JP2578102B2 - ビットパターン拡大制御方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 ビットマップ上に展開されたビットパターンの拡大制
御方法において、ビットマップを処理単位とするビット
ムーバの移動及び形状変更機能を利用してビットパター
ンの拡大処理を行う。これにより、ビットマップのサイ
ズが大きくなってもビットパターン拡大処理を短時間で
効率良く行うことが出来る。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、文字や図形等のパターンの拡大制御方式、
特に、ビットマップメモリ内に定義された矩形範囲即ち
ビットマップ上に展開されたビットパターンを効率的に
拡大するビットパターン拡大制御方法に関する。

〔従来の技術〕

第６図（ａ）に示す様な文字や図形等のパターンを拡
大する方式には、同図（ｂ）に示す様に縦方向に拡大し
た長体パターンを作成する方式、同図（ｃ）に示す様に
横方向に拡大した平体パターンを作成する方式、同図
（ｄ）に示す様に縦及び横の両方向に拡大する倍角パタ
ーンを作成する方式がある。

第６図（ａ）は、メモリ内に定義された矩形範囲（以
下、ビットマップという）に展開されたビットパターン
（文字パターンＡとする）を示したもので、０〜ｐは縦
（ｉ）方向のドット番号であり、０〜ｑは横（ｊ）方向
のドット番号である。

このビットパターンＡを長体、平体及び倍角の各パタ
ーンに拡大する場合、次の〜で説明する様に、ビッ
トパターンデータを逐一繰り返して書き込む方式で拡大
が行われる。

長体パターン作成処理 ビットパターンＡを、例えば２倍の長体パターンに拡
大する場合は、横方向即ちｊ方向を主走査方向とし、縦
方向即ちｉ方向を副本走査方向として、第６図（ｂ）に
示す様に、各ｉ行における主走査（ｊ）方向のビットパ
ターンデータを読み出し、全体をｉ方向に連続して２回
ずつ再書き込みを行う。これにより、ビットパターンＡ
を縦方向に２倍に拡大した長体パターンが作成される。

平体パターン作成処理 ビットパターンＡを、例えば２倍の平体パターンに拡
大する場合は、第６図（ｃ）に示す様に、各ｉ行におけ
る主走査（ｊ）方向のビットパターンデータを読み出
し、ｊ方向に連続して２回ずつ再書き込みを行う。これ
により、ビットパターンＡを横方向に２倍に拡大した平
体パターンが作成される。

倍角パターン作成処理 ビットパターンＡを、例えば２倍の倍角パターンに拡
大する場合は、によって作成された平体パターンに対
し、と同様な長体パターン拡大処理を行う。これによ
り、第６図（ｄ）に示す様に、ビットパターンＡを縦及
び横の両方向に２倍に拡大した倍角パターンが作成され
る。

〔発明が解決しようとする問題点〕

従来のビットパターン拡大制御方式は、前述の様に、
ビットパターンデータを逐一繰り返して再書き込みを行
うことにより長体、平体、倍角パターン等の拡大パター
ンを作成していた。

この為、パターン拡大処理に多くの時間を必要とし、
特に被拡大ビットパターンのサイズに比例して処理時間
が多くなって処理効率が低下するという問題があった。

本発明は、公知のビットムーバ（Bit Mover）を使用
し、そのビットマップの移動機能及びビットパターンの
形状変更機能を利用してビットパターンの拡大処理を短
時間で行い、ビットパターンのサイズが大きい場合にも
拡大処理効率が低下しない様に改良したビットマップ拡
大制御方法を提供することを目的とする。

〔問題点を解決する為の手段〕

本発明の講じた解決手段を、第１図の原理図及び第２
図のビットムーバの形状変更処理動作説明図を参照して
説明する。

第１図において、11はビットマップメモリで、ソース
範囲111、作業域範囲112及びディストネーション範囲11
3が設けられている。12は、ビットムーバである。

ソース範囲111には、被拡大対象となるビットパター
ンが展開される。作業域範囲112は複数の作業域WA₁,WA₂
等を有し、拡大処理における中間結果が格納される。デ
ィストネーション範囲113には、拡大処理結果が転送さ
れて格納される。

拡大処理は、ビットムーバ12を使用して行われる。ビ
ットムーバ12は、ビットマップの移動処理及びビットマ
ップ上に展開されたビットパターンの形状変更処理をビ
ットマップ単位で高速で行うことが出来るハードウェア
である。

