JP2003510774A - 印刷支持体のための方法及び組成物 - Google Patents

印刷支持体のための方法及び組成物

Info

Publication number
JP2003510774A
JP2003510774A JP2001526371A JP2001526371A JP2003510774A JP 2003510774 A JP2003510774 A JP 2003510774A JP 2001526371 A JP2001526371 A JP 2001526371A JP 2001526371 A JP2001526371 A JP 2001526371A JP 2003510774 A JP2003510774 A JP 2003510774A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
conductive
printing
matrix
support
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001526371A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4841094B2 (ja
Inventor
アクセル カレダー
ライナー クロイツァー
マルチン メニッヒ
ヘルムット シュミット
Original Assignee
インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク filed Critical インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク
Publication of JP2003510774A publication Critical patent/JP2003510774A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4841094B2 publication Critical patent/JP4841094B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814—Conductive parts
    • H01L21/4846—Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
    • H01L21/4867—Applying pastes or inks, e.g. screen printing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
    • B41M1/12—Stencil printing; Silk-screen printing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
    • B41M1/26—Printing on other surfaces than ordinary paper
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
    • B41M1/26—Printing on other surfaces than ordinary paper
    • B41M1/28—Printing on other surfaces than ordinary paper on metals
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
    • B41M1/26—Printing on other surfaces than ordinary paper
    • B41M1/30—Printing on other surfaces than ordinary paper on organic plastics, horn or similar materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
    • B41M1/26—Printing on other surfaces than ordinary paper
    • B41M1/34—Printing on other surfaces than ordinary paper on glass or ceramic surfaces
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M7/00—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock
    • B41M7/009—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock using thermal means, e.g. infrared radiation, heat
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/008—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04—Polysiloxanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
    • C03C2217/445—Organic continuous phases
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
    • C03C2217/475—Inorganic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
    • C03C2217/475—Inorganic materials
    • C03C2217/479—Metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/48—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase having a specific function
    • C03C2217/485—Pigments
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/113—Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04—Polysiloxanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04—Polysiloxanes
    • C08G77/045—Polysiloxanes containing less than 25 silicon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04—Polysiloxanes
    • C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • C08G77/16—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to hydroxyl groups
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/02—Details
    • H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/02—Details
    • H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • H05K1/095—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks for polymer thick films, i.e. having a permanent organic polymeric binder
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652—Of asbestos
    • Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Printing Methods (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

