JP2564144B2 - ディスク状磁気記録媒体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体に関し、特にディスク状磁気記
録媒体に関する。

〔発明の背景〕

近年、コンパクトディスク、フロッピーディスクで代
表されるディスク状磁気記録媒体は、OA（オフィスオー
トメーション）機器分野やオーディオ分野で広く使用さ
れている。このようなディスク状磁気記録媒体は、一般
に非磁性体基板上にバインダ樹脂に分散させた強磁性体
粒子を塗布した磁性層を有している。

この磁性層は磁気ヘッドに接触しながら高速度で回転
するため、摩耗したり傷ついたりすると、長時間の使用
に耐えず、信頼性のない記録媒体になってしまう。

従来、非磁性体基板としては熔融・熱延伸したポリエ
チレンテレフタレート（場合によっては補強のためにTi
O₂やCaCO₃等の無機物粒子を混練して）が使用され、バ
インダ樹脂としてはニトロセルロース、塩化ビニル−酢
酸ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂等が使用されてきた。

ポリエチレンテレフタレート（以下、PETと称す）ベ
ースに磁性層を塗布しただけでは、PETベースと磁性層
の接着が悪く、摩擦係数が高かったり、異物がヘッドと
記録媒体の間に引っ掛かったりすると磁性層が剥がれた
りする故障を起こし易かった。

また従来のバインダ樹脂は、その分散性を極性基、特
に水酸基の効果な頼っているため、充分な分散性が得ら
れず、フィラー粒子の凝集を生じ易く、このような凝集
物はバインダ樹脂との結着も悪く膜故障の原因ともなっ
ていた。

バインダー樹脂にスルホ基、ホスホ基あるいはカルボ
キシル基等の親水性官能基を導入して分散性を向上する
方法（特開昭59−5423号等）も試みられたが、上記故障
を幾分は改良するが未だ不満足なレベルにあり、磁気特
性および耐久性をより一層改善し得る技術の開発が要請
されている。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、磁気特性に優れ、しかも耐久性が著
しく向上したディスク状磁気記録媒体を提供することに
ある。

〔発明の構成〕

発明の目的は、強磁性体粒子を分散した酸性基（塩を
含む）、エポキシ基および水酸基を有する塩化ビニル系
樹脂含有磁性層をカーボンブラックを含有する下塗層を
設けた非磁性基板上に形成してなることを特徴とするデ
ィスク状磁気記録媒体によって達成される。

本発明の態様に於て、前記酸性基はスルホ基、ホスホ
基或はカルボキシ基が好ましく、またそれら酸と塩を作
る金属はLi,K,Naが好ましい（以後酸性基類と称す）。

前記の酸性基類を塩化ビニル系樹脂に導入することに
よって磁性粉の分散性に卓効を生じ、就中スルホ基及び
塩形成スルホ基は特に秀れている。

またエポキシ基を導入することにより膜強度、熱安定
性が向上し、水酸基の増強導入によってはイソシアナー
トによる架橋構造が強靭になり、磁性層の硬度上昇によ
りヘッドとの摺擦、衝撃に対し耐用性が高まる。

また前記本発明に係る酸性基類のいづれか少くとも１
つ及びエポキシ基、水酸基による変性塩化ビニル系樹脂
の使用量は、強磁性粉に対し５〜25wt％であることが好
ましく更に10〜25wt％であることが好ましい。因みに25
wt％を超えると磁性層の硬度が高くなりすぎ脆くなる弊
を招く。

本発明に用いるバインダ樹脂は、酸性基類、エポキシ
基および水酸基を有する塩化ビニル系共重合体である。
これらの酸性基はどのような状態で存在してもよいが、
好ましくは共重合体の一部を形成することが好ましい。

本発明の塩化ビニル系共重合体は、例えば下記一般式
によって表すことができる。なお一般式の共重合体を表
す大括弧の中の小括弧で括られた繰返し単位のブロック
重合の順序は特定の順序であってもよいし任意の順序で
あってもよい。

一般式 式中、R₁,R₂及びR₃は水素原子または低級アルキル基
（例えばCH₃,C₂H₅等）を表す。またR₁,R₂及びR₃は夫々
の繰返し単位ブロックの中で同じでも異っていてもよ
い。

