させた。
チルセロソルブを加えて充分撹拌し、アルコキシド溶液
を調製した。この溶液中に30cm×30cmの2mm厚の板ガラ
スを浸漬した後5mm/secの一定速度でゆっくり引き上
げ、室温にて放置乾燥し、ガラス上にTiO2系ゲル膜を形
成させた。
次にロジン変性マレイン酸に10重量%のエチルセロソ
ルブと酢酸−n−プロピルの混合溶媒を混練したペース
ト(約1〜2poise)をゲル膜の不要部にスクリーン印刷
によりパターン塗装し、このゲル膜付ガラスを200℃で
5分間熱処理した。樹脂ペースト塗装部は、該ペースト
がゲル中に浸潤してゲルを極めて剥離し易いものとす
る。一方非塗装部のゲルは熱処理過程において酸化物と
して硬膜化し、後の不要部の除去、洗浄工程にも充分耐
えるものとなる。樹脂ペーストが非塗装部のゲルにまで
浸透し、これを分解することのないようにするためには
ある程度の粘性を必要とする。溶媒、有機酸あるいは希
アルカリの種類によって若干の相違はあるが概して1poi
se以上あれば前記した不具合も生じない。また適度の流
動性を有すること、塗装容易なことを勘案すれば、10po
ise以下であるのが好ましい。
ルブと酢酸−n−プロピルの混合溶媒を混練したペース
ト(約1〜2poise)をゲル膜の不要部にスクリーン印刷
によりパターン塗装し、このゲル膜付ガラスを200℃で
5分間熱処理した。樹脂ペースト塗装部は、該ペースト
がゲル中に浸潤してゲルを極めて剥離し易いものとす
る。一方非塗装部のゲルは熱処理過程において酸化物と
して硬膜化し、後の不要部の除去、洗浄工程にも充分耐
えるものとなる。樹脂ペーストが非塗装部のゲルにまで
浸透し、これを分解することのないようにするためには
ある程度の粘性を必要とする。溶媒、有機酸あるいは希
アルカリの種類によって若干の相違はあるが概して1poi
se以上あれば前記した不具合も生じない。また適度の流
動性を有すること、塗装容易なことを勘案すれば、10po
ise以下であるのが好ましい。
その後1規定苛性ソーダ水溶液でこのペースト塗装部
を剥離させ、さらに1規定硫酸水溶液で不溶膜残査を洗
浄、除去することによりパターニングした必要膜部のみ
が残った。さらにこの板ガラス全体を550℃に加熱焼成
することにより板ガラス上に膜厚約0.1μmのTiO2膜を
形成させた。この膜は薄い青紫色で高反射特性(屈折率
約2.2)を示した。
を剥離させ、さらに1規定硫酸水溶液で不溶膜残査を洗
浄、除去することによりパターニングした必要膜部のみ
が残った。さらにこの板ガラス全体を550℃に加熱焼成
することにより板ガラス上に膜厚約0.1μmのTiO2膜を
形成させた。この膜は薄い青紫色で高反射特性(屈折率
約2.2)を示した。
実施例2 実施例1において用いたのと同様な樹脂ペーストに、
10重量%クエン酸水溶液を10重量%混練させた水溶媒系
のペーストを作製し、実施例1と同様の操作を行い、同
様のTiO2パターン膜形成ガラスを得た。
10重量%クエン酸水溶液を10重量%混練させた水溶媒系
のペーストを作製し、実施例1と同様の操作を行い、同
様のTiO2パターン膜形成ガラスを得た。
本実施例においては過量の水および酸によりゲルの分
解が促進され、したがって加熱後の剥離処理は水洗によ
り容易に行うことができた。
解が促進され、したがって加熱後の剥離処理は水洗によ
り容易に行うことができた。
実施例3 実施例1において、樹脂ペーストの替りに水10重量
%、クエン酸10重量%、ポリエチレングリコール9重量
%および71重量%の酸化セリウム微粉末からなる水溶媒
系のペーストを作製して、実施例1と同様の操作を行
い、同様のTiO2パターン膜形成ガラスを得た。
%、クエン酸10重量%、ポリエチレングリコール9重量
%および71重量%の酸化セリウム微粉末からなる水溶媒
系のペーストを作製して、実施例1と同様の操作を行
い、同様のTiO2パターン膜形成ガラスを得た。
本実施例においてはペーストが水溶媒系のため極めて
水に溶け易く、勿論引火することもなく防爆に留意する
必要もない。さらに加熱後の剥離処理もん水洗により容
易に行うことができた。
水に溶け易く、勿論引火することもなく防爆に留意する
必要もない。さらに加熱後の剥離処理もん水洗により容
易に行うことができた。
実施例4 実施例1において基板を石英ガラスに替え、実施例1
と同様に操作してパターニングした硬膜を形成させた。
次いでこれをアンモニア気流中で950℃、1時間焼成す
ることによりTiN2パターニングガラスを得た。この被覆
は導電性を有しかつ高い耐摩耗性等の耐久性を有する。
と同様に操作してパターニングした硬膜を形成させた。
次いでこれをアンモニア気流中で950℃、1時間焼成す
ることによりTiN2パターニングガラスを得た。この被覆
は導電性を有しかつ高い耐摩耗性等の耐久性を有する。
これら実施例においては、TiO2、TiN2パターン形成に
ついて示したがSiO2、Si3N4、Al2O3、ZrO2その他耐食性
物質のパターン形成も同様な方法により容易にできる。
ついて示したがSiO2、Si3N4、Al2O3、ZrO2その他耐食性
物質のパターン形成も同様な方法により容易にできる。
(発明の効果) 本発明によれば、酸化物や窒化物等の耐食性の被膜を
容易に、しかも特別な装置等を必要とせず、低コストで
パターニングできるという効果を奏し、その利用分野
は、基板に導電体、半導体あるいは誘電体膜を施すよう
な電子材料分野、各種屈折率、あるいは波長選択性膜を
施すような光学材料分野、彩色性の被膜を形成させるよ
うな装飾用材料分野等多岐にわたる。
容易に、しかも特別な装置等を必要とせず、低コストで
パターニングできるという効果を奏し、その利用分野
は、基板に導電体、半導体あるいは誘電体膜を施すよう
な電子材料分野、各種屈折率、あるいは波長選択性膜を
施すような光学材料分野、彩色性の被膜を形成させるよ
うな装飾用材料分野等多岐にわたる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/308 G02B 1/10 Z (56)参考文献 特開 昭59−155038(JP,A) 特開 昭60−81031(JP,A) 特開 昭57−205342(JP,A) 特開 昭58−88143(JP,A) 特開 昭60−91647(JP,A)
Claims (2)
- 【請求項1】金属アルコキシドゾルを基板に被覆し、加
水分解によりゲル膜となし、該ゲル膜を所望パターンに
選択エッチングした後、焼成するパターン膜形成法にお
いて、選択エッチングは、ゲル膜不要部にゲル分解性の
粘稠液を被覆、浸透させ、数百℃程度での熱処理の後、
洗浄により該ゲル膜不要部を溶出除去するようにしたこ
とを特徴とするパターン膜形成法。 - 【請求項2】ゲル分解性の粘稠液は、樹脂ペースト、ま
たはグリコール類と無機充填剤とを混合したペースト
に、金属アルコキシド液と相溶性の有機溶媒、または有
機酸、もしくは希釈アルカリを添加し調製するようにし
たことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のパター
ン膜形成法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62309389A JP2625453B2 (ja) | 1987-12-09 | 1987-12-09 | パターン膜形成法 |
IT8822852A IT1227994B (it) | 1987-12-09 | 1988-12-05 | Procedimento per formare un film modellato su una superficie di supporto usando sol di alcossido metallico |
DE3841255A DE3841255A1 (de) | 1987-12-09 | 1988-12-07 | Verfahren zur bildung eines gemusterten filmes auf einer substratoberflaeche unter verwendung eines metallalkoxidsols |
US07/281,269 US4874462A (en) | 1987-12-09 | 1988-12-08 | Method of forming patterned film on substrate surface by using metal alkoxide sol |
FR8816150A FR2624405B1 (fr) | 1987-12-09 | 1988-12-08 | Procede de formation d'un film imprime sur la face d'un substrat en utilisant un sol d'un alcoolate d'un metal |
GB8828639A GB2219007B (en) | 1987-12-09 | 1988-12-08 | Method of forming patterned film on substrate surface by using metal alkoxide sol |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP62309389A JP2625453B2 (ja) | 1987-12-09 | 1987-12-09 | パターン膜形成法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01151238A JPH01151238A (ja) | 1989-06-14 |
JP2625453B2 true JP2625453B2 (ja) | 1997-07-02 |
Family
ID=17992421
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62309389A Expired - Lifetime JP2625453B2 (ja) | 1987-12-09 | 1987-12-09 | パターン膜形成法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
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JP (1) | JP2625453B2 (ja) |
DE (1) | DE3841255A1 (ja) |
FR (1) | FR2624405B1 (ja) |
GB (1) | GB2219007B (ja) |
IT (1) | IT1227994B (ja) |
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JP2642685B2 (ja) * | 1988-09-06 | 1997-08-20 | 工業技術院長 | アルミナの製造方法 |
JP2642696B2 (ja) * | 1988-10-11 | 1997-08-20 | 工業技術院長 | アルミナの比表面積の制御方法 |
CA2005096C (en) * | 1988-12-13 | 1999-03-23 | Tokinori Agou | High light-transmissive dust-proof body and method of preparing same |
US5318857A (en) * | 1989-11-06 | 1994-06-07 | Dow Corning Corporation | Low temperature ozonolysis of silicon and ceramic oxide precursor polymers to ceramic coatings |
JPH0637283B2 (ja) * | 1989-12-20 | 1994-05-18 | セントラル硝子株式会社 | 酸化物薄膜の成膜方法 |
JP2999854B2 (ja) * | 1991-05-18 | 2000-01-17 | 株式会社堀場製作所 | 水素センサ、ガスセンサ用またはpH応答用金属薄膜製造方法 |
JP2877588B2 (ja) * | 1991-10-28 | 1999-03-31 | ローム株式会社 | 金属酸化物薄膜のパターン形成法 |
EP0620469B1 (en) * | 1993-04-16 | 1997-10-01 | Central Glass Company, Limited | Glass pane with reflectance reducing coating and combiner of head-up display system |
JP3268929B2 (ja) * | 1993-04-19 | 2002-03-25 | オリンパス光学工業株式会社 | 光学素子の製造方法 |
FR2801135B1 (fr) * | 1999-11-12 | 2002-02-08 | Univ Claude Bernard Lyon | Procede de realisation d'une cathode d'emission a l'aide de la technique sol-gel et cathode obtenue par un tel procede |
KR100840333B1 (ko) * | 2001-10-23 | 2008-06-20 | 삼성전자주식회사 | 배선용 식각액 및 이를 이용한 배선의 제조 방법 및 이를이용한 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법 |
DE10355160B4 (de) * | 2003-11-26 | 2008-04-03 | Schott Ag | Beschichtete Glaskeramikplatte, Verfahren zu ihrer Herstellung und Kochfeld mit einer solchen Glaskeramikplatte |
WO2005089480A2 (en) | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Stuart Arthur Bateman | Activation method |
ATE460466T1 (de) | 2005-01-21 | 2010-03-15 | Commw Scient Ind Res Org | Aktivierungsverfahren mithilfe eines modifikationsmittels |
US7381633B2 (en) * | 2005-01-27 | 2008-06-03 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method of making a patterned metal oxide film |
US20170194515A9 (en) * | 2007-10-17 | 2017-07-06 | Heraeus Precious Metals North America Conshohocken Llc | Dielectric coating for single sided back contact solar cells |
JP4636080B2 (ja) * | 2007-12-25 | 2011-02-23 | セイコーエプソン株式会社 | 発色構造体とその製造方法 |
CN106653613A (zh) * | 2016-09-14 | 2017-05-10 | 齐鲁工业大学 | 一种低温液相制备高迁移率铟钇氧薄膜晶体管的方法 |
CN106229267A (zh) * | 2016-09-14 | 2016-12-14 | 齐鲁工业大学 | 一种高迁移率锌锡氧薄膜晶体管的低温溶液制备方法 |
CN106206292A (zh) * | 2016-09-14 | 2016-12-07 | 齐鲁工业大学 | 一种高迁移率铟镓锌氧薄膜晶体管的低温液相制备方法 |
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DE2912563A1 (de) * | 1979-03-29 | 1980-10-09 | Licentia Gmbh | Verfahren zur glasaetzung |
DE2929589A1 (de) * | 1979-07-04 | 1981-01-22 | Bbc Brown Boveri & Cie | Verfahren zur herstellung eines optisch transparenten und elektrisch leitfaehigen filmmusters |
JPS5777044A (en) * | 1980-10-30 | 1982-05-14 | Central Glass Co Ltd | Manufacture of glass from metallic alcoholate |
US4328260A (en) * | 1981-01-23 | 1982-05-04 | Solarex Corporation | Method for applying antireflective coating on solar cell |
JPS596541A (ja) * | 1982-07-02 | 1984-01-13 | Nec Corp | 微細パタ−ン形成方法 |
JPS601711A (ja) * | 1983-06-17 | 1985-01-07 | 凸版印刷株式会社 | 絶縁膜の形成方法 |
DE3600899A1 (de) * | 1986-01-15 | 1987-07-16 | Licentia Gmbh | Verfahren zum reinigen von glaesernen leuchtschirmtraegern |
JPS62226840A (ja) * | 1986-03-29 | 1987-10-05 | Shimadzu Corp | 反射防止膜およびその製造方法 |
-
1987
- 1987-12-09 JP JP62309389A patent/JP2625453B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-12-05 IT IT8822852A patent/IT1227994B/it active
- 1988-12-07 DE DE3841255A patent/DE3841255A1/de active Granted
- 1988-12-08 GB GB8828639A patent/GB2219007B/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-12-08 FR FR8816150A patent/FR2624405B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1988-12-08 US US07/281,269 patent/US4874462A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
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IT8822852A0 (it) | 1988-12-05 |
GB8828639D0 (en) | 1989-01-11 |
FR2624405B1 (fr) | 1991-10-04 |
GB2219007B (en) | 1991-10-02 |
FR2624405A1 (fr) | 1989-06-16 |
GB2219007A (en) | 1989-11-29 |
JPH01151238A (ja) | 1989-06-14 |
DE3841255A1 (de) | 1989-06-22 |
DE3841255C2 (ja) | 1993-08-05 |
US4874462A (en) | 1989-10-17 |
IT1227994B (it) | 1991-05-20 |
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