JPS5999426A - 防塵機構付焼付露光装置 - Google Patents
防塵機構付焼付露光装置Info
- Publication number
- JPS5999426A JPS5999426A JP57208767A JP20876782A JPS5999426A JP S5999426 A JPS5999426 A JP S5999426A JP 57208767 A JP57208767 A JP 57208767A JP 20876782 A JP20876782 A JP 20876782A JP S5999426 A JPS5999426 A JP S5999426A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- mask
- optical
- dust
- dustproof
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例えば半導体製造に際して用いられる防塵機
構付焼付露光装置に関するものである。
構付焼付露光装置に関するものである。
焼付露光装置で用いるマスクは塵埃−欠陥検出装置等に
よって検査された後に、焼付露光装置に装着されるが、
露光焼付装置自体には光学系の防塵対策は殆ど採用され
ていない。従って、マスクを装置に装着後に塵埃が付着
し易く、特にマスクの上方では目視観察用のアライメン
トスコープが移動するようになっているために、この移
動に伴い塵埃がマスク上に落下することが多い。この塵
埃は結像光によってウェハー面上に像を結びウェハーに
欠陥情報を焼付けることになる。また、マスクの下方に
位置するウェハーにおいても、その防塵対策がなされて
いないために塵埃が付着し欠陥製品ができる確率は高い
。
よって検査された後に、焼付露光装置に装着されるが、
露光焼付装置自体には光学系の防塵対策は殆ど採用され
ていない。従って、マスクを装置に装着後に塵埃が付着
し易く、特にマスクの上方では目視観察用のアライメン
トスコープが移動するようになっているために、この移
動に伴い塵埃がマスク上に落下することが多い。この塵
埃は結像光によってウェハー面上に像を結びウェハーに
欠陥情報を焼付けることになる。また、マスクの下方に
位置するウェハーにおいても、その防塵対策がなされて
いないために塵埃が付着し欠陥製品ができる確率は高い
。
本発明の目的は、焼付露光装置の光学系に防塵対策を施
し、マスク等へ塵埃がイリ着することを防止した防塵４
ａ横付焼付露光装置を提供することにあり、その要旨は
、光学性能に影響を与えない透明平板から成る防塵部材
を、光学系の光路を横切る水平方向に設けたことを特徴
とするものである。
し、マスク等へ塵埃がイリ着することを防止した防塵４
ａ横付焼付露光装置を提供することにあり、その要旨は
、光学性能に影響を与えない透明平板から成る防塵部材
を、光学系の光路を横切る水平方向に設けたことを特徴
とするものである。
本発明を第１図の図示の実施例に基づいて詳細に説明す
る。
る。
第１図は焼４４露光装置の光学系を示し、照明系１の光
軸Ｏに治って、水火方向に移動可能なアライメントスコ
ープ２、マスクを保持するだめのマスクホルダ３、マス
ク像をウェハーに転写するための結像光学系４、ウェハ
ーを保持するだめのウェハーチャンク５、ウェハーを移
動するためのウェハースチーシロが本体フレーム７に取
付けられ上方から順次に配列されている。
軸Ｏに治って、水火方向に移動可能なアライメントスコ
ープ２、マスクを保持するだめのマスクホルダ３、マス
ク像をウェハーに転写するための結像光学系４、ウェハ
ーを保持するだめのウェハーチャンク５、ウェハーを移
動するためのウェハースチーシロが本体フレーム７に取
付けられ上方から順次に配列されている。
そして、マスクホルダ３にはマスクＭが装着され、ウェ
ハーチャック５にはウェハーＷが載置され、照明系１か
らのレーザービームをマスクＭに投射して、そのマスク
パターンを結像光学系４を介してウェハーＷに結像し焼
付処理を行うようになっている。焼付露光時にはアライ
メントスコープ２は両側に移動して退避され、目視によ
るａ察時にはアライメントスコープ２は内側に進入して
、マスクＭ、ウェハーＷの整合状態をアライメントスコ
ープ２を用いて観察することができる。
ハーチャック５にはウェハーＷが載置され、照明系１か
らのレーザービームをマスクＭに投射して、そのマスク
パターンを結像光学系４を介してウェハーＷに結像し焼
付処理を行うようになっている。焼付露光時にはアライ
メントスコープ２は両側に移動して退避され、目視によ
るａ察時にはアライメントスコープ２は内側に進入して
、マスクＭ、ウェハーＷの整合状態をアライメントスコ
ープ２を用いて観察することができる。
ここで本発明においては、マスクＭの上方の照明光の部
分、更に詳しくはアライメントスコープ２の下にシート
ガラスやペリクル膜等の光学性能に影響を及ぼさないよ
うな透明薄膜或いは透明薄板から成る防塵部材８が光学
系の光路を横切るように水平方向に設けられている。ま
た、ウェハーＷの上方にも同様な防塵部材９が取付けら
れている。これらの防塵部材８，９は、たとえこれらの
防塵部材８．９に塵埃が付着したり、或いは防塵部材８
．９自体に汚れがあっても、これらの塵埃や汚れがマス
クＭ、ウェハーＷには鮮明な像として結像されない位置
に設けられていることが必要である。
分、更に詳しくはアライメントスコープ２の下にシート
ガラスやペリクル膜等の光学性能に影響を及ぼさないよ
うな透明薄膜或いは透明薄板から成る防塵部材８が光学
系の光路を横切るように水平方向に設けられている。ま
た、ウェハーＷの上方にも同様な防塵部材９が取付けら
れている。これらの防塵部材８，９は、たとえこれらの
防塵部材８．９に塵埃が付着したり、或いは防塵部材８
．９自体に汚れがあっても、これらの塵埃や汚れがマス
クＭ、ウェハーＷには鮮明な像として結像されない位置
に設けられていることが必要である。
かくすることにより、マスクＭ、ウェハーＷの面上には
塵埃が付着することが防止され、例えばアライメントス
コープ２の作動に伴って塵埃が落下しても、この塵埃は
防塵部材８上に落下することになり、マスクＭ、ウェハ
ーＷ上に像として結像することはない。
