JP2569937B2 - 二軸配向ポリエステルフィルム - Google Patents
二軸配向ポリエステルフィルムInfo
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- JP2569937B2 JP2569937B2 JP26269690A JP26269690A JP2569937B2 JP 2569937 B2 JP2569937 B2 JP 2569937B2 JP 26269690 A JP26269690 A JP 26269690A JP 26269690 A JP26269690 A JP 26269690A JP 2569937 B2 JP2569937 B2 JP 2569937B2
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は二軸配向ポリエステルフィルムに関するもの
である。
である。
[従来の技術] 二軸配向ポリエステルフィルムとしては、ポリエステ
ルであるポリエステルにコロイド状シリカに起因する実
質的に球形のシリカ粒子を含有せしめたフィルムが知ら
れている(たとえば特開昭59−171623号公報)。
ルであるポリエステルにコロイド状シリカに起因する実
質的に球形のシリカ粒子を含有せしめたフィルムが知ら
れている(たとえば特開昭59−171623号公報)。
[発明が解決しようとする課題] しかし、上記従来の二軸配向ポリエステルフィルム
は、フィルムの加工工程、たとえば包装用途における印
刷工程、磁気媒体用途における磁性層塗布・カレンダー
工程あるいは感熱転写用途における感熱転写層塗布など
の工程速度の増大にともない、接触するロールによって
フイルム表面が削られて発生した粉が、工程上、製品性
能上の問題となってきている。
は、フィルムの加工工程、たとえば包装用途における印
刷工程、磁気媒体用途における磁性層塗布・カレンダー
工程あるいは感熱転写用途における感熱転写層塗布など
の工程速度の増大にともない、接触するロールによって
フイルム表面が削られて発生した粉が、工程上、製品性
能上の問題となってきている。
さらに、フイルムの主要な用途であるビデオテープ
は、最近、ソフト用(制作された映像作品をパッケージ
媒体に記録固定、複製・増製したもの)に用いられるケ
ースが多く、この場合、上記従来のビデオテープでは、
「映像作品を録画する工程」でマスターテープから高速
でタビング(記録複写)する時のS/N(シグナル/ノイ
ズ比、画質のパラメータ)の低下が大きく画質が悪くな
るという問題点も出てきている。
は、最近、ソフト用(制作された映像作品をパッケージ
媒体に記録固定、複製・増製したもの)に用いられるケ
ースが多く、この場合、上記従来のビデオテープでは、
「映像作品を録画する工程」でマスターテープから高速
でタビング(記録複写)する時のS/N(シグナル/ノイ
ズ比、画質のパラメータ)の低下が大きく画質が悪くな
るという問題点も出てきている。
本発明はかかる問題点を改善し、表面が削られにくく
(以下耐削れ性良好という)、かつ、ダビングによる画
質(S/N)の低下が少ない(以下耐ダビング性という)
フイルムを提供することを目的とする。
(以下耐削れ性良好という)、かつ、ダビングによる画
質(S/N)の低下が少ない(以下耐ダビング性という)
フイルムを提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明は上記目的を達成するために、2種類以上の粒
子を含有するポリエステルAを主成分とする組成物より
なる層(A層)をポリエステルBよりなる層(B層)の
少なくとも片面に積層してなるフイルムであって、ポリ
エステルAに含有される粒子の平均粒径がA層の厚さの
0.4〜10倍、かつ、A層中の粒子の総含有量が3〜50重
量%であることを特徴とする二軸配向ポリエステルフイ
ルムとしたものである。
子を含有するポリエステルAを主成分とする組成物より
なる層(A層)をポリエステルBよりなる層(B層)の
少なくとも片面に積層してなるフイルムであって、ポリ
エステルAに含有される粒子の平均粒径がA層の厚さの
0.4〜10倍、かつ、A層中の粒子の総含有量が3〜50重
量%であることを特徴とする二軸配向ポリエステルフイ
ルムとしたものである。
本発明を構成するポリエステルAは特に限定されない
が、エチレンテレフタレート、エチレンα,β−ビス
(2−クロルフェノキシ)エタン−4,4′−ジカルボキ
シレート、エチレン2,6−ナフタレート単位等から選ば
れた少なくとも一種の構造単位を主要構成成分とする場
合に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良好となるので
望ましい。また、本発明を構成するポリエステルAは結
晶性である場合に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良
好となるのできわめて望ましい。ここでいう結晶性とは
いわゆる非晶質ではないことを示すものであり、定量的
には示差走査熱量計の測定で冷結晶化温度Tccが検出さ
れ、かつ結晶化パラメータΔTcgが150℃以下のものであ
る。さらに、示差走査熱量計で測定された融解熱(融解
エンタルピー変化)が7.5cal/g以上の結晶性を示す場合
に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良好となるのでき
わめて望ましい。なお、本発明を阻害しない範囲内で、
2種以上のポリエステルを混合しても良いし、共重合ポ
リマを用いても良い。
が、エチレンテレフタレート、エチレンα,β−ビス
(2−クロルフェノキシ)エタン−4,4′−ジカルボキ
シレート、エチレン2,6−ナフタレート単位等から選ば
れた少なくとも一種の構造単位を主要構成成分とする場
合に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良好となるので
望ましい。また、本発明を構成するポリエステルAは結
晶性である場合に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良
好となるのできわめて望ましい。ここでいう結晶性とは
いわゆる非晶質ではないことを示すものであり、定量的
には示差走査熱量計の測定で冷結晶化温度Tccが検出さ
れ、かつ結晶化パラメータΔTcgが150℃以下のものであ
る。さらに、示差走査熱量計で測定された融解熱(融解
エンタルピー変化)が7.5cal/g以上の結晶性を示す場合
に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良好となるのでき
わめて望ましい。なお、本発明を阻害しない範囲内で、
2種以上のポリエステルを混合しても良いし、共重合ポ
リマを用いても良い。
本発明のポリエステルA中には2種類以上の異なる粒
子が、合わせてA層の総重量に対して、3〜50重量%、
