JPH0318011A - 縮小投影露光装置 - Google Patents
縮小投影露光装置Info
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- JPH0318011A JPH0318011A JP1151921A JP15192189A JPH0318011A JP H0318011 A JPH0318011 A JP H0318011A JP 1151921 A JP1151921 A JP 1151921A JP 15192189 A JP15192189 A JP 15192189A JP H0318011 A JPH0318011 A JP H0318011A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、半導体装置製造分野における特にフォトリン
グラフィ工程に用いられる縮小投影露光装置に関するも
のである。
グラフィ工程に用いられる縮小投影露光装置に関するも
のである。
従来の技術
近年、半導体集積回路分野において高集積化が進み、微
細加工技術がますます高度になってきた。フォトリソグ
ラフィ工程においては縮小投影露光方法がその主力とな
りその周辺技術もますます高度化している。縮小投影露
光方法では、レチクル上のパターンをスッテプアンドリ
ピートすることによりウエハー上に転写するためレチク
ル上にもし欠陥が有れば、致命的な損失を被る。この欠
陥は、雰囲気中のパーティクルがレチクルに付着するこ
とにより容易に生ずる。したがって、レチクルを使用す
る際にはパーティクル検査装置によってレチクルを検査
し欠陥がないことを確認する必要があった。しかし、そ
のような方法では、検査に時間を有し縮小投影露光装置
の生産能力を著しく減少させることになる。そこで、レ
チクルの上下一定間隔の所に透明な膜（ペリクル）を形
成し、たとえその上にパーティクルが付着しても欠陥が
生じにくくする方法も現在採用されている。
細加工技術がますます高度になってきた。フォトリソグ
ラフィ工程においては縮小投影露光方法がその主力とな
りその周辺技術もますます高度化している。縮小投影露
光方法では、レチクル上のパターンをスッテプアンドリ
ピートすることによりウエハー上に転写するためレチク
ル上にもし欠陥が有れば、致命的な損失を被る。この欠
陥は、雰囲気中のパーティクルがレチクルに付着するこ
とにより容易に生ずる。したがって、レチクルを使用す
る際にはパーティクル検査装置によってレチクルを検査
し欠陥がないことを確認する必要があった。しかし、そ
のような方法では、検査に時間を有し縮小投影露光装置
の生産能力を著しく減少させることになる。そこで、レ
チクルの上下一定間隔の所に透明な膜（ペリクル）を形
成し、たとえその上にパーティクルが付着しても欠陥が
生じにくくする方法も現在採用されている。
しかし、ペリクル上のパーティクルは、焦点を結ばない
ため、はっきりとは投影露光されないがパーティクルの
程度しだいではウエハーに転写され欠陥となる。そのた
めペリクル上のパーティクルもレチクル上のものと同様
除去する必要があった。
ため、はっきりとは投影露光されないがパーティクルの
程度しだいではウエハーに転写され欠陥となる。そのた
めペリクル上のパーティクルもレチクル上のものと同様
除去する必要があった。
以下に従来の縮小投影露光装置について説明する。
第４図は従来の縮小投影露光装置の構成及びレチクルの
移動経路を示す。第４図において、２１は縮小投影露光
装置本体部である。２２はレチクル保管装置でここから
レチクルを取り出すことができる。２３はパーティクル
検査装置でレチクル表面のパーティクルを検出する。２
４はレチクル自動搬送装置でレチクルを２１から２３の
各装置間自動で搬送する。
移動経路を示す。第４図において、２１は縮小投影露光
装置本体部である。２２はレチクル保管装置でここから
レチクルを取り出すことができる。２３はパーティクル
検査装置でレチクル表面のパーティクルを検出する。２
４はレチクル自動搬送装置でレチクルを２１から２３の
各装置間自動で搬送する。
以上のように構成された縮小投影露光装置について、以
下その動作について説明する。
下その動作について説明する。
まずレチクルは２２のレチクル保管装置に保管されてお
り使用する場合２２から２３のパーティクル検査装置へ
レチクル自動搬送装置で運ばれる。２３ではペリクル付
きのレチクルでもペリクルなしのレチクルでもどちらで
も検査ができる。
り使用する場合２２から２３のパーティクル検査装置へ
レチクル自動搬送装置で運ばれる。２３ではペリクル付
きのレチクルでもペリクルなしのレチクルでもどちらで
も検査ができる。
検査の結果が合格ならばレチクルは縮小投影露光装置の
本体部へ運ばれ使用される。もし、検査の結果が不合格
ならばレチクルは２２のレチクル保管装置へ運ばれそこ
から一旦外へ取り出され洗浄される。ペリクル付きのレ
チクルの場合、洗浄はできないため第５図に示すように
ペリクル表面に付着したパーティクルを除去するため手
でレチクルを支えイオナイザーブロアでパーティクルを