ビットムーバ12のビットマップ移動処理により、ビッ
トマップが全体として同一又は他のビットマップメモリ
内の指定された位置に移動される。

被拡大ビットパターンが展開されたビットマップの幅
とディストネーション113のビットマップの幅即ち処理
結果のビットパターンの幅が異なる場合には、第２図に
示す様な移動処理が行われることにより、結果的にソー
ス範囲111のビットパターンの形状変更が行われる。

第２図において、（ａ）はディストネーション範囲11
3で、その幅はDaである。同図（ｂ）は被拡大ビットパ
ターンが格納される作業域WAで、その幅はDbである。Da
とDbとの間には、次の関係がある。

Db＝ｎ×Da（ｎは正の整数） また、WYi（ｉ＝１〜ｍ）は、被拡大ビットパターン
を形成する各ワードである。

この様に被拡大ビットパターンの幅Dbとディストネー
ション範囲113の幅Daが異なる場合、ビットムーバは被
拡大ビットパターンの各ワードWYiを、第２図（ｂ）に
示す様に幅Daで区切ってワードWij（ｊ＝１〜ｎ）と
し、これらのワードをｊ方向に主走査走行、ｉ方向を副
走査方向として順番に読み出して、ディストネーション
範囲113に順次書き込みを行う様にする。

これにより、ディストネーション範囲113には、第２
図（ｃ）に示す様に、被拡大ビットパターンの各ワード
Wijが、W₁₁,W₁₂,・・・,W_1n,W₂₁,W₂₂,・・・,W_2n,W₃₁,W
₃₂・・・,W_3n,W₄₁,・・・,W_4n,・・・,W_m1,W_m2,・・・,
W_mnの順番で縦（ｉ）方向に順次書き込まれる。

ビットムーバによりこの様な移動処理が行われること
により、結果的に被拡大ビットパターンの形状変更が行
われる。

例えば、第２図（ｂ）において、作業域の幅Daの各縦
ｊ列（ｊ＝１〜ｎ）の領域WXj（WXij:i＝１〜ｍ）に同
一ビットパターンが格納されているとすると、第２図
（ｃ）のディストネーション範囲113にはビットパター
ンの各横方向のワードWYi（ｉ＝１〜ｍ）がｎ回ずつ連
続して書き込まれるので、縦方向にｎ倍に拡大された長
体パターンが生成されることになる。

〔作 用〕

本発明の作用を、ビットパターンを２倍の長体パター
ンに拡大する場合を例にとり、第１図を参照して説明す
る。第１図において、作業域範囲112は作業域WA₁及びWA
₂を備えており、ソース範囲111、各作業域WA₁,WA₂及び
ディストネーション範囲の幅は、いずれも同じDaであ
る。

ビットマップメモリ11のソース範囲111に被拡大ビッ
トパターン（文字パターンＡとする）が展開されている
（第１図（ａ））。

ビットムーバ12は、ソース範囲111のビットパターン
Ａを、同じ幅Daの作業域WA₁に移動する（第１図
（b₁））。

ビットムーバ12は、ソース範囲111のビットパターン
Ａを作業域WA₁に隣接する幅Daの作業域WA₂に移動する
（第２図（b₂））。これにより、図示の様に作業域WA₁
及びWA₂には、同じビットパターンＡが格納されビット
パターンAAが生成される。

ビットムーバ12は、この作業域WA₁及びWA₂を１つのビ
ットマップとし、その中に格納されたビットパターンAA
をディストネーション範囲113に移動する処理を行う。

この移動処理により、第２図で説明した形状変更が行
われ、第１図（ｃ）に示す様に、縦方向に２倍に拡大さ
れた長体パターンＡが生成される。

一般に、被変換ビットパターンＡをビットムーバ12に
より作業域範囲112にｎ個並列に再配置し、これを新た
なビットマップとしてビットムーバ12により全体をディ
ストネーション範囲113に移動処理及びそれに伴う形状
変更を行うことにより、縦方向にｎ倍に拡大した長体パ
ターンを生成することが出来る。

次に、縦及び横の両方向にｎ倍に拡大する場合は、先
ず従来方式と同様にして、ビットパターンＡを横方向に
ｎ倍に拡大した平体パターンを作業域範囲112上に作成
する（図示せず、以下同様）。

ビットムーバ12は、この平体パターンを一体の被拡大
ビットパターンとして取扱い、この平体パターンに対し
て前述の長体パターン拡大処理を施す。これにより、縦
及び横の両方向にｎ倍に拡大した倍各パターンを作成す
ることが出来る。