(57)【要約】 本発明は、印刷支持体のための方法及び組成物に関する。該組成物は印刷ペーストとして使用することができる。本発明方法によれば、a）ゾル−ゲル法によって得られ、マトリックスを形成し、そしてポリオルガノシロキサンに基づいたプレ縮合物、及びb）1以上の着色、発光、伝導性(conductive)及び／又は触媒活性のある増量剤を含む印刷ペーストがイメージ通りの方法で支持体に適用され、マトリックスが形成されるガラス転移温度よりも低い温度での熱処理によって高密度化される。当該方法及び印刷ペーストは、例えば、印刷された回路板又は装飾模様を作るのに便利である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は、特定の印刷ペーストが支持体にイメージ通り（imagewise）に適用
され、熱処理により高密度化される印刷された支持体の製造方法、及び当該方法
を実施するのに適した組成物に関する。
【０００２】 例えば、コンダクタートラック(conductor track)のような、導電性成分を有
する印刷支持体のための導電性印刷ペースト、特に導電性スクリーン印刷ペース
トは、一般に導電性金属粉末を混合した低融点のガラス粒子、例えばガラスフリ
ットを使用して先行技術に従って調製される。適したレオロジー、例えば明白な
チキソトロピー挙動の確立を促進する、通常は有機的な性質の成分をこれらに更
に添加する。これらの成分は通常、有機オリゴマー、例えば魚油、セルロース及
びセルロース誘導体、ポリアルコール又は類似物質である。印刷工程、例えばス
クリーン印刷又はパッド印刷による適用の後、印刷領域が焼成され、その間にガ
ラスが溶融し、パーコレート金属粒子のためのマトリックスが形成する。この方
法の不都合な点は、少なくとも600から700℃の比較的高い焼成温度及び低粘度相
の形成であり、それはアスペクト比が比較的低い、即ちガラスの溶融挙動のため
に線がかなり幅広いという作用を有する。金属粒子に加えて他の粒子、例えば着
色顔料もまたこのタイプのガラス粒子に混ぜることができる。
【０００３】 EP-A-535374には、スクリーン印刷エナメル中に添加剤としてシランを使用す
ることを記載されている。しかし、これらの添加剤の機能は、単に乾燥後の装飾
プリントを固定することにすぎない。ガラス粒子はそこに記載されている印刷ペ
ーストに使用される。
【０００４】 DE-A-195 20 964には、ガラスフリット及び必要に応じてキセロゲル粒子を使
用したゾル−ゲルスクリーン印刷材料の組成物が記載されている。使用される出
発物質はケイ酸塩であり得る。
【０００５】 本発明の目的は、安定し、強く付着し、イメージ通りの層を得るために比較的
低い温度においても高密度化できる印刷ペーストを用いる印刷された支持体の簡
単で安価な製造方法を提供することにあり、それはまた、構造化された形態、例
えば、コンダクタートラックの形態であってもよく、それによってラインイメー
ジが非常に高い解像度を伴って作られ得る。ここでの目的は、従来マトリックス
の融点を低下させるために必要であった、重金属成分のマトリックスのための使
用を避けることである。
【０００６】 上述した目的は、a）ゾル−ゲル法によって得られるポリオルガノシロキサン
に基づくマトリックス形成縮合物、及びb）1以上の着色性、発光性、伝導性(con
ductive)及び／又は触媒活性の充填剤を含む印刷ペーストがイメージ通りに支持
体に適用され、熱処理により高密度化される、本発明に従う印刷支持体の製造方
法によって達成され、該方法は、マトリックス形成物のガラス転移温度よりも低
い温度で高密度化が行われることを特徴とする。
【０００７】 ガラス粒子又はガラスフリットの従来の使用の場合のように、この系に溶融媒
体は添加されないが、充填剤として金属粉末を使用する際に、驚くべきことに、
高い導電性及び高度のパーコレーションの前提条件である非常に高度の高密度化
を有するコンダクタートラック(conductor track)は、本発明に従う方法で製造
される。この方法の技術的利点は、先行技術とは対照的に、溶融が避けられるた
め印刷構造が広がらない点にある。従って、印刷されたライン又はイメージパタ
ーンは非常に狭い寸法に保たれ、ラインイメージの場合において、例えば、高度
な縁の鋭さを有し、先行技術のものに比し著しく大きなアスペクト比を有する非
常に細いラインが達成される。好ましく使用される金属導電体の代わりに他の充
填剤が使用されると、装飾パターンやライン又は領域も印刷によって作られ得る
。同様の方法で、型押し又は押出し構造物が作られ得る。
【０００８】 本発明に従う方法で使用される支持体は、任意の所望の耐熱性材料であり得、
例えば、金属、アロイ、プラスチック、セラミック、ガラス−セラミック又はガ
ラスが挙げられる。好ましい支持体は、セラミック、ガラス−セラミック及びガ
ラスである。支持体は下塗りされていてもよい。特に、導電性充填剤が使用され
る用途の場合には、例えば、コンダクタートラックの製造のために、好ましくは
導電性コーティングを有する支持体、特に導電性コーティングを有するガラスが
使用される。導電性コーティングを有する支持体又はガラス支持体は当該分野で
周知であり、市販されている。コーティングは、例えば、酸化スズ又は酸化イン
ジウムスズ（ITO）が挙げられる。本発明の方法において、支持体はイメージパ
ターンが適用されるプリントキャリアとしての機能を果たす。
【０００９】 好適な印刷方法は、一般には印刷ペーストが使用されるあらゆる方法である。
好ましくは、スクリーン印刷、オフセット印刷及びパッド印刷である。
【００１０】 本発明の方法は、例えばコンダクタートラックの製造に使用されるような、導
電性成分を有する印刷支持体に特に適している。1つの成分として伝導性充填剤(
conductive filler)を含む導電性印刷ペーストは、この目的のために使用される
。対応する充填剤は以下により詳細に説明される。
【００１１】 印刷ペーストは、支持体にイメージ通りに適用される。本明細書中 “イメー
ジ通り” という用語は、印刷ペーストが全領域の層として適用されるのではな
く、あらゆる所望のパターンに適用されることを意味する。その上、達成できる
