JP2607193B2 - 露光用マスクの製造方法 - Google Patents
露光用マスクの製造方法Info
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- JP2607193B2 JP2607193B2 JP32224691A JP32224691A JP2607193B2 JP 2607193 B2 JP2607193 B2 JP 2607193B2 JP 32224691 A JP32224691 A JP 32224691A JP 32224691 A JP32224691 A JP 32224691A JP 2607193 B2 JP2607193 B2 JP 2607193B2
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- Japan
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば液晶・半導体等
用の露光用マスク製造方法に関する。
用の露光用マスク製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、パタ−ン層の形成されたマスク本
体に防塵用の薄膜体を貼着する際には、先ずパタ−ン層
が上方に向くようにマスク本体を支持した後にパタ−ン
層全面を開口した状態でその一端側より順次検査し、塵
埃等の異物がマスク本体の上面に付着していればエア−
の噴射等で洗浄して取り除き、その後薄膜体をマスク本
体に貼着して取り付けられていた。
体に防塵用の薄膜体を貼着する際には、先ずパタ−ン層
が上方に向くようにマスク本体を支持した後にパタ−ン
層全面を開口した状態でその一端側より順次検査し、塵
埃等の異物がマスク本体の上面に付着していればエア−
の噴射等で洗浄して取り除き、その後薄膜体をマスク本
体に貼着して取り付けられていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の露光マスク
の製造において、薄膜体をマスク本体に貼着する前に行
う異物の有無の検査は、マスク本体の上方を開放した状
態でパタ−ン層の一方より順次検査するので検査中にす
でに検査済の部分に塵埃等の異物が付着したり、また薄
膜体をマスク本体に貼着する際にパタ−ン層に異物が付
着するおそれがあり、これらの異物が薄膜体を貼着した
後に行う検査において発見された場合には、一度貼着し
た薄膜を剥がして取り除き、パタ−ン層を洗浄し、その
後再度薄膜を貼着しなければならない等の作業が必要と
なり、作業が煩雑で作業能率の低下を招く等の問題があ
った。
の製造において、薄膜体をマスク本体に貼着する前に行
う異物の有無の検査は、マスク本体の上方を開放した状
態でパタ−ン層の一方より順次検査するので検査中にす
でに検査済の部分に塵埃等の異物が付着したり、また薄
膜体をマスク本体に貼着する際にパタ−ン層に異物が付
着するおそれがあり、これらの異物が薄膜体を貼着した
後に行う検査において発見された場合には、一度貼着し
た薄膜を剥がして取り除き、パタ−ン層を洗浄し、その
後再度薄膜を貼着しなければならない等の作業が必要と
なり、作業が煩雑で作業能率の低下を招く等の問題があ
った。
【０００４】また、上記のように異物が薄膜体を貼着し
た後に発見された場合には、薄膜体を剥がして、異物を
除去しなければならないことから、薄膜体の使用量が多
くなり不経済であるという問題点があった。
た後に発見された場合には、薄膜体を剥がして、異物を
除去しなければならないことから、薄膜体の使用量が多
くなり不経済であるという問題点があった。
【０００５】本発明は上記問題点に鑑みて発明されたも
ので、パタ−ン層における異物の検査においては、検査
中に異物がパタ−ン層に付着するのを防止するととも
に、薄膜体をマスク本体に取り付ける際に、パタ−ン層
に異物が付着するのを防止でき、しかも異物の混入のた
め一旦貼着した薄膜体を剥がす必要がなく作業が容易
で、且つ迅速に行うことができ、しかも経済的な露光用
マスクの製造方法を提供することを課題とする。