吹き飛ばす。第５図において、２５はレチクル（石英板
）、２６はペリクル、２７はペリクルフレーム、２８は
クリーン手袋、２９は人の手、３０はブロアで帯電防止
作用と勢いでパーティクルを吹き飛ばす作用がある。
本体部へ運ばれ使用される。もし、検査の結果が不合格
ならばレチクルは２２のレチクル保管装置へ運ばれそこ
から一旦外へ取り出され洗浄される。ペリクル付きのレ
チクルの場合、洗浄はできないため第５図に示すように
ペリクル表面に付着したパーティクルを除去するため手
でレチクルを支えイオナイザーブロアでパーティクルを
吹き飛ばす。第５図において、２５はレチクル（石英板
）、２６はペリクル、２７はペリクルフレーム、２８は
クリーン手袋、２９は人の手、３０はブロアで帯電防止
作用と勢いでパーティクルを吹き飛ばす作用がある。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記従来の構成では、レチクル保管装置か
らの出し入れやパーティクルを除去する際に人手による
ためパーティクルが再付着する可能性が高く、且つ能率
が悪いという欠点を有していた。
らの出し入れやパーティクルを除去する際に人手による
ためパーティクルが再付着する可能性が高く、且つ能率
が悪いという欠点を有していた。
本発明は上記従来の課題を解決するもめで、ペリクル表
面のパーティクルを再付着させることなく確実に除去し
レチクル欠陥による歩留り低下を防ぎ縮小投影露光装置
をより効率良く稼動させることを目的とする。
面のパーティクルを再付着させることなく確実に除去し
レチクル欠陥による歩留り低下を防ぎ縮小投影露光装置
をより効率良く稼動させることを目的とする。
課題を解決するための手段
この目的を違戒するために本発明の縮小投影露光装置は
、縮小投影露光装置本体部とレチクル保管装置とペリク
ル表面パーティクル検査装置とペリタル表面パーティク
ル除去襄置と各装置間に自動的にレチクルを搬送するレ
チクル自動搬送装置の構成を有している。
、縮小投影露光装置本体部とレチクル保管装置とペリク
ル表面パーティクル検査装置とペリタル表面パーティク
ル除去襄置と各装置間に自動的にレチクルを搬送するレ
チクル自動搬送装置の構成を有している。
作用
この構成によって使用するレチクルがもしペリクル表面
パーティクル検査装置により検査不合格となった場合レ
チクルは速やかに自動搬送によりペリクル表面パーティ
クル除去装置へ送られパーティクルが確実に除去され再
度ペリクル表面パーティクル検査装置へ運ばれ検査合格
後縮小投影露光装置へ送られ、欠陥を発生させることな
く効率良く縮小投影露光装置を稼動させることができる
。
パーティクル検査装置により検査不合格となった場合レ
チクルは速やかに自動搬送によりペリクル表面パーティ
クル除去装置へ送られパーティクルが確実に除去され再
度ペリクル表面パーティクル検査装置へ運ばれ検査合格
後縮小投影露光装置へ送られ、欠陥を発生させることな
く効率良く縮小投影露光装置を稼動させることができる
。
実施例
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
第１図は本発明の第１の実施例における縮小投影露光装
置の構成及びレチクル移動経路を示す。
置の構成及びレチクル移動経路を示す。
第１図において１は縮小投影露光装置本体部であり水銀
ランプやレチクル装着部や投影レンズからなる投影光学
系とレーザー干渉計やＸＹｚ回転駆動部を有するステー
ジ系とアライメント光学系とそれらを制御する制御系か
ら成る。２はレチクル保管装置で長時間パーティクルの
付着を防止できる。３はペリクル表面パーティクル検査
装置でペリクル表面のパーティクルを特に感度よく検出
することができる他レチクルのガラス表面の検査も可能
である。４はペリクル表面パーティクル除去装置である
。５はレチクル自動搬送装置である。
ランプやレチクル装着部や投影レンズからなる投影光学
系とレーザー干渉計やＸＹｚ回転駆動部を有するステー
ジ系とアライメント光学系とそれらを制御する制御系か
ら成る。２はレチクル保管装置で長時間パーティクルの
付着を防止できる。３はペリクル表面パーティクル検査
装置でペリクル表面のパーティクルを特に感度よく検出
することができる他レチクルのガラス表面の検査も可能
である。４はペリクル表面パーティクル除去装置である
。５はレチクル自動搬送装置である。
以上のように構威された縮小投影露光装置について、以
下その動作を説明する。
下その動作を説明する。
まず、使用するペリクルの装着されたレチクルを２のレ
チクル保管装置から３のペリクル表面パーティクル検査
装置へ搬送する。そこでペリクル表面のパーティクルが
検査され、もしパーティクルがある場合は、第２図に示
すようにパーティクルの大きさと位置が示される。第２
図においてａは比較的小さいパーティクルを示す。ｂは
中程度のＣは比較的大きいパーティクルを示す。そして
、次にレチクルは自動的に４のペリクル表面パーティク
ル除去装置へ運ばれる。４のペリクル表面パーティクル
除去装置でペリクル表面のパーティクルは除去され再び
