JP2574323B2 - ラクチドの製造法 - Google Patents

ラクチドの製造法

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、工業的規模でのラクチド、特に光学的に純
粋なL(−)−またはD(+)−ラクチドの製造法に関
する。
〔従来の技術〕
ラクチドの製造は、多数の特許明細書および公開特許
(Offenlegungsschriften)から久しく知られている。
かくして、独国特許明細書第267826号は、乳酸を200
℃の温度へ徐々に加熱し、かくして生成されるラクチド
を、有利には真空中で、蒸溜するラクチドの製造法を記
載している。
独国特許明細書第1234703号はチタンテトラアルコキ
シドの存在下でのL(+)−乳酸水溶液からの光学的に
活性なL(−)−ラクチドの製造を記載している。独国
特許明細書(Auslegeschrift)第1083275号は周期表IV
族またはV族またはVIII族からの金属またはその化合物
の存在下に於て重合が実施される製造法を記載してい
る。触媒としての例中には酸化亜鉛、酸化錫、酸化アン
チモンが挙げられている。さらに、解重合触媒としての
ステアリン酸鉛(II)の使用が独国公開特許(Offenleg
ungsschrift)第1543958号から知られている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上に挙げた刊行物は、それらの実施例の中で、実験室
規模すなわち約1kgまでの反応のみを記載している。し
かし、実際に、ラクチド、特に光学的に純粋なラクチド
の製造のたとえ成功した実験室実験であってもその工業
的規模への直接のスケールアップを、光学的純度と化学
的収率とが特に基準とみなされるべき場合には問題を生
ずる。独国特許明細書(Auslegeschrift)第1083275号
に記載されている方法の収率は実験室実験に於てさえも
再現性がないことを立証している。
J.クライン(J.Klein)はマクロモル ケミ(Macromo
l.Chem.)30、35(1959)中で亜鉛末の存在下に於ける
ポリラクチドの解重合は90%の収率で進行すると報告し
ているが、この高い収率は工業的規模で実施される製造
方法では達成され得ない。工業的に実施されるような大
規模方法ではL(+)−乳酸を出発物質として用いる
が、L(+)−乳酸は熱的にL(−)−ポリ乳酸へ転化
され、次いで亜鉛末触媒の存在下でL(−)−ラクチド
へ解重合される。この方法に従って、約440kgのL
(+)−乳酸から出発して、1バッチで、満足な品質の
光学活性L(−)−ラクチド約168kgが得られるが、こ
れは約50−55%の収率(L(+)−乳酸に対して)に相
当する。この方法では、各バッチ後に反応器を清浄にし
なければならないが、そのためには一般に半濃縮水酸化
ナトリウム溶液が用いられる。
上記した工業的方法で50−55%の収率しか得られない
ことに加えて、この方法は、L(+)−乳酸の脱水中お
よび清浄化期中の両方とも反応器をL(−)−ラクチド
の製造に利用できないので非常に高価であることがわか
っている。
このバッチ式作動方法を連続式または半連続式方法へ
変えようとする試みは、驚いたことには、全収率の低下
およびL(−)−ラクチドの光学的純度の減少を生じ
た。
技術の状態から知られている製造方法のもう1つの不
利益は、光学活性ラクチドの場合に高い光学的純度を得
るために、解重合後に数種の精製工程を行わねばならな
い点である。
本発明の目的は、用いられる原料の改良された利用を
可能にする、工業的規模でのラクチド、特に光学的に純
粋はL(−)−または(D(+)−ラクチド、の製造方
法を提供することである。
本発明の1つの目的は、より高い化学的収率とより高