ので、パタ−ン層における異物の検査においては、検査
中に異物がパタ−ン層に付着するのを防止するととも
に、薄膜体をマスク本体に取り付ける際に、パタ−ン層
に異物が付着するのを防止でき、しかも異物の混入のた
め一旦貼着した薄膜体を剥がす必要がなく作業が容易
で、且つ迅速に行うことができ、しかも経済的な露光用
マスクの製造方法を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために露光用マスクの製造方法としてなされるも
ので、その特徴は、リソグラフィ工程等によりパタ−ン
層２ａをマスク本体２に形成した後に、パタ−ン層２ａ
を塵埃等の異物より保護すべく薄膜体７をマスク本体２
のパタ−ン層２ａ側に貼着する露光用マスクの製造方法
において、前記薄膜体７をマスク本体２に貼着する前
に、前記マスク本体２と薄膜体７とが隙間を有して対向
するように維持し、その状態でマスク本体２の上面の異
物の有無の検査を行い、異物の無い場合に薄膜体７をマ
スク本体２に貼着することにある。
決するために露光用マスクの製造方法としてなされるも
ので、その特徴は、リソグラフィ工程等によりパタ−ン
層２ａをマスク本体２に形成した後に、パタ−ン層２ａ
を塵埃等の異物より保護すべく薄膜体７をマスク本体２
のパタ−ン層２ａ側に貼着する露光用マスクの製造方法
において、前記薄膜体７をマスク本体２に貼着する前
に、前記マスク本体２と薄膜体７とが隙間を有して対向
するように維持し、その状態でマスク本体２の上面の異
物の有無の検査を行い、異物の無い場合に薄膜体７をマ
スク本体２に貼着することにある。
【０００８】
【作用】すなわち、本発明の露光用マスクの製造方法は
薄膜体７をマスク本体２に貼着する前に、前記マスク本
体２と薄膜体７とが隙間を有するように維持し、その状
態でマスク本体２の上面の異物の有無の検査を行い、異
物の無い場合に薄膜体７をマスク本体２に貼着する構成
からなるので、仮に検査時に異物が発見された時には薄
膜体７とマスク本体２とは貼着されていないので、容易
に薄膜体７をマスク本体２より離脱させて、薄膜体７又
はマスク本体２に付着する異物を取り除くことができ
る。また、本発明の露光用マスクの製造方法にあっては
異物の有無の検査時に於いて、マスク本体２のパタ−ン
層２ａは未だ貼着されていない薄膜体７で被覆されてい
るため、検査時に異物がパタ−ン層２ａ等に付着するお
それがなく、しかも、検査終了後、異物の無い場合にの
み薄膜体７をマスク本体２に貼着することにより、異物
がマスク本体２と薄膜体７との間に介在した露光用マス
クを製造することを防止することができる。
薄膜体７をマスク本体２に貼着する前に、前記マスク本
体２と薄膜体７とが隙間を有するように維持し、その状
態でマスク本体２の上面の異物の有無の検査を行い、異
物の無い場合に薄膜体７をマスク本体２に貼着する構成
からなるので、仮に検査時に異物が発見された時には薄
膜体７とマスク本体２とは貼着されていないので、容易
に薄膜体７をマスク本体２より離脱させて、薄膜体７又
はマスク本体２に付着する異物を取り除くことができ
る。また、本発明の露光用マスクの製造方法にあっては
異物の有無の検査時に於いて、マスク本体２のパタ−ン
層２ａは未だ貼着されていない薄膜体７で被覆されてい
るため、検査時に異物がパタ−ン層２ａ等に付着するお
それがなく、しかも、検査終了後、異物の無い場合にの
み薄膜体７をマスク本体２に貼着することにより、異物
がマスク本体２と薄膜体７との間に介在した露光用マス
クを製造することを防止することができる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面に従っ
て説明する。図１において、１は露光マスク製造装置を
示し、略矩形で内部にマスク本体２を収納可能な収納凹
部３を有する支持部本体４と、該支持部本体４の両側面
５に設けられた移動手段１０と、該移動手段１０の上端
に取り付けられ、薄膜体７を保持可能な略矩形の保持体
６とで構成されている。尚、前記マスク本体２の上面に
は、図１に示すようにリソグラフィ工程によってパタ−
