JPS6371852A - 組立装置 - Google Patents

組立装置

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Publication number
JPS6371852A
JPS6371852A JP61215771A JP21577186A JPS6371852A JP S6371852 A JPS6371852 A JP S6371852A JP 61215771 A JP61215771 A JP 61215771A JP 21577186 A JP21577186 A JP 21577186A JP S6371852 A JPS6371852 A JP S6371852A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reticle
assembly
pellicle
section
members
Prior art date
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Pending
Application number
JP61215771A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideaki Kawashima
川島 英顕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP61215771A priority Critical patent/JPS6371852A/ja
Publication of JPS6371852A publication Critical patent/JPS6371852A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、組立技術、特に、半導体装置の製造における
フォトリソグラフィの原版として用いられるレチクルと
ペリクルとの組立に適用して有効な技術に関する。
〔従来の技術〕
半導体装置の製造におけるフォ) IJソグラフイの原
版として用いられるレチクルなどに対するペリクルなど
の貼付については、株式会社工業調査会、昭和56年1
1月10日発行、「電子材料」1981年11月号別冊
、P103〜P109に記載されている。
その概要は、ガラスなどの透明な基板の表面にクロムな
どからなる遮光膜を所定の転写すべき図形に被着させて
転写領域が構成されたレチクルに対して、前記転写領域
を取り囲むように取付けるれた枠体を介して、露光光に
対して透明なニトロセルロースなどの薄膜を緊張した状
態に貼付することにより、異物などがレチクルの表面に
直接に付着することを阻止して、レチクル表面に直接付
着した異物などの像が転写すべき図形とともに半導体ウ
ェハなどの表面に結像されることに起因する製品欠陥の
発生が回避されるようにしたものである。
この場合、レチクルなどに対するペリクルの貼付に際し
て、レチクルの表面に付着した異物を完全に除去すると
ともに、レチクルとペリクルとの間の空間に異物などが
とり残されないようにすることが原理的に重要であり、
ペリクル貼付前におけるレチクル表面などの異物、およ
びペリクル貼付後にペリクルによって密封された空間内
にとり残された異物などを検査することが行われる。
〔発明が解決しようとやる問題点〕
ところが、通常、レチクルに対するペリクルの貼付を行
う装置と、レチクルなどに付着した異物の検査装置とが
独立して設けられており、各々の装置の間で単体のレチ
クルやペリクルが貼付されたレチクルの受け渡しを行う
ために作業が煩雑となったり、各々の装置の間における
移動の間に再び異物が付着するなどして、レチクルに対
するペリクルの貼付作業における生産性が低下されると
いう問題があることを本発明者は見い出した。
本発明の目的は、組立作業における生産性を向上させる
ことが可能な組立技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
〔問題点を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわぢ、複数の組立部材の組立を行う組立部と、この
組立部における組立作業の前後に複数の組立部材の欠陥
を検査する検査部と、検査部において検出された複数の
組立部材の欠陥を除去する欠陥除去部と、外部に対する
複数の組立部材の受け渡しを行う受け渡し部と、各部の
間の複数の組立部品の移動を行う搬送機構とを設けたも
のである。
〔作用〕
上記した手段によれば、組立部と、検査部や欠陥除去部
などとを独立にする場合に比較して、各部の間における
複数の組立部材の受け渡しなどを簡略化することができ
るとともに、異物の発生などを回避することができ、組
立作業における生産性を向上させることができる。
〔実施例〕
第1図は、本発明の一実施例である組立装置の要部を示
す説明図である。
本実施例においては、組立装置が、半導体装置の製造に
おけるフォトリングラフィの原版として用いられるレチ
クルに対するペリクルの貼付を行う装置として構成され
ている。
たとえば、回転および伸縮などの動作が自在であるとと
もに、動作中における微細な塵埃などの異物の発生が防
止されたロボットアームなどの搬送機構1の周囲には、
受け渡し部2および検査部3、さらには欠陥除去部4お
よび組立部5が配設されており、制御部Cによって制御
されることにより、相互に連携した所定の動作が行われ
る構造とされている。
前記受け渡し部2においては、たとえばガラスなどの透
明な基板にクロムなどの遮光膜を所定の図形に被着させ
て構成され、フォトリングラフィの原版として用いられ
るレチクル6 く組立部材)、および枠材7a(組立部
材)に緊張状態に貼付され、該枠材7aを介して前記レ
チクル60両面に取りつけられるペリクル7(組立部材
)などの外部との受け渡しが行われるように構成されて
いる。
前記検査部3には、たとえば、第2図に示されるように