高い解像度のために、本発明に従う方法は、非常に微細なパターンの製造に特に
適している。
【００１２】 印刷ペーストが支持体に適用された後、必要に応じて、例えば80から200℃の
温度で乾燥される。
【００１３】 印刷ペーストは、好ましくは乾燥後に、好ましくは熱処理によって高密度化さ
れる。高密度化の間、印刷構造物は溶融せず、マトリックス形成物のガラス転移
温度よりも低い温度で熱処理が行われる。熱処理は、好ましくは少なくとも200
℃、好ましくは少なくとも400℃、マトリックス形成物のガラス転移温度よりも
低い温度で行われる。マトリックス形成物（例えば、SiO2）に依存して、燃焼温
度はガラス転移温度より低い600から700℃であり得る。
【００１４】 熱処理は、好ましくは400℃から800℃、更に好ましくは450℃から600℃の範囲
の温度で行われる。
【００１５】 本発明に従い使用される印刷ペーストは、ゾル−ゲル法で得られるポリオルガ
ノシロキサンに基づくマトリックス形成縮合物を含む。ゾル−ゲル法は当該分野
で公知の方法である。本発明に従って、加水分解性化合物、特に加水分解性シラ
ンの部分的加水分解及び重縮合によって、完全に縮合されていない縮合物（プレ
縮合物）が得られる。縮合の程度は、例えば20から80%、好ましくは40から60%が
よい。このようにして得られた液体ゾルは、印刷ペーストの調製に使用される。
更なる縮合は、後の乾燥又は高密度化の間に起こる。
【００１６】 ポリオルガノシロキサンに基づくマトリックス形成縮合物は、例えば、 （A）一般式（I） RnSiX(4-n) （I） ［ここで、基Xは、同一であるか又は異なり、加水分解性基又はヒドロキシル基
であり、Rは、同一であるか又は異なり、非加水分解性基であり、nは1、2又は3
である。］ の少なくとも1つのオルガノシラン、又はそれから誘導されるオリゴマー、 （B）任意に、一般式（II） SiX4 （II） ［ここで、Xは上で定義した通りである。］ の少なくとも1つの加水分解性シラン、及び （C）任意に、ガラス−又はセラミック−形成元素の1以上の化合物 の部分的加水分解及び重縮合によって得ることができる。
【００１７】 式（I）のオルガノシロキサン及び式（II）の加水分解性シランにおいて、加
水分解性基Xは、例えば、水素またはハロゲン（F、Cl、Br又はI）、アルコキシ
（好ましくは、例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、i−プロポキシ及
びブトキシのようなC1-6アルコキシ）、アリールオキシ（好ましくは、例えば、
フェノキシのようなC6-10アリールオキシ）、アシルオキシ（例えば、アセトキ
シ又はプロピオニルオキシのようなC1-6アシルオキシ）、アルキルカルボニル（
好ましくは、例えば、アセチルのようなC2-7アルキルカルボニル）、アミノ、好
ましくは1〜12、特に1〜6の炭素原子を有するモノアルキルアミノ又はジアルキ
ルアミノである。
【００１８】 Rは非加水分解性有機基であり、必要に応じて官能基を有していてもよい。Rの
例としては、アルキル（好ましくは、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、s−ブチル及びt−ブチル、ペンチル、ヘキシル又はシクロヘ
キシルのようなC1-6アルキル）、アルケニル（好ましくは、例えば、ビニル、1
−プロペニル、2−プロペニル及びブテニルのようなC2-6アルケニル）、アルキ
ニル（好ましくは、例えば、アセチレニル及びプロパルギルのようなC2-6アルキ
ニル）、及びアリール（好ましくは、例えば、フェニル及びナフチルのようなC6 -10 アリール）が挙げられる。
【００１９】 基Rの官能基の具体例としては、エポキシ、ヒドロキシ、エーテル、アミノ、
モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アミド、カルボキシル、メルカプト、
チオエーテル、ビニル、アクリルオキシ、メタクリルオキシ、シアノ、ハロゲン
、アルデヒド、アルキルカルボニル、スルホン酸及びリン酸基である。これらの
官能基は、アルキレン、アルケニレン又はアリーレン架橋基を介してケイ素原子
に結合し、これは、酸素若しくは硫黄原子又は−NH−基によって中断され得る。
上記の架橋基は、例えば、上述のアルキル、アルケニル又はアリール基から誘導
される。基Rは、好ましくは1〜18、特に1〜8の炭素原子を含む。上記の基R及び
基Xは、必要に応じて例えばハロゲン又はアルコキシのような1以上の慣用の置換
基を有していてもよい。
【００２０】 一般式（I）において、nは値1、2又は3、好ましくは値1又は2である。
【００２１】 式（II）の特に好ましい加水分解性シランは、テトラエトキシシラン（TEOS）
のようなテトラアルコキシシランである。特に好ましい式（I）のオルガノシラ
ンは、3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン（GPTS）のようなエポ
キシシラン、及びメチルトリエトキシシラン（MTEOS）のようなモノアルキルト
リアルコキシシランである。
【００２２】 縮合物は、完全に1以上の式（I）のオルガノシランから調製され得る。これら
のオルガノシランが官能基を含むなら、これもまた好ましい実施態様である。本
発明に従い、縮合物は、好ましくは一般式（I）のオルガノシランの少なくとも4
0モル%、好ましくは少なくとも60モル%を使用して調製される。使用されるオル
ガノシランが官能基を含まない場合、式（II）の加水分解性シランもまた好まし
く使用される。縮合物は、好ましくは一般式（II）の加水分解性シランの60モル
%まで、好ましくは40モル%以下を用いて調製され得る。
【００２３】 所望であれば、縮合物は、ガラス−又はセラミック−形成元素の1以上の化合
物を更に使用して調製され得る。これらは、好ましくは反応媒体に可溶性又は分
散性である。例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム
、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ素