い光学的純度との両方を示す、光学活性ラクチドの製造
方法を提案することである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明によれば、この目的は、錫末またはハロゲン化
銀または20個までの炭素原子を有するカルボン酸から誘
導される有機錫化合物の0.05〜1.0重量%の存在下に於
て、ポリ乳酸を減圧下で130〜230℃へ加熱しかつ生成し
たラクチドを留去しかつ追加のポリ乳酸を連続式または
バッチ式で供給するときに達成される。
触媒として特に適している錫化合物は一般構造式 (上記一般構造式中、Xは19個までの炭素原子を有する
枝分かれアルキルまたは枝分かれのないアルキルまたは
ヒドロキシアルキルまたはアルケニル基あるいはナフチ
ル基である) の化合物であるか、あるいは一般構造式 (上記一般構造式中、Yは18個までの炭素原子を有する
枝分かれアルキルまたは枝分かれのないアルキルまたは
ヒドロキシアルキルまたはアルケニル基あるいはフェニ
ル基である) の化合物である。
XおよびYとして適当なアルキル基の例は、メチルま
たはエチルまたはn−プロピルまたはイソプロピルまた
はn−ブチルまたはsec−ブチルまたはtert−ブチルま
たはペンチルまたはヘキシルまたはヘプチルまたはオク
チル基であり、これらの基は、適当ならば、1個以上の
ヒドロキシル基を含むことができる。対応するアルケニ
ル基は1個以上の二重結合を含む。もし、例えばSnCl2
またはSnBr2のようなハロゲン化錫を触媒として用いる
ならば、対応する酸の除去によって乳酸錫が生成され
る。
好ましい触媒は乳酸錫または洒石酸錫またはシュウ酸
錫またはジカプリル酸錫またはジラウリン酸錫またぱジ
パルミチン酸錫またはジステアリン酸錫またはジオレイ
ン酸錫(オレイン酸の誘導体)またはα−ナフトエ酸錫
またはβ−ナフトエ酸錫である。ジ−(2−エチルヘキ
サン酸)錫としてより良く記載される錫ジオクトエート
または錫粉末が特に好ましい。
光学活性ラクチド、L(−)−ラクチドおよびD
(+)−ラクチド、はそれぞれ対応するL(−)−ポリ
乳酸およびD(+)−ポリ乳酸から出発して、類似の方
法で製造される。
本発明の方法に用いられるポリ乳酸は、公知の方法に
従って別個の反応工程で、乳酸の脱水によって製造され
る。
光学活性ポリ乳酸の場合には、出発物質は勿論対応す
る光学活性乳酸から製造される〔L(+)−乳酸→L
(−)−ポリ乳酸;D(−)−乳酸→D(+)−ポリ乳
酸〕。
本発明の方法の1つの特別な実施態様に於ては、ポリ
乳酸の代わりに乳酸を用いる。第1反応工程では、触媒
の存在下に於て、減圧下、昇温下で乳酸を脱水する。一
般に、脱水は、約0.01〜0.05バールの圧力下で、反応器
内の温度を約150〜170℃に上げて行われる。かくして生
成されるポリ乳酸が、約400〜2000、好ましくは600〜80
0の平均分子量に達した時、ラクチドを連続的に留去し
かつ次に連続式またはバッチ式で追加のポリ乳酸を供給
する。
もう1つの実施態様では、ポリ乳酸の代わりに、追加
の乳酸も連続的方法中に供給することができる。
以下、L(−)−ラクチドの製造方法をさらに詳細に
説明するが、この説明は、対応するポリ乳酸または乳酸
の使用によるD(+)−ラクチド、D,L−ラクチド、メ
ソ−ラクチドの製造に等しく適用可能である。
反応器の始動時、最初にL(−)−ポリ乳酸を導入
し、0.05〜1.0重量%、好ましくは0.1〜0.8重量%の錫
末またはハロゲン化錫または有機錫化合物を添加する。
次に、反応器を減圧下で130−230℃、好ましくは180〜2
00℃へ加熱し、生成されたL(−)−ラクチドを留去す
る。最適温度範囲は適用される減圧に依存し、簡単な試
験で決定することができ、最低の可能蒸溜温度は留出液
の純度に好ましい影響を与える。ある量の生成物が留去