ン層２ａが形成されており、また、前記薄膜体７は、図
６及び７に示すようにパタ−ン層２ａの上面に対向して
位置する薄膜と該薄膜の外周に下方に突設して設けられ
たフレーム８とから構成されており、該薄膜体７は図７
に示すようにフレーム８の下面がマスク本体２に貼着さ
れることによって塵埃等の異物より保護可能に構成され
ている。
て説明する。図１において、１は露光マスク製造装置を
示し、略矩形で内部にマスク本体２を収納可能な収納凹
部３を有する支持部本体４と、該支持部本体４の両側面
５に設けられた移動手段１０と、該移動手段１０の上端
に取り付けられ、薄膜体７を保持可能な略矩形の保持体
６とで構成されている。尚、前記マスク本体２の上面に
は、図１に示すようにリソグラフィ工程によってパタ−
ン層２ａが形成されており、また、前記薄膜体７は、図
６及び７に示すようにパタ−ン層２ａの上面に対向して
位置する薄膜と該薄膜の外周に下方に突設して設けられ
たフレーム８とから構成されており、該薄膜体７は図７
に示すようにフレーム８の下面がマスク本体２に貼着さ
れることによって塵埃等の異物より保護可能に構成され
ている。
【００１０】前記支持部本体４は図２に示すように、そ
の収納凹部３の底面の四隅には、軟質のラバ−体１３が
敷設され、上面にはバネ１１ａにより突出方向に付勢さ
れた支持体１１がそれぞれ出退自在に設けられている。
ここで、該支持体１１の上面が図６に示すように保持体
６に下面に当接して、該支持体１１により保持体６の高
さが一定に維持されることにより、保持体６はマスク本
体２と薄膜体７とが隙間を有して対向する状態を維持可
能に形成されている。また、この状態で保持体６を支持
体１１の弾性に抗して下方に押圧可能ゆえに、保持体６
は図６に示す如き対向状態から図７に示す如く薄膜体７
とマスク本体２とが当接する状態まで支持部本体４側に
移動可能に形成されている。
の収納凹部３の底面の四隅には、軟質のラバ−体１３が
敷設され、上面にはバネ１１ａにより突出方向に付勢さ
れた支持体１１がそれぞれ出退自在に設けられている。
ここで、該支持体１１の上面が図６に示すように保持体
６に下面に当接して、該支持体１１により保持体６の高
さが一定に維持されることにより、保持体６はマスク本
体２と薄膜体７とが隙間を有して対向する状態を維持可
能に形成されている。また、この状態で保持体６を支持
体１１の弾性に抗して下方に押圧可能ゆえに、保持体６
は図６に示す如き対向状態から図７に示す如く薄膜体７
とマスク本体２とが当接する状態まで支持部本体４側に
移動可能に形成されている。
【００１１】前記移動手段１０は、二本の板体を支軸１
０ａを中心にして交差して形成されたリンク複数対から
構成されており、該リンクの一方の板体の下端が支持部
本体４に、他方の板体の上端が保持体６にそれぞれ回動
自在に軸着され、移動手段１０は保持体６を上下動可能
に形成されている。支持部本体４の両側面５には、図３
及び図４に示すように、前記保持体６を上方位置で保持
すべく移動手段１０に係脱自在に係止する阻止体１２
が、出退自在に設けられている。尚、１２ａは阻止体１
２と突出方向に付着するバネである。
０ａを中心にして交差して形成されたリンク複数対から
構成されており、該リンクの一方の板体の下端が支持部
本体４に、他方の板体の上端が保持体６にそれぞれ回動
自在に軸着され、移動手段１０は保持体６を上下動可能
に形成されている。支持部本体４の両側面５には、図３
及び図４に示すように、前記保持体６を上方位置で保持
すべく移動手段１０に係脱自在に係止する阻止体１２
が、出退自在に設けられている。尚、１２ａは阻止体１
２と突出方向に付着するバネである。
【００１２】前記保持体６は、略矩形状の枠体よりな
り、その側面には図５に示すように一対の係止体１４が
挿通され、該係止体１４の先端部１４ｂをフレ−ム８の
側面の中央に周設された凹部８ａに嵌入させることで薄
膜体７のフレ−ム８を保持可能に形成されている。ま
た、この係止体１４はバネ１４ｃにより突出方向に付勢
されている。
り、その側面には図５に示すように一対の係止体１４が
挿通され、該係止体１４の先端部１４ｂをフレ−ム８の