組立前のレチクル6などが載置されるX−Yステージ3
aが設けられ、このX−Yステージ3aの周囲には図示
しない光源からの偏光レーザなどの検査光3bを該X−
Yステージ3aに載置されたレチクル6などの所定の部
位に所定の傾斜角をなして照射させる複数の集光レンズ
3cがX−Yステージ3aを介して対向して配設されて
いる。
X−Yステージ3aの下方には、該X−Yステージ3a
の中央部に貫通して形成された開口部3dを介してX−
Yステージ3aに載置されたレチクル6などを下方から
検査光3eを照射する透過照明光源3fが設けられてい
る。
さらに、x−Yステージ3aの上方、および前記のi数
°の集光レンズ3Cの対向方向に交差する方向にX−Y
ステージ3aを介して対向する位置には、結像レンズ3
gおよびフォトダイオードアレイ3hなどからなる複数
の光学系が配設されている。
そして、レチクル6などが載置されるX−Yステージ3
aを適宜移動させつつ集光レンズ3Cを介して照射され
る検査光3bまたは透過照明光源3fから下面に照射さ
れる検査光3eによってレチクル6などの全面を操作す
る際に発生される散乱光または反射光または透過光3j
を結像レンズ3gを介してフォトダイオードアレイ3h
によって検出し、たとえば、レチクル6などの表面に付
着した乱雑な形状を呈する異物などの欠陥からの散乱光
または反射光または透過光3hと比較的規則的な形状の
下地部分からの散乱光または反射光または透過光3hと
を所定のしきい値を設定して区別することにより、レチ
クル6などの表面に付着した異物などの欠陥を検出する
ものである。
前記欠陥除去部4は、たとえば、第3図に示されるよう
に、所定の平百内にふいて移動自在なX−Yステージ4
asおよびこのX−Yステージ4aの上方に所定の間隔
でほぼ垂直下向きに設けられたエアブロ−ノズル4bな
どで構成されている。
そして、たとえば前記の検査部3において異物8の付着
などが検出されたレチクル6などを所定の便蓋関係で載
置し、レチクル6などにおける異物8などの付着位置の
情報などに基づいてエアブロ−ノズル4bの直下に位置
決めした後、圧搾空気などを吹きつけることにより、異
物8の除去が行われるものである。
なお、前記エアブロ−ノズル4bには、静電気除去機能
が設けられており、レチクル6と該レチクル6に吹きつ
けられる空気流との摩擦などにょっで静電気が発生する
ことが防止されている。
前記組立部5は、たとえば第4図に示されるように、中
央部にレチクル6などをほぼ垂直に保持する保持溝5a
が刻設された基体部5bと、この基体部5bに保持され
たレチクル6を介して対向して配設され、ペリクル7が
貼付された枠材7aを、レチクル6に対して平行に保持
する複数の組立治具5cなどが設けられている。
この複数の組立治具5cは、モータ5dによって所望の
方向に回転される送りねじ5eを介して基体部5bに移
動自在に固定されており、各々に保持されるペリクル7
が貼付された枠材7aによってレチクル6を挟持する状
態に押圧することにより、第5図に示されるように、ペ
リクル7が貼付された枠材7aが接着材などを介してレ
チクル60両面に取付けられるものである。
以下、本実施例の作用について説明する。
まず、外部から供給されるレチクル6および枠材7aに
貼付されたペリクル7は、受け渡し部2の所定の位置に
セットされる。
その後、枠材7aに貼付されたペリクル7が搬送機構1
によって検査部3に移動され、異物8などの付着の有無
が検査される。
そして、異物8などの付着が検出された場合には、欠陥
除去vS4において異物8などが除去された後組立部5
の組立治具5Cにセットされる。
次に、レチクル6が検査部3に搬送され、異物8の付着
の有無が検査される。
そして、異物8が検出された場合には、欠陥除去部4に
おいて異物8などが除去され、その後レチクル6は組立
部5に搬送されて基体部5bの保持溝5aにセットされ
る。
その後、組立部5においては、モータ5dを適宜駆動さ
せることにより、枠材7aに貼付されたペリクル7をそ
れぞれ保持する複数の組立治具5Cをレチクル6の両面
を挟持するように接近させ、レチクル60両面にペリク
ル7が枠材7aを介してそれぞれ貼付され、第5図に示
される状態に組み立てられる。
さらに、第5図のようにペリクル7が両面に貼付された
レチクル6 (以下ペリクル付きレチクルと記す)は、
検査部3に搬送され、ペリクル7とレチクル6の表面と
の間の密閉された空間などに異物8などが封入されてい
ないか、さらにはべりクル7の外面などに異物8が付着
していないかなどの検査が行われ、たとえば、封入され
た異物8がなくペリクル7の表面にのみ異物8の存在が
検出されたペリクル付きレチクル6は、欠陥除去部4に
搬送され、異物8などの欠陥が取り除かれた後に受け渡
し部2にセットされ良品として外部に搬出されたのち、
実際の露光工程の原版として使用される。
また、本実施例においては発生する確率が極めて小さい
が、たとえば異物8などの封入が確認されたペリクル付
きレチクル6は、受け渡し部2にセットされ、外部に搬
出されるとともに、不良品として識別番号などが記録さ
れるなどして実際の露光工程などにおける原版としての
使用が禁止される。
なお、上記の一連の操作の一例を流口として示したもの
がjl!6図である。
このように本実施例においては以下の効果を得ることが
できる。
(1)、レチクル6および複数の枠材7aに貼付された
ペリクル7などの外部との受け渡しを行う受け渡し!’
lS2と、レチクル6ふよびペリクル7さらにはペリク
ル付きレチクル6における異物の有無などの検査を行う
検査部3と、レチクル6やペリクル7などに付着した異
物8などの欠陥の除去を行う欠陥除去部4と、レチクル
6に対して枠材7aに貼付されたペリクル7を取付ける
組立部5と、前記各部の間のレチクル6、ペリクル7さ
らにはべりタル付きレチクル6の搬送を無発塵で行う搬
送機構1などを備え、制御部Cによって、各部が連携し
て動作されるように構成されているため、たとえば、組