好ましくは3〜20重量%、さらに好ましくは3〜15重量
%含有されていることが必要である。粒子が1種類であ
る場合には、耐削れ性が不良となるので好ましくない。
また粒子の含有量が上記の範囲より小さくても、逆に大
きくても、耐削れ性、耐ダビング性が不良となるので好
ましくない。
子が、合わせてA層の総重量に対して、3〜50重量%、
好ましくは3〜20重量%、さらに好ましくは3〜15重量
%含有されていることが必要である。粒子が1種類であ
る場合には、耐削れ性が不良となるので好ましくない。
また粒子の含有量が上記の範囲より小さくても、逆に大
きくても、耐削れ性、耐ダビング性が不良となるので好
ましくない。
また本発明のポリエステルAに含有される全粒子につ
いて、その平均粒径はA層の厚さ0.4〜10倍、好ましく
は0.5〜9倍、さらに好ましくは1.1〜5倍の範囲である
ことが必要である。平均粒径が上記の範囲より小さいと
耐削れ性、耐ダビング性が不良となり、逆に大きいと耐
削れ性が不良となるので好ましくない。
いて、その平均粒径はA層の厚さ0.4〜10倍、好ましく
は0.5〜9倍、さらに好ましくは1.1〜5倍の範囲である
ことが必要である。平均粒径が上記の範囲より小さいと
耐削れ性、耐ダビング性が不良となり、逆に大きいと耐
削れ性が不良となるので好ましくない。
本発明のポリエステルA中の2種類以上の粒子は、粒
径分布の相対標準偏差(標準偏差/平均粒径)がそれぞ
れ0.6以下、特に0.4以下の場合に耐削れ性、耐ダビング
性がより一層良好となるので望ましい。
径分布の相対標準偏差(標準偏差/平均粒径)がそれぞ
れ0.6以下、特に0.4以下の場合に耐削れ性、耐ダビング
性がより一層良好となるので望ましい。
本発明のポリエステルA中の2種類以上の粒子は、粒
径比(粒子の長径/短径)がそれぞれ1.0〜1.3の粒子、
特に、球形状の粒子の場合に耐削れ性がより一層良好と
なるので望ましい。
径比(粒子の長径/短径)がそれぞれ1.0〜1.3の粒子、
特に、球形状の粒子の場合に耐削れ性がより一層良好と
なるので望ましい。
本発明のポリエステルA中の粒子の種類は特に限定さ
れないが、上記の好ましい粒子特性を満足するにはアル
ミナ珪酸塩、1次粒子が凝集した状態のシリカ、内部析
出粒子などは好ましくなく、コロイダルシリカに起因す
る実質的に球形のシリカ粒子、架橋高分子による粒子
(たとえば架橋ジビニルベンゼン、架橋ポリスチレン)
等が特に好ましいが、その他の粒子、例えば炭酸カルシ
ウム、二酸化チタン、アルミナ等の粒子でもA層の厚さ
と平均粒径の適切なコントロールにより十分使いこなせ
るものである。
れないが、上記の好ましい粒子特性を満足するにはアル
ミナ珪酸塩、1次粒子が凝集した状態のシリカ、内部析
出粒子などは好ましくなく、コロイダルシリカに起因す
る実質的に球形のシリカ粒子、架橋高分子による粒子
(たとえば架橋ジビニルベンゼン、架橋ポリスチレン)
等が特に好ましいが、その他の粒子、例えば炭酸カルシ
ウム、二酸化チタン、アルミナ等の粒子でもA層の厚さ
と平均粒径の適切なコントロールにより十分使いこなせ
るものである。
またポリエステルA中の2種以上の粒子の平均粒径の
差が0.2μm以下、特に、0.1μm以下の場合に耐削れ
性、耐ダビング性がより一層良好となるので望ましい。
差が0.2μm以下、特に、0.1μm以下の場合に耐削れ
性、耐ダビング性がより一層良好となるので望ましい。
またポリエステルA中の2種類以上の粒子の平均粒径
は特に限定されないが、いずれの粒子もその平均粒径が
0.02〜1μm、特に、0.03〜0.8μmの場合に耐削れ
性、耐ダビング性がより一層良好となるので望ましい。
は特に限定されないが、いずれの粒子もその平均粒径が
0.02〜1μm、特に、0.03〜0.8μmの場合に耐削れ
性、耐ダビング性がより一層良好となるので望ましい。
本発明フイルムのA層は上記ポリエステルと粒子から
なる組成物を主要成分とするが、本発明の目的を阻害し
ない範囲内で、他種ポリマをブレンドしてもよいし、ま
た酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤、帯電防
止剤などの有機添加剤が通常添加される程度添加されて
いてもよい。
なる組成物を主要成分とするが、本発明の目的を阻害し
ない範囲内で、他種ポリマをブレンドしてもよいし、ま
た酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤、帯電防
止剤などの有機添加剤が通常添加される程度添加されて
いてもよい。
本発明フイルムのB層を構成するポリエステルBはポ
リエステルAと同種でも異種でも良いが、ポリエステル
Bも結晶性ポリマが望ましく、特に、結晶性パラメータ
ΔTcgが20〜100℃の範囲の場合に、耐ダビング性がより
一層良好となるので望ましい。具体例として、エチレン
テレフタレート、エチレンα,β−ビス(2−クロルフ
ェノキシ)エタン−4,4′−ジカルボキシレート、エチ
レン2,6−ナフタレート単位から選ばれた少なくとも一
種の構造単位を主要構成成分とする場合に耐ダビング性
が特に良好となるので望ましい。ただし、本発明を阻害
しない範囲内、望ましい結晶性を損なわない範囲内で、
好ましくは5モル%以内であれば他成分が共重合されて
いてもよい。
リエステルAと同種でも異種でも良いが、ポリエステル
Bも結晶性ポリマが望ましく、特に、結晶性パラメータ
ΔTcgが20〜100℃の範囲の場合に、耐ダビング性がより
一層良好となるので望ましい。具体例として、エチレン
テレフタレート、エチレンα,β−ビス(2−クロルフ
ェノキシ)エタン−4,4′−ジカルボキシレート、エチ
レン2,6−ナフタレート単位から選ばれた少なくとも一
種の構造単位を主要構成成分とする場合に耐ダビング性
が特に良好となるので望ましい。ただし、本発明を阻害
しない範囲内、望ましい結晶性を損なわない範囲内で、
好ましくは5モル%以内であれば他成分が共重合されて
いてもよい。
本発明のB層中にも、本発明の目的を阻害しない範囲
内で、他種ポリマをブレンドしてもよいし、また酸化防
止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機添加剤
が通常添加される程度添加されていてもよい。
内で、他種ポリマをブレンドしてもよいし、また酸化防
止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機添加剤
が通常添加される程度添加されていてもよい。
本発明のB層中には粒子が含有されている必要はない
が、平均粒径が0.02〜1μmの1種以上の粒子が0.001
〜0.5重量%含有されていると、耐削れ性がより一層良
好となるのみならず、フイルムの巻姿が良好となるの望
ましい。含有する粒子の種類はA層に望ましく用いられ
るものを使用することが望ましい。A層とB層に含有す
る粒子の種類、大きさは同じでも異なっていても良い。