側面の中央に周設された凹部８ａに嵌入させることで薄
膜体７のフレ−ム８を保持可能に形成されている。ま
た、この係止体１４はバネ１４ｃにより突出方向に付勢
されている。
【００１３】次に、上記構成からなる装置を使用して露
光マスクを製造する場合について説明する。先ず、リソ
グラフィ工程により製造されたマスク本体２のパタ−ン
層２ａを、エア−の噴射により洗浄し、その後前記パタ
−ン層２ａに異物の有無を検査する。そして、異物の付
着していないマスク本体２をパタ−ン層２ａが上向とな
るように前記支持部本体４の収納凹部３に嵌入する。
光マスクを製造する場合について説明する。先ず、リソ
グラフィ工程により製造されたマスク本体２のパタ−ン
層２ａを、エア−の噴射により洗浄し、その後前記パタ
−ン層２ａに異物の有無を検査する。そして、異物の付
着していないマスク本体２をパタ−ン層２ａが上向とな
るように前記支持部本体４の収納凹部３に嵌入する。
【００１４】一方、パタ−ン層２ａに異物が付着してい
れば、再度エア−の噴射によりパタ−ン層を洗浄する。
れば、再度エア−の噴射によりパタ−ン層を洗浄する。
【００１５】次に、薄膜体７のフレ−ム８の外周凹部８
ａに係止体１４の先端部１４ｂを挿入し、薄膜体７を保
持体６に保持させる。このとき保持体６は上方位置にあ
る（図２参照）。次に、保持体６を下方に押すと移動手
段１０が支軸１０ａを中心にして回動することにより、
保持体６は下降し支持体１１の上端に当接する（図６参
照）。この際に、薄膜体７は、接着剤の塗布されたフレ
−ム８の下端がマスク本体２の上面の貼着部と隙間を有
するように維持される。この維持状態に於いて、パタ−
ン層２ａの上面の異物の有無を検査を行う。
ａに係止体１４の先端部１４ｂを挿入し、薄膜体７を保
持体６に保持させる。このとき保持体６は上方位置にあ
る（図２参照）。次に、保持体６を下方に押すと移動手
段１０が支軸１０ａを中心にして回動することにより、
保持体６は下降し支持体１１の上端に当接する（図６参
照）。この際に、薄膜体７は、接着剤の塗布されたフレ
−ム８の下端がマスク本体２の上面の貼着部と隙間を有
するように維持される。この維持状態に於いて、パタ−
ン層２ａの上面の異物の有無を検査を行う。
【００１６】異物が無い場合は更に保持体６を支持体１
１の弾性に抗して押圧することでフレ−ム８の下面がマ
スク本体２の上面に当接し、これにより薄膜体７は接着
剤を介してマスク本体２に貼着される（図７参照）。
１の弾性に抗して押圧することでフレ−ム８の下面がマ
スク本体２の上面に当接し、これにより薄膜体７は接着
剤を介してマスク本体２に貼着される（図７参照）。
【００１７】一方、異物が検出された場合には、支持体
１１で支持された保持体６を押しあげマスク本体２を支
持部本体４より取り外し、エア−等の噴射で洗浄して異
物を取り除き、再度支持部本体４に嵌入して、さらに異
物の有無の検査を行う。
１１で支持された保持体６を押しあげマスク本体２を支
持部本体４より取り外し、エア−等の噴射で洗浄して異
物を取り除き、再度支持部本体４に嵌入して、さらに異
物の有無の検査を行う。
【００１８】このように、薄膜体７をマスク本体２の近
傍で対向状に設置して、薄膜７の上方より異物の検査を
行うことができるので、異物の付着を発見した場合で
も、貼着された薄膜体７をフレ−ム８から取り外す必要
がなく、このため高価な薄膜体７を無駄に使用すること
がないと言う利点がある。
傍で対向状に設置して、薄膜７の上方より異物の検査を
行うことができるので、異物の付着を発見した場合で
も、貼着された薄膜体７をフレ−ム８から取り外す必要
がなく、このため高価な薄膜体７を無駄に使用すること
がないと言う利点がある。
【００１９】尚、上記実施例では、２本の板体からなる
リンクを複数対用いて保持体６を上下動させるものであ
ったが、本発明はこれに限定されるものでなく、マスク
本体２と薄膜体７との隙間を有して対向する状態を維持
し、その状態で異物の検査を行うもので有れば適宜設計
変更可能であり、例えば図８に示すように、案内棒２０
を介して上下動自在に取り付けられたフレ−ム６のア−