Ｘは−SO₃M,−COOM,−PO（OM）_２等の酸性基類を含有
する置換基−Ａ−SO₃M,−Ａ′−COOM,−Ａ″−Po（OM）
_２を表し、Ｙはエポキシ基を含有する置換基 を表す。またＶは水素原子または−（CH₂）qOH,−（CH₂
CH₂O）qOH（ｑ＝１〜４）を表す。

Ｍは水素原子またはLi,Na或いはＫ等のアルカリ金属
原子である。またA,A′,A″及びＢは酸性基類及びエポ
キシ基を夫々共重合体主鎖に連結する連結基である。塩
結基としては下記のものが例示される。

−ＯCH_{2 r},−COOCH_{2 r}, −CONH−，CH_{2 r},−CONHCH_{2 r}, 但しR₆及びR₇は夫々水素原子または炭素数１〜15個の
アルキル基、フェニル基を表し、またR₈は炭素数１〜15
個のアルキレン基を表す。ｒは０〜20の整数を表す。

次にＺは共重合体の特性改善のために必要に応じ挿入
される繰返し単位である。

即ち共重合体の溶媒溶解性、柔軟性、他の樹脂類との
相溶性、硬化架橋性を調節し、或いは分散性を更に高
め、或いは潤滑性を向上させる等の特性改善の目的のた
めに付加されるものである。

該繰返し単位の具体例としては、次のような構造の単
位が挙げられる。

ここに於いてR₄はＨまたは低級アルキル基（例えばCH
₃,C₂H₅）を表す。

Ｗは−（OCH₂CH）qOH,−Ｏ（CH₂）qOH（ｑ＝１〜４）
を表す。またｐは１〜50である。

R₅は炭素数８以上の無置換の炭化水素基、例えばトリ
コシル、ドコシル、エイコシル、ノナデシル、オクタデ
シル、ヘキサデシル、トリデシル、ウンデシル、デシ
ル、ノニル、オクチル等の基が挙げられる。

他に（Ｚ）ｎとしては、塩化ビニリデン、エチレン、
スチレン、無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸エ
ステル等の本発明の化合物と共重合し得るような構成単
位は、いずれも使用できる。

前記した一般式に於て、ｋは200〜800、ｌ及びｌ′は
０〜100、ｍは１〜100及びｎは０〜200の正数を表す。

本発明に係る塩化ビニル系共重合体の重合度（Pn）
は、250≦Pn≦500であり、酸性基類は該共重合体中に少
くとも１つ存在することが必要で酸性基類を含む繰返し
単位は0.5〜3wt％、エポキシ基を含む繰返し単位は0.5
〜4wt％、水酸基を含む繰返し単位は0.1〜7wt％、塩化
ビニル単位は95〜70wt％であることが好ましい。

前記一般式にて表される共重合体において、その共重
合体が磁気記録媒体のバインダとして使用されて必要な
作用効果を発揮する場合、塩化ビニル繰返し単位は、そ
の媒体の強度に寄与しており、その塩化ビニル成分が少
なすぎると、媒体に必要な物性（機械強度）が得られ
ず、また多すぎると溶剤への溶解性が悪くなり、また樹
脂のガラス転移温度（Tg）も高くなる傾向にある。また
エポキシ基を含有する繰返し単位は、塩化ビニルの熱安
定性を向上させるとともにイソシアナート等の架橋硬化
剤とも反応し、バインダを架橋することにより、さらに
高分子量とし、ポリウレタン等の他のバインダ樹脂との
結合に関与し、熱安定性、耐摩耗性等の耐久性を高め
る。またバインダ樹脂のガラス転移温度（Tg）や可塑化
効果を含有量により調節する効果がある。またビニルア
ルコール等の反応性水酸基（−OH）はイソシアナート等
の架橋反応に参加する。

また、酸性基類を有する繰返し単位は、分散性に寄与
しており、その量が少なすぎると効果は小さくなり、ま
た、余り多すぎてもそれ以上の分散性の向上に寄与しな
くなり、また、かえって耐湿性が悪くなって好ましくな
い。