が、平均粒径が0.02〜1μmの1種以上の粒子が0.001
〜0.5重量%含有されていると、耐削れ性がより一層良
好となるのみならず、フイルムの巻姿が良好となるの望
ましい。含有する粒子の種類はA層に望ましく用いられ
るものを使用することが望ましい。A層とB層に含有す
る粒子の種類、大きさは同じでも異なっていても良い。
本発明フイルムは上記組成物を二軸配向せしめたフイ
ルムである。一軸あるいは無配向フイルムでは耐削れ性
が不良となるので好ましくない。この配向の程度は特に
限定されないが、高分子の分子配向の程度の目安である
ヤング率が長手方向、幅方向ともに350kg/mm2以上であ
る場合に耐削れ性がより一層良好となるのできわめて望
ましい。分子配向の程度の目安であるヤング率の上限は
特に限定されないが、通常、1500kg/mm2程度が製造上の
限界である。
ルムである。一軸あるいは無配向フイルムでは耐削れ性
が不良となるので好ましくない。この配向の程度は特に
限定されないが、高分子の分子配向の程度の目安である
ヤング率が長手方向、幅方向ともに350kg/mm2以上であ
る場合に耐削れ性がより一層良好となるのできわめて望
ましい。分子配向の程度の目安であるヤング率の上限は
特に限定されないが、通常、1500kg/mm2程度が製造上の
限界である。
また、本発明フイルムは、ヤング率が上記範囲内であ
っても、フイルムの厚さ方向の一部分、例えば、表層付
近のポリマ分子の配向が無配向、あるいは、一軸配向に
なっていない、すなわち、厚さ方向の全部分の分子配向
が二軸配向である場合に耐削れ性、耐ダビング性、摩擦
係数がより一層良好となるので特に望ましい。
っても、フイルムの厚さ方向の一部分、例えば、表層付
近のポリマ分子の配向が無配向、あるいは、一軸配向に
なっていない、すなわち、厚さ方向の全部分の分子配向
が二軸配向である場合に耐削れ性、耐ダビング性、摩擦
係数がより一層良好となるので特に望ましい。
特にアッベ屈折率計、レーザーを用いた屈折率計、全
反射レーザーラマン法などによって測定される分子配合
が、表面、裏面ともに二軸配向である場合に耐削れ性、
耐ダビング性がより一層良好とのなるので特に望まし
い。
反射レーザーラマン法などによって測定される分子配合
が、表面、裏面ともに二軸配向である場合に耐削れ性、
耐ダビング性がより一層良好とのなるので特に望まし
い。
さらにポリエステルAが結晶性ポリエステルであり、
その表面の全反射ラマン結晶化指数が20cm-1以下、好ま
しくは18cm-1以下、さらに17cm-1以下の場合に耐削れ
性、耐ダビング性がより一層良好となるのできわめて望
ましい。
その表面の全反射ラマン結晶化指数が20cm-1以下、好ま
しくは18cm-1以下、さらに17cm-1以下の場合に耐削れ
性、耐ダビング性がより一層良好となるのできわめて望
ましい。
本発明フイルムは、ポリエステルA層の表面突起高さ
がA層中に含有する粒子の平均粒径の1/3以上、特に1/
(3.5)以上である場合に耐削れ性、耐ダビング性がよ
り一層良好となるのできわめて望ましい。
がA層中に含有する粒子の平均粒径の1/3以上、特に1/
(3.5)以上である場合に耐削れ性、耐ダビング性がよ
り一層良好となるのできわめて望ましい。
また本発明フイルムは、ポリエステルA層の表面突起
の平均高さが20〜800nm、特に、30〜600nmの範囲である
場合に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良好となるの
できわめて望ましい。
の平均高さが20〜800nm、特に、30〜600nmの範囲である
場合に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良好となるの
できわめて望ましい。
本発明のポリエステルAのフイルムの2次イオンマス
スペクトルによって測定される表層粒子濃度比は特に限
定されないが、ポリエステルA面の表層粒子濃度比が1/
10以下、特に1/50以下である場合に耐削れ性がより一層
良好となるので特に望ましい。
スペクトルによって測定される表層粒子濃度比は特に限
定されないが、ポリエステルA面の表層粒子濃度比が1/
10以下、特に1/50以下である場合に耐削れ性がより一層
良好となるので特に望ましい。
本発明フイルムは、ポリエステルA層の表面の中心線
平均粗さRaと最大高さRtの比、Rt/Raが9.0以下、特に8.
5以下の場合に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良好
となるので特に望ましい。
平均粗さRaと最大高さRtの比、Rt/Raが9.0以下、特に8.
5以下の場合に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良好
となるので特に望ましい。
本発明フイルムは、ポリエステルA層の表面の粗大突
起数H1が200個/200cm2以下、特に100個/200cm2以下の場
合に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良好となるので
特に望ましい。
起数H1が200個/200cm2以下、特に100個/200cm2以下の場
合に耐削れ性、耐ダビング性がより一層良好となるので
特に望ましい。
次に本発明フィルムの製造方法について説明する。
まず、ポリエステルAに2種以上の粒子を含有せしめ
る方法としては、ポリエステルの重合工程で2種以上の
粒子を含有せしめる方法、粒子を実質的に含有しないポ
リエステルをあらかじめ重合しておきそこに粒子をベン
ト式二軸混練機等を用いて2種以上の粒子を練り込む方
法、あるいは、上記いずれかの方法で別々に粒子を含有
するポリエステルを作成したのちこれらを混合する方法
等特に限定されないが、粒子を重合工程で含有せしめた
後、このポリエステルに他種の粒子をベント式二軸混練
機等を用いて2種以上の粒子を練り込む方法が耐削れ性
を特に良好とするのに有効である。
る方法としては、ポリエステルの重合工程で2種以上の
粒子を含有せしめる方法、粒子を実質的に含有しないポ
リエステルをあらかじめ重合しておきそこに粒子をベン
ト式二軸混練機等を用いて2種以上の粒子を練り込む方
法、あるいは、上記いずれかの方法で別々に粒子を含有
するポリエステルを作成したのちこれらを混合する方法
等特に限定されないが、粒子を重合工程で含有せしめた
後、このポリエステルに他種の粒子をベント式二軸混練
機等を用いて2種以上の粒子を練り込む方法が耐削れ性
を特に良好とするのに有効である。
かくして、2種以上の粒子を含有するポリエステルA
のペレットを、必要に応じて、実質的に粒子を含有しな
いポリエステルAで希釈し、乾燥したのち、公知の溶融
押出機1に供給し、ポリエステルB(A、Bは同種、異
種どらてもよい)を押出機2に供給し、2または3層の
マニホールドまたは合流ブロックを用いて、ポリエステ
ルAをポリエステルBの少なくとも片面に積層し、スリ