された後、追加のL(−)−ポリ乳酸を、有利には溶融
形で、供給する。供給は、バッチ式で(部分量ずつ
で)、あるいは連続式で、例えば滴加によって行うこと
ができる。追加供給量が反応開始に於て用いられる初め
の量より多量になることは全く可能である。
追加のL(−)−ポリ乳酸をバッチ式で供給する場合
には、反応器内容物の残留容量は生成物の品質に関して
広い範囲内で臨界的ではないが、約50〜90%の転化後に
補充するのが有利である。反応器内容物が過度に下がる
と生成物の劣化を招く可能性がある。本発明の方法を連
続式で行う場合には、供給物を、できる限り反応器内容
物容量が一定に保たれるように用意することが有利であ
る。
もしL(−)−ポリ乳酸の代わりにL(+)−乳酸を
反応器へ直接供給するならば、ラクチドを与える解重合
の前に、L(+)−乳酸の約400〜2000、好ましくは500
〜800の平均分子量までのL(−)−ポリ乳酸への脱水
が、触媒としての有機錫化合物または錫末の存在下で起
こる。脱水は、好ましくは約0.03バールの圧力下で、約
170℃に上げた温度に於て行われる。所望の分子量に達
した後、バッチをさらに上述のように処理する。
既述したように、もう1つの別法では、L(−)−ポ
リ乳酸の代わりに追加のL(+)−乳酸を供給すること
が可能であり、この場合には、やはり、最初に、所望の
分子量のポリ乳酸が得られるまで水を反応混合物から留
去する。この方法は、その後、上述のように続行され
る。
L(−)−ポリ乳酸の代わりにL(+)−乳酸を使用
または追加供給することは、上述した変法に比べて、化
学的および光学的収率に関して何らの不利益もない。利
点は乳酸の脱水のための反応時間が約50%だけ短縮され
ることである。生成されたポリ乳酸の分子量は末端基の
滴定によって測定される。
留去されたL(−)−ラクチドは、公知の方法によ
り、例えば1〜6個、好ましくは1〜3個の炭素原子を
有するアルコール、特に好ましくはイソプロパノール、
からの再結晶によって、あるいは溶解しその後で非溶媒
で沈澱させることによって処理される。
本発明の方法を用いることにより、再結晶を含む処理
後、L(+)−乳酸の供給物に対して80%までの収率
で、光学的に純粋なL(−)−ラクチドが得られる。
本発明の方法の利点は、工業的規模で行われる製造方
法で高収率が高い光学的純度と共に得られること、およ
び比較的小さいユニットでも高い流量(kg/時で測定さ
れる)が得られ得るように実際の解重合反応器のより良
い利用が得られることである。
亜鉛末を用いる通常の方法では反応の終了頃に留去さ
れるL(−)−ラクチドの品質の顕著な劣化が見られた
が、本発明の方法はL(−)−ポリ乳酸またはL(+)
−乳酸の反復追加供給後でさえも一定の高い品質を与
え、同じことは他のラクチドにもあてはまる。
本発明の方法は、蒸溜の後で例えば再結晶のようなた
った1回の精製作業を行うとき、>99%比の光学的純度
の光学活性ラクチド、特にL(−)−ラクチドの製造を
可能にする。好ましくは、再結晶はイソプロパノールか
ら行われる。
以下実施例で本発明を説明するが、これらの実施例は
本発明を限定するためのものではない。
比較実施例:触媒として亜鉛を用いる通常の方法 2.2kgの亜鉛末を440kgのL(+)−乳酸(純度90%)
へ添加し、この混合物を、約0.035バールの圧力下で約1
80℃までの釜残温度で脱水する。生成されるL(−)−
ラクチドを、次に約0.01バールの圧力下で約230℃まで
の温度に於て留去する。約263kgのL(−)−ラクチド
を留出液として得る。約10〜20kgの残留物を約150kgの
希水酸化ナトリウム溶液で除去する。得られた留出液を
263kgのイソプロパノールへ添加し、195kgのL(−)−
ラクチドを粗製結晶として得る。活性炭の添加によるイ
ソプロパノールからの再結晶は168kgのL(−)−ラク
チドを与えるが、これはL(+)−乳酸に対して53%に
等しく、96−98℃の融点および▲〔α〕25 D▼>−287゜
を有していた。
実施例1 1kgの錫末を平均分子量610のL(−)−ポリ乳酸232k
gへ添加し、その混合物を25−13Torrの真空下で194℃〜
198℃に加熱する。同時に、L(−)−ラクチドを留去
する。190kgのL(−)−ラクチドの留出液量が得られ
た後、追加の220kgのL(−)−ポリ乳酸を供給し、上
記条件下で蒸留する。
この操作を数回繰返す。
留出液量:188kg 追加供給物:186kg 154kg 226kg 178kg 405kg 355kg 393kg 370kg 396kg 363kg 409kg 378kg 429kg 398kg 401kg 374kg 残留物:20kg 流量:L(−)−ポリ乳酸:約44kg/時 留出液を比較実施例に記載したように処理する。
全収量:L(−)−ラクチド2110kg=使用したL(+)−
乳酸に対する理論量の64.8% 光学的純度:>99%比L(−)−ラクチド 特性:融点96−98℃ ▲〔α〕25 D▼>−289.6゜(トルエン) 錫末すなわち錫粉末の代わりに、3.4kgの錫オクトエ
ートを用いて反応を行うこともできる。その場合、流量
は75kg/時に増加される。
実施例2 錫ジオクトエート3.4gを純度90%のL(+)乳酸〔ラ
クトール(Lactol)90〕798gへ添加し、この混合物を約
170℃の釜残温度に於てポリ乳酸へ転化させる。4.0時間
後、748の平均分子量に達した。次に、約0.01バール下
で、約200℃の釜残温度まで、1時間35分以内に531gの
L(−)−ラクチドを留去する。蒸留釜残へ追加のラク
トール(Lactol)90を供給し、これを再び上記条件下で
L(−)−ラクチドへ転化させる。この操作を数回繰返
す。
残留物:30.0g 分子量約750までのエステル化時間:3時間50分 留出液流量:242g/時 L(−)−ラクチドは公知の方法で処理される。
全収量:2000.4g=使用したL(+)−乳酸に対する理論
量の69.4% 実施例3 錫2gを606gのラクトール(Lactol)に溶解する。この
溶液を、約0.02バールの圧力下で約170℃まで水を留去
することによってポリ乳酸へ転化させる。3.0時間後、8
34の平均分子量に達した。次に、約0.01バールの圧力下
で約215℃の釜残温度まで、35分以内に360gの留出液を
留去する。分子量570の追加のポリ乳酸723gを蒸留釜残
へ供給し、上記条件でL(−)−ラクチドへ転化させ
る。70分で711gの留出液が得られる。
残留物:30g 留出液流量:612g/時 L(−)−ラクチドは公知の方法で処理される。
全収量:797.2g=使用したL(+)−乳酸に対する理論
量の69.5% 実施例2および3に記載した実験室方法は容易に工業
的規模に移すことができる。
実施例4 3.4gの錫ジオクエートを平均分子量1080のL(−)−
ポリ乳酸662gへ添加し、約200℃の釜残温度にて、約0.0
1バールの圧力下で1.5時間以内に643gのL(−)−ラク
チドを留去する。蒸留釜残へ追加のポリ乳酸を供給し、
これを次に上記条件下でL(−)−ラクチドへ転化させ
る。この操作を数回繰返す。
残留物:20.0g 留出液流量:585g/時 L(−)−ラクチドは公知の方法で処理される。
全収量:1779g=使用したL(+)−乳酸に対する理論量
の79.6%

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】錫末、ハロゲン化銀または20個までの炭素
    原子を有するカルボン酸から誘導される有機錫化合物の
    0.05〜1.0重量%の存在下に於て、ポリ乳酸を減圧下で1
    30〜230℃へ加熱し、生成したラクチドを留去しかつ追
    加のポリ乳酸を連続式またはバッチ式で供給することを
    特徴とする、工業的規模でのラクチドの製造法。
  2. 【請求項2】ポリ乳酸がL(−)−ポリ乳酸であり、ラ
    クチドがL(−)−ラクチドである、特許請求の範囲第
    (1)項記載の製造法。
  3. 【請求項3】ポリ乳酸がD(+)−ポリ乳酸であり、ラ
    クチドがD(+)−ラクチドである、特許請求の範囲第
    (1)項記載の製造法。
  4. 【請求項4】有機錫化合物が一般構造式 (上記一般構造式中、Xは19個までの炭素原子を有する
    枝分かれアルキルまたは枝分かれのないアルキル、ヒド
    ロキシアルキルまたはアルケニル基あるいはナフチル基
    である) の化合物であるか、あるいは一般構造式 (上記一般構造式中、Yは18個までの炭素原子を有する
    枝分かれアルキルまたは枝分かれのないアルキル、ヒド
    ロキシアルキルまたはアルケニル基あるいはフェニル基
    である) の化合物であることを特徴とする、特許請求の範囲第
    (1)項〜第(3)項のいずれか1項記載の製造法。
  5. 【請求項5】有機錫化合物が乳酸錫、酒石酸錫、シュウ
    酸錫、ジカプリル酸錫、ジラウリル酸錫、ジパルミチン
    酸錫、ジステアリン酸錫、ジオレイン酸錫、α−ナフト
    エ酸錫、β−ナフトエ酸錫、錫ジオクトエートからなる
    群から選ばれることを特徴とする、特許請求の範囲第
    (1)項〜第(3)項のいずれか1項記載の製造法。
  6. 【請求項6】錫末、ハロゲン化錫または20個までの炭素
    原子を有するカルボン酸から誘導される有機錫化合物の
    0.05〜1.0重量%の存在下で、乳酸を減圧下でかつ昇温
    に於て脱水し、かつ中分子量のポリ乳酸へ転化させ、次
    に生成されるラクチドを減圧下で130〜230℃に於て留去
    し、かつ追加のポリ乳酸又は追加の乳酸を連続式または
    バッチ式で供給することを特徴とする、工業的規模での
    ラクチドの製造法。
  7. 【請求項7】生成されるラクチドを留去しかつ追加の乳
    酸をバッチ式で供給することを特徴とする、特許請求の
    範囲第(6)項記載の製造法。
  8. 【請求項8】光学的に活性な乳酸またはポリ乳酸をプロ
    セスに用いることを特徴とする、特許請求の範囲第
    (6)項または第(7)項記載の光学的に純粋なL
    (−)−またはD(+)−ラクチドの製造法。
  9. 【請求項9】有機錫化合物が一般構造式 (上記一般構造式中、Xは19個までの炭素原子を有する
    枝分かれアルキルまたは枝分かれのないアルキル、ヒド
    ロキシアルキルまたはアルケニル基あるいはナフチル基
    である) の化合物であるか、あるいは一般構造式 (上記一般構造式中、Yは18個までの炭素原子を有する
    枝分かれアルキルまたは枝分かれのないアルキル、ヒド
    ロキシアルキルまたはアルケニル基あるいはフェニル基
    である) の化合物であることを特徴とする、特許請求の範囲第
    (6)項〜第(8)項のいずれか1項記載の製造法。
  10. 【請求項10】有機錫化合物が乳酸錫、酒石酸錫、シュ
    ウ酸錫、ジカプリル酸錫、ジラウリル酸錫、ジパルミチ
    ン酸錫、ジステアリン酸錫、ジオレイン酸錫、α−ナフ
    トエ酸錫、β−ナフトエ酸錫、錫ジオクトエートからな
    る群から選ばれることを特徴とする、特許請求の範囲第
    (6)項〜第(8)項のいずれか1項記載の製造法。
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