、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、スズ、亜鉛又はバナジウムの化合物（
ハロゲン化物、アルコキシド、カルボキシレート、キレートなど）を使用するこ
とが可能である。
【００２４】 加水分解及び重縮合は、溶媒非存在下又は好ましくは水性若しくは水性／有機
性反応媒体中のいずれかで、必要に応じてHCl、HNO3又はNH3のような酸性または
塩基性縮合触媒の存在下で行われる。液体反応媒体が使用される場合、出発成分
は反応媒体中に可溶である。特に、適切な有機溶媒は水混和性溶媒、例えば、一
価又は多価の脂肪族アルコール、エーテル、エステル、ケトン、アミド、スルホ
キシド及びスルホンである。
【００２５】 加水分解及び重縮合は必要に応じて、錯化剤、例えば、ニトレート、β−ジカ
ルボニル化合物（例えば、アセチルアセトネート又はアセトアセテート）、カル
ボン酸（例えば、メタクリル酸）又はカルボキシレート（例えば、アセテート、
シトレート又はグリコレート）、ベタイン、ジオール、ジアミン（例えば、DIAM
O）又はクラウンエーテルの存在下で行われる。
【００２６】 上述のゾル（プレ縮合物）の他に、印刷ペーストはまた1以上の着色性、発光
性、伝導性(conductive)及び／又は触媒活性の充填剤を含む。これらは、好まし
くはμm範囲（例えば30μmまで）又はサブ−μm範囲の寸法を有する粉末形態の
粒子である。それらは、例えば、球状、ラメラ状又は不規則な形状の物体であっ
てもよい。着色性充填剤は、特に染料及び着色顔料である。発光性充填剤は、例
えば、光−及びエレクトロ−ルミネッセンス材料を含む。伝導性充填剤(conduct
ive filler)は、特に導電性及び／又は光伝導性材料である。触媒活性の充填剤
は、例えば、酸化アルミニウム、酸化クロム及び酸化チタンである。伝導性充填
剤の場合、印刷ペーストは、好ましくはこれらの充填剤を50〜80重量%、特に好
ましくは70〜75重量%含む。伝導性充填剤が使用されると、キャリア上に印刷さ
れた高密度化印刷ペーストは、充填剤を少なくとも80重量%、好ましくは少なく
とも95重量%含む。着色性充填剤のみが使用されると、着色粉末及び所望の着色
効果に依存して、例えば10重量%より低いといった著しく低い割合が、適用され
る印刷ペースト中に存在することができる。
【００２７】 伝導性充填剤として使用され得る材料の例としては、金属及び金属酸化物だけ
でなく他の元素又は元素化合物、例えば、アルミニウム、金、銀、銅、ニッケル
、クロム、モリブデン、タングステン、酸化スズ、酸化インジウムスズ、ジルコ
ン酸チタン酸鉛及びグラファイトである。
【００２８】 使用できる着色性充填剤は、高密度化温度においても安定であり続ける無機又
は有機物質である。適した耐熱染料は、例えば、メチルオレンジ、アリザリンイ
エロー又はコンゴレッドのようなアゾ染料；ディスパースレッドのような分散染
料；マラカイト（Malachite）グリーン、エオシン(eosine)、フルオレセイン、
オーリン（aurine）及びフェノールフタレインのようなトリフェニルメタン染料
；インジゴ、チオインジゴ及びアントラキノン染料のようなバット染料；ペリレ
ン染料、及びフルオレッセントブライトナー（Fluorescent Brightener）28のよ
うな蛍光性染料である。使用できる顔料は、例えば、マイカベースの顔料（イリ
オジン）、例えばCu、Co、Ni、Zn又はCrを中心原子として有するフタロシアニン
；カーボンブラック顔料及びTiO2である。
【００２９】 印刷ペーストはまた必要に応じて、ナノスケール粒子、例えば、Ag、Au、Cu、
Pd及びPtの金属コロイド又は金属化合物、例えば、ZnO、CdO、SiO2、TiO2、ZrO2 、CeO2、SnO2、Al2O3、In2O3、La2O3、Fe2O3、Cr2O3、CuO、Cu2O、Mn2O3、Ta2O5 、Nb2O5、V2O5、PdO、MoO3又はWO3のような（任意に水和した）酸化物； 例えば
硫化物（例えばCdS、ZnS、PbS及びAg2S）、セレン化物（例えばGaSe、CdSe及びZ
nSe）及びテルル化合物（例えばZnTe又はCdTe）、AgCl、AgBr、AgI、CuCl、CuBr
、CdI2及びPbI2のようなハロゲン化物のようなカルコゲニド；CdC2又はSiCのよ
うな炭化物；AlAs、GaAs及びGeAsのような砒化物；InSbのようなアンチモン化合
物；BN、AIN、Si3N4及びTi3N4のような窒化物；GaP、InP、Zn3P2及びCd3P2のよ
うなリン化物；リン酸塩、ケイ酸塩、ジルコン酸塩、アルミン酸塩、スズ酸塩及
びそれに対応する混合酸化物（例えば、BaTiO3及びPbTiO3のようなペロブスカイ
ト構造を有するもの）を含んでもよい。
【００３０】 ナノスケール充填材粒子は、通常1から100nm、好ましくは2から50nm、特に好
ましくは5から20nmの範囲の粒度を有する。これらの材料は、粉末の形態で又は
好ましくは（特に酸に安定な）ゾルの形態で使用することができる。
【００３１】 着色性、発色性及び／又は触媒活性の充填剤の量は、所望のコーティングの機
能的性質、例えば所望の着色強度に依存する。
【００３２】 印刷ペーストとして使用できる本発明に従う組成物は、更に1以上の少なくと
も150℃、好ましくは少なくとも180℃、特に好ましくは少なくとも200℃の沸点
を有する高沸有機溶媒を、一般に50重量%まで、例えば1から30重量%又は1から10
重量%の量で含む。
【００３３】 好適な高沸有機溶媒の好ましい例としては、例えばエチレングリコール、プロ
ピレングリコール又はブチレングリコールのジ−、トリ−、テトラ−、ペンタ−
又はヘキサマー、及び一方又は両方の水酸基が例えばメトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ又はブトキシ基で置換されていてもよいそれらのモノ又はジエーテルのよ
うなモノグルコールのジ−、トリ−、テトラ−、ペンタ−又はヘキサマー；テル
ペン、例えばテルピネオール；及びポリオール、例えば2−メチル−2,4−ペンタ
ンジオールが挙げられる。特別な高沸有機溶媒は、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール及びテトラエチレングリコール、ジエチレングリコールジエ
チルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル又はジエチレングリ
コールモノブチルエーテルのようなポリエチレングリコール及びそのエーテルで
ある。これらの中で、特に好ましいものとしては、ジエチレングリコール、テト
ラエチレングリコール及びジエチレングリコールモノブチルエーテルが挙げられ
る。もちろん、これらの溶媒の2以上の混合物を使用することもできる。
【００３４】 印刷ペーストとして使用することができる本発明に従う組成物は、好ましくは
5重量%以下、例えば0.5から2重量%の量で1以上のレオロジーコントール剤を更に
含む。レオロジーコントール剤は、印刷ペーストの構造粘性又はチキソトロピー
を調整する機能を果たす。本明細書中においても、先行技術で通常使用されてい
るレオロジーコントール剤が使用できる。このタイプのレオロジーコントール剤
の例は、魚油、セルロース、セルロース誘導体及びポリアルコールである。
【００３５】 組成物は更に、印刷ペーストの慣用の添加剤を含んでいてもよい。しかし、印
刷ペーストは、好ましくは、マトリックス形成物としての機能を果たす従来技術
で通常使用されているガラス粒子又はガラスフリットを実質的に含まないほうが
よい。なぜなら、驚くべきことに、本発明に従いマトリックス形成機能は、バイ
ンダーとしての機能に加えて、使用される（プレ）縮合物によって発揮される。
対照的に、マトリックス形成物として機能するのではなく、例えばスペーサーと
しての役割を果たすので溶融されない特定のガラス粒子は、本発明で使用される
組成物中に存在してもよい。
【００３６】 その成分は、当業者に公知の方法、例えばロールミル又はボールミルを用いた
混合又は配合によってペースト中に組み合わせられ、且つ形成される。当業者に
公知の方法が、同様に、例えばレオロジーコントール剤の助けを借りて印刷に適
した粘性をセットするために使用される。
【００３７】 本発明の方法及び本発明の組成物は、例えば、特にディスプレイ技術及び光電
池用途に使用され得るガラス、ガラスセラミック及びセラミック支持体上に、コ
ンダクタートラック、例えば100μm未満の幅で30μmまでの高さの非常に細いコ
ンダクタートラックの製造に特に適している。しかし、本発明の方法及び本発明
の組成物はまた、高い解像度を有し非常に細いラインの形成が可能な装飾的用途
に特に適している。
【００３８】 実施例 実施例1：γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン（GPTS）に基づ
く導電性スクリーン印刷ペーストの調製 473.25gのγ-GPTSを54.18gの水と混合し、24時間還流する。加水分解又はアル
コーリシスで遊離したメタノール（116.28g）をロータリーエバポレーターで除
去する。このようにして調製されたGPTSプレ加水分解物（prehydrolysate）が、
印刷ペーストの調製に使用される。38.0g銀粉末（その中の19.0gは20μmより大
きなラメラ状の銀粉末であって、19.0gは1.5から2.5μmの銀粉末である）が2.37
5gのGPTSプレ加水分解物と混合される。5.82gのテトラエチレングリコールに溶
解した0.076gのヒドロキシプロピルセルロース（平均分子量100000g/mol）を添
加する。
【００３９】 得られた混合物を、ロールミル中で又はボールミルの助けを借りてペースト状
に形成することができる。スクリーン印刷においては通常のパラメータ（例えば
最大60cm/sまでの速度のドクターブレード）及び材料（例えばステンレススチー
ル篩325メッシュ、シリコンドクターブレード）を用いて、塗布が行われる。高
密度化は450℃よりも高い温度で行われる。
【００４０】 実施例2：γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン（GPTS）に基づ
く装飾スクリーン印刷ペーストの調製 GPTSプレ加水分解物は、実施例1に記載されたように調製される。4.0gのTiO2
（Merck 808）、0.5gのテトラエチレングリコール及びチキソトロピーを提供す
るために0.94gのテルピネオールに溶解した0.02gのヒドロキシプロピルセルロー
ス（平均分子量100000g/mol）を2.37gのこのプレ加水分解物に添加する。
【００４１】 ペーストへの変換及び塗布は実施例1のようにして行われる。
【００４２】 実施例3：有機的に修飾された無機バインダーに基づくスクリーン印刷ペース
トの調製 62.3gのメチルトリエトキシシラン（MTEOS）及び21.68gのテトラエトキシシラ
ン（TEOS）の混合物が最初に導入される。35.18gのシリカゾル（Levasil 300/30
）及び0.63mlの濃塩酸を激しく撹拌しながら添加する。混合物を15分間氷浴中で
加水分解する。このようにして調製された混合物に75.0gのテルピネオールを添
加する。混合物を15分間撹拌した後、混合物（58.94g）中に存在するエタノール
をロータリーエバポレータで蒸発させる。
【００４３】 1.3gのIriodin Silk Red WR2及び0.1mlのM50シリコンオイルを2.5gのこの混合
物に添加する。チキソトロピーを提供するために1.8gのテルピネオールに溶解し
た0.2gのエチルセルロース（平均分子量20000g/mol）を添加する。
【００４４】 塗布は実施例1のように行う。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クロイツァー ライナー ドイツ国 66740 ザールルイス ザール ヴェリンガーシュトラーセ 113エー (72)発明者 メニッヒ マルチン ドイツ国 66287 クヴィエルシード ミ ッテルシュトラーセ ５ (72)発明者 シュミット ヘルムット ドイツ国 66130 ザールブリュッケン− ギュディンゲン イン クニヒスフェルト 29 Ｆターム(参考） 5G301 DA02 DA03 DA05 DA06 DA09 DA10 DA14 DA18 DA23 DA60 DD01