ット状の口金から2または3層のシートを押し出し、キ
ャスティングロールで冷却して未延伸フイルムを作る。
この場合、合流断面が矩形の合流ブロックを用いて積層
する方法が、本発明の平均粒径と厚さの関係を得るのに
有効である。
のペレットを、必要に応じて、実質的に粒子を含有しな
いポリエステルAで希釈し、乾燥したのち、公知の溶融
押出機1に供給し、ポリエステルB(A、Bは同種、異
種どらてもよい)を押出機2に供給し、2または3層の
マニホールドまたは合流ブロックを用いて、ポリエステ
ルAをポリエステルBの少なくとも片面に積層し、スリ
ット状の口金から2または3層のシートを押し出し、キ
ャスティングロールで冷却して未延伸フイルムを作る。
この場合、合流断面が矩形の合流ブロックを用いて積層
する方法が、本発明の平均粒径と厚さの関係を得るのに
有効である。
次にこの未延伸フィルムを二軸延伸し、二軸配向せし
める。延伸方法としては、逐次二軸延伸法または同時二
軸延伸法を用いることができる。ただし、最初に長手方
向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸法を用い、
長手方向の延伸を3段階以上に分けて、総縦延伸倍率を
3.5〜6.5倍で行なう方法は延伸破れなく、本発明範囲の
厚さと平均粒径の関け、含有量、望ましい範囲の配向状
態、表層粒子濃度比のフイルムを得るのに有効である。
長手方向延伸温度はポリエステルの種類によって異なり
一概には言えないが、通常、その1段目を50〜130℃の
範囲が、本発明範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量、
望ましい範囲の配向状態、平均突起高さ、表層粒子濃度
比のフイルムを得るのに有効である。長手方向延伸速度
は5000〜50000%/分の範囲が好適である。幅方向の延
伸方法としてはステンタを用いる方法が一般的である。
延伸倍率は、3.0〜5.0倍の範囲が適当である。幅方向の
延伸速度は、1000〜20000%/分、温度は80〜160℃の範
囲が好適である。また、いったん二軸延伸されたフイル
ムを少なくとも一方向にさらに延伸しても良い。次にこ
の延伸フィルムを熱処理する。この場合の熱処理温度は
170〜200℃、特に170〜190℃、時間は0.5〜60秒の範囲
が好適である。
める。延伸方法としては、逐次二軸延伸法または同時二
軸延伸法を用いることができる。ただし、最初に長手方
向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸法を用い、
長手方向の延伸を3段階以上に分けて、総縦延伸倍率を
3.5〜6.5倍で行なう方法は延伸破れなく、本発明範囲の
厚さと平均粒径の関け、含有量、望ましい範囲の配向状
態、表層粒子濃度比のフイルムを得るのに有効である。
長手方向延伸温度はポリエステルの種類によって異なり
一概には言えないが、通常、その1段目を50〜130℃の
範囲が、本発明範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量、
望ましい範囲の配向状態、平均突起高さ、表層粒子濃度
比のフイルムを得るのに有効である。長手方向延伸速度
は5000〜50000%/分の範囲が好適である。幅方向の延
伸方法としてはステンタを用いる方法が一般的である。
延伸倍率は、3.0〜5.0倍の範囲が適当である。幅方向の
延伸速度は、1000〜20000%/分、温度は80〜160℃の範
囲が好適である。また、いったん二軸延伸されたフイル
ムを少なくとも一方向にさらに延伸しても良い。次にこ
の延伸フィルムを熱処理する。この場合の熱処理温度は
170〜200℃、特に170〜190℃、時間は0.5〜60秒の範囲
が好適である。
[作用] 本発明は含有する粒子を2種類以上とした上で高濃度
に含有せしめ、かつ、平均粒径と層厚さの関係を特定範
囲としたので、突起高さを均一にでき、かつ、粒子の凝
集による粗大突起が少なくできた結果、本発明の効果が
得られたものと推定される。
に含有せしめ、かつ、平均粒径と層厚さの関係を特定範
囲としたので、突起高さを均一にでき、かつ、粒子の凝
集による粗大突起が少なくできた結果、本発明の効果が
得られたものと推定される。
[物性の測定方法ならびに効果の評価方法] 本発明の特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次
の通りである。
の通りである。
(1)粒子の平均粒径 フィルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法
(たとえばヤマト科学製PR−503型)で除去し粒子を露
出させる。処理条件はポリエステルは灰化されるが粒子
がダメージを受けない条件を選択する。これをSEM(走
査型電子顕微鏡)で観察し、粒子の画像(粒子によって
できる光の濃淡)をイメージアナライザー(たとえばケ
ンブリッジインストルメント製QTM900)に結び付け、観
察箇所を変えて粒子数5000個以上で次の数値処理を行な
い、それによって求めた数平均径Dを平均粒径とする。
(たとえばヤマト科学製PR−503型)で除去し粒子を露
出させる。処理条件はポリエステルは灰化されるが粒子
がダメージを受けない条件を選択する。これをSEM(走
査型電子顕微鏡)で観察し、粒子の画像(粒子によって
できる光の濃淡)をイメージアナライザー(たとえばケ
ンブリッジインストルメント製QTM900)に結び付け、観
察箇所を変えて粒子数5000個以上で次の数値処理を行な
い、それによって求めた数平均径Dを平均粒径とする。
D=ΣDi/N ここで、Diは粒子の円相当径、Nは個数である。
(2)粒子の含有量 ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択
し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重
量に対する比率(重量%)をもって粒子含有量とする。
場合によって赤外分光法の併用も有効である。
し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重
量に対する比率(重量%)をもって粒子含有量とする。
場合によって赤外分光法の併用も有効である。
(3)結晶化パラメータΔTcg、融解熱 パーキンエルマー社製のDSC(示差走査熱量計)II型
を用いて測定した。DSCの測定条件は次の通りである。
すなわち、試料10mgをDSC装置にセットし、300℃の温度
で5分間溶融した後、液体窒素中に急冷する。この急冷
試料を10℃/分で昇温し、ガラス転移点Tgを検知する。
さらに昇温を続け、ガラス状態からの結晶化発熱ピーク
温度をもって冷結晶化温度Tccとした。さらに昇温を続
け、融解ピークから融解熱を求めた。ここでTccとTgの
差(Tcc−Tg)を結晶化パラメータΔTcgと定義する。
を用いて測定した。DSCの測定条件は次の通りである。
すなわち、試料10mgをDSC装置にセットし、300℃の温度
で5分間溶融した後、液体窒素中に急冷する。この急冷
試料を10℃/分で昇温し、ガラス転移点Tgを検知する。
さらに昇温を続け、ガラス状態からの結晶化発熱ピーク
温度をもって冷結晶化温度Tccとした。さらに昇温を続
け、融解ピークから融解熱を求めた。ここでTccとTgの
差(Tcc−Tg)を結晶化パラメータΔTcgと定義する。
(4)表面の分子配向(屈折率) ナトリウムD線(589nm)を光源として、アッベ屈折
率計を用いて測定した。マウント液にはヨウ化メチレン
を用い、25℃、65%RHにて測定した。ポリマの二軸配向
性は長手方向、幅方向、厚さ方向の屈折率をN1、N2、N3
とした時、(N1−N2)の絶対値が0.07以下、かつ、N3/
[(N1+N2)/2]が0.95以下であることもひとつの基準
とできる。また、レーザー型屈折率計を用いて屈折率を
測定しても良い。さらに、この方法では測定が難しい場
合は全反射レーザーラマン法を用いることもできる。レ
ーザー全反射ラマンの測定は、Jobin−Yvon社製Ramanor
U−1000ラマンシステムにより、全反射ラマンスペクト
ルを測定し、例えばPETの場合では、1615cm-1(ベンゼ
ン環の骨格振動)と1730cm-1(カルボニル基の伸縮振
動)のバンド強度比の偏光測定比(YY/XX比など。ここ
でYY:レーザーの偏向方向をYにしてYに対して平行な
ラマン光検出、XX:レーザーの偏向方向をXにしてXに
対して平行なラマン光検出)が分子配向と対応すること
を利用できる。ポリマの二軸配向性はラマン測定から得
られたパラメータを長手方向、幅方向の屈性率に換算し
て、その絶対値、差などから判定できる。この場合の測
定条件は次のとおりである。
率計を用いて測定した。マウント液にはヨウ化メチレン
を用い、25℃、65%RHにて測定した。ポリマの二軸配向
性は長手方向、幅方向、厚さ方向の屈折率をN1、N2、N3
とした時、(N1−N2)の絶対値が0.07以下、かつ、N3/
[(N1+N2)/2]が0.95以下であることもひとつの基準
とできる。また、レーザー型屈折率計を用いて屈折率を
測定しても良い。さらに、この方法では測定が難しい場
合は全反射レーザーラマン法を用いることもできる。レ
ーザー全反射ラマンの測定は、Jobin−Yvon社製Ramanor
U−1000ラマンシステムにより、全反射ラマンスペクト
ルを測定し、例えばPETの場合では、1615cm-1(ベンゼ
ン環の骨格振動)と1730cm-1(カルボニル基の伸縮振
動)のバンド強度比の偏光測定比(YY/XX比など。ここ
でYY:レーザーの偏向方向をYにしてYに対して平行な
ラマン光検出、XX:レーザーの偏向方向をXにしてXに
対して平行なラマン光検出)が分子配向と対応すること
を利用できる。ポリマの二軸配向性はラマン測定から得
られたパラメータを長手方向、幅方向の屈性率に換算し
て、その絶対値、差などから判定できる。この場合の測
定条件は次のとおりである。
光源 アルゴンイオンレーザー(5145Å) 試料のセッティング フィルム表面を全反射プリズムに圧着させ、レーザのプ
リズムへの入射角(フィルム厚さ方向との角度)は60゜
とした。
リズムへの入射角(フィルム厚さ方向との角度)は60゜
とした。
検出器 PM:RCA31034/Photon Counting System(Hamamatsu C123
0)(supply 1600V) 測定条件 SLIT 1000μm LASER 100mW GATE TIME 1.0sec SCAN SPEED 12cm-1/min SAMPLING INTERVAL 0.2cm-1 REPEAT TIME 6 (5)全反射ラマン結晶化指数 Jobin−Yvon社製Ramanor U−1000ラマンシステムによ
り、全反射ラマンスペクトルを測定し、カルボニル基の
伸縮振動である1730cm-1の半価幅をもって表面の全反射
ラマン結晶化指数とした。測定条件は次のとおりであ
る。測定深さは、表面から500〜1000オングストローム
程度である。
0)(supply 1600V) 測定条件 SLIT 1000μm LASER 100mW GATE TIME 1.0sec SCAN SPEED 12cm-1/min SAMPLING INTERVAL 0.2cm-1 REPEAT TIME 6 (5)全反射ラマン結晶化指数 Jobin−Yvon社製Ramanor U−1000ラマンシステムによ
り、全反射ラマンスペクトルを測定し、カルボニル基の
伸縮振動である1730cm-1の半価幅をもって表面の全反射
ラマン結晶化指数とした。測定条件は次のとおりであ
る。測定深さは、表面から500〜1000オングストローム
程度である。
光源 アルゴンイオンレーザー(5145Å) 試料のセッティング レーザー偏光方向(S偏光)とフィルム長手方向が平行
となるようにフィルム表面を全反射プリズムが圧着さ
せ、レーザのプリズムへの入射角(フィルム厚さ方向と
の角度)は60゜とした。
となるようにフィルム表面を全反射プリズムが圧着さ
せ、レーザのプリズムへの入射角(フィルム厚さ方向と
の角度)は60゜とした。
検出器 PM:RCA31034/Photon Counting System(Hamamatsu C123
0)(supply 1600V) 測定条件 SLIT 1000μm LASER 100mW GATE TIME 1.0sec SCAN SPEED 12cm-1/min SAMPLING INTERVAL 0.2cm-1 REPEAT TIME 6 (6)表面突起の平均高さ 2検出器方式の走査型電子顕微鏡[ESM−3200、エリ
オニクス(株)製]と断面測定装置[PMS−1、エリオ
ニクス(株)製]においてフィルム表面の平坦面の高さ
を0として走査した時の突起の高さ測定値を画像処理装
置[IBAS2000、カールツァイス(株)製]に送り、画像
処理装置上にフイルム表面突起画像を再構築する。次
に、この表面突起画像で突起部分を2値化して得られた
個々の突起の面積から円相当径を求めこれをその突起の
平均径とする。また、この2値化された個々の突起部分
の中で最も高い値をその突起の高さとし、これを個々の
突起について求める。この測定を場所をかえて500回繰
返し、突起個数を求め、測定された全突起についてその
高さの平均値を平均高さとした。また個々の突起の高さ
データをもとに、高し分布の標準偏差を求めた。また走
査型電子顕微鏡の倍率は、1000〜8000倍の間の値を選択
する。なお、場合によっては、高精度光干渉式3次元表
面解析装置(WYKO社製TOPO−3D、対物レンズ:40〜200
倍、高解像度カメラ使用が有効)を用いて得られる高さ
情報を上記SEMの値に読み替えて用いてもよい。
0)(supply 1600V) 測定条件 SLIT 1000μm LASER 100mW GATE TIME 1.0sec SCAN SPEED 12cm-1/min SAMPLING INTERVAL 0.2cm-1 REPEAT TIME 6 (6)表面突起の平均高さ 2検出器方式の走査型電子顕微鏡[ESM−3200、エリ
オニクス(株)製]と断面測定装置[PMS−1、エリオ
ニクス(株)製]においてフィルム表面の平坦面の高さ
を0として走査した時の突起の高さ測定値を画像処理装
置[IBAS2000、カールツァイス(株)製]に送り、画像
処理装置上にフイルム表面突起画像を再構築する。次
に、この表面突起画像で突起部分を2値化して得られた
個々の突起の面積から円相当径を求めこれをその突起の
平均径とする。また、この2値化された個々の突起部分
の中で最も高い値をその突起の高さとし、これを個々の
突起について求める。この測定を場所をかえて500回繰
返し、突起個数を求め、測定された全突起についてその
高さの平均値を平均高さとした。また個々の突起の高さ
データをもとに、高し分布の標準偏差を求めた。また走
査型電子顕微鏡の倍率は、1000〜8000倍の間の値を選択
する。なお、場合によっては、高精度光干渉式3次元表
面解析装置(WYKO社製TOPO−3D、対物レンズ:40〜200
倍、高解像度カメラ使用が有効)を用いて得られる高さ
情報を上記SEMの値に読み替えて用いてもよい。
(7)中心線平均表面粗さRa、最大高さRt小坂研究所製
の高精度薄膜段差測定器ET−10を用いて測定した。条件
は下記のとおりであり、20回の測定の平均値をもって値
とした。
の高精度薄膜段差測定器ET−10を用いて測定した。条件
は下記のとおりであり、20回の測定の平均値をもって値
とした。
・触針先端半径:0.5μm ・触針荷重 :5mg ・測定長 :1mm ・カットオフ値:0.08mm なお、Ra、Rtの定義は、たとえば、奈良治郎著「表面
粗さの測定・評価法」(総合技術センター1983)に示さ
れていものである。
粗さの測定・評価法」(総合技術センター1983)に示さ
れていものである。
(8)ヤング率 JIS−Z−1702に規定された方法にしたがって、イン
ストロンタイプの引っ張り試験機を用いて、25℃、65%
RHにて測定した。
ストロンタイプの引っ張り試験機を用いて、25℃、65%
RHにて測定した。
(9)表層粒子濃度比 2次イオンマススペクトル(SIMS)を用いて、フイル
ム中の粒子に起因する元素の内のもっとも高濃度の元素
とポリエステルの炭素元素の濃度比を粒子濃度とし、厚
さ方向の分析を行なう。SIMSによって測定される最表層
粒子濃度(深さ0の点)における粒子濃度Aとさらに深
さ方向の分析を続けて得られる最高濃度Bの比、A/Bを
表層濃度比と定義した。測定装置、条件は下記のとおり
である。測定装置、条件は下記のとおりである。
ム中の粒子に起因する元素の内のもっとも高濃度の元素
とポリエステルの炭素元素の濃度比を粒子濃度とし、厚
さ方向の分析を行なう。SIMSによって測定される最表層
粒子濃度(深さ0の点)における粒子濃度Aとさらに深
さ方向の分析を続けて得られる最高濃度Bの比、A/Bを
表層濃度比と定義した。測定装置、条件は下記のとおり
である。測定装置、条件は下記のとおりである。
測定装置 2次イオン質量分析装置(SIMS) 西独、ATOMIKA社製 A−DIDA3000 測定条件 1次イオン種 :O2 + 1次イオン加速電圧:12KV 1次イオン電流:200nA ラスター領 域:400μm□ 分 析 領 域:ゲート30% 測 定 真 空 度:6.0×10-9Torr E − G U N:0.5KV−3.0A (10)ポリエステルA層の積層厚さ 2次イオン質量分析装置(SIMS)を用いて、表層から
深さ3000nmの範囲のフイルム中の粒子の内もっとも高濃
度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃
度比(M+/C+)を粒子濃度とし、表面から深さ3000nmま
で厚さ方向の分析を行なう。表層では表面という界面の
ために粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれて粒子濃
度は高くなる。本発明フイルムの場合はいったん極大値
となった粒子濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲
線をもとに表層粒子濃度がの極大値の1/2となる深さ
(この深さは極大値となる深さよりも深い)を求め、こ
れを積層厚さとした。条件は次の通り。
深さ3000nmの範囲のフイルム中の粒子の内もっとも高濃
度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃
度比(M+/C+)を粒子濃度とし、表面から深さ3000nmま
で厚さ方向の分析を行なう。表層では表面という界面の
ために粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれて粒子濃
度は高くなる。本発明フイルムの場合はいったん極大値
となった粒子濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲
線をもとに表層粒子濃度がの極大値の1/2となる深さ
(この深さは極大値となる深さよりも深い)を求め、こ
れを積層厚さとした。条件は次の通り。
(1) 測定装置 2次イオン質量分析装置(SIMS) 西独、ATOMIKA社製 A−DIDA3000 (2) 測定条件 1次イオン種 :O2 + 1次イオン加速電圧:12KV 1次イオン電流:200nA ラスター領域:400μm□ 分析領域:ゲート30% 測定真空度:5.0×10-9Torr E−GUN:0.5KV−3.0A なお、表層から深さ3000nmの範囲にもっとも多く含有
する粒子が有機高分子粒子の場合はSIMSでは測定が難し
いので、表面からエッチングしながらXPS(X線光電子
分光法)、IR(赤外分光法)などで上記同様のデプスプ
ロファイルを測定し積層厚さを求めても良いし、また、
電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変化状態やコ
ントラストの差から界面を認識し積層厚さを求めること
もできる。
する粒子が有機高分子粒子の場合はSIMSでは測定が難し
いので、表面からエッチングしながらXPS(X線光電子
分光法)、IR(赤外分光法)などで上記同様のデプスプ
ロファイルを測定し積層厚さを求めても良いし、また、
電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変化状態やコ
ントラストの差から界面を認識し積層厚さを求めること
もできる。
(11)粒径比 上記(1)の測定において個々の粒子の長径の平均値
/短径の平均値の比である。
/短径の平均値の比である。
すなわち、下式で求められる。
長径=ΣD1i/N 短径=ΣD2i/N D1i、D2iはそれぞれ個々の粒子の長径(最大径)、短
径(最短径)、Nは総個数である。
径(最短径)、Nは総個数である。
(12)粒形の相対標準偏差 上記(1)の方法で測定された個々の突起径Di、平均
径D、粒子総数Nから計算される標準 を平均径Dで割った値(σ/D)で表わした。
径D、粒子総数Nから計算される標準 を平均径Dで割った値(σ/D)で表わした。
(13)表面粗大突起数H1 測定面(100cm2)同士を2枚重ね合わせて静電気力で
密着させる(印化電圧5.4kV)。
密着させる(印化電圧5.4kV)。
2枚のフイルム間で粗大突起部分の光の干渉によって
生じるニュートン環から粗大突起の高さを判定し、1重
環以上の粗大突起数をH1とした。H1の単位は、100cm2を
2枚重ねているため個/200cm2となる。なお、光源はハ
ロゲンランプに564nmのバンドパスフィルターをかけて
用いた。
生じるニュートン環から粗大突起の高さを判定し、1重
環以上の粗大突起数をH1とした。H1の単位は、100cm2を
2枚重ねているため個/200cm2となる。なお、光源はハ
ロゲンランプに564nmのバンドパスフィルターをかけて
用いた。
(14)耐削れ性 幅270mmのフィルムを、金属ロールと弾性ロールから
なる1段カレンダ装置を用いて、下記条件で処理した
後、弾性ロールに付着した削れ物を純水で水洗し、その
中に含有する3μm以上の削れ粉の個数をカウントする
(He−Neレーザー散乱による粒度分布測定装置使用)。
通過フイルム面積1m2あたりに換算した3μm以上の削
れ粉の個数が100個未満の場合は耐削れ性良好、100個以
上の場合は不良と判定した。
なる1段カレンダ装置を用いて、下記条件で処理した
後、弾性ロールに付着した削れ物を純水で水洗し、その
中に含有する3μm以上の削れ粉の個数をカウントする
(He−Neレーザー散乱による粒度分布測定装置使用)。
通過フイルム面積1m2あたりに換算した3μm以上の削
れ粉の個数が100個未満の場合は耐削れ性良好、100個以
上の場合は不良と判定した。
・延べ走行長 :3000m ・走行速度 :80m/分 ・金属ロール温度:95℃ ・線圧 :200kg/cm (15)耐ダビング性 フイルムに下記組成の磁性塗料をグラビヤロールによ
り塗布し、磁気配向させ、乾燥させる。さらに、小型テ
ストカレンダー装置(スチールロール/ナイロンロー
ル、5段)で、温度:70℃、線圧:200kg/cmでカレンダー
処理した後、70℃、48時間キュアリングする。上記テー
プ原反を1/2インチにスリットし、パンケーキを作成し
た。このパンケーキから長さ250mの長さをVTRカセット
に組み込みVTRカセットテープとした。
り塗布し、磁気配向させ、乾燥させる。さらに、小型テ
ストカレンダー装置(スチールロール/ナイロンロー
ル、5段)で、温度:70℃、線圧:200kg/cmでカレンダー
処理した後、70℃、48時間キュアリングする。上記テー
プ原反を1/2インチにスリットし、パンケーキを作成し
た。このパンケーキから長さ250mの長さをVTRカセット
に組み込みVTRカセットテープとした。
(磁性塗料の組成) ・Co含有酸化鉄(BET値50m2/g) :100重量部 ・エスレックA(積水化学製塩化ビニル/酢酸ビニル共
重合体) :10重量部 ・ニッポラン2304(日本ポリウレタン製ポリウレタンエ
ラストマ) :10重量部 ・コロネートL(日本ポリウレタン製ポリイソシアネー
ト) :5重量部 ・レシチン :1重量部 ・メチレエチルケトン :75重量部 ・メチルイソブチルケトン :75重量部 ・トルエン :75重量部 ・カーボンブラック :2重量部 ・ラウリン酸 :1.5重量部 このテープに家庭用VTRを用いてシバソク製のテレビ
試験波形発生器(TG7/U706)により100%クロマ信号を
記録し、その再生信号からシバソク製カラービデオノイ
ズ測定器(925D/1)でクロマS/Nを測定しAとした。ま
た上記と同じ信号を記録したマスターテープのパンケー
キを磁界転写方式のビデオソフト高速プリントシステム
(たとえばソニーマグネスケール(株)製のスプリン
タ)を用いてAを測定したのと同じ試料テープ(未記
録)のパンケースへダビングした後のテープのクロマS/
Nを上記と同様にして測定し、Bとした。このダビング
によるクロマS/Nの低下(A−B)が3dB未満の場合は耐
ダビング性:優、3dB以上5dB未満の場合は良、5dB以上
は不良と判定した。優が望ましいが、良でも実用的には
使用可能である。
重合体) :10重量部 ・ニッポラン2304(日本ポリウレタン製ポリウレタンエ
ラストマ) :10重量部 ・コロネートL(日本ポリウレタン製ポリイソシアネー
ト) :5重量部 ・レシチン :1重量部 ・メチレエチルケトン :75重量部 ・メチルイソブチルケトン :75重量部 ・トルエン :75重量部 ・カーボンブラック :2重量部 ・ラウリン酸 :1.5重量部 このテープに家庭用VTRを用いてシバソク製のテレビ
試験波形発生器(TG7/U706)により100%クロマ信号を
記録し、その再生信号からシバソク製カラービデオノイ
ズ測定器(925D/1)でクロマS/Nを測定しAとした。ま
た上記と同じ信号を記録したマスターテープのパンケー
キを磁界転写方式のビデオソフト高速プリントシステム
(たとえばソニーマグネスケール(株)製のスプリン
タ)を用いてAを測定したのと同じ試料テープ(未記
録)のパンケースへダビングした後のテープのクロマS/
Nを上記と同様にして測定し、Bとした。このダビング
によるクロマS/Nの低下(A−B)が3dB未満の場合は耐
ダビング性:優、3dB以上5dB未満の場合は良、5dB以上
は不良と判定した。優が望ましいが、良でも実用的には
使用可能である。
[実施例] 本発明を実施例に基づいて説明する。
実施例1〜5、比較例1〜4 粒径の異なるいくつかの種類の粒子(粒子1、3)を
エチレングリコールにスラリーの形で分散せしめ、テレ
フタル酸ジメチルとエステル交換反応後、重縮合し、該
粒子を所定量含有するポリエチレンテレフタレート(以
下PETと略記する)のチップを作った。このチップをベ
ント式二軸混練押出機に供給し、水に分散せしめた架橋
ジビニルベンゼン粒子(粒子2)をスラリーの形で添加
し、水分をベントで系外に排出しながら該粒子を練り込
み、シリカ粒子と架橋ジビニルベンゼル粒子が共存する
PETのチップを作成した(ポリエステルA組成物)。
エチレングリコールにスラリーの形で分散せしめ、テレ
フタル酸ジメチルとエステル交換反応後、重縮合し、該
粒子を所定量含有するポリエチレンテレフタレート(以
下PETと略記する)のチップを作った。このチップをベ
ント式二軸混練押出機に供給し、水に分散せしめた架橋
ジビニルベンゼン粒子(粒子2)をスラリーの形で添加
し、水分をベントで系外に排出しながら該粒子を練り込
み、シリカ粒子と架橋ジビニルベンゼル粒子が共存する
PETのチップを作成した(ポリエステルA組成物)。
また、常法によって、実質的に不活性粒子を含有しな
いPETを製造し、ポリエステルBとした。
いPETを製造し、ポリエステルBとした。
これらのポリマをそれぞれ180℃で3時間減圧乾燥(3
Torr)し、それぞれを2台の押出機に供給し290℃で溶
融し、これらのポリマを、2または3層用の矩形の合流
ブロック(フィードブロック)で合流積層し、静電印加
キャスト法を用いて表面温度30℃のキャスティング・ド
ラムに巻きつけて冷却固化し、2〜3層構造の未延伸フ
ィルムを作った。この時、それぞれの押出機の吐出量を
調節し総厚さ、ポリエステルA層の厚さを調節した。こ
の未延伸フイルムを温度80℃にて長手方向に4.5倍延伸
した。この延伸は2組のロールの周速差で行なった。こ
の一軸延伸フイルムをステンタを用いて延伸速度2000%
/分で100℃で幅方向に4.0倍延伸し、定長下で、200℃
にて5秒間熱処理し、総厚さ15μmの二軸配向積層ポリ
エステルフィルムを得た。これらのフィルムの本発明の
パラメータは第1表に示したとおりであり、本発明のパ
ラメータが範囲内の場合は、耐削れ性、耐ダビング性と
もに優れたフイルムであるが、それでない場合は目的を
達し得ないことがわかる。
Torr)し、それぞれを2台の押出機に供給し290℃で溶
融し、これらのポリマを、2または3層用の矩形の合流
ブロック(フィードブロック)で合流積層し、静電印加
キャスト法を用いて表面温度30℃のキャスティング・ド
ラムに巻きつけて冷却固化し、2〜3層構造の未延伸フ
ィルムを作った。この時、それぞれの押出機の吐出量を
調節し総厚さ、ポリエステルA層の厚さを調節した。こ
の未延伸フイルムを温度80℃にて長手方向に4.5倍延伸
した。この延伸は2組のロールの周速差で行なった。こ
の一軸延伸フイルムをステンタを用いて延伸速度2000%
/分で100℃で幅方向に4.0倍延伸し、定長下で、200℃
にて5秒間熱処理し、総厚さ15μmの二軸配向積層ポリ
エステルフィルムを得た。これらのフィルムの本発明の
パラメータは第1表に示したとおりであり、本発明のパ
ラメータが範囲内の場合は、耐削れ性、耐ダビング性と
もに優れたフイルムであるが、それでない場合は目的を
達し得ないことがわかる。
比較例5〜6 実施例1に用いたのと同じ粒子、ポリエステルを用い
て、粒子を1種類しか含有しないフイルムを同様に作成
したが、耐削れ性、耐ダビング性を兼備するフイルムは
得られなかった(第1表)。
て、粒子を1種類しか含有しないフイルムを同様に作成
したが、耐削れ性、耐ダビング性を兼備するフイルムは
得られなかった(第1表)。
[発明の効果] 本発明は、2種類以上の粒子を含有するポリエステル
の層厚さと平均粒径の関係、含有量を特定範囲としたの
で、耐削れ性、耐ダビング性が優れたフイルムとなり、
各用途でのフイルム加工速度の増大に対応できるもので
ある。本発明フイルムの用途は特に限定されないが、加
工工程でのフィルム表面の削れが加工工程上、製品性能
上特に問題となる磁気記録媒体用ベースフィルムとして
特に有用である。また、本発明フイルムのうち2層構造
のものはポリエステルA層の表面が走行面(磁気記録媒
体用では磁性層を塗布しない面、その他の用途では印刷
やその他塗材の塗布などの処理がほどこされない面)と
して用いることが好ましい。
の層厚さと平均粒径の関係、含有量を特定範囲としたの
で、耐削れ性、耐ダビング性が優れたフイルムとなり、
各用途でのフイルム加工速度の増大に対応できるもので
ある。本発明フイルムの用途は特に限定されないが、加
工工程でのフィルム表面の削れが加工工程上、製品性能
上特に問題となる磁気記録媒体用ベースフィルムとして
特に有用である。また、本発明フイルムのうち2層構造
のものはポリエステルA層の表面が走行面(磁気記録媒
体用では磁性層を塗布しない面、その他の用途では印刷
やその他塗材の塗布などの処理がほどこされない面)と
して用いることが好ましい。
また、本発明は製膜工程内で、コーティングなどの操
作なしで直接複合積層によって作ったフイルムであり、
製膜工程中あるいはその後のコーティングによって作ら
れる積層フイルムに比べて、強い突起構造となり、表面
の耐削れ性もはるかに優れ、しかもコスト面、品質の安
定性などにおいて有利であるものである。
作なしで直接複合積層によって作ったフイルムであり、
製膜工程中あるいはその後のコーティングによって作ら
れる積層フイルムに比べて、強い突起構造となり、表面
の耐削れ性もはるかに優れ、しかもコスト面、品質の安
定性などにおいて有利であるものである。
Claims (4)
- 【請求項1】2種類以上の粒子を含有するポリエステル
Aを主成分とする組成物よりなる層(A層)をポリエス
テルBよりなる層(B層)の少なくとも片面に積層して
なるフイルムであって、ポリエステルAに含有される粒
子の平均粒径がA層の厚さの0.4〜10倍、かつ、A層中
の粒子の総含有量が3〜50重量%であることを特徴とす
る二軸配向ポリエステルフイルム。 - 【請求項2】A層に含有される2種類以上の粒子のそれ
ぞれの平均粒径の差が0.2μm以下であることを特徴と
する請求項(1)記載の二軸配向ポリエステルフイル
ム。 - 【請求項3】ポリエステルAに含有される2種類以上の
粒子のそれぞれの粒径の相対標準偏差が0.6以下である
請求項(1)または(2)記載の二軸配向ポリエステル
フイルム。 - 【請求項4】A層の表面について、表面突起の平均高さ
が含有する粒子の平均粒径の1/3以上であることを特徴
とする請求項(1)〜(3)のいずれかに記載の二軸配
向ポリエステルフイルム。
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JP26269690A JP2569937B2 (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | 二軸配向ポリエステルフィルム |
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JP26269690A JP2569937B2 (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | 二軸配向ポリエステルフィルム |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2897554B2 (ja) * | 1992-10-27 | 1999-05-31 | 東レ株式会社 | 二軸配向フィルム |
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1990
- 1990-09-28 JP JP26269690A patent/JP2569937B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPH04138251A (ja) | 1992-05-12 |
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