更に樹脂の強度または溶媒溶解性または他の樹脂との
相溶性の向上または潤滑性の向上または柔軟性を向上さ
せる効用を有する繰返し単位を導入してもよい。

次に前記一般式で表される共重合体の具体的化合物例
を挙げる。

化合物例 次に本発明に係る塩化ビニル系共重合体の合成につい
て述べる。

本発明において、バインダとして使用される前記一般
式で表わされる共重合体は、前記一般式において、親水
性基SO₃M,COOM,PO（OM）_２を有しない共重合体、例えば
塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体等OH基を含有す
る共重合体に前記親水性基もしくは官能基を反応により
付加して合成することもできる。

すなわち、ＱでSO₃M,COOM,PO（OM）_２或いはエポキシ
基、Ｐでハロゲン原子を表わし、Ｒで炭素数１〜20まで
の置換、未置換のアルキレン基またはフェニレン基を表
せば、Ｐ−Ｒ−Ｑは前記付加合成の付加要素として用い
ることができる。

これらの中から特にCl（CH₂）₂SO₃Naと の場合をビニルアルコールが含有された共重合体に反応
させる場合を例によって示すと、 のようになり、また他の化合物を使用した場合にも同様
の反応によって、所定の共重合体を製造することができ
る。

しかしながら、上記共重合体と反応性化合物の反応で
は高分子反応であるため、未反応の化合物の存在や副生
成物の除去の問題があり、反応率の調節も難しいという
問題点がある。また特に導入したエポキシ基が反応時の
塩酸と反応したり、もしくは合成時に環の開環反応が起
るという問題がある。そこで、これらの問題点を避ける
ためにも、すべて共重合性のモノマとして共重合させる
方法が有利である。すなわち、前記一般式で表わされる
繰返し単位が誘導される不飽和結合を有する反応性モノ
マを所定量オートクレーブ等の反応容器に注入し、一般
的な重合開始剤、例えばBPO（ベンゾイルパーオキサイ
ド）、AIBN（アゾビスイソブチロニトル）等のラジカル
重合開始剤やレドックス重合開始剤、アニオン重合開始
剤、カチオン重合開始剤等の重合開始剤を使用して重合
できる。その後、乾燥、必要に応じて粉砕等の処理工程
を通って主として白色粉末として得られる。

前記エポキシ基を導入するための反応性モノマ具体例
としては、グリシジルアクリレート、グリシジルメタア
クリレートが挙げられ、またスルホ基もしくはその塩を
導入するための反応性モノマの具体例としては、ビニル
スルホン酸、アリルスルホン酸、メタクリルスルホン
酸、ｐ−スチレンスルホン酸等の不飽和炭化水素スルホ
ン酸およびこれらの塩が挙げられる。またメタクリル酸
スルホエチルエステル、メタクリル酸スルホプロピルエ
ステル等のアクリル酸またはメタクリル酸のスルホアル
キルエステル類およびこれらの塩等を挙げることができ
る。

また、カルボキシ基もしくはその塩の導入（COOMの導
入）にはアクリル酸、メタクリル酸等が挙げられる。

燐酸基もしくはその塩の導入（PO（OM）_２の導入）に
おいてもアクリル酸、メタクリル酸が有利である。

また、油溶性ラジカル重合開始剤としては、以下のア
ゾ系化合物または有機過酸化物を挙げることができる。
例えばアゾ系化合物として2,2′−アゾビスイソブチロ
ニトリル、2,2′−アゾビス（２−メチル−バレロニト
リル）、2,2′−アゾビス（２−メチルカプロニトリ
ル）、2,2′−アゾビス（2,3,3−トリメチルブチロニト
リル）、2,2′−アゾビス（2,4−ジメチルバレロニトリ
ル）等を用いることができ、また有機過酸化物として
は、例えばアセチルパーオキサイド、プロピオニルパー
オキサイド、イソブチリルパーオキサイド、オクタノイ
ルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾ
イルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカー
ボネート等のジアシルパーオキサイド類;t−ブチルパー
オキシイソブチレート、ｔ−ブチルパーオキシピバレー
ト等のパーオキシエステル類等を用いることができる。
勿論上記油溶性ラジカル重合開始剤の２種以上を適宜組
合せて使用することもできる。中でも取扱い上の安全
性、性能の面からアゾ化合物が好ましく、特に2,2′−
アゾビスイソブチロニトリルまたは2,2′−アゾビス
（2,4−ジメチルバレロニトリル）が好ましい。なお、
かかる開始剤の使用量としては一義的に規定することは
困難であるが、単量体重量に対して概ね0.2〜2.0％の範
囲内で用いられる。