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 a）ゾル−ゲル法によって得られるポリオルガノシロキサン
    に基づくマトリックス形成縮合物、及びb）1以上の着色性、発光性、伝導性(con
    ductive)及び／又は触媒活性の充填剤を含む印刷ペーストが支持体にイメージ通
    りに適用され、熱処理により高密度化される印刷支持体の製造方法であって、高
    密度化がマトリックス形成物のガラス転移温度よりも低い温度で行われることを
    特徴とする方法。
  2. 【請求項２】 高密度化がマトリックス形成物のガラス転移温度よりも少な
    くとも200℃低い温度で行われる請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項３】 印刷ペーストがスクリーン印刷又はパッド印刷により支持体
    に適用される請求項1又は2に記載の方法。
  4. 【請求項４】 使用される支持体が、必要に応じて導電性コーティングを備
    えたガラス、ガラスセラミック又はセラミック支持体である請求項1〜3のいずれ
    かに記載の方法。
  5. 【請求項５】 特にディスプレイ技術又は光電池用途のためのコンダクター
    ・トラック若しくはスペーサー、又は装飾パターンが印刷される請求項1〜4のい
    ずれかに記載の方法。
  6. 【請求項６】 a）（A）一般式（I） RnSiX(4-n) （I） ［ここで、基Xは、同一であるか又は異なり、加水分解性基又はヒドロキシル基
    であり、Rは、同一であるか又は異なり、非加水分解性基であり、nは1、2又は3
    である。］ の少なくとも1つのオルガノシラン、又はそれから誘導されるオリゴマー、 （B）任意に、一般式（II） SiX4 （II） ［ここで、Xは、上で定義した通りである。］ の少なくとも1つの加水分解性シラン、及び （C）任意に、ガラス又はセラミック形成元素の1以上の化合物、 の部分的加水分解及び重縮合により得ることができる、ゾル−ゲル法により得ら
    れるポリオルガノシロキサンに基づくマトリックス形成縮合物、 b）1以上の着色性、発色性、伝導性(conductive)及び／又は触媒活性の充填剤、 c）少なくとも150℃の沸点を有する1以上の高沸有機溶媒、及び d）1以上のレオロジーコントロール剤 を含む組成物。
  7. 【請求項７】 縮合物が少なくとも40モル%の一般式（I）のオルガノシラン
    のを使用して調製された、請求項6に記載の組成物。
  8. 【請求項８】 染料、着色顔料、光−又はエレクトロ−ルミネッセント材料
    、導電性又は光伝導性材料及び触媒活性のある充填剤からなる群由来の1以上の
    充填剤が存在する請求項6又は7に記載の組成物。
  9. 【請求項９】 伝導性充填剤(conductive filler)が金、銀、銅、ニッケル
    、タングステン、モリブデン、酸化スズ、酸化インジウムスズ、ジルコン酸チタ
    ン酸鉛又はグラファイトの粒子を含む請求項6〜8のいずれかに記載の組成物。
  10. 【請求項１０】 本質的にガラス粒子が存在しない請求項6〜9のいずれかに
    記載の組成物。
JP2001526371A 1999-09-29 2000-09-28 印刷支持体のための方法及び組成物 Expired - Fee Related JP4841094B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19946712A DE19946712A1 (de) 1999-09-29 1999-09-29 Verfahren und Zusammensetzungen zum Bedrucken von Substraten
DE19946712.9 1999-09-29
PCT/EP2000/009523 WO2001023190A1 (de) 1999-09-29 2000-09-28 Verfahren und zusammensetzungen zum bedrucken von substraten