塵埃が付着することが防止され、例えばアライメントス
コープ２の作動に伴って塵埃が落下しても、この塵埃は
防塵部材８上に落下することになり、マスクＭ、ウェハ
ーＷ上に像として結像することはない。
防塵部材８．９は実施例のように５マスクＭとウェハー
Ｗのそれぞれの上方に設けることが好適であるが、何れ
か一方のみでもよく、特にマスクＭの」二方に設けるこ
とは塵埃が落下する確率から考えても効果がある。
Ｗのそれぞれの上方に設けることが好適であるが、何れ
か一方のみでもよく、特にマスクＭの」二方に設けるこ
とは塵埃が落下する確率から考えても効果がある。
以上説明したように本発明に係る防塵機構付焼伺露光装
置によれば、マスク上刃及び（又は）ウェハー上方に光
学性能に影響を与えない防塵部材を配置することによっ
て装置上部からのマスク、ウェハーへの塵埃の落下を防
ぎ、ウェハーの製品欠陥の発生を少なくする効果がある
。
置によれば、マスク上刃及び（又は）ウェハー上方に光
学性能に影響を与えない防塵部材を配置することによっ
て装置上部からのマスク、ウェハーへの塵埃の落下を防
ぎ、ウェハーの製品欠陥の発生を少なくする効果がある
。
第１図は本発明に係る防塵機構伺焼付露光装置の一実施
例の光学的構成図である。 符号１は照明系、２はアライメントスコープ、３はマス
クホルダ、４は結像光学系、５はウェハーチャック、７
は本体フレーム、８．９は防塵部材、Ｍはマスク、Ｗは
ウェハーである。 図面 第１図
例の光学的構成図である。 符号１は照明系、２はアライメントスコープ、３はマス
クホルダ、４は結像光学系、５はウェハーチャック、７
は本体フレーム、８．９は防塵部材、Ｍはマスク、Ｗは
ウェハーである。 図面 第１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、光学性能に影響を与えない透明平板から成る防塵部
材を、光学系の光路を横切る水平方向に設けたことを特
徴とする防塵機構付焼付露光装置、。 ２、 ｉｉｊ記防塵部材をマスクの」一方に設けた特
許請求の範囲第１項に記載の防塵機構付焼付露光装置。 ３、前記防塵部材をウェハーの」二方に設けた特許請求
の範囲第１項に記載の防塵機構付焼付露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57208767A JPS5999426A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 防塵機構付焼付露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57208767A JPS5999426A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 防塵機構付焼付露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5999426A true JPS5999426A (ja) | 1984-06-08 |
Family
ID=16561748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57208767A Pending JPS5999426A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 防塵機構付焼付露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5999426A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6144617U (ja) * | 1984-08-27 | 1986-03-25 | カシオ計算機株式会社 | 記録装置 |
| JPH0233914A (ja) * | 1988-07-25 | 1990-02-05 | Ushio Inc | 照明光学装置 |
| US5701169A (en) * | 1994-03-30 | 1997-12-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination system and exposure apparatus with demountable transparent protective member |
| WO2006075674A1 (en) * | 2005-01-13 | 2006-07-20 | Fujifilm Corporation | Image exposing apparatus and microlens array unit |
-
1982
- 1982-11-29 JP JP57208767A patent/JPS5999426A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6144617U (ja) * | 1984-08-27 | 1986-03-25 | カシオ計算機株式会社 | 記録装置 |
| JPH0233914A (ja) * | 1988-07-25 | 1990-02-05 | Ushio Inc | 照明光学装置 |
| JPH0532900B2 (ja) * | 1988-07-25 | 1993-05-18 | Ushio Electric Inc | |
| US5701169A (en) * | 1994-03-30 | 1997-12-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination system and exposure apparatus with demountable transparent protective member |
| WO2006075674A1 (en) * | 2005-01-13 | 2006-07-20 | Fujifilm Corporation | Image exposing apparatus and microlens array unit |
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