また、重合系のpHについては、酸性が強過ぎると重合
中にエポキシ基の開環を惹起し、また、アルカリ性が強
過ぎると生成ポリマの加水分解を惹起するためpH2〜
９、好ましくは２〜７の範囲内に設定することが必要で
ある。

なお、重合温度としては、開始剤の種類にもよるが、
高温になるほどエポキシ基の開環反応、或いは単量体の
一部が乳化されて乳化重合を起こしてラテックス状微細
重合体生成等の問題点を惹起するため概ね80℃以下、好
ましくは40〜70℃の温度範囲が推奨される。

また、重合媒体としては、工業上水を用いることが望
ましいが、水混和性有機溶媒を共存させたり、電界質塩
類を共存させることは何ら差し支えない。

尚本発明に於ては本発明の効果に支障のない限りに於
て他の従来のバインダ樹脂を併用することは差支えな
い。

本発明に於ては従来磁気記録媒体製造に用いられる装
置及び素材技術が流用される。

本発明に用いられる磁性材料としては、例えばγ−Fe
₂O₃,Co含有γ−Fe₂O₃,Co被着γ−Fe₂O₃,Fe₃O₄,Co含有Fe
₃O₄,Co被着Fe₃O₄,CrO₂等の酸化物磁性体、例えばFe,Ni,
Fe−Ni合金、Fe−Co合金、Fe−Ni−Ｐ合金、Fe−Ni−Co
合金、Fe−Mn−Zn合金、Fe−Ni−Zn合金、Fe−Co−Ni−
Cr合金、Fe−Co−Ni−Ｐ合金、Co−Ｐ合金、Co−Cr合金
等Fe,Ni,Coを主成分とするメタル磁性粉等各種の共磁性
体が挙げられる。これらの金属磁性体に対する添加物と
してはSi,Cu,Zn,Al,P,Mn,Cr等の元素又はこれらの化合
物が含まれていても良い。またバリウムフェライト等の
六方晶系のフェライト、窒化鉄も使用される。

本発明の磁気ディスクの磁性層の耐久性及び耐用性を
向上させるために磁性塗料に各種硬化剤を含有させるこ
とができ、例えばイソシアナートを含有させることがで
きる。

使用できる芳香族イソシアナートは、例えばトリレン
ジイソシアナート（TDI）等及びこれらイソシアナート
と活性水素化合物との付加体などがあり、平均分子量と
しては100〜3,000の範囲のものが好適である。

また脂肪族イソシアナートとしては、ヘキサメチレン
ジイソシアナート（HMDI）等及びこれらイソシアナート
と活性水素化合物の付加体等が挙げられる。これらの脂
肪族イソシアナート及びこれらイソシアナートと活性水
素化合物の付加体などの中でも、好ましいのは分子量が
100〜3,000の範囲のものである。脂肪族イソシアナート
のなかでも非脂環式のイソシアナート及びこれら化合物
と活性水素化合物の付加体が好ましい。

上記磁性層を形成するのに使用される磁性塗料には必
要に応じ研磨剤、マツト剤、分散剤、潤滑剤、帯電防止
剤等の添加剤を含有させてもよい。

研磨剤としては、一般に使用される材料で鎔融アルミ
ナ、炭化珪素、酸化クロム、コランダム、人造ダイヤモ
ンド、ざくろ石、エメリー（主成分：コランダムと磁鉄
鉱）等が使用される。

マット剤としては、有機質粉末或は無機質粉末を夫々
に或は混合して用いられる。有機質粉末としては、アク
リルスチレン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メ
ラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が好しいが、
ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、
ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリ弗
化エチレン樹脂粉末等も使用でき、無機質粉末としては
酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、炭酸カルシ
ウム、硫酸バリウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アルミニ
ウム、酸化クロム、炭化珪素、炭化カルシウム、α−Fe
₂O₃、タルク、カオリン、硫酸カルシウム、窒化硼素、
弗化亜鉛、二酸化モリブデンが挙げられる。