３のペリクル表面パーティクル検査装置で検査される。
チクル保管装置から３のペリクル表面パーティクル検査
装置へ搬送する。そこでペリクル表面のパーティクルが
検査され、もしパーティクルがある場合は、第２図に示
すようにパーティクルの大きさと位置が示される。第２
図においてａは比較的小さいパーティクルを示す。ｂは
中程度のＣは比較的大きいパーティクルを示す。そして
、次にレチクルは自動的に４のペリクル表面パーティク
ル除去装置へ運ばれる。４のペリクル表面パーティクル
除去装置でペリクル表面のパーティクルは除去され再び
３のペリクル表面パーティクル検査装置で検査される。
その結果、検査合格であればレチクルは自動的に縮小投
影露光装置の本体部へ搬送される。
影露光装置の本体部へ搬送される。
以上のように本実施例によれば、縮小投影露光装置本体
部とレチクル保管装置とペリクル表面パーティクル検査
装置とペリクル表面パーティクル除去装置とレチクル自
動搬送装置とを設けることで、確実にペリクル表面のパ
ーティクルを除去し効率よく縮小投影露光装置を稼動さ
せることができる。
部とレチクル保管装置とペリクル表面パーティクル検査
装置とペリクル表面パーティクル除去装置とレチクル自
動搬送装置とを設けることで、確実にペリクル表面のパ
ーティクルを除去し効率よく縮小投影露光装置を稼動さ
せることができる。
以下本発明のペリクル表面パーティクル除去装置の外観
図を第３図に示す。
図を第３図に示す。
同図において、１１はレチクル（石英板）、１２はペリ
クルフレーム、１３はペリタル、１４は帯域ブロア、１
５はスポットブロア、１６は再付着防止ブロア、１７は
ブロア支持台、１８はレチクル支持台、１９はレチクル
搬送レール、２０は排気口である。
クルフレーム、１３はペリタル、１４は帯域ブロア、１
５はスポットブロア、１６は再付着防止ブロア、１７は
ブロア支持台、１８はレチクル支持台、１９はレチクル
搬送レール、２０は排気口である。
上記のように構成されたペリクル表面パーティクル除去
装置について、以下その動作を示す。１７のブロア支持
台は、左右に動作しｌ４の帯域プロアによってペリクル
全面を吹きつけることができる。１８のスポットブロア
台は、前後に動作し１５のスポットブロアをペリクル上
のパーティクルが検出された位置へ移動させ強烈にブロ
ーすることができる。１６はパーティクルがペリクル表
面に再付着するのを防止するためのブロア、２０はやは
りパーティクルの再付着を防止するための排気口である
。
装置について、以下その動作を示す。１７のブロア支持
台は、左右に動作しｌ４の帯域プロアによってペリクル
全面を吹きつけることができる。１８のスポットブロア
台は、前後に動作し１５のスポットブロアをペリクル上
のパーティクルが検出された位置へ移動させ強烈にブロ
ーすることができる。１６はパーティクルがペリクル表
面に再付着するのを防止するためのブロア、２０はやは
りパーティクルの再付着を防止するための排気口である
。
以上のように３種類のブロアと排気口とによりパーティ
クルがペリクル表面に再付着することを防ぎ且つ部分的
に強烈なブローをすることでパーティクルを確実に除去
することができる。
クルがペリクル表面に再付着することを防ぎ且つ部分的
に強烈なブローをすることでパーティクルを確実に除去
することができる。
なお、第３図におけるブロアは帯電防止の作用を有する
ことは言うまでもない。
ことは言うまでもない。
発明の効果
以上のように本発明は縮小投影露光装置本体部にレチク
ル保管装置とペリクル表面パーティクル検査装置とペリ
クル表面パーティクル除去装置とレチクル自動搬送装置
を設けることによりより確実にレチクル欠陥を防ぎ且つ
効率よく稼動することができる優れた縮小投影露光装置
を実現できるものである。
ル保管装置とペリクル表面パーティクル検査装置とペリ
クル表面パーティクル除去装置とレチクル自動搬送装置
を設けることによりより確実にレチクル欠陥を防ぎ且つ
効率よく稼動することができる優れた縮小投影露光装置
を実現できるものである。
第１図は本発明の第１の実施例における縮小投影露光装
置の構成及びレチクルの移動経路を示す図、第２図はべ
りタル表面パーティクル検査装置の検査結果の一事例を
示す図、第３図はペリクル表面パーティクル除去装置の
外観図、第４図は従来の縮小投影露光装置の構威及びレ
チクルの移動経路を示す図、第５図は従来のペリクル表
面のパーティクルの除去方法を示す図である。 １・・・・・・縮小露光装置本体部、２・・・・・・レ
チクル保管装置、３・・・・・・ペリクル表面パーティ
クル検査装置、４・・・・・・ペリクル表面パーティク
ル除去装置、５・・・・・・レチクル自動搬送装置、１
１・・・・・・レチクル（石英板）、１２・・・・・・
ペリクルフレーム、１３・・・・・・ヘリクル、１４・
・・・・・帯域ブロア、１５・・・・・・スポットプロ
ア、ｌ６・・・・・・再付着防止プロア、１７・・・・
・・ブロア支持台、１８・・・・・・レチクル支持台、
１９・・・・・・レチクル搬送レール、２ｏ・・・・・
・排気口、２１・・・・・・縮小投影露光装置本体部、