以上の様に、公知のビットムーバを用い、ビットマッ
プを処理単位として移動処理及び形状変更処理を行うこ
とにより、ビットパターンの拡大処理を短時間で効率良
く行うことが出来る。又、被変換ビットパターンのサイ
ズに関係なくビットムーバは同じ処理回数で所定の拡大
変換を実行することが可能であるので、ビットパターン
のサイズが大きくなっても、その拡大処理時間は従来方
式よりも大幅に短縮されて効率良く行うことが出来る。

〔実施例〕

本発明の実施例を、第３図〜第５図を参照して説明す
る。第３図は本発明を実施するビットマップディスプレ
イ装置の一例の説明図、第４図は長体パターン作成処理
の実施例の説明図、第５図は倍角パターン作成処理の実
施例の説明図である。

（Ａ）ビットマップディスプレイ装置の構成 第３図において、11はビットマップメモリで内部にソ
ース範囲111、作業域範囲112、ディストネーション範囲
113及びフレームメモリ114を備えている。ソース範囲11
1、作業域範囲112とその作業域範囲WA₁,WA₂等、及びデ
ィストネーション範囲113については、第１図で説明し
た通りである。フレームメモリ114には、ディスプレイ
の表示画面と対応する画像パターンが格納される。

12はビットムーバで、その内容は第２図で説明した通
りである。

13は表示制御部で、内部にディスプレイ131を備え、
フレームメモリ114により画像パターンデータを読み出
し、表示用の直列ビット信号に変換してディスプレイ13
1に表示する。

14はパターン発生部で、各種の文字や図形のパターン
データが格納されている。

15は主制御部で、内部にプロセッサ（図示せず）を備
え、ビットマップメモリ11、ビットムーバ12、表示制御
部13及びパターン発生部14の各動作及び装置全体の動作
を制御する。

（Ｂ）実施例の動作 実施例の動作を、（Ｂ−１）長体パターン作成動作と
（Ｂ−２）倍角パターン作成動作に分けて説明する。

（Ｂ−１）長体パターン作成動作 長体パターン作成動作を、第４図を参照して説明す
る。第４図（Ａ）は、被拡大ビットパターンである文字
パターンＡを、２倍の長体パターンに拡大する場合の実
施例であり、第４図（Ｂ）は、被拡大ビットパターンで
ある星図形パターン☆を、４倍の長体パターンに拡大す
る場合の実施例である。

第４図（Ａ）の２倍の長体パターン作成動作は、前述
の第１図の２倍長体パターン作成動作と同じであるの
で、その説明は省略し、第４図（Ｂ）の４倍の長体パタ
ーン作成動作について説明する。

最初、図示しないホスト又はキーボード等より、被拡
大パターン指示情報を含む拡大処理依頼情報が主制御部
15に入力される。

主制御部15は、被拡大パターン指示情報に基づいて、
所定のパターン（星図形パターン☆とする）のデータを
パターン発生部14より取り出し、ビットマップメモリ11
のソース範囲111に格納する（第４図（Ｂ）の
（ａ））。この格納処理が終ると、ビットムーバ12に、
２倍の長体パターン作成を指示する。

ビットムーバ12は、ソース範囲111のビットパターン
☆を読み出し、作業域WA₁に転送する（第４図（Ｂ）の
（b₁））。

以下同様にして、ソース範囲111のビットパターン☆
を読み出し、互いに隣接する作業域WA₂,WA₃,WA₄に順次
転送する（第４図（Ｂ）の（b₂），（b₃），（b₄））。

ビットムーバ12は、この作業域WA₁〜WA₄を１つのビッ
トマップとし、その中に格納されたビットパターン☆☆
☆☆をディストネーション範囲113に移動する処理を行
う。この移動処理により形状変更が行われ、第４図
（ｃ）に示す様に、縦方向に４倍に拡大された長体パタ
ーン☆が作成される。

ビットムーバ12における長体パターン☆の作成処理が
終ると、主制御部15は、ビットムーバ12にアドレスを指
示して、ディストネーション範囲113の長体パターン☆
を、フレームメモリ114の所定位置に転送させる。

以上の処理が終了すると、主制御部15は、表示制御部
13に長体パターン☆の表示を指示する。

表示制御部13は、フレームメモリー114より長体パタ
ーン☆の読み出しを行い、表示用の直列ビデオ信号に変
換してディスプレイ131に入力し、長体パターン☆を表
示する。