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003510774A true JP2003510774A (ja) 2003-03-18
JP4841094B2 JP4841094B2 (ja) 2011-12-21

Family

ID=7923739

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001526371A Expired - Fee Related JP4841094B2 (ja) 1999-09-29 2000-09-28 印刷支持体のための方法及び組成物

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6863923B1 (ja)
EP (1) EP1218202B1 (ja)
JP (1) JP4841094B2 (ja)
AT (1) ATE242696T1 (ja)
DE (2) DE19946712A1 (ja)
ES (1) ES2199869T3 (ja)
WO (1) WO2001023190A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005340666A (ja) * 2004-05-28 2005-12-08 Niigata Prefecture 内部電極用ニッケル含有ペースト
JP2016060906A (ja) * 2014-09-12 2016-04-25 Jsr株式会社 導電性膜形成用組成物、導電性膜、めっき膜の製造方法、めっき膜および電子機器

Families Citing this family (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10233132A1 (de) * 2002-07-20 2004-02-12 Hella Kg Hueck & Co. Koppelelement, insbesondere Rotor für einen induktiven Sensor
US20050247915A1 (en) * 2002-09-06 2005-11-10 Koninklijke Philips Electronics N.V. Compound for screen-printing, screen-printed layer and substrate provided with such layer
DE10313630A1 (de) * 2003-03-26 2004-10-07 BSH Bosch und Siemens Hausgeräte GmbH Glasartige Bedruckung mittels Siebdruck
DE10355160B4 (de) * 2003-11-26 2008-04-03 Schott Ag Beschichtete Glaskeramikplatte, Verfahren zu ihrer Herstellung und Kochfeld mit einer solchen Glaskeramikplatte
US7553519B2 (en) * 2004-03-26 2009-06-30 Eurokera Glass-ceramic and glass plates, heating plates, and preparation
DE102005028250A1 (de) * 2005-06-17 2006-12-28 Siemens Ag Leiterpaste zum Herstellen einer elektrischen Leiterbahn und Herstellungsverfahren der elektrischen Leiterbahn unter Verwendung der Leiterpaste
DE102005036427A1 (de) * 2005-08-03 2007-02-08 Schott Ag Substrat, umfassend zumindest eine voll- oder teilflächige makrostrukturierte Schicht, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
JP4530980B2 (ja) * 2005-08-26 2010-08-25 東京応化工業株式会社 膜形成用材料およびパターン形成方法
DE102007025590A1 (de) * 2007-05-31 2008-12-04 Ferro Gmbh Einbrennbare siebdruckfähige Antireflexbeschichtung für Glas
US20090252933A1 (en) * 2008-04-04 2009-10-08 3M Innovative Properties Company Method for digitally printing electroluminescent lamps
DE202008017848U1 (de) * 2008-04-10 2010-09-23 Saint-Gobain Sekurit Deutschland Gmbh & Co. Kg Transparente Scheibe mit einer beheizbaren Beschichtung und niederohmigen leitenden Schichten
DE102008031428A1 (de) 2008-07-04 2010-01-07 Schott Ag Dekorative Beschichtung von Glas- oder Glaskeramik-Artikeln
DE102008031426B4 (de) 2008-07-04 2014-07-31 Schott Ag Verfahren zur Herstellung einer Versiegelungsschicht für Dekorschichten, Glas- oder Glaskeramik-Artikel und dessen Verwendung
US20100124602A1 (en) * 2008-11-18 2010-05-20 Palo Alto Research Center Incorporated Easily flowing inks for extrusion
US8080729B2 (en) * 2008-11-24 2011-12-20 Palo Alto Research Center Incorporated Melt planarization of solar cell bus bars
JP5496224B2 (ja) 2008-12-31 2014-05-21 コントラ ヴィジョン リミテッド 差動インク媒体熱排除による実質的に正確なレジストレーションでのセラミックインクの層の印刷
DE102009004784B4 (de) 2009-01-13 2017-02-16 Schott Ag Verfahren zur Herstellung eines Glas- oder Glaskeramik- Artikels mit Dekorbeschichtung, Glas- oder Glaskeramik- Artikel und deren Verwendung
DE102009004783B4 (de) 2009-01-13 2011-09-01 Schott Ag Verfahren zur Herstellung einer glimmerreduzierten Versiegelungsschicht für Dekorschichten von Glas- oder Glaskeramik-Artikeln, mit diesem Verfahren hergestelltes Produkt sowie dessen Verwendung
FR2941399B1 (fr) 2009-01-23 2014-06-06 Jean Denis Borras Procede de dispositif de marquage d'objets
WO2011009574A2 (en) * 2009-07-23 2011-01-27 Corus Uk Limited A conductive layer for use in a photovoltaic device or other electronic application
KR20180100248A (ko) 2010-04-23 2018-09-07 픽셀리전트 테크놀로지스 엘엘씨 나노결정의 합성, 캐핑 및 분산
FR2960233B1 (fr) 2010-05-19 2012-08-10 Eurokera Preparation d'un article en un verre ou en une vitroceramique avec revetement ameliore et ledit article
US8920675B2 (en) 2010-10-27 2014-12-30 Pixelligent Technologies, Llc Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals
DE102011050872A1 (de) 2011-06-06 2012-12-06 Inomat Gmbh Semitransparentes Beschichtungsmaterial
FR2981345A1 (fr) * 2011-10-12 2013-04-19 Saint Gobain Procede de fabrication d'une feuille de verre transparente coloree.
US9359689B2 (en) 2011-10-26 2016-06-07 Pixelligent Technologies, Llc Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals
US10371468B2 (en) 2011-11-30 2019-08-06 Palo Alto Research Center Incorporated Co-extruded microchannel heat pipes
US9120190B2 (en) 2011-11-30 2015-09-01 Palo Alto Research Center Incorporated Co-extruded microchannel heat pipes
US8875653B2 (en) 2012-02-10 2014-11-04 Palo Alto Research Center Incorporated Micro-extrusion printhead with offset orifices for generating gridlines on non-square substrates
DE102012111514A1 (de) 2012-06-06 2013-12-24 Schott Ag Sol-Gel-Farbe sowie Verfahren zu deren Herstellung
DE102013010105A1 (de) * 2013-06-18 2014-12-18 Ferro Gmbh Verfahren zur Herstellung einer wässrigen Zusammensetzung umfassend ein Kondensat auf Basis von Silicium-Verbindungen zur Herstellung von Antireflexionsbeschichtungen
DE102013111267B4 (de) * 2013-10-11 2019-10-24 Schott Ag Kochfeld mit einem transparenten elektrischen Leiter und Verfahren zur Herstellung
DE102013112109A1 (de) * 2013-11-04 2015-05-21 Schott Ag Substrat mit elektrisch leitfähiger Beschichtung sowie Verfahren zur Herstellung eines Substrates mit einer elektrisch leitfähigen Beschichtung
FR3014890B1 (fr) 2013-12-12 2017-02-03 Seb Sa Article culinaire muni d'un revetement hybride et procede pour realiser un tel article
FR3018701A1 (fr) 2014-03-21 2015-09-25 Commissariat Energie Atomique Particules de melamine-uree-formaldehyde (muf) contenant un polymere possedant une tg inferieure a 75 °c
FR3029529A1 (fr) * 2014-12-03 2016-06-10 Commissariat Energie Atomique Encre sol-gel luminescente pour marquer un substrat, procede de realisation d'une encre sol-gel luminescente et procede de marquage d'un substrat par une encre sol-gel luminescente.
DE102016103432A1 (de) 2015-02-26 2016-09-01 Dynamic Solar Systems Ag Raumtemperatur-Verfahren zur Herstellung elektrotechnischer Dünnschichten und elektrotechnische Dünnschicht
WO2016134703A1 (de) 2015-02-26 2016-09-01 Dynamic Solar Systems Ag Raumtemperatur-verfahren zur herstellung elektrotechnischer dünnschichten und verfahrensgemäss erhaltene dünnschichtfolge
EP3409814A4 (en) * 2016-01-29 2019-08-28 JCU Corporation METHOD FOR FORMING A CIRCUIT ON A SUBSTRATE
FR3057576B1 (fr) * 2016-10-14 2020-06-19 Etablissements Tiflex Nouvelle encre sol-gel destinee a l’impression par serigraphie
EP3564197A1 (en) * 2018-05-04 2019-11-06 Merck Patent GmbH Ceramic colours
EP3564200A1 (en) * 2018-05-04 2019-11-06 Merck Patent GmbH Ceramic colours
EP3564202A1 (en) * 2018-05-04 2019-11-06 Merck Patent GmbH Ceramic colours
US20210198522A1 (en) * 2019-12-31 2021-07-01 Industrial Technology Research Institute Water-based coating material and method for manufacturing the same