ム部２１をシリンダ−２２のロット２２ａに連結して、
マスク本体２と薄膜体７との隙間を有して対向する状態
を維持することもできる。
リンクを複数対用いて保持体６を上下動させるものであ
ったが、本発明はこれに限定されるものでなく、マスク
本体２と薄膜体７との隙間を有して対向する状態を維持
し、その状態で異物の検査を行うもので有れば適宜設計
変更可能であり、例えば図８に示すように、案内棒２０
を介して上下動自在に取り付けられたフレ−ム６のア−
ム部２１をシリンダ−２２のロット２２ａに連結して、
マスク本体２と薄膜体７との隙間を有して対向する状態
を維持することもできる。
【００２０】又、上記実施例ではマスク本体２をそのパ
タ−ン層２ａが上向きに位置するように支持したが、パ
タ−ン層２ａの向きは上向きに限定するものでなく、例
えば下向きに支持することで同様な効果を得ることがで
きる。
タ−ン層２ａが上向きに位置するように支持したが、パ
タ−ン層２ａの向きは上向きに限定するものでなく、例
えば下向きに支持することで同様な効果を得ることがで
きる。
【００２１】尚、本発明は上記実施例に限定されるもの
でなく支持部本体４と保持体６の形状は特に問うもので
はなく、マスク本体２及び薄膜体７の形状に応じて適時
に決定自在である。
でなく支持部本体４と保持体６の形状は特に問うもので
はなく、マスク本体２及び薄膜体７の形状に応じて適時
に決定自在である。
【発明の効果】叙上の様に、本発明の露光用マスクの製
造方法は、薄膜体とマスク本体とが隙間を有する状態で
マスク本体の上面の異物の有無の検査を行い、異物の無
い場合に、薄膜体をマスク本体に貼着する構成からなる
ので、検査時に於いてマスク本体の上面を薄膜体で覆う
ことができ、これによりパタ−ン層の異物の検査におい
ては検査中に異物がパタ−ン層に付着するのを容易に防
止することができるという効果を奏するとともに、該検
査状態よりマスク本体に薄膜体を貼着する際にもパタ−
ン層に異物が付着するのを防止でき、しかも検査により
異物が発見された時には薄膜体とマスク本体とは貼着さ
れていないので、従来のように異物混入のために一旦付
着した薄膜体を剥がすことがなく、容易に薄膜体をマス
ク本体より離脱させて異物を取り除くことができ、作業
が容易で且つ迅速に行うことができる。しかも何度も薄
膜体を張り替える必要がないので、経済的であるという
特別顕著な利点がある。
造方法は、薄膜体とマスク本体とが隙間を有する状態で
マスク本体の上面の異物の有無の検査を行い、異物の無
い場合に、薄膜体をマスク本体に貼着する構成からなる
ので、検査時に於いてマスク本体の上面を薄膜体で覆う
ことができ、これによりパタ−ン層の異物の検査におい
ては検査中に異物がパタ−ン層に付着するのを容易に防
止することができるという効果を奏するとともに、該検
査状態よりマスク本体に薄膜体を貼着する際にもパタ−
ン層に異物が付着するのを防止でき、しかも検査により
異物が発見された時には薄膜体とマスク本体とは貼着さ
れていないので、従来のように異物混入のために一旦付
着した薄膜体を剥がすことがなく、容易に薄膜体をマス
ク本体より離脱させて異物を取り除くことができ、作業
が容易で且つ迅速に行うことができる。しかも何度も薄
膜体を張り替える必要がないので、経済的であるという
特別顕著な利点がある。
【図１】本発明の露光用マスク製造方法に使用される露
光用マスク製造装置を示す斜視図。
光用マスク製造装置を示す斜視図。
【図２】本発明の露光用マスク製造方法に使用される露
光用マスク製造装置を示す断面図。
光用マスク製造装置を示す断面図。
【図３】本発明の露光用マスク製造方法に使用される移
動装置を示す正面図。
動装置を示す正面図。
【図４】本発明の露光用マスク製造方法に使用される移
動装置を示す基部側拡大断面図。
動装置を示す基部側拡大断面図。
【図５】本発明の露光用マスク製造方法に使用される保
持体の係止体を示す拡大断面図。
持体の係止体を示す拡大断面図。
【図６】本発明の露光用マスク製造方法に使用される装
置の使用状態を示す断面図。
置の使用状態を示す断面図。
【図７】本発明の露光用マスク製造方法に使用される装