本発明に使用される分散剤としては、レシチン、燐酸
エステル、アミン化合物、アルキルサルフェート、脂肪
酸アミド、高級アルコール、ポリエチレンオキサイド、
スルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸エステル、公知の界面活性
剤等及びこれらの塩があり、また、陰性有機基（例えば
−COOH,−PO₃H）を有する重合体分散剤の塩を使用する
こともできる。これら分散剤は１種類のみで用いても、
或は２種類以上を併用してもよい。これらの分散剤はバ
インダー100重量部に対し１〜20重量部の範囲で添加さ
れる。

また、潤滑剤としては、シリコーンオイル、グラファ
イト、カーボンブラックグラフトポリマ、二硫化モリブ
デン、二硫化タングステン、ラウリン酸、ミリスチン
酸、一塩基性脂肪酸と一価のアルコールから成る脂肪酸
エステル等も使用できる。この中で磁気ディスク態様に
於ては脂肪酸エステルが好ましい。これらの潤滑剤はバ
インダ100重量部に対して0.2〜20重量部の範囲で添加さ
れる。

また帯電防止剤としては、カーボンブラックをはじ
め、グラファイト、酸化錫−酸化アンチモン系化合物、
酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン系化合物などの導
電性粉末；サポニンなどの天然界面活性剤；アルキレン
オキサイド系、グリセリン系、グリシドール系などのノ
ニオン界面活性剤；高級アルキルアミン類、第４級アン
モニウム塩類、ピリジン、その他の複素環類、ホスホニ
ウムまたはスルホニウム類などのカチオン界面活性剤；
カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸
エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤；アミ
ノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸
または燐酸エステル類等の両性活性剤などがあげられ
る。

上記塗料に配合される溶媒或はこの塗料の塗布時の希
釈溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケント類；
メタルノール、エタノール、プロパノール、ブタノール
等のアルコール類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、乳酸エチル、エチレングリコールセノアセテート等
のエステル類；グリコールジメチルエーテル、グリコー
ルモノエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素：メレンクロライド、エチレンクロライ
ド、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロルベンゼン等の
ハロゲン化炭化水素等のものが使用できる。

また、支持体としては、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポリエステ
ル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロー
ストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセル
ロース誘導体、ポリアミド、ポリカーボネートなどのプ
ラスチックが挙げられるが、Cu,Al,Zn等の金属、ガラ
ス、BN,Siカーバイド、セラミックなども使用できる。

これらの支持体の厚みは30μｍ〜10mm程度である。

上記支持体には磁気特性および接着性を向上させるた
めに、カーボンブラックを含有する下塗層を設ける。

磁性塗料あるいは下塗層に含有させるカーボンブラッ
クとしては、導電性を付与するカーボンブラック（以
下、CB₁と称する）をはじめ、磁性層に遮光性を付与す
るカーボンブラック（以下、CB₂と称する）が添加され
るのが望ましい。

CB₁,CB₂を使用する時、両カーボンブラックの各比表
面積を前者については200〜500m²/g（更には200〜300m²
/g）、後者については40〜200m²/gとするのが望まし
い。CB₁の比表面積が20m²/g未満であると粒径が大きす
ぎてカーボンブラック添加によっても導電性が不十分と
なり、また500m²/gを越えると粒径が小さすぎて却って
カーボンブラックの分散性が劣化しやすくなる。

CB₁としては、例えばコロンビアンカーボン社製のコ
ンダクテックス（Conductex）975,コンダクテックス95
0,カボット・バルカン（Cabot Vulcan）XC−72等が使用
可能である。

またCB₂については、比表面積が40m²/g以下であると
粒径が大きすぎて遮光性が悪くなりやすく、その添加量
を必要以上に増大させる必要があり、また、200m²/g以
上であると粒径が小さすぎて層中への分散性が悪くなり
易い。このような遮光用カーボンブラックCB₂として
は、例えばコロンビアンカーボン社製のラーベン（Rave
n）2000,2100,1170,1000,＃100,＃75,＃44,＃40,＃35,
＃30等が使用可能である。

上記の各カーボンブラックの混合比率（重量比）には
一定の好ましい範囲があり、CB₁/CB₂＝90/10〜50/50が
よく、80/20〜60/40が更によい。

また下塗層として塗布されるカーボンブラック分散液
は、カーボンブラック100重量部に対し、バインダ樹脂5
0〜150重量部を溶剤を介して分散混練して作成される。
バインダ樹脂としては、セルロースナイトレート、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体、ウレタン樹脂等が考えら
れる。混合比に関しては、選択されるカーボンブラック
により広く選ぶことができ、溶剤についてもメチルエチ
ルケトン、トルエン、シクロヘキサン等、種類、配合比
とも広く選択できる。

また、下塗層には上に限らず、分散剤、研磨剤等が含
有されてよく、塗布膜厚は0.2〜2.0μｍ（より好ましく
は0.3〜1.0μｍ）の範囲が望ましい。

支持体上に上記磁性層を形成するための塗布方法とし
ては、エアードクタコート、ブレードコート、エアーナ
イフコート、スクィズコート、含浸コート、リバースロ
ールコート、トランスファロールコート、グラビアコー
ト、キスコート、キャストコート、スプレイコート等が
利用できるがこれらに限らない。

〔実施例〕

本発明を実施例を用いて説明するが、これによって本
発明の実施態様は限定されない。なお下記の実施例にお
いて、「部」は全て重量部を表す。

下記の基本処方を分散させた後、表−１に示す0.3μ
ｍの下塗層を有する75μｍ厚の非磁性支持体上に2.5μ
ｍの厚さに塗布し、ディスク状磁気記録媒体を得た。表
−１において、実−１〜５は本発明に係わる塩化ビニル
系樹脂およびカーボンブラックを含有する下塗布を設け
た本発明に係わる磁気記録媒体の具体例であり、比−1,
2は下塗層にカーボンブラックを含有しない磁気記録媒
体の比較具体例、 そして、比−３は実−１において塩化ビニル樹脂（日
本ゼオン社製MR−110）に代えてスルホン酸ナトリウム
塩およびエポキシ基を有する塩化ビニル樹脂（水酸基を
有しない）を使用した比較具体例、 比−４は実−１において塩化ビニル樹脂に代えてスル
ホン酸ナトリウム塩および水酸基を有する塩化ビニル樹
脂（エポキシ基を有しない）を使用した比較具体例、お
よび 比−５は実−１において塩化ビニル樹脂に代えてエポ
キシ基および水酸基を有する塩化ビニル樹脂（スルホン
酸ナトリウム塩を有しない）を使用した比較具体例であ
る。

Co被着型γ酸化鉄 100部 アルミナ 10部 カーボンブラック 12部 塩化ビニル樹脂（日本ゼオン社製 MR−110） 20部 ウレタン樹脂（日本ポリウレタン工業社製 Ｎ−2304）
９部 多価イソシアナート（日本ポリウレタン工業社製コロネ
ートＬ） ９部 脂肪酸エステル（ブチルステアレートＳ） ８部 混合溶剤 400部 得られた各磁気記録媒体の表面電気抵抗、光透過率、
摩擦係数および接着力を測定した。結果を表−２に示
す。

＜摩擦係数＞ 磁気ヘッドに20gの荷重をかけ、ディスクを300回転さ
せた状態で測定する。

＜接着力＞ 磁気記録媒体作成前の塗布シートを1/2吋幅に裁断し
たものに、粘着テープを貼り付け180゜剥離しオートグ
ラフで剥離強度（ｇ）を測定する。

表−２の結果より明らかなように、カーボンブラック
を含有する下塗層を設けることにより、ディスク状磁気
記録媒体の透過率、表面電気抵抗を減少させ、磁性層と
非磁性支持体との接着強度を強め、かつ磁性層の摩擦係
数を低減することができる。さらに本発明に係わる塩化
ビニル樹脂以外の樹脂を使用した場合、その樹脂が本発
明に係わる樹脂が有する基の２つまでを有しても、例え
ば表面電気抵抗が一応満足し得ても摩擦係数が高く実用
に達し得ない。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中嶋 建一 東京都日野市さくら町１番地 小西六写 真工業株式会社内 審査官 蔵野 雅昭 (56)参考文献 特開 昭62−214514（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】強磁性体粒子を分散した酸性基（塩も含
   む）、エポキシ基および水酸基を有する塩化ビニル系樹
   脂含有磁性層を、カーボンブラックを含有する下塗層を
   設けた非磁性基板上に形成してなることを特徴とするデ
   ィスク状磁気記録媒体。