（Ｂ−２）倍角パターン作成動作 倍角パターンの作成動作を、第５図を参照して説明す
る。第５図は、被拡大ビットパターンである文字パター
ンを縦及び横の両方向に２倍に拡大した２倍の倍角パタ
ーンを作成する場合の実施例である。倍角パターンの作
成動作以外の他の動作は前述の長体パターンの作成動作
と同じであるので、以下、ビットマップメモリ11及びビ
ットムーバ12によって行われる倍角パターン作成動作を
中心に説明する。

この倍角パターン作成動作の場合は、ソース範囲111
の幅をDaとすると、作業域WA₁とWA₂、ディストネーショ
ン範囲113の幅は2Daに選定される。

ソース範囲111に格納された文字パターンＡより、従
来方式と同様にして横方向に２倍に拡大した平体パター
ンＡを作成し、作業域WA₁に格納する（第５図（ａ），
（ｂ））。

ビットムーバ12は、この平体パターンＡを被変換ビッ
トパターンと、同じ平体パターンＡを隣接する作業域WA
₂に転送する（第５図（ｃ））。

次に、ビットムーバは、この作業域WA₁及びWA₂を１つ
のビットマップとし、その中に格納された幅が4Daのビ
ットパターンAAを、幅が2Daのディストネーション範囲1
13に移動する処理を行う。この移動処理により形状変更
が行われ、第５図（ｄ）に示す様に、縦及び横の両方向
に２倍に拡大された倍角パターンＡが作成される。

以上の様にして作成された倍角パターンは、前述の長
体パターン作成動作と同様にして、ビットムーバ12によ
りフレームメモリ114の指令アドレス位置に転送された
後、表示制御部13により読み出されディスプレイ131に
表示される。

以上、本発明の各実施例について説明したが、本発明
はこれらの実施例に限定されるものでなく、一般に被拡
大ビットパターンの縦をＭ倍（Ｍは２以上の整数）に拡
大し、横をＮ倍（Ｎは１以上の整数）に拡大するビット
パターン拡大制御方法に適用されるものである。

〔発明の効果〕

以上説明した様に、本発明によれば次の諸効果が得ら
れる。

（イ）ビットムーバを用い、ビットマップを処理単位と
して移動処理及び形状変更処理を行うことにより、ビッ
トマップ上に展開されたビットパターンの拡大処理を短
時間で効率良く行うことが出来る。

（ロ）被変換ビットパターンのサイズに関係なくビット
ムーバは同じ処理回数で所定の拡大変換を実行すること
が可能であるので、ビットパターンのサイズが大きくな
っても、その拡大処理時間は従来方式よりも大幅に短縮
されて効率良く行うことが出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図…本発明の原理説明図、 第２図…ビットムーバの形状変更処理動作説明図、 第３図…本発明を実施するビットマップディスプレイ装
置の説明図、 第４図…本発明による長体パターン作成処理の一実施例
の説明図、 第５図…本発明による倍角パターン作成処理の一実施例
の説明図、 第６図…従来のパターン拡大制御方式の説明図、 第１図及び第３図において、 11……ビットマップメモリ、12……ビットムーバ、13…
…表示制御部、14……パターン発生部、15……主制御
部、111……ソース範囲、112……作業域範囲、113……
ディストネーション範囲、114……フレームメモリ、131
……ディスプレイ、WA₁,WA₂等……作業域。

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ビットマップメモリ（11）内に定義された
   矩形範囲で形成されるビットマップ上に展開されたビッ
   トパターンを拡大するビットパターン拡大制御方法にお
   いて、 展開されているビットパターンの行（縦）方向の規定数
   だけ列（横）方向の規定長のデータを順次読出して他の
   メモリの行方向に順次コピーする移動機能及び展開され
   ているビットパターンの行方向の規定数だけ列方向を規
   定長毎にデータを区切って順次読出して他のメモリの行
   方向に順次コピーする形状変更機能を有するビットムー
   バ（12）を設け、 ビットムーバ（12）の移動機能により、ソースビットパ
   ターンを作業エリアの列方向に隣接して並列配置させ、 この並列配置されたビットパターンからビットムーバ
   （12）の形状変更機能により拡大ビットパターンを生成
   する、 ことを特徴とするビットパターン拡大制御方法。
2. 【請求項２】拡大ビットパターンが長体パターンである
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のビットパ
   ターン拡大制御方法。
3. 【請求項３】拡大ビットパターンが倍角パターンである
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のビットパ
   ターン拡大制御方法。