２２・・・・・・レチクル保管装置、２３・・・・・・
パーティクル検査装置、２４・・・・・・レチクル自動
搬送装置、２５・・・・・・レチクル（石英板）、２６
・・・・・・ペリクル、２７・・・・・・ペリクルフレ
ーム、２８・・・・・・クリーン手袋、２９・・・・・
・人の手、３０・・・・・・プロア。
置の構成及びレチクルの移動経路を示す図、第２図はべ
りタル表面パーティクル検査装置の検査結果の一事例を
示す図、第３図はペリクル表面パーティクル除去装置の
外観図、第４図は従来の縮小投影露光装置の構威及びレ
チクルの移動経路を示す図、第５図は従来のペリクル表
面のパーティクルの除去方法を示す図である。 １・・・・・・縮小露光装置本体部、２・・・・・・レ
チクル保管装置、３・・・・・・ペリクル表面パーティ
クル検査装置、４・・・・・・ペリクル表面パーティク
ル除去装置、５・・・・・・レチクル自動搬送装置、１
１・・・・・・レチクル（石英板）、１２・・・・・・
ペリクルフレーム、１３・・・・・・ヘリクル、１４・
・・・・・帯域ブロア、１５・・・・・・スポットプロ
ア、ｌ６・・・・・・再付着防止プロア、１７・・・・
・・ブロア支持台、１８・・・・・・レチクル支持台、
１９・・・・・・レチクル搬送レール、２ｏ・・・・・
・排気口、２１・・・・・・縮小投影露光装置本体部、
２２・・・・・・レチクル保管装置、２３・・・・・・
パーティクル検査装置、２４・・・・・・レチクル自動
搬送装置、２５・・・・・・レチクル（石英板）、２６
・・・・・・ペリクル、２７・・・・・・ペリクルフレ
ーム、２８・・・・・・クリーン手袋、２９・・・・・
・人の手、３０・・・・・・プロア。
Claims (3)
- （１）レチクル保管装置と、ペリクル表面パーティクル
検査装置と、ペリクル表面パーティクル除去装置と、各
装置間に自動的にレチクルを搬送するレチクル自動搬送
装置を備えたことを特徴とする縮小投影露光装置。 - （２）ペリクル表面パーティクル除去装置が、帯域ブロ
アとスポットブロアと再付着防止ブロアと排気口とを備
えたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の縮小
投影露光装置。 - （３）スポットブロアが、ペリクル表面パーティクル検
査装置により検出されたパーティクルの位置を記憶しそ
の位置を集中してブローすることを特徴とする特許請求
の範囲項記載の縮小投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1151921A JPH0318011A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 縮小投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1151921A JPH0318011A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 縮小投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0318011A true JPH0318011A (ja) | 1991-01-25 |
Family
ID=15529112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1151921A Pending JPH0318011A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 縮小投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0318011A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006135087A (ja) * | 2004-11-05 | 2006-05-25 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP2011128646A (ja) * | 2011-02-07 | 2011-06-30 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
-
1989
- 1989-06-14 JP JP1151921A patent/JPH0318011A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006135087A (ja) * | 2004-11-05 | 2006-05-25 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP2011128646A (ja) * | 2011-02-07 | 2011-06-30 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
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