立部5や検査部3、さらには欠陥除去部4などを個別の
装置で独立に構成する場合などに比較して、レチクル6
や枠材7aに貼付されたペリクル7、さらにはペリクル
付きレチクル6などの受け渡しなどに要する時間が短縮
され、作業能率が向上されるとともに、各部を移動され
る間にレチクル6やペリクル7さらにはべりタル付きレ
チクル6などに異物8などが付着することが防止される
ので、レチクル6と枠材7aに貼付されたペリクル7と
の組立作業における生産性が向上される。
(2)、前記(1)の結果、貼付されたペリクル7によ
って密閉された空間に異物8などが封入された致命的な
欠陥を有するペリクル付きレチクル60発生数が低減さ
れ、たとえばレチクル6に対するペリクル7などを再度
貼付するなどの無駄な作業を低減することができる。
(3)、前記(1)、 (2)の結果、ペリクル付きレ
チクル6を原版として使用する半導体装置の製造におけ
るフォト’Jソグラフィの生産性が向上される。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
たとえば、組立部材の組み合わせとしては、レチクルお
よびペリクルなどに限らずフォトマスクとペリクルとの
組み合わせなどであってもよい。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるレチクルとペリクル
との組立技術に適用した場合について説明したが、これ
に限定されるものではなく、複数の組立部材の検査部よ
び組立などの作業を効率良く行うことが必要とされる技
術などに広く適用できる。
〔発明の効果〕
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
すなわち、複数の組立部材の組立を行う組立部と、この
組立部における組立作業の前後に前記複数の組立部材の
欠陥を検査する検査部と、該検査部にふいて検出された
前記複数の組立部材の欠陥を除去する欠陥除去部と、外
部に対する前記複数の組立部材の受け渡しを行う受け渡
し部と、前記各部の間の前記複数の組立部品の移動を行
う搬送機構とからなる構造であるため、組立部と、検査
部や欠陥除去部などとを独立にする場合に比較して、各
部の間における複数の組立部材の受け渡しなどを簡略化
することができるとともに、異物の発生などを回避する
ことができ、組立作業における生産性を向上させること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例である組立装冒の要部を示す
説明図、 第2図は検査部を取り出して示す説明図、第3図は欠陥
除去部を取り出して示す説明図、第4図は組立部を取り
出して示すvll面図第5図はレチクルおよびペリクル
の組立が完了した状態を示す図、 第6図は組立工程の手順の一例を示す原図である。 1・・・搬送機構、2・・・受け渡し部、3・・・検査
部、3a・・・X−Yステージ、3b・・・検査光、3
C・・・集光レンズ、3d・・・開口部、3e・・・検
査光、3f・・・透過照明光源、3g・・・結像レンズ
、3h・・・フォトタイオートアレイ、3j・・・散乱
光または反射光または透過光、4・・・欠陥除去部、4
a・・・X−Yステージ、4b・・・エアブロ−ノズル
、5・・・組立部、5a・・・保持溝、5b・・・基体
部、5c・・・組立治具、5d・・・モータ、5e・・
・送りねじ、6・・・レチクル、7・・・ペリクル、7
a・・・枠材、8・・・異物。 第  1   図 第  3  図 第  4  図 第  5  図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、複数の組立部材の組立を行う組立部と、この組立部
    における組立作業の前後に前記複数の組立部材の欠陥を
    検査する検査部と、該検査部において検出された前記複
    数の組立部材の欠陥を除去する欠陥除去部と、外部に対
    する前記複数の組立部材の受け渡しを行う受け渡し部と
    、前記各部の間の前記複数の組立部品の移動を行う搬送
    機構とからなることを特徴とする組立装置。 2、複数の前記組立部材が、半導体装置の製造における
    フォトリソグラフィの原版として用いられるレチクル、
    および所定の枠材を介して該レチクルに貼付され、前記
    レチクルを異物などから保護するペリクルであることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の組立装置。 3、前記欠陥が前記複数の組立部材に付着した異物であ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の組立装
    置。
JP61215771A 1986-09-16 1986-09-16 組立装置 Pending JPS6371852A (ja)

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JP61215771A JPS6371852A (ja) 1986-09-16 1986-09-16 組立装置

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JP (1) JPS6371852A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0434852U (ja) * 1990-07-16 1992-03-24
JPH0588358A (ja) * 1991-09-27 1993-04-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd ペリクル接着装置
JPH075678A (ja) * 1991-09-30 1995-01-10 Shashin Kagaku:Kk 露光用マスクの製造方法及びその装置

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