置の使用状態を示す断面図。
置の使用状態を示す断面図。
【図８】本発明の露光用マスク製造方法に使用される他
実施例を示す断面図。
実施例を示す断面図。
１・・収納装置 ２・・マスク本体 ２ａ・・パタ−ン層 ４・・支持部本体 ６・・保持体 ７・・薄膜体 ８・・フレ−ム １０・・移動装置
Claims (1)
- 【請求項１】 リソグラフィ工程等によりパタ−ン層２
ａをマスク本体２に形成した後に、パタ−ン層２ａを塵
埃等の異物より保護すべく薄膜体７をマスク本体２のパ
タ−ン層２ａ側に貼着する露光用マスクの製造方法にお
いて、前記薄膜体７をマスク本体２に貼着する前に、前
記マスク本体２と薄膜体７とが隙間を有して対向するよ
うに維持し、その状態でマスク本体２の上面の異物の有
無の検査を行い、異物の無い場合に薄膜体７をマスク本
体２に貼着することを特徴とする露光用マスクの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32224691A JP2607193B2 (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 露光用マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32224691A JP2607193B2 (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 露光用マスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH075678A JPH075678A (ja) | 1995-01-10 |
| JP2607193B2 true JP2607193B2 (ja) | 1997-05-07 |
Family
ID=18141537
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32224691A Expired - Lifetime JP2607193B2 (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 露光用マスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2607193B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI235410B (en) * | 2004-07-16 | 2005-07-01 | Toppan Chunghwa Electronic Co | Method for cleaning semiconductor device |
| JP5586559B2 (ja) * | 2011-10-28 | 2014-09-10 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル収容容器 |
| JP5586560B2 (ja) * | 2011-10-28 | 2014-09-10 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル収容容器 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59193457A (ja) * | 1983-04-18 | 1984-11-02 | Toppan Printing Co Ltd | 高精度パタ−ン板 |
| JPS6371852A (ja) * | 1986-09-16 | 1988-04-01 | Hitachi Ltd | 組立装置 |
-
1991
- 1991-09-30 JP JP32224691A patent/JP2607193B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH075678A (ja) | 1995-01-10 |
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