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01204976A (ja) * 1987-12-31 1989-08-17 Dow Corning Corp スクリーン印刷性オルガノシロキサン樹脂塗料

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62230873A (ja) * 1986-03-31 1987-10-09 Yoshio Ichikawa 耐熱耐候性の印刷用インキの組成物
US4799963A (en) 1986-10-03 1989-01-24 Ppg Industries, Inc. Optically transparent UV-protective coatings
DE3751856T3 (de) 1986-10-03 2001-04-19 Ppg Ind Ohio Inc Organisch-anorganisches Hybridpolymer
US4731264A (en) 1986-10-03 1988-03-15 Ppg Industries, Inc. Sol-gel compositions containing silane and alumina
US4753827A (en) 1986-10-03 1988-06-28 Ppg Industries, Inc. Abrasion-resistant organosiloxane/metal oxide coating
US4754012A (en) 1986-10-03 1988-06-28 Ppg Industries, Inc. Multi-component sol-gel protective coating composition
US4814017A (en) 1986-10-03 1989-03-21 Ppg Industries, Inc. Aqueous organoalkoxysilane/metal oxide sol-gel compositions
IL84025A0 (en) * 1986-10-03 1988-02-29 Ppg Industries Inc Organosiloxane/metal oxide coating compositions and their production
JPH02122982A (ja) 1988-11-02 1990-05-10 Dainippon Printing Co Ltd 記録画像の後処理方法
JP2624097B2 (ja) 1992-09-17 1997-06-25 信越化学工業株式会社 耐油脂性導電インク組成物及び接点部材
DE19520964A1 (de) 1995-06-08 1996-12-12 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Beschichtete anorganische Pigmente, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
JPH10195280A (ja) 1997-01-09 1998-07-28 Shin Etsu Chem Co Ltd 半導体封止用難燃性エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JPH10204296A (ja) 1997-01-20 1998-08-04 Teikoku Chem Ind Corp Ltd 着色用組成物
US5891520A (en) 1997-06-30 1999-04-06 Avery Dennison Corporation Method for screen printing glass articles
US6538092B1 (en) * 1999-04-23 2003-03-25 Sdc Coatings, Inc. Composition for providing an abrasion resistant coating on a substrate with a matched refractive index:2

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01204976A (ja) * 1987-12-31 1989-08-17 Dow Corning Corp スクリーン印刷性オルガノシロキサン樹脂塗料

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005340666A (ja) * 2004-05-28 2005-12-08 Niigata Prefecture 内部電極用ニッケル含有ペースト
JP4653971B2 (ja) * 2004-05-28 2011-03-16 新潟県 内部電極用ニッケル含有ペースト
JP2016060906A (ja) * 2014-09-12 2016-04-25 Jsr株式会社 導電性膜形成用組成物、導電性膜、めっき膜の製造方法、めっき膜および電子機器

Also Published As

Publication number Publication date
JP4841094B2 (ja) 2011-12-21
DE19946712A1 (de) 2001-04-05
US6863923B1 (en) 2005-03-08
ATE242696T1 (de) 2003-06-15
EP1218202A1 (de) 2002-07-03
EP1218202B1 (de) 2003-06-11
WO2001023190A1 (de) 2001-04-05
DE50002553D1 (de) 2003-07-17
ES2199869T3 (es) 2004-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4841094B2 (ja) 印刷支持体のための方法及び組成物
JP3931246B2 (ja) 構造化された無機層を形成する方法
JP4761788B2 (ja) 被覆無機顔料、その製造方法及びその用途
JP3909389B2 (ja) 機能性ガラス質層を形成する方法
US20070017402A1 (en) Vitreous printing by means of a silkscreen process
JP3892062B2 (ja) 焼付け可能な支持体上に紫色装飾物を製造するための方法及び薬剤
US7141111B2 (en) Embedded pigments for ceramic products and oxides in the form of nanometric particles
JPWO2007040257A1 (ja) 有機無機複合膜が形成された物品およびその製造方法
JPH1180596A (ja) マスキング剤及びパターン膜の形成法
US6004391A (en) Pigments for the production of purple ceramic decoration, process for the production thereof and use thereof
JPH10504013A (ja) ガラス表面に印刷するための焼成に適した印刷ペースト及び該ペーストの製造方法
JPH10287443A (ja) 高輻射ガラス被覆材料、高輻射ガラス膜、および高輻射ガラス膜の製造方法
JP2005048142A (ja) 着色膜形成用溶液、およびこれを用いた着色膜付きガラス基体の製造方法
WO2010050590A1 (ja) ガラスペースト
JP2957438B2 (ja) 緑色透明ガラス着色剤組成物
KR19980042869A (ko) 자주색 세라믹 장식품 제조용 안료, 이의 제조방법 및 이의용도
EP0015623B1 (en) Magnesium compositions and process for forming mgo film
JP2000103646A (ja) ガラス等の無機材料の透明着色用組成物
JPH11228175A (ja) ガラス着色剤組成物及びガラス着色膜の製造方法
JP4037713B2 (ja) 着色ランプ及びその製造方法
JPH03146437A (ja) グレーズド基板
CN113480334A (zh) 一种用于陶瓷基材感应加热的导电材料及涂层的制备方法
JP2000338320A (ja) 表示装置用カラーフィルタ及び表示装置
JPH11226420A (ja) 抗菌膜形成組成物および抗菌膜の製造方法
JP2007317567A (ja) 白熱電球用コーティング組成物、白熱電球及び白熱電球のコーティング方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070830

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100707

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100927

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110913

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111004

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141014

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees