JP2551757Y2 - 蛍光ｘ線分析用の試料ホルダ - Google Patents
蛍光ｘ線分析用の試料ホルダInfo
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- JP2551757Y2 JP2551757Y2 JP1992078614U JP7861492U JP2551757Y2 JP 2551757 Y2 JP2551757 Y2 JP 2551757Y2 JP 1992078614 U JP1992078614 U JP 1992078614U JP 7861492 U JP7861492 U JP 7861492U JP 2551757 Y2 JP2551757 Y2 JP 2551757Y2
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- Japan
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- sample
- holder
- ray
- ray fluorescence
- dustproof filter
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この考案は、粉状、粒状やチップ
状の試料の分析に適した蛍光Ｘ線分析用の試料ホルダに
関するものである。
状の試料の分析に適した蛍光Ｘ線分析用の試料ホルダに
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】蛍光Ｘ線分析装置は、試料に一次Ｘ線の
ような放射線を照射して、試料から発生した蛍光Ｘ線を
測定することにより、試料の元素分析を行う装置であ
る。この分析装置によって、試料を分析する場合には、
一次Ｘ線の照射位置に試料を正しくセットするために、
試料ホルダを用いる。
ような放射線を照射して、試料から発生した蛍光Ｘ線を
測定することにより、試料の元素分析を行う装置であ
る。この分析装置によって、試料を分析する場合には、
一次Ｘ線の照射位置に試料を正しくセットするために、
試料ホルダを用いる。
【０００３】
【考案が解決しようとする課題】ところで、試料が高分
子粒、金属の切り粉またはフライアッシュなどのように
加圧成形しにくい形状である場合には、粒状または粉状
等の状態のままで分析を行う。しかし、試料が粉状等で
ある場合には、試料から粉状の成分が飛散し、そのた
め、真空雰囲気に保たれた分析装置内が試料によって汚
染されるので、分析精度の低下を招く。
子粒、金属の切り粉またはフライアッシュなどのように
加圧成形しにくい形状である場合には、粒状または粉状
等の状態のままで分析を行う。しかし、試料が粉状等で
ある場合には、試料から粉状の成分が飛散し、そのた
め、真空雰囲気に保たれた分析装置内が試料によって汚
染されるので、分析精度の低下を招く。
【０００４】この考案は、上記従来の問題に鑑みてなさ
れたもので、その目的は、粉末の試料の飛散を防止して
分析精度の低下を防止し得る試料ホルダを提供すること
である。
れたもので、その目的は、粉末の試料の飛散を防止して
分析精度の低下を防止し得る試料ホルダを提供すること
である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この考案は、試料の表面側を覆いＸ線を通過させる
薄膜と、試料の裏面側に設けられ粉体状の試料を遮断し
て試料の一部が分析装置内に逸散するのを防止する防塵
フィルタと、試料および防塵フィルタを上記薄膜側に押
し付けて筒状のホルダ本体に固定する押え具とを備えて
いる。
に、この考案は、試料の表面側を覆いＸ線を通過させる
薄膜と、試料の裏面側に設けられ粉体状の試料を遮断し
て試料の一部が分析装置内に逸散するのを防止する防塵
フィルタと、試料および防塵フィルタを上記薄膜側に押
し付けて筒状のホルダ本体に固定する押え具とを備えて
いる。
【０００６】
【作用】この考案によれば、試料の裏面側に防塵フィル
タを設けたので、粉状の試料が分析装置内に逸散するの
を防止し得る。
タを設けたので、粉状の試料が分析装置内に逸散するの
を防止し得る。
【０００７】
【実施例】以下、この考案の一実施例を図１〜図３にし
たがって説明する。試料ホルダ１の説明に先だって、ま
ず、蛍光Ｘ線分析装置の一例について説明する。図３に
おいて、Ｘ線管（放射線源）１０は、一次Ｘ線（放射
線）Ｂ１を出射して、試料６に一次Ｘ線Ｂ１を照射す
る。上記試料６に照射された一次Ｘ線Ｂ１は、試料６の
原子を励起して、その元素固有の蛍光Ｘ線Ｂ２を発生さ
せる。試料６からの蛍光Ｘ線Ｂ２は、視野制限スリット
１１および第１のソーラスリット１２を通過し、分光結
晶１３に入射角θで入射し、ブラッグの式を満足する所
定の波長の蛍光Ｘ線Ｂ２のみが、入射角θと同一の回折
角θで回折される。回折された蛍光Ｘ線Ｂ２は、第２の
ソーラスリット１４を通過した後、Ｘ線検出器１５に入
射して検出される。この検出値に基づいて試料６の元素
分析がなされる。
たがって説明する。試料ホルダ１の説明に先だって、ま
ず、蛍光Ｘ線分析装置の一例について説明する。図３に
おいて、Ｘ線管（放射線源）１０は、一次Ｘ線（放射
線）Ｂ１を出射して、試料６に一次Ｘ線Ｂ１を照射す
る。上記試料６に照射された一次Ｘ線Ｂ１は、試料６の
原子を励起して、その元素固有の蛍光Ｘ線Ｂ２を発生さ
せる。試料６からの蛍光Ｘ線Ｂ２は、視野制限スリット
１１および第１のソーラスリット１２を通過し、分光結
晶１３に入射角θで入射し、ブラッグの式を満足する所
定の波長の蛍光Ｘ線Ｂ２のみが、入射角θと同一の回折
角θで回折される。回折された蛍光Ｘ線Ｂ２は、第２の
ソーラスリット１４を通過した後、Ｘ線検出器１５に入
射して検出される。この検出値に基づいて試料６の元素
分析がなされる。
【０００８】つぎに、試料ホルダ１について説明する。
図１において、試料ホルダ１は、ほぼ円筒状のホルダ本
体２の下面にポリプロピレンやポリエステルのような樹
脂の薄膜３を有している。この薄膜３は、たとえば、ホ
ルダ本体２の外周に嵌着する薄膜固定リング４により張
設されている。上記薄膜３の上には、粉状、粒状の試料
６が載置されている。つまり、この薄膜３は、試料６の
表面を覆い一次Ｘ線Ｂ１および蛍光Ｘ線Ｂ２を通過させ
る。
図１において、試料ホルダ１は、ほぼ円筒状のホルダ本
体２の下面にポリプロピレンやポリエステルのような樹
脂の薄膜３を有している。この薄膜３は、たとえば、ホ
ルダ本体２の外周に嵌着する薄膜固定リング４により張
設されている。上記薄膜３の上には、粉状、粒状の試料
６が載置されている。つまり、この薄膜３は、試料６の
表面を覆い一次Ｘ線Ｂ１および蛍光Ｘ線Ｂ２を通過させ
る。
【０００９】上記試料６の上方、つまり裏面側には、防
塵フィルタ７およびクッション材８が設けられている。
上記防塵フィルタ７は、粉状などの試料６の一部が分析
装置内に逸散するのを防止するものである。上記クッシ
ョン材８は、押え具９からの押圧力を受けて試料６およ
び防塵フィルタ７を薄膜３側に弾性的に押し付けるもの
である。
塵フィルタ７およびクッション材８が設けられている。
上記防塵フィルタ７は、粉状などの試料６の一部が分析
装置内に逸散するのを防止するものである。上記クッシ
ョン材８は、押え具９からの押圧力を受けて試料６およ
び防塵フィルタ７を薄膜３側に弾性的に押し付けるもの
である。
【００１０】上記押え具９は、クッション材８のばね力
を利用して、試料６、防塵フィルタ７およびクッション
材８をホルダ本体２に固定するものである。押え具９
は、たとえば、図２のように、３つの突起９ａを有して
おり、この突起９ａが、ホルダ本体２に形成した縦溝２
ａから挿入され、その後、横溝２ｂ内に嵌合されて、ホ
ルダ本体２に固定される。上記押え具９には、空気逃が
し用孔９ｂが設けられている。なお、図１の試料６に
は、ベリリウムのような窓材を介して、一次Ｘ線Ｂ１が
照射される。
を利用して、試料６、防塵フィルタ７およびクッション
材８をホルダ本体２に固定するものである。押え具９
は、たとえば、図２のように、３つの突起９ａを有して
おり、この突起９ａが、ホルダ本体２に形成した縦溝２
ａから挿入され、その後、横溝２ｂ内に嵌合されて、ホ
ルダ本体２に固定される。上記押え具９には、空気逃が
し用孔９ｂが設けられている。なお、図１の試料６に
は、ベリリウムのような窓材を介して、一次Ｘ線Ｂ１が
照射される。
【００１１】上記構成においては、試料６の裏面側に防
塵フィルタ７を設けたので、粉状などの試料６が真空雰
囲気の分析装置内に逸散するおそれがない。したがっ
て、分析装置が試料によって汚染されるおそれがないの
で、分析精度が向上する。
塵フィルタ７を設けたので、粉状などの試料６が真空雰
囲気の分析装置内に逸散するおそれがない。したがっ
て、分析装置が試料によって汚染されるおそれがないの
で、分析精度が向上する。
【００１２】ところで、上記実施例では、試料６に対し
下方から一次Ｘ線Ｂ１を照射する下面照射方式により、
分析を行ったが、分析装置によっては、試料６の上方か
ら一次Ｘ線Ｂ１を照射する上面照射方式を利用してい
る。ここで、この試料ホルダ１によれば、試料６、防塵
フィルタ７およびクッション材８を押え具９により、ホ
ルダ本体２に固定している。したがって、薄膜３を上方
に向けても、試料６が下方に落下しないから、下面照射
方式だけでなく上面照射方式によっても、Ｘ線分析を行
うことができる。
下方から一次Ｘ線Ｂ１を照射する下面照射方式により、
分析を行ったが、分析装置によっては、試料６の上方か
ら一次Ｘ線Ｂ１を照射する上面照射方式を利用してい
る。ここで、この試料ホルダ１によれば、試料６、防塵
フィルタ７およびクッション材８を押え具９により、ホ
ルダ本体２に固定している。したがって、薄膜３を上方
に向けても、試料６が下方に落下しないから、下面照射
方式だけでなく上面照射方式によっても、Ｘ線分析を行
うことができる。
【００１３】なお、上記実施例では、図２のように、押
え具９の突起９ａをホルダ本体２の横溝２ｂに嵌め込ん
で、押え具９をホルダ本体２に固定したが、この考案で
は、押え具９をねじなどによりホルダ本体２に固定して
もよい。
え具９の突起９ａをホルダ本体２の横溝２ｂに嵌め込ん
で、押え具９をホルダ本体２に固定したが、この考案で
は、押え具９をねじなどによりホルダ本体２に固定して
もよい。
【００１４】また、上記実施例では、図１の防塵フィル
タ７を試料６に接触させて設けたが、この考案では、ク
ッション材８を試料６に接触させて設け、その上に防塵
フィルタ７を設けてもよい。さらに、防塵フィルタとク
ッション材とを一体のもので構成してもよい。
タ７を試料６に接触させて設けたが、この考案では、ク
ッション材８を試料６に接触させて設け、その上に防塵
フィルタ７を設けてもよい。さらに、防塵フィルタとク
ッション材とを一体のもので構成してもよい。
【００１５】
【考案の効果】以上説明したように、この考案によれ
ば、蛍光Ｘ線分析装置において、粉末の試料の逸散を防
塵フィルタで防止して、試料による分析装置の汚染を防
止できるから、分析精度が向上する。また、押え具によ
り試料および防塵フィルタをホルダ本体に固定している
から、下面照射方式だけでなく、上面照射方式によって
も分析が可能となる。
ば、蛍光Ｘ線分析装置において、粉末の試料の逸散を防
塵フィルタで防止して、試料による分析装置の汚染を防
止できるから、分析精度が向上する。また、押え具によ
り試料および防塵フィルタをホルダ本体に固定している
から、下面照射方式だけでなく、上面照射方式によって
も分析が可能となる。
【図１】この考案の一実施例を示す試料ホルダの断面図
である。
である。
【図２】押え具およびホルダ本体の分解斜視図である。
【図３】一般的な蛍光Ｘ線分析装置の概略構成図であ
る。
る。
１…試料ホルダ、２…ホルダ本体、３…薄膜、６…試
料、７…防塵フィルタ、９…押え具、Ｂ１…一次Ｘ線、
Ｂ２…蛍光Ｘ線。
料、７…防塵フィルタ、９…押え具、Ｂ１…一次Ｘ線、
Ｂ２…蛍光Ｘ線。
Claims (1)
- 【請求項１】 試料に放射線を照射して試料から発生し
た蛍光Ｘ線に基づいて試料の分析を行う蛍光Ｘ線分析用
の試料ホルダであって、 上記試料の表面側を覆いＸ線を通過させる薄膜と、 上記試料の裏面側に設けられ粉体状の試料を遮断して上
記試料の一部が分析装置内に逸散するのを防止する防塵
フィルタと、 上記試料および防塵フィルタを上記薄膜側に押し付けて
筒状のホルダ本体に固定する押え具とを備えている蛍光
Ｘ線分析用の試料ホルダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992078614U JP2551757Y2 (ja) | 1992-10-16 | 1992-10-16 | 蛍光ｘ線分析用の試料ホルダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992078614U JP2551757Y2 (ja) | 1992-10-16 | 1992-10-16 | 蛍光ｘ線分析用の試料ホルダ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0635958U JPH0635958U (ja) | 1994-05-13 |
| JP2551757Y2 true JP2551757Y2 (ja) | 1997-10-27 |
Family
ID=13666769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1992078614U Expired - Lifetime JP2551757Y2 (ja) | 1992-10-16 | 1992-10-16 | 蛍光ｘ線分析用の試料ホルダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2551757Y2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9513781B2 (en) | 2005-09-12 | 2016-12-06 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Expanded search and find user interface |
| US10521081B2 (en) | 2004-08-16 | 2019-12-31 | Microsoft Technology Licensing, Llc | User interface for displaying a gallery of formatting options |
| US10521073B2 (en) | 2007-06-29 | 2019-12-31 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Exposing non-authoring features through document status information in an out-space user interface |
| US10635266B2 (en) | 2004-08-16 | 2020-04-28 | Microsoft Technology Licensing, Llc | User interface for displaying selectable software functionality controls that are relevant to a selected object |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101975752B1 (ko) * | 2018-11-21 | 2019-05-08 | 대한민국 | 문화재시료의 비파괴 표면 x-선 회절분석을 위한 시료 거치장치 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58158546A (ja) * | 1982-03-16 | 1983-09-20 | Nippon Steel Corp | 微粉状試料を用いる螢光ｘ線分析方法 |
| JPS6023719U (ja) * | 1983-07-23 | 1985-02-18 | 日本精機株式会社 | 通気孔を有する車輛用計器 |
-
1992
- 1992-10-16 JP JP1992078614U patent/JP2551757Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10521081B2 (en) | 2004-08-16 | 2019-12-31 | Microsoft Technology Licensing, Llc | User interface for displaying a gallery of formatting options |
| US10635266B2 (en) | 2004-08-16 | 2020-04-28 | Microsoft Technology Licensing, Llc | User interface for displaying selectable software functionality controls that are relevant to a selected object |
| US9513781B2 (en) | 2005-09-12 | 2016-12-06 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Expanded search and find user interface |
| US10521073B2 (en) | 2007-06-29 | 2019-12-31 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Exposing non-authoring features through document status information in an out-space user interface |
| US10592073B2 (en) | 2007-06-29 | 2020-03-17 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Exposing non-authoring features through document status information in an out-space user interface |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0635958U (ja) | 1994-05-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |