JP2576215B2 - 二軸配向ポリエステルフィルム - Google Patents

二軸配向ポリエステルフィルム

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JP2576215B2 JP31442288A JP31442288A JP2576215B2 JP 2576215 B2 JP2576215 B2 JP 2576215B2 JP 31442288 A JP31442288 A JP 31442288A JP 31442288 A JP31442288 A JP 31442288A JP 2576215 B2 JP2576215 B2 JP 2576215B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は二軸配向ポリエステルフィルムに関するもの
である。
[従来の技術] 二軸配向ポリエステルフィルムとしては、ポリエステ
ルに不活性無機粒子を含有せしめたフィルムが知られて
いる(たとえば、特開昭61−237623号公報)。
[発明が解決しようとする課題] しかし、上記従来の二軸配向ポリエステルフィルム
は、フィルムの加工工程、たとえば包装用途における印
刷工程、磁気媒体用途における磁性層塗布・カレンダー
工程などの工程速度の増大にともない、接触するロール
などでフィルムの表面に傷がつき製品性能上のトラブル
となるという欠点が、最近、問題となってきている。ま
た、最近マーケーットが拡大しつつあるソフトテープ
(映画などをあらかじめ録画したテープ)に従来のポリ
エステルフイルムからなるビデオテープを用いると、ソ
フトテープを作成する時のダビング工程(記録の複写)
で画質、すなわち、S/N(シグナル/ノイズ比)が低下
するという欠点が問題となってきている。
本発明はかかる問題点を改善し、高速走行させても表
面が傷つきにくく(以下耐スクラッチ性に優れるとい
う)、しかも、ダビング工程で画質、すなわち、S/N
(シグナル/ノイズ比)が低下しないテープを作り得る
ポリエステルフイルム(以下耐ダビング性に優れるとい
う)を提供することを課題とする。
[課題を解決するための手段] ポリエステルと炭化ケイ素粒子からなる組成物を主た
る成分とする二軸配向フィルムであって、該炭化ケイ素
粒子の平均粒子が0.01〜2.0μm、フィルムの少なくと
も片面の全反射ラマン結晶化指数が14cm-1以上、かつ、
フイルム中の炭化ケイ素粒子の粒径比が1.7以下の範囲
であることを特徴とする二軸配向ポリエステルフィルム
としたものである。
本発明におけるポリエステルは、エチレンテレフタレ
ート、エチレンα,β−ビス(2−クロルフェノキシ)
エタン−4,4′−ジカルボキシレート、エチレン2,6−ナ
フタレート単位から選ばれた少なくとも一種の構造単位
を主要構成成分とする。ただし、本発明を阻害しない範
囲内、好ましくは10モル%以内であれば他成分が共重合
されていてもよい。
また、エチレンテレフタレートを主要構成成分とする
ポリエステルの場合に耐ダビング性、耐スクラッチ性が
より一層良好となるので特に望ましい。
本発明における炭化ケイ素は、その純度が80重量%、
好ましくは90重量%以上であれば他元素が含まれていて
も使用できる。
本発明における炭化ケイ素粒子は、その平均粒径がフ
イルム中において0.01〜2.0μm、好ましくは0.05〜1.5
μm、さらに好ましくは0.10〜1.3μmの範囲であるこ
とが必要である。平均粒径が上記の範囲より小さいと耐
スクラッチ性が不良となり、逆に大きいと耐ダビング
性、耐スクラッチ性が不良となるので好ましくない。
本発明における炭化ケイ素粒子の形状は、顕微鏡写真
(走査電子顕微鏡など)による平面投影の形状が円では
なく、3角形〜10角形の多角形である場合に耐スクラッ
チ性、耐ダビング性がより一層良好となるので特に望ま
しい。
本発明における炭化ケイ素粒子のフィルム中の含有量
は特に限定されないが、0.2〜1.5重量%、特に0.4〜1.0
重量%の場合に耐スクラッチ性、耐ダビング性がより一
層良好となるので特に望ましい。
本発明における粒子の平均粒径α(μm)と含有量β
(重量%)は下式(1)を満足する場合に耐スクラッチ
性、耐ダビング性がより一層良好となるので特に望まし
い。
0.01・α−2.76≦β≦0.05・α−2.24 (1) 本発明における炭化ケイ素粒子の結晶化促進係数は0
〜20℃、特に2〜15℃の範囲の場合に耐スクラッチ性、
耐ダビング性がより一層良好となるので特に望ましい。
本発明において、本発明の目的を阻害しない範囲内
で、炭化ケイ素粒子以外の無機粒子あるいは内部析出粒
子を併用してもよいし、また粒径の異なる炭化ケイ素粒
子を組合わせて用いてもよい。
本発明フィルムは、上記組成物を主要成分とするが、
本発明の目的を阻害しない範囲内で、他種ポリマをブレ
ンドしてもよいし、また酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、
紫外線吸収剤、核生成剤などの無機または有機添加剤が
通常添加される程度添加されていてもよい。
本発明フィルムは上記組成物を二軸配向せしめたフィ
ルムである。未延伸フィルム、一軸配向フィルムでは、
耐ダビング性、耐スクラッチ性が不良となるので好まし
くない。
また、その二軸配向の程度を表わす面配向指数は特に
限定されないが、0.935〜0.975、特に0.940〜0.970の範
囲である場合に、耐ダビング性、耐スクラッチ性がより
一層良好となるので特に望ましい。
本発明フィルムは、少なくとも片面の全反射ラマン結
晶化指数が14cm-1以上、好ましくは16cm-1以上、さらに
好ましくは17cm-1以上であることが必要である。両面と
の全反射ラマン結晶化指数が上記の範囲より小さいと耐
スクラッチ性、耐ダビング性が不良となるので好ましく
ない。なお、表面の全反射ラマン結晶化指数の上限は特
に限定されないが、24cm-1程度が製造上の限界である。
ここで、この全反射ラマン結晶化指数は後述する方法で
測定される全反射ラマンスペクトルにおけるカルボニル
基の伸縮振動に基づくラマンバンドの半価幅であるが、
このラマンバンドの半価幅はポリエステルの密度すなわ
ち結晶化度と反比例の関係があることは、A.J.Melveger
によって報告されているものである(J.Polymer Scienc
e,10,317,1972)。
本発明フイルムは、フイルム中の炭化ケイ素粒子の粒
径比が1.7以下、好ましくは1.6以下であることが必要で
ある。フイルム中の炭化ケイ素粒子の粒径比が上記の範
囲より大きいと、耐スクラッチ性、耐ダビング性が不良
となるので好ましくない。粒径比の下限は特に限定され
ないが、粒径比1.02程度が製造上の限界である。
本発明フィルムは、少なくとも片面の突起高さ分布の
標準偏差が10〜700nm、好ましくは20〜600nm、さらに好
ましくは30〜400nmの範囲の場合に耐スクラッチ性、耐
ダビング性がより一層良好となるので特に望ましい。
また、本発明フィルムの密度指数は、0.02〜0.05の範
囲である場合に、耐スクラッチ性がより一層良好となる
ので特に望ましい。
本発明フイルムは、少なくとも片面のRpが60〜190n
m、好ましくは70〜160nm、さらに好ましくは80〜150nm
である場合に、耐スクラッチ性、耐ダビング性がより一
層良好となるので特に望ましい。
本発明フイルムは、少なくとも片面のRp/Ra比(単位
はともにnm)が4〜25、好ましくは6〜20、さらに好ま
しくは9〜15である場合に、耐スクラッチ性、耐ダビン
グ性がより一層良好となるので特に望ましい。
本発明フイルムは、少なくとも片面の突起の平均間隔
が20μm以下、好ましくは15μm以下、さらに好ましく
は12μm以下である場合に、耐スクラッチ性、耐ダビン
グ性がより一層良好となるので特に望ましい。
本発明フィルムは、固有粘度が0.55〜0.90、特に0.70
〜0.85の範囲である場合に耐スクラッチ性がより一層良
好となるので特に望ましい。
本発明フイルムは、少なくとも片面の表面突起の有効
空間体積が、1×103〜5×105、好ましくは、5×103
〜5×104の範囲である場合に耐スクラッチ性、耐ダビ
ング性がより一層良好となるので望ましい。
本発明フイルムは、幅方向の屈折率が1.655〜1.700、
特に、1.675〜1.700の範囲の場合に、耐スクラッチ性、
耐ダビング性がより一層良好となるので望ましい。
本発明フイルムは、フイルム中の炭化ケイ素粒子の単
一粒子指数が0.6以上、好ましくは0.7以上である場合に
耐スクラッチ性、耐ダビング性がより一層良好となるの
で望ましい。
次に本発明フィルムの製造方法について説明する。
まず、所定のポリエステルに炭化ケイ素を含有せしめ
る方法としては、重合前、重合中、重合後のいずれに添
加してもよいが、ポリエステルのジオール成分であるエ
チレングリコールに、スラリーの形で混合、分散せしめ
て添加する方法が本発明範囲の粒径比、望ましい範囲の
表面突起の高さ分布の標準偏差、Rp、Rp/Ra比を得るの
に有効である。また、粒子の含有量を調節する方法とし
ては、高濃度、好ましくは粒子含有量が1.0〜5.0重量%
のマスターペレットを製膜時に稀釈する方法が本発明範
囲の粒径比、望ましい範囲の表面突起の高さ分布の標準
偏差、Rp、Rp/Ra比を得るのに有効である。
また、エチレングリコールのスラリーを140〜200℃、
特に180〜200℃の温度で30分〜5時間、特に1〜3時間
熱処理する方法は、本発明範囲の粒径比、全反射ラマン
結晶化指数、望ましい範囲の表面突起の高さ分布の標準
偏差、Rp、Rp/Ra比、単一粒子指数を得るのに有効であ
る。
また、高濃度、好ましくは粒子含有量が1.0〜5.0重量
%のマスターペレットの固有粘度、共重合成分を調整し
て、ガラス転移点Tgと冷結晶化温度Tccとの差(Tcc−T
g)、ΔTcgを、65〜110℃、特に75〜100℃にして、か
つ、これを希釈するための実質的に不活性無機粒子を含
有しないポリエステルのΔTcgより大きくしておくこと
が、本発明範囲のフィルムの表面のラマン結晶化指数を
得るのにきわめて有効である。この場合の共重合成分と
してはポリエステルグリコール成分、イソフタル酸成
分、1,4−シクロヘキサンジメタノール成分が好適であ
る。
かくして、所定量の不活性無機粒子を含有するペレッ
トを十分乾燥したのち、公知の溶融押出機に供給し、27
0〜330℃でスリット状のダイからシート状に押出し、キ
ャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸フィル
ムを作る。この時、高精度2段瀘過フイルターをポリマ
流路に設置することが、炭化ケイ素粒子を用いて、か
つ、本発明範囲の粒径比、全反射ラマン結晶化指数、望
ましい範囲の表面突起の高さ分布の標準偏差、Rp、Rp/R
a比、単一粒子指数を得るのに有効である。ここでいう
高精度2段瀘過フイルターとは、1段目を95%カットオ
フ粒径が4〜10μm、2段目を95%カットオフ粒径が1.
5〜5μmフイルターを直列にならべたものであり、95
%カットオフ粒径が1段目>2段目としたものである。
さらに、未延伸フイルムの厚さAと口金のスリット間隙
Bの比(B/A、単位はともにmm)を5〜20の範囲とする
ことが、炭化ケイ素粒子を用いて、本発明範囲の粒径
比、全反射ラマン結晶化指数、望ましい範囲の表面突起
の高さ分布の標準偏差、Rp、Rp/Ra比、単一粒子指数を
得るのに極めて有効である。
次にこの未延伸フィルムを二軸延伸し、二軸配向せし
める。延伸方法としては、逐次二軸延伸法または同時二
軸延伸法を用いることができる。ただし、最初に長手方
向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸法を用い、
長手方向の延伸を、3段階、特に4段階以上に分けて、
(ポリマのガラス転移点−10℃)〜(ポリマのガラス転
移点+10℃)の狭い範囲で、かつ、1000〜10000%/分
という比較的小さな延伸速度で行なう方法は本発明範囲
の全反射ラマン結晶化指数、望ましい範囲のRp、Rp/Ra
比を得るのに極めて有効である。幅方向の延伸温度、速
度は、80〜160℃、1000〜20000%/分の範囲が好適であ
る。延伸倍率は長手、幅方向ともに3〜5倍が好適であ
る。次にこの延伸フィルムを熱処理する。この場合の熱
処理条件としては、定長下、弛緩あるいは緊張状態で15
0〜220℃、好ましくは170〜200℃の範囲で0.5〜60秒間
が好適である。
[作用] 本発明は炭化ケイ素という特殊の材質の、特定の大き
さの粒子を用いて、該粒子に適した方法により、フイル
ム中の粒径比、全反射ラマン結晶化指数を特定範囲とし
たので、炭化ケイ素の粒子の特徴が最大限に発揮された
結果、本発明の効果が得られたものと推定される。
[物性の測定方法ならびに効果の評価方法] 本発明は特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次
の通りである。
(1)粒子の平均粒径 フィルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法
(たとえばヤマト科学製PR−503型)で除去し粒子を露
出させ、これをSEM(走査型電子顕微鏡)で観察し、粒
子の画像(粒子によってできる光の濃淡)をイメージア
ナラザイザー(たとえばケンブリッジインストルメント
製QTM900)に結び付け、観察箇所を変えて粒子数5000個
以上で次の数値処理によって求めた数平均径Dを平均粒
径とする。
D=ΣDn/N ここで、Dnは円相当径、Nは個数である。
(2)フイルム中の粒径比 上記(1)の測定において、下式で求められる個々の
粒子の長径(平均値)/短径(平均値)の比である。
長径=ΣD1i/N 短径=ΣD2i/N D1i、D2iはそれぞれ個々の粒子の長径(最大径)、短径
(最短径)、Nは総個数である。
(3)粒子の含有量 ポリエステル100gに0−クロルフェノール1.0リット
ルを加え120℃で3時間加熱した後、日立工機(株)製
超遠心機55P−72を用い、30,000rpmで40分間遠心分離を
行ない、得られた粒子を100℃で真空乾燥する。微粒子
を走査型差動熱量計にて測定した時、ポリマに相当する
溶解ピークが認められる場合には微粒子に0−クロルフ
ェノールを加え、加熱冷却後再び遠心分離操作を行な
う。溶解ピークが認められなくなった時、微粒子を析出
粒子とする。通常遠心分離操作は2回で足りる。かくし
て分離された粒子の全体重量に対する比率(重量%)を
含有量とする。
(4)ガラス転移点Tg、冷結晶変温度Tcc パーキンエルマー社製のDSC(示差走査熱量計)II型
を用いて測定した。DSCの測定条件は次の通りである。
すなわち、試料10mgをDSC装置にセットし、300℃の温度
で5分間溶融した後、液体窒素中に急冷する。この急冷
試料を10℃/分で昇温し、ガラス転移点Tgを検知する。
さらに昇温を続け、ガラス状態からの結晶化発熱ピーク
温度をもって冷結晶化温度Tccとした。ここでTccとTgの
差(Tcc−Tg)をΔTcgと定義する。
(5)結晶化促進係数(単位は℃) 上記方法で粒子を1重量%含有するポリエステルのΔ
Tcg(I)、およびこれから粒子を除去した同粘度のポ
リエステルのΔTcg(II)を測定し、ΔTcg(II)とΔTc
g(I)の差[ΔTcg(II)−ΔTcg(I)]をもって、
結晶化促進係数とした。
(6)表面の全反射ラマン結晶化指数 Jobin−Yvon社製Ramanor U−1000ラマンシステムによ
り、全反射ラマンスペクトルを測定し、カルボニル基の
伸縮振動である1730cm-1の半価幅をもって表面の全反射
ラマン結晶化指数とした。測定条件は次のとおりであ
る。測定深さは、表面から500〜1000オングストローム
程度である。
光源 アルゴンイオンレーザー(5145A) 試料のセッティング レーザー偏光方向(S偏光)とフィルム長手方向が平
行となるようにフィルム表面を全反射プリズムに圧着さ
せ、レーザのプリズムへの入射角(フィルム厚さ方向と
の角度)は60゜とした。
検出器 PM:RCA31034/Photon Counting System(Hamamatsu C123
0)(supply1600V) 測定条件 SLIT 1000μm LASER 100mW GATE TIME 1.0sec SCAN SPEED 12cm-1/min SAMPLING INTERVAL 0.2cm-1 REPEAT TIME 6 (7)面配向指数 ナトリウムD線(波長589nm)を光源としてアツベ屈
折率計を用いて、二軸配向フィルムの厚さ方向の屈折率
(Aとする)および溶融プレス後10℃の水中へ急冷して
作った無配向(アモルファス)フィルムの厚さ方向の屈
折率(Bとする)を測定し、A/Bをもって面配向指数と
した。マウント液にはヨウ化メチレンを用い、25℃、65
%RHにて測定した。
(8)密度指数 n−ヘプタン/四塩化炭素からなる密度勾配管を用い
て測定したフィルムの密度をC(g/cm3)とし、このフ
ィルムを溶融プレス後、10℃の水中へ急冷して作った無
配向(アモルファス)フィルムの密度D(g/cm3)との
差、(C−D)をもって密度指数とした。
(9)表面突起の高さ分布の標準偏差 2検出器方式の走査型電子顕微鏡[ESM−3200、エリ
オニクス(株)製]と断面測定装置[PMS−1、エリオ
ニクス(株)製]においてフィルム表面の平坦面の高さ
を0として走査した時の突起の高さ測定値を画像処理装
置[IBAS2000、カールツァイス(株)製]に送り、画像
処理装置上にフイルム表面突起画像を再構築する。次
に、この表面突起画像で突起部分を2値化して得られた
個々の突起の面積から円相当径を求めこれをその突起の
平均径とする。また、この2値化された個々の突起部分
の中で最も高い値をその突起の高さとし、これを個々の
突起について求める。この測定を場所をかえて500回繰
返し、測定された突起についてその高さ分布を正規分布
(高さ0の点を中心とする正規分布)とみなして最小2
乗法で近似して高さ分布の標準偏差を求めた。また走査
型電子顕微鏡の倍率は、1000〜8000倍の間の値を選択す
る。
(10)突起の有効空間体積Φ 小坂研究所高精度薄膜段差測定機ET−10を用い、触針
先端半径0.5μm、カットオフ0.08mm、測定長1.0mm、縦
倍率20万倍、横倍率2000倍で、フィルムの表面粗さ曲線
を測定する。この粗さ曲線の平均線(中心線)の上側で
中心線に平行に0.005μmごとにピークカウントレベル
を設け、平均線を曲線が交又する2点間において、上記
のピークカウントレベルを1回以上交又する点が存在す
るとき、これを1ピークとし、このピーク数を測定長さ
間において求める。各ピークカウントレベルについて、
このピーク数を求め平均線からn番目のピークカウント
レベルについて求めたピーク数をPC(n)と定義する。
測定長さ間でピーク数が始めてゼロになるピークカウン
トレベルが平均線からm番目としたとき、有効空間体積
Φは、 で表わされ、場所を変えて50回測定した平均値を用い
る。
(11)中心線平均表面粗さRa、平均線深さRp、平均突起
間隔Sm 小坂研究所製の高精度薄膜段差測定器ET−10を用いて
測定した。条件は下記のとおりであり、20回の測定の平
均値をもって値とした。
・触針先端半径:0.5μm ・触針荷重 :5mg ・測定長 :1mm ・カットオフ値:0.08mm なお、Ra、Rp、Smの定義は、たとえば、奈良治郎著
「表面粗さの測定・評価法」(総合技術センター、198
3)に示されているものである。
(12)固有粘度[η](単位はdl/g) オルソクロルフェノール中、25℃で測定した溶液粘度
から下記式から計算される値を用いる。すなわち、 ηSP/C=[η]+K[η]・C ここでηSP=(溶液粘度/溶媒粘度)−1、Cは溶媒
100mlあたりの溶解ポリマ重量(g/100ml、通常1.2)、
Kはハギンス定数(0.343とする)。また、溶液粘度、
溶媒粘度はオストワルド粘度計を用いて測定した。
(13)95%瀘過精度 コールターカウンターを用いて測定したカット率が95
%となる粒子サイズをもって、95%瀘過精度(単位μ
m)とした。
(14)単一粒子指数 フイルムの断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で写真観
察し、炭化ケイ素粒子を検知する。必要に応じてXMA
(X線マイクロアナライザー)を併用した。観察倍率を
100000倍にすれば、それ以上分けることができない1個
の粒子が観察できる。粒子の占める全面積をA、その内
2個以上の粒子が凝集している凝集体の占める面積をB
とした時、(A−B)/Aをもって、単一粒子指数とす
る。TEM条件は下記のとおりであり1視野面積:2μm2
測定を場所を変えて、500視野測定する。
・装置:日本電子製JEM−1200EX ・観察倍率:100000倍 ・加速電圧:100kV ・切片厚さ:約1000オングストローム (15)耐ダビング性 フイルムに下記組成の磁性塗料をグラビヤロールによ
り塗布し、磁気配向させ、乾燥させる。さらに、小型テ
ストカレンダー装置(スチールロール/ナイロンロー
ル、5段)で、温度:70℃、線圧:200kg/cmでカレンダー
処理した後、70℃、48時間キュアリングする。上記テー
プ原反を1/2インチにスリットし、パンケーキを作成し
た。このパンケーキから長さ250mの長さをVTRカセット
に組み込みVTRカセットテープとした。
(磁性塗料の組成) ・Co含有酸化鉄(BET値50m2/g) :100重量部 ・エスレックA(積水化学製塩化ビニル/酢酸ビニル共
重合体) :10重量部 ・ニッポラン2304(日本ポリウレタン製ポリウレタンエ
ラストマ) :10重量部 ・コロネートL(日本ポリウレタン製ポリイソシアネー
ト) :5重量部 ・レシチン :1重量部 ・メチルエチルケトン :75重量部 ・メチルイソブチルケトン :75重量部 ・トルエン :75重量部 ・カーボンブラック :2重量部 ・ラウリン酸 :1.5重量部 このテープに家庭用VTRを用いてシバソク製のテレビ
試験波形発生器(TG7/U706)により100%クロマ信号を
記録し、その再生信号からシバソク製カラービデオノイ
ズ測定器(925D/1)でクロマS/Nを測定しAとした。ま
た上記と同じ信号を記録したマスターテープから磁界転
写方式のビデオソフト高速プリントシステム(たとえば
ソニーマグネスケール(株)製のスプリンタ)を用いて
同じ種類の試料テープ(未記録)のパンケーキへダビン
グした後のテープのクロマS/Nを上記と同様にして測定
し、Bとした。このダビングによるクロマS/Nの低下
(A−B)が4.0dB未満の場合は耐ダビング性良好、4.0
dB以上の場合は耐ダビング性不良と判定した。
(16)高速走行耐スクラッチ性 フイルムを横浜システム(株)製の高速型テープ走行
製試験機を使用して繰返し走行させる(走行速度1000m/
分、走行回数10パス)。この時、フイルムに入った傷を
アルミニウムを蒸着して観察し(目視)、ほとんど傷が
ない場合は耐スクラッチ性良好、幅:2.5μm以上の傷が
テープ幅あたり3本以上入った場合耐スクラッチ性不良
と判定した。
[実施例] 本発明を実施例に基づいて説明する。
実施例1〜4、比較例1〜4 平均粒径の異なる炭化ケイ素の粒子を含有するエチレ
ングリコールスラリーを調整した。このスラリーを各種
条件で熱処理したのち、このエチレングリコールスラリ
ーとテレフタル酸ジメチルとをエステル交換反応後、重
縮合し、粒子を1重量%含有するポリエチレンテレフタ
レートの粒子マスターペレットを作った。この時エチレ
ングリコールの熱処理条件および重縮合条件、共重合成
分を変更した各種マスターペレットを作った。これらの
マスターペレットのΔTcgは第1表に示したとおりであ
った。これらの粒子マスターペレットと、ΔTcgの異な
る実質的に粒子を含有しないポリエチレンテレフタレー
トのペレットを、粒子含有量が所定量となるよう混合し
たペレットを180℃で3時間減圧乾燥(3Torr)した。こ
のペレットを押出機に供給し、300℃で溶融押出し、未
延伸フイルム厚さと口金スリット間隙の比を種々変更し
て、静電印加キャスト法を用いて、表面温度30℃のキャ
スティング・ドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フ
ィルムを作った。この時、用いた瀘過フイルターの種類
は第1表に示した通り、種々変更した。この未延伸フィ
ルムを85℃にて長手方向に、延伸段数を変更して、4.0
倍延伸した。
この延伸は2組のロールの収束差で行なわれ、延伸速
度10000%/分であった。この一軸フィルムをステンタ
を用いて延伸速度2000%/分で100℃で幅方向に4.2倍延
伸し、1.03倍の微延伸下で、190℃にて5秒間熱処理
し、厚さ15μmの二軸配向フィルムを得た。これらのフ
ィルムの炭化ケイ素粒子の平均粒径、フイルム中の粒径
比、表面の全反射ラマン結晶化指数は第2表に示したと
おりであった。第2表から、それらのパラメータが本発
明範囲の場合は、耐スクラッチ性、耐ダビング性ともに
優れたフイルムが得られるが、そうでない場合は耐スク
ラッチ性、耐ダビング性を両立したフイルムは得られな
いことが分かる。なお、本実験例では、どのサンプルも
フイルムの表裏の全反射ラマン結晶化指数は同じ値であ
った。
比較例5 上記の実施例1の炭化ケイ素粒子の代わりにアナター
ゼ型二酸化チタン粒子、炭酸カルシウム粒子、カオリナ
イト粒子を用いてフイルムを作った。しかし、粒子の平
均粒径、粒径比、フィルム表面の全反射ラマン結晶化指
数を如何に工夫しても、本発明の耐スクラッチ性と耐ダ
ビング性を両立するフイルムは得られなかった。
[発明の効果] 本発明は、特定範囲の平均粒径の炭化ケイ素粒子を用
いて、フイルム中の粒径比、フィルムの表面の全反射ラ
マン結晶化指数を特定範囲としたので、耐スクラッチ
性、耐ダビング性がともに優れたフイルムが得られたも
のであり、高速で走行してもフイルムに傷がつきにくい
ため、各用途でのフイルム加工速度の増大に対応できる
ものであり、また、ビデオテープとした時、ダビングし
てもS/N、すなわち、画質が低下しにくいフイルムが得
られたものである。本発明フイルムの用途は特に限定さ
れないが、加工工程でのフィルム表面の傷が製品性能上
特に問題となる磁気記録媒体用ベースフィルム、さらに
今後ビデオソフトの普及によりダビングする機会が多く
なりつつあるビデオテープ用として特に有用である。ま
た、本発明フイルムのうちフイルムの片面のみの全反射
ラマン指数が本発明範囲のものは本発明範囲の全反射ラ
マン指数を有する面が走行面(磁気記録媒体用では磁性
層を塗布しない面、その他の用途では印刷やラミネート
などの塗布などの処理が施されない面)として用いるこ
とが好ましい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B29L 7:00

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ポリエステルと炭化ケイ素粒子からなる組
    成物を主たる成分とする二軸配向フィルムであって、該
    炭化ケイ素粒子の平均粒径が0.01〜2.0μm、フィルム
    の少なくとも片面の全反射ラマン結晶化指数が14cm-1
    上、かつ、フィルム中の炭化ケイ素粒子の粒径比が1.7
    以下の範囲であることを特徴とする二軸配向ポリエステ
    ルフィルム。
  2. 【請求項2】該炭化ケイ素粒子のフィルム中の単一粒子
    指数が0.6以上であることを特徴とする請求項(1)記
    載の二軸配向ポリエステルフィルム。
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