JP2938458B2 - 透明セラミックス被膜形成用塗布液および透明セラミックス被膜付基材 - Google Patents
透明セラミックス被膜形成用塗布液および透明セラミックス被膜付基材Info
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- JP2938458B2 JP2938458B2 JP63200461A JP20046188A JP2938458B2 JP 2938458 B2 JP2938458 B2 JP 2938458B2 JP 63200461 A JP63200461 A JP 63200461A JP 20046188 A JP20046188 A JP 20046188A JP 2938458 B2 JP2938458 B2 JP 2938458B2
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- coating solution
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Description
【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は、透明セラミックス被膜形成用塗布液に関す
る。さらに詳しくは、ガラス、プラスチック等の基材表
面に、耐久性、耐擦傷性が高く、屈折率や誘電率を自由
にコントロールでき、しかも120℃ほどの低温で透明セ
ラミックス被膜を硬化形成できる透明セラミックス被膜
形成用塗布液に関する。
る。さらに詳しくは、ガラス、プラスチック等の基材表
面に、耐久性、耐擦傷性が高く、屈折率や誘電率を自由
にコントロールでき、しかも120℃ほどの低温で透明セ
ラミックス被膜を硬化形成できる透明セラミックス被膜
形成用塗布液に関する。
また本発明は、上記の透明セラミックス被膜形成用塗
布液を用いて形成された透明セラミックス被膜付基材に
関する。
布液を用いて形成された透明セラミックス被膜付基材に
関する。
発明の技術的背景ならびにその問題点 従来から、ガラス、プラスチック等の基材に、新たな
機能を付与させるため、基材上に被膜を形成することが
行なわれている。基材上に被膜を形成することにより、
耐アルカリ性・耐酸性・耐水性・耐塩水性等の耐久性、
引っかき傷を防止する耐擦傷性を基材に付与させること
ができ、また基材の屈折率あるいは誘電率等を調節する
ことができる。
機能を付与させるため、基材上に被膜を形成することが
行なわれている。基材上に被膜を形成することにより、
耐アルカリ性・耐酸性・耐水性・耐塩水性等の耐久性、
引っかき傷を防止する耐擦傷性を基材に付与させること
ができ、また基材の屈折率あるいは誘電率等を調節する
ことができる。
これらの被膜を基材上に形成する目的で、さまざまな
塗布液が開発されている。その中で、セラミックス被膜
を形成し得る塗布液は、いわゆるゾル−ゲル法を用いた
アルコキシド化合物やコロイド粒子を主成分とするもの
であった。しかしながら、これらの塗布液は、耐久性、
耐擦傷性が不十分であるばかりか、被膜を形成するのに
500℃ほどの高温で焼成することが必要であった。従っ
て、耐久性、耐擦傷性が高く、しかも屈折率や誘電率を
自由にコントロールでき、その上120℃ほどの低温で被
膜を硬化形成できる透明セラミックス被膜形成用塗布液
の開発が望まれていた。
塗布液が開発されている。その中で、セラミックス被膜
を形成し得る塗布液は、いわゆるゾル−ゲル法を用いた
アルコキシド化合物やコロイド粒子を主成分とするもの
であった。しかしながら、これらの塗布液は、耐久性、
耐擦傷性が不十分であるばかりか、被膜を形成するのに
500℃ほどの高温で焼成することが必要であった。従っ
て、耐久性、耐擦傷性が高く、しかも屈折率や誘電率を
自由にコントロールでき、その上120℃ほどの低温で被
膜を硬化形成できる透明セラミックス被膜形成用塗布液
の開発が望まれていた。
発明の目的 本発明は、上記のような従来技術に伴う問題点を解決
しようとするものであって、ガラス、プラスチックなど
の基材上に、耐久性、耐擦傷性が高く、屈折率や誘電率
を自由にコントロールでき、しかも120℃ほどの低温で
透明セラミックス被膜を硬化形成でき、その上熱安定性
に優れ、長期間にわたって保存できる透明セラミックス
被膜用塗布液の提供を目的としている。
しようとするものであって、ガラス、プラスチックなど
の基材上に、耐久性、耐擦傷性が高く、屈折率や誘電率
を自由にコントロールでき、しかも120℃ほどの低温で
透明セラミックス被膜を硬化形成でき、その上熱安定性
に優れ、長期間にわたって保存できる透明セラミックス
被膜用塗布液の提供を目的としている。
また本発明は、上記のような透明セラミックス被膜形
成用塗布液を用いて形成され、耐久性、耐擦傷性に優
れ、しかも屈折率あるいは誘電率が自由にコントロール
された透明セラミックス被膜が、表面に設けられたガラ
ス、プラスチックなどの基材およびその製造方法の提供
を目的としている。
成用塗布液を用いて形成され、耐久性、耐擦傷性に優
れ、しかも屈折率あるいは誘電率が自由にコントロール
された透明セラミックス被膜が、表面に設けられたガラ
ス、プラスチックなどの基材およびその製造方法の提供
を目的としている。
発明の概要 本発明に係る透明セラミックス被膜用塗布液は、アセ
チルアセトナトキレート化合物と、シリコン化合物と、
シリコン以外の金属のアルコキシドとが水および有機溶
媒からなる混合溶媒中に均一に溶解または分散している
ことを特徴としている。
チルアセトナトキレート化合物と、シリコン化合物と、
シリコン以外の金属のアルコキシドとが水および有機溶
媒からなる混合溶媒中に均一に溶解または分散している
ことを特徴としている。
本発明に係る透明セラミックス被膜付基材は、基材上
に、前記透明セラミックス被膜形成用塗布液を用いて得
られた透明セラミックス被膜が形成されていることを特
徴としている。
に、前記透明セラミックス被膜形成用塗布液を用いて得
られた透明セラミックス被膜が形成されていることを特
徴としている。
発明の具体的説明 以下、本発明に係る透明セラミックス被膜形成用塗布
液（以下単に塗布液ということがある）、透明セラミッ
クス被膜付基材およびその製造方法について具体的に説
明する。
液（以下単に塗布液ということがある）、透明セラミッ
クス被膜付基材およびその製造方法について具体的に説
明する。
本発明に係る塗布液は、アセチルアセトナトキレート
化合物と、シリコン化合物と、シリコン以外の金属のア
ルコキシドとが水および有機溶媒からなる混合溶媒中に
均一に溶解または分散されているが、以下各成分につい
て説明する。
化合物と、シリコン化合物と、シリコン以外の金属のア
ルコキシドとが水および有機溶媒からなる混合溶媒中に
均一に溶解または分散されているが、以下各成分につい
て説明する。
アセチルアセトナトキレート化合物とは、アセチルア
セトンイオンを配位子とするキレート化合物であって、
次式（Ｉ）で表わされる化合物またはその縮合体（20量
体まで）であり、これらは一種または二種以上を組合わ
せて使用される。また、本発明による塗布液を用いて得
られる被膜の屈折率および誘電率は、このアセチルアセ
トナトキレート化合物の組合わせにより、自由にコント
ロールできる。
セトンイオンを配位子とするキレート化合物であって、
次式（Ｉ）で表わされる化合物またはその縮合体（20量
体まで）であり、これらは一種または二種以上を組合わ
せて使用される。また、本発明による塗布液を用いて得
られる被膜の屈折率および誘電率は、このアセチルアセ
トナトキレート化合物の組合わせにより、自由にコント
ロールできる。
（ただし、式中ａ、ｂ、M1、Ｒ、Ｘは以下の通りであ
る。
る。
ＲはCnH2n+1−（ｎ＝3,4）であり、ＸはCH3−またはC
2H5O−である）。
2H5O−である）。
このようなアセチルアセトナトキレート化合物として
は、具体的には、たとえばジブトキシ−ビスアセチルア
セトナトジルコニウム、トリブトキシ・モノアセチルア
セトナトジルコニウム、ビスアセチルアセトナト鉛、ト
リスアセチルアセトナト鉄、ジブトキシ−ビスアセチル
アセトナトハフニウム、モノアセチルアセトナト−トリ
ブトキシハフニウムなどが好ましく用いられる。
は、具体的には、たとえばジブトキシ−ビスアセチルア
セトナトジルコニウム、トリブトキシ・モノアセチルア
セトナトジルコニウム、ビスアセチルアセトナト鉛、ト
リスアセチルアセトナト鉄、ジブトキシ−ビスアセチル
アセトナトハフニウム、モノアセチルアセトナト−トリ
ブトキシハフニウムなどが好ましく用いられる。
有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、フリフリ
ルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコ
ールなどのアルコール類、酢酸メチルエステル、酢酸エ
チルエステルなどのエステル類、ジエチルエーテル、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメ
チルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルなどのエ
ーテル類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン
類が単独または組み合わせて用いられる。
ノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、フリフリ
ルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコ
ールなどのアルコール類、酢酸メチルエステル、酢酸エ
チルエステルなどのエステル類、ジエチルエーテル、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメ
チルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルなどのエ
ーテル類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン
類が単独または組み合わせて用いられる。
シリコン化合物は、次式（II）で表わされる化合物ま
たはその縮合体（20量体まで）であり、そのうちから選
ばれる一種または二種以上を組み合わせて使用すること
ができる。
たはその縮合体（20量体まで）であり、そのうちから選
ばれる一種または二種以上を組み合わせて使用すること
ができる。
Ra−Si（OR′）4-a …（II） （ただし、式中ＲはCnH2n+1−（ｎ＝１〜４）、水素原
子またはハロゲン原子であり、Ｒ′はCnH2n+1−（ｎ＝
１〜４）、水素原子、またはCnH2n+1OC2H4−（ｎ＝１〜
４）である）。
子またはハロゲン原子であり、Ｒ′はCnH2n+1−（ｎ＝
１〜４）、水素原子、またはCnH2n+1OC2H4−（ｎ＝１〜
４）である）。
このようなシリコン化合物としては、具体的には、た
とえば、メチルシリケート、エチルシリケート、モノメ
チルトリメトキシシラン、モノエチルトリエトキシシラ
ン、モノエチルトリメトキシシラン、モノメチルトリエ
トキシシラン、テトラヒドロキシシランなどが好ましく
用いられる。
とえば、メチルシリケート、エチルシリケート、モノメ
チルトリメトキシシラン、モノエチルトリエトキシシラ
ン、モノエチルトリメトキシシラン、モノメチルトリエ
トキシシラン、テトラヒドロキシシランなどが好ましく
用いられる。
これらのシリコン化合物は、そのままの状態でも、あ
るいは部分加水分解して用いても良い。部分加水分解の
条件としては、シリコン化合物を部分加水分解するため
の一般的方法、たとえばメタノールまたはエタノールに
シリコン化合物を混合し、水と酸を加えて部分加水分解
するような条件を採用できるが、以下のような条件が特
に好ましい。酸として、塩酸、硝酸、燐酸、酢酸および
無水酢酸が用いられ、酸とシリコン化合物との混合割合
は、0.01≦酸／SiO2≦0.5（シリコン化合物をSiO2に換
算した時の重量比）であることが好ましい。この値が0.
01未満であると、未反応のシリコン化合物が多量に存在
し、一方、この値が0.5を超えると、部分加水分解速度
が速くなりすぎて、連続生産性および塗布液の存在性が
低下する。また水とシリコン化合物との混合割合は、水
／シリコン化合物≧２（モル比）であることが好まし
い。この値が２未満では、被膜中に未反応のシリコン化
合物が残存するため、被膜と基材との密着性、耐擦傷
性、耐久性が低下する。部分加水分解温度は、30〜80℃
の範囲であることが好ましい。
るいは部分加水分解して用いても良い。部分加水分解の
条件としては、シリコン化合物を部分加水分解するため
の一般的方法、たとえばメタノールまたはエタノールに
シリコン化合物を混合し、水と酸を加えて部分加水分解
するような条件を採用できるが、以下のような条件が特
に好ましい。酸として、塩酸、硝酸、燐酸、酢酸および
無水酢酸が用いられ、酸とシリコン化合物との混合割合
は、0.01≦酸／SiO2≦0.5（シリコン化合物をSiO2に換
算した時の重量比）であることが好ましい。この値が0.
01未満であると、未反応のシリコン化合物が多量に存在
し、一方、この値が0.5を超えると、部分加水分解速度
が速くなりすぎて、連続生産性および塗布液の存在性が
低下する。また水とシリコン化合物との混合割合は、水
／シリコン化合物≧２（モル比）であることが好まし
い。この値が２未満では、被膜中に未反応のシリコン化
合物が残存するため、被膜と基材との密着性、耐擦傷
性、耐久性が低下する。部分加水分解温度は、30〜80℃
の範囲であることが好ましい。
シリコン以外の金属のアルコキシドは次式、M2(OR)n
（式中、M2はシリコン以外の金属原子であり、Ｒはアル
キル基またはCnH2nO2−（ｎ＝３〜10）であり、ｎはM2
の原子価と同じ整数である。）で表わされる化合物また
はそれらの縮合体（10量体まで）であり、そのうちから
選ばれる一種または二種以上を組み合わせて使用するこ
とができる。上記式中のM2は、シリコン以外の金属であ
れば特に限定されずに用いられ、好ましくはM2は、Be、
Al、Ｐ、Sc、Ti、Ｖ、Cr、Fe、Ni、Zn、Ga、Ge、As、S
e、Ｙ、Zr、Nb、In、Sn、Sb、Te、Hf、Ta、Ｗ、Pb、
Ｂ、VO、Bi、CeまたはCuである。
（式中、M2はシリコン以外の金属原子であり、Ｒはアル
キル基またはCnH2nO2−（ｎ＝３〜10）であり、ｎはM2
の原子価と同じ整数である。）で表わされる化合物また
はそれらの縮合体（10量体まで）であり、そのうちから
選ばれる一種または二種以上を組み合わせて使用するこ
とができる。上記式中のM2は、シリコン以外の金属であ
れば特に限定されずに用いられ、好ましくはM2は、Be、
Al、Ｐ、Sc、Ti、Ｖ、Cr、Fe、Ni、Zn、Ga、Ge、As、S
e、Ｙ、Zr、Nb、In、Sn、Sb、Te、Hf、Ta、Ｗ、Pb、
Ｂ、VO、Bi、CeまたはCuである。
このようなシリコン以外の金属のアルコキシドとして
は、具体的には、テトラブトキシジルコニウム、ジイソ
プロポキシジオクチルオキシチタニウム、ジエトキシ鉛
などが好ましく用いられる。
は、具体的には、テトラブトキシジルコニウム、ジイソ
プロポキシジオクチルオキシチタニウム、ジエトキシ鉛
などが好ましく用いられる。
これらのシリコン以外の金属のアルコキシドは、部分
加水分解せずにそのまま使用する。
加水分解せずにそのまま使用する。
上記の各成分によって形成される塗布液において、ア
セチルアセトナトキレート化合物と、シリコン化合物お
よびシリコン以外の金属のアルコキシドとは、それぞれ
の酸化物換算の重量比で、0.05≦M1Ox／（SiO2＋M2Ox）
≦10であることが好ましい。この値が、0.05未満では、
得られる被膜の耐久性が充分でない。一方、この値が10
を超えると、得られる被膜の密着性および透明性が低下
するため好ましくない。この塗布液を用いて得られる被
膜の屈折率および誘電率は、このアセチルアセトナトキ
レート化合物とシリコン化合物およびシリコン化合物お
よびシリコン以外の金属のアルコキシドとの組合せによ
り、自由にコントロールできる。
セチルアセトナトキレート化合物と、シリコン化合物お
よびシリコン以外の金属のアルコキシドとは、それぞれ
の酸化物換算の重量比で、0.05≦M1Ox／（SiO2＋M2Ox）
≦10であることが好ましい。この値が、0.05未満では、
得られる被膜の耐久性が充分でない。一方、この値が10
を超えると、得られる被膜の密着性および透明性が低下
するため好ましくない。この塗布液を用いて得られる被
膜の屈折率および誘電率は、このアセチルアセトナトキ
レート化合物とシリコン化合物およびシリコン化合物お
よびシリコン以外の金属のアルコキシドとの組合せによ
り、自由にコントロールできる。
塗布液中の固形分濃度（M1Ox＋SiO2＋M2Ox）は、15重
量％以下であればよい。この値が15重量％を超えると、
透明セラミックス被膜用塗布液の保存性が悪くなるため
好ましくなく、一方、上記の固形分濃度が余りに薄い
と、目的の膜厚を得るのに、数回の塗布操作を繰り返す
ことが必要となるので、固形分濃度は、0.1重量％以上
が実用的である。
量％以下であればよい。この値が15重量％を超えると、
透明セラミックス被膜用塗布液の保存性が悪くなるため
好ましくなく、一方、上記の固形分濃度が余りに薄い
と、目的の膜厚を得るのに、数回の塗布操作を繰り返す
ことが必要となるので、固形分濃度は、0.1重量％以上
が実用的である。
塗布液中の水分濃度は、0.1〜40重量％の範囲である
ことが好ましい。この値が0.1重量％未満であると、ア
セチルアセトナトキレート化合物、シリコン化合物およ
びシリコン以外の金属のアルコキシドの加水分解が充分
に行なわれず、被膜中に未反応物が残り、得られる被膜
の密着性、耐擦傷性、耐久性が低下するため好ましくな
い。一方、この値が40重量％を超えると、塗布の際、基
材とのはじきが起こり被膜が形成されにくくなる。
ことが好ましい。この値が0.1重量％未満であると、ア
セチルアセトナトキレート化合物、シリコン化合物およ
びシリコン以外の金属のアルコキシドの加水分解が充分
に行なわれず、被膜中に未反応物が残り、得られる被膜
の密着性、耐擦傷性、耐久性が低下するため好ましくな
い。一方、この値が40重量％を超えると、塗布の際、基
材とのはじきが起こり被膜が形成されにくくなる。
本発明に係る透明セラミックス被膜付基材は、基材上
に上記のような塗布液から形成された被膜が設けられて
いる。すなわちこの塗布液をガラスまたはプラスチック
基材上に従来公知の方法、たとえばディップ法、スピン
ナー法、バーコード法、スプレー法、ロールコーター
法、フレキソ印刷などによって塗布し、ついで基材上に
形成された塗布膜を常温〜110℃程度の温度で乾燥硬化
させれば、基材との密着性、耐擦傷性、透明性に優れ、
かつ低誘電率を持った透明セラミックス被膜を有する基
材が得られる。この被膜をさらに120℃以上で、かつ基
材のガラス転移点以下の温度で焼成すれば耐久性が向上
した被膜が得られる。この際、ガラス転移点以下の温度
でれば何回でも焼成してよい。また、塗布液の塗布工
程、塗膜の乾燥工程、塗膜の焼成工程のうちから選
ばれるいずれか一つ以上の工程後および／または工程中
に可視光線より波長が短い電磁波を照射することができ
る。このように電磁波の照射をした場合、300℃程度の
焼成温度でも、電磁波の照射をせず、400℃以上でかつ
ガラス転移点以下の温度で焼成した場合と同等の性能を
有する透明セラミックス被膜を得ることができる。
に上記のような塗布液から形成された被膜が設けられて
いる。すなわちこの塗布液をガラスまたはプラスチック
基材上に従来公知の方法、たとえばディップ法、スピン
ナー法、バーコード法、スプレー法、ロールコーター
法、フレキソ印刷などによって塗布し、ついで基材上に
形成された塗布膜を常温〜110℃程度の温度で乾燥硬化
させれば、基材との密着性、耐擦傷性、透明性に優れ、
かつ低誘電率を持った透明セラミックス被膜を有する基
材が得られる。この被膜をさらに120℃以上で、かつ基
材のガラス転移点以下の温度で焼成すれば耐久性が向上
した被膜が得られる。この際、ガラス転移点以下の温度
でれば何回でも焼成してよい。また、塗布液の塗布工
程、塗膜の乾燥工程、塗膜の焼成工程のうちから選
ばれるいずれか一つ以上の工程後および／または工程中
に可視光線より波長が短い電磁波を照射することができ
る。このように電磁波の照射をした場合、300℃程度の
焼成温度でも、電磁波の照射をせず、400℃以上でかつ
ガラス転移点以下の温度で焼成した場合と同等の性能を
有する透明セラミックス被膜を得ることができる。
本発明では、基材としてガラスまたはプラスチック等
の透明基材が使用でき、形状として、平板状または曲面
状など任意の形状であることができる。なお、本発明で
は，その表面が粗面化された基材（たとえばスリガラス
など）を用いることもできる。すなわち粗面化された基
材表面に本発明に係る塗布液を塗布すると、粗面化され
た表面に塗布液が侵入して被膜が形成されるので平坦な
表面となり、基材が透明になるからである。さらに粗面
化された基材を用いた場合には、透明セラミックス被膜
と基材との密着性が格段に向上する。
の透明基材が使用でき、形状として、平板状または曲面
状など任意の形状であることができる。なお、本発明で
は，その表面が粗面化された基材（たとえばスリガラス
など）を用いることもできる。すなわち粗面化された基
材表面に本発明に係る塗布液を塗布すると、粗面化され
た表面に塗布液が侵入して被膜が形成されるので平坦な
表面となり、基材が透明になるからである。さらに粗面
化された基材を用いた場合には、透明セラミックス被膜
と基材との密着性が格段に向上する。
発明の効果 本発明に係る透明セラミックス被膜形成用塗布液は、
120℃ほどの低温で透明セラミックス被膜を硬化形成で
き、熱安定性に優れ、しかも長期間にわたって保存でき
る。
120℃ほどの低温で透明セラミックス被膜を硬化形成で
き、熱安定性に優れ、しかも長期間にわたって保存でき
る。
また本発明に係る透明セラミックス被膜付基材は、耐
久性、耐擦傷性が優れ、かつ任意にコントロールされた
屈折率あるいは誘電率を持つ透明セラミックス被膜を基
材表面に有している。
久性、耐擦傷性が優れ、かつ任意にコントロールされた
屈折率あるいは誘電率を持つ透明セラミックス被膜を基
材表面に有している。
透明セラミックス被膜付基材の用途としては、透明電
極用基材などが挙げられる。
極用基材などが挙げられる。
以下本発明を実施例によって説明するが、本発明はこ
れら実施例に限定されるものではない。
れら実施例に限定されるものではない。
参考例１−１ ZrO2として10重量％のジブトキシ−ビスアセチルアセ
トナトジルコニウム（以下ZAB1と略記する）100gと、イ
ソプロパノール114gとｎ−ブタノール114gと水5gとを混
合撹拌して塗布液を得た。（以下塗布液１−１と略記す
る） 参考例１−２ ZrO2として13重量％のトリブトキシ−モノアセチルア
セトナトジルコニウム（以下ZAB2と略記する）100gと、
TiO2として10重量％のジイソプロポキシ−ビスアセチル
アセトナトチタン（以下TAP1と略記する）20gと、ｎ−
ブタノール79.5gと水0.5gとを混合撹拌して塗布液を得
た。（以下塗布液１−２と略記する） 参考例１−３ Pb Oとして５重量％のビスアセチルアセトナト鉛100g
と、TAP1 200gと、エタノール198gと水2gとを混合撹拌
して塗布液を得た。（以下塗布液１−３と略記する） 参考例１−４ Fe2O3として３重量％のトリスアセチルアセトナトFe1
00gと、ZAB253.8gと、エタノール90gとｎ−ブタノール9
0gと水0.4gとを混合撹拌して塗布液を得た。（以下塗布
液１−４と略記する） 参考例２−１ エタノール80.9gにエチルシリケート−28 50gを混合
し、それに水8.4gと61％硝酸0.7gとを添加した（以下Ｉ
液と略記する）。さらにZAB2 100gとヘキシレングリコ
ール65gおよび水1gとを混合し、２時間撹拌して塗布液
を得た。（以下塗布液２−１と略記する） 参考例２−２ エタノール62gにエチルシリケート−40 25gを混合
し、それに水1gと61％硝酸1gとを添加した（以下II液と
略記する）。この液を50℃に加熱し、１時間保持した。
さらにZAB1 100gとジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル31.3gと水2gとを混合し、24時間撹拌して塗布液
を得た。（以下塗布液２−２と略記する） 参考例２−３ II液233gとTAP1 100gとを混合し、得られた混合液
に、イソプロパノール326gと水7gとを混合し、24時間撹
拌して塗布液を得た。（以下塗布液２−３と略記する） 参考例２−４ イソプロパノール136.1gにメチルシリケート−51 50g
を混合し、得られた混合液に、水61.2gと61％硝酸7.7g
とを添加した。この液10gにHfO2として10重量％のジブ
トキシ−ビスアセチルアセトナトハフニウム100gとエタ
ノール128gとｎ−ブタノール128gとを混合し、24時間混
合し、24時間撹拌して塗布液を得た。（以下塗布液２−
４と略記する） 参考例３−１ エタノール54gおよびｎ−ブタノール54gの混合物に、
ZAB1 100gと、ZrO2として10重量％のテトラブトキシジ
ルコニウム（以下TBZRと略記する）10gとを混合し、次
いで得られた混合液に無水酢酸0.1gと水1.1gとを混合
し、24時間撹拌して塗布液を得た。（以下塗布液３−１
と略記する） 参考例３−２ ヘキシレングリコール64.4gに、HfO2として10重量％
のモノアセチルアセトナト−トリブトキシハフニウム10
0gと、TiO2として10重量％のジイソプロポキシ−ジオク
チルオキシチタニウム（以下TAP2と略記する）30gとを
混合し、次いで得られた混合液に61％硝酸0.3gと水2.2g
とを混合し、24時間撹拌して塗布液を得た。（以下塗布
液３−２と略記する） 参考例３−３ エタノール3103gに、TAP1 100gと、PbOとして３重量
％のジエトキシ鉛 1667gとを混合し、次いで得られた
混合液に61％硝酸30gと水100gとを混合し、24時間撹拌
して塗布液を得た。（以下塗布液３−３と略記する） 実施例１−１ ヘキシレングリコール339gに、ZAB2 100gと、Ｉ液390
gと、TAP2 780gと水16gとを混合し、24時間撹拌して塗
布液を得た。（以下塗布液４−１と略記する） 実施例１−２ アセチルアセトン8.5gとヘキシレングリコール76.5g
との混合物に、TAP1 100gと、II液60gと、TBZR 40gと、
水15gとを混合し、24時間撹拌して塗布液を得た。（以
下塗布液４−２と略記する） 実施例２−１〜２−３、参考例４−１〜４−16 これら塗布液に対して、表１の条件で基板に塗布し、
以下の評価を行なった。
トナトジルコニウム（以下ZAB1と略記する）100gと、イ
ソプロパノール114gとｎ−ブタノール114gと水5gとを混
合撹拌して塗布液を得た。（以下塗布液１−１と略記す
る） 参考例１−２ ZrO2として13重量％のトリブトキシ−モノアセチルア
セトナトジルコニウム（以下ZAB2と略記する）100gと、
TiO2として10重量％のジイソプロポキシ−ビスアセチル
アセトナトチタン（以下TAP1と略記する）20gと、ｎ−
ブタノール79.5gと水0.5gとを混合撹拌して塗布液を得
た。（以下塗布液１−２と略記する） 参考例１−３ Pb Oとして５重量％のビスアセチルアセトナト鉛100g
と、TAP1 200gと、エタノール198gと水2gとを混合撹拌
して塗布液を得た。（以下塗布液１−３と略記する） 参考例１−４ Fe2O3として３重量％のトリスアセチルアセトナトFe1
00gと、ZAB253.8gと、エタノール90gとｎ−ブタノール9
0gと水0.4gとを混合撹拌して塗布液を得た。（以下塗布
液１−４と略記する） 参考例２−１ エタノール80.9gにエチルシリケート−28 50gを混合
し、それに水8.4gと61％硝酸0.7gとを添加した（以下Ｉ
液と略記する）。さらにZAB2 100gとヘキシレングリコ
ール65gおよび水1gとを混合し、２時間撹拌して塗布液
を得た。（以下塗布液２−１と略記する） 参考例２−２ エタノール62gにエチルシリケート−40 25gを混合
し、それに水1gと61％硝酸1gとを添加した（以下II液と
略記する）。この液を50℃に加熱し、１時間保持した。
さらにZAB1 100gとジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル31.3gと水2gとを混合し、24時間撹拌して塗布液
を得た。（以下塗布液２−２と略記する） 参考例２−３ II液233gとTAP1 100gとを混合し、得られた混合液
に、イソプロパノール326gと水7gとを混合し、24時間撹
拌して塗布液を得た。（以下塗布液２−３と略記する） 参考例２−４ イソプロパノール136.1gにメチルシリケート−51 50g
を混合し、得られた混合液に、水61.2gと61％硝酸7.7g
とを添加した。この液10gにHfO2として10重量％のジブ
トキシ−ビスアセチルアセトナトハフニウム100gとエタ
ノール128gとｎ−ブタノール128gとを混合し、24時間混
合し、24時間撹拌して塗布液を得た。（以下塗布液２−
４と略記する） 参考例３−１ エタノール54gおよびｎ−ブタノール54gの混合物に、
ZAB1 100gと、ZrO2として10重量％のテトラブトキシジ
ルコニウム（以下TBZRと略記する）10gとを混合し、次
いで得られた混合液に無水酢酸0.1gと水1.1gとを混合
し、24時間撹拌して塗布液を得た。（以下塗布液３−１
と略記する） 参考例３−２ ヘキシレングリコール64.4gに、HfO2として10重量％
のモノアセチルアセトナト−トリブトキシハフニウム10
0gと、TiO2として10重量％のジイソプロポキシ−ジオク
チルオキシチタニウム（以下TAP2と略記する）30gとを
混合し、次いで得られた混合液に61％硝酸0.3gと水2.2g
とを混合し、24時間撹拌して塗布液を得た。（以下塗布
液３−２と略記する） 参考例３−３ エタノール3103gに、TAP1 100gと、PbOとして３重量
％のジエトキシ鉛 1667gとを混合し、次いで得られた
混合液に61％硝酸30gと水100gとを混合し、24時間撹拌
して塗布液を得た。（以下塗布液３−３と略記する） 実施例１−１ ヘキシレングリコール339gに、ZAB2 100gと、Ｉ液390
gと、TAP2 780gと水16gとを混合し、24時間撹拌して塗
布液を得た。（以下塗布液４−１と略記する） 実施例１−２ アセチルアセトン8.5gとヘキシレングリコール76.5g
との混合物に、TAP1 100gと、II液60gと、TBZR 40gと、
水15gとを混合し、24時間撹拌して塗布液を得た。（以
下塗布液４−２と略記する） 実施例２−１〜２−３、参考例４−１〜４−16 これら塗布液に対して、表１の条件で基板に塗布し、
以下の評価を行なった。
透明性：全光線透過率（Tt）およびヘーズ（Ｈ）をヘ
ーズコンピューター（スガ試験機製）で測定した。
ーズコンピューター（スガ試験機製）で測定した。
密着性：まず市販の12mm幅のセロハンテープの一部を
被膜に貼付ける。残りを被膜に対して直角に保ち、瞬間
的に引き剥して基板上に残った被膜の有無を目視した。
被膜に貼付ける。残りを被膜に対して直角に保ち、瞬間
的に引き剥して基板上に残った被膜の有無を目視した。
膜強度：台秤の上に基板を固定し、事務用消しゴム
（LION製、No.50−50同等品）を被膜の上に置き、2kgの
荷重をかけて、150回往復した後の、被膜の残存率を目
視により評価した。
（LION製、No.50−50同等品）を被膜の上に置き、2kgの
荷重をかけて、150回往復した後の、被膜の残存率を目
視により評価した。
耐久性：以下４種類の液に漬けた後、被膜が剥離して
いるか目視により評価した。
いるか目視により評価した。
１）15重量％アンモニア水に室温で12時間。
２）10重量％塩水に室温で120時間。
３）沸騰している水に30分間。
４）50重量％酢酸水に室温で120時間。
屈折率：エリプソメーター（日本真空工業（株）製）
により測定した。
により測定した。
誘電率:LCRメーター（YHP製）を用いて10KHz 25℃で
測定した。
測定した。
結果を表２に示す。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C01B 13/18
Claims (4)
- 【請求項１】一般式（Ｉ）で表されるアセチルアセトナ
ートキレート化合物と、シリコン化合物と、シリコン以
外の金属アルコキシドとが、水および有機溶媒からなる
混合溶媒中に均一に溶解または分散してなり、アセチル
アセトナートキレート化合物（M1Ox）とシリコン化合物
（SiO2）と金属アルコキシド（M2Ox）とがそれぞれの酸
化物換算の重量比で、0.05≦M1Ox／（SiO2＋M2Ox）≦10
であることを特徴とする透明セラミックス被膜形成用塗
布液： （ただし、式中ａ＋ｂ＝２〜４、ａ＝０〜３、ｂ＝１〜
４、ＲはCnH2n1−（ｎ＝3,4）であり、ＸはCH3−、C2H5
O−であり、M1はCO、Cu、Mg、Mn、Pb、Ni、Zn、Sn、V
O、Al、Cr、Fe、Ｖ、In、Ta、Ｙ、Ｂ、Ti、ZrまたはHf
である）。 - 【請求項２】シリコン化合物が、次式（II）で表わされ
る化合物および／またはその縮合体の少なくとも１種で
あることを特徴とする請求項第１項に記載の透明セラミ
ックス被膜形成用塗布液。 Ra−Si（OR′）4-a …（II） （ただし、式中ＲはCnH2n+1−（ｎ＝１〜４）、水素原
子またはハロゲン原子であり、Ｒ′はCnH2n+1−（ｎ＝
１〜４）、水素原子またはCnH2n+1OC2H4−（ｎ＝１〜
４）であり、ａ＝０〜３である）。 - 【請求項３】シリコン以外の金属のアルコキシドが、次
式（III）で表わされる化合物および／またはその縮合
体の少なくとも１種であることを特徴とする請求項第１
項または第２項に記載の透明セラミックス被膜形成用塗
布液。 M2(OR)n …（III） （ただし、式中ｎはM2の原子価と同じ整数であり、Ｒは
アルキル基、CnH2nO2−（ｎ＝３〜10）であり、M2はB
e、Al、Ｐ、Sc、Ti、Ｖ、Cr、Fe、Ni、Zn、Ga、Ge、A
s、Se、Ｙ、Zr、Nb、In、Sn、Sb、Te、Hf、Ta、Ｗ、P
b、Ｂ、VO、Bi、CeまたはCuである）。 - 【請求項４】請求項第１項〜第３項のいずれかに記載の
透明セラミックス被膜形成用塗布液を塗布した後、乾燥
硬化してなる透明セラミックス被膜が基材上に設けられ
ていることを特徴とする透明セラミックス被膜付基材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63200461A JP2938458B2 (ja) | 1988-08-10 | 1988-08-10 | 透明セラミックス被膜形成用塗布液および透明セラミックス被膜付基材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63200461A JP2938458B2 (ja) | 1988-08-10 | 1988-08-10 | 透明セラミックス被膜形成用塗布液および透明セラミックス被膜付基材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0248403A JPH0248403A (ja) | 1990-02-19 |
| JP2938458B2 true JP2938458B2 (ja) | 1999-08-23 |
Family
ID=16424692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63200461A Expired - Lifetime JP2938458B2 (ja) | 1988-08-10 | 1988-08-10 | 透明セラミックス被膜形成用塗布液および透明セラミックス被膜付基材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2938458B2 (ja) |
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| JP3517890B2 (ja) * | 1993-02-18 | 2004-04-12 | 日産化学工業株式会社 | 液晶表示素子用絶縁膜形成用塗布液 |
| JP3846545B2 (ja) | 2000-06-08 | 2006-11-15 | 信越化学工業株式会社 | コーティング剤組成物、コーティング方法及び被覆物品 |
| CN100594184C (zh) * | 2005-02-15 | 2010-03-17 | 日本曹达株式会社 | 钛氧化物粒子的分散液、钛氧化物薄膜、有机功能膜形成用溶液、有机功能膜形成基体及其制造方法 |
| CN104114622B (zh) * | 2012-02-08 | 2016-02-10 | 日本曹达株式会社 | 有机无机复合薄膜 |
| TWI682010B (zh) * | 2015-03-31 | 2020-01-11 | 日商日揮觸媒化成股份有限公司 | 被膜形成用之塗佈液及其製造方法、以及附被膜基材之製造方法 |
-
1988
- 1988-08-10 JP JP63200461A patent/JP2938458B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0248403A (ja) | 1990-02-19 |
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