JPH05264479A - Ｘ線分析装置 - Google Patents
Ｘ線分析装置Info
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- JPH05264479A JPH05264479A JP5010112A JP1011293A JPH05264479A JP H05264479 A JPH05264479 A JP H05264479A JP 5010112 A JP5010112 A JP 5010112A JP 1011293 A JP1011293 A JP 1011293A JP H05264479 A JPH05264479 A JP H05264479A
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- JP
- Japan
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- ray
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- detector
- slit
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/20008—Constructional details of analysers, e.g. characterised by X-ray source, detector or optical system; Accessories therefor; Preparing specimens therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/207—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
Abstract
(57)【要約】
【目的】 種々の分析方法にも簡単に適合させることが
できる安価なＸ線分析装置を提供する。 【構成】 分析する物体２０を照射するＸ線ビーム１５
を発生するＸ線源１と、物体を担持するゴニオメーター
２２と、物体から放射するＸ線２５の検出のための検出
装置２６とを具える。物体の瞬間照射部の同時の位置検
知分析を行えるよう、物体から放射するＸ線２５が検出
装置２６に入る前にＸ線２５が通る検出スリット２４を
設け、更に検出装置２６には１元位置検知検出器２８を
設ける。
できる安価なＸ線分析装置を提供する。 【構成】 分析する物体２０を照射するＸ線ビーム１５
を発生するＸ線源１と、物体を担持するゴニオメーター
２２と、物体から放射するＸ線２５の検出のための検出
装置２６とを具える。物体の瞬間照射部の同時の位置検
知分析を行えるよう、物体から放射するＸ線２５が検出
装置２６に入る前にＸ線２５が通る検出スリット２４を
設け、更に検出装置２６には１元位置検知検出器２８を
設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は分析すべき物体を照射す
るＸ線ビームを発生するＸ線源と、物体を位置決めする
ための物体ホルダーと、物体から放射するＸ線の検出の
ための検出装置と、回転機構とを具えるＸ線分析装置に
関するものである。
るＸ線ビームを発生するＸ線源と、物体を位置決めする
ための物体ホルダーと、物体から放射するＸ線の検出の
ための検出装置と、回転機構とを具えるＸ線分析装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】この種のＸ線分析装置は米国特許第２８
５３６１８号により既知である。その米国特許明細書に
記載されている装置は局部的なビームの横断面に等しい
物体の表面を統合して同時に測定するものである。広い
物体の表面の測定には照射ビームと物体との間を並進運
動させる必要がある。一方、比較的高い空間解像度で物
体の位置検知分析を行うこと、即ち比較的小さい表面積
当たりの分析を行うことに対する需要が高まりつつあ
る。
５３６１８号により既知である。その米国特許明細書に
記載されている装置は局部的なビームの横断面に等しい
物体の表面を統合して同時に測定するものである。広い
物体の表面の測定には照射ビームと物体との間を並進運
動させる必要がある。一方、比較的高い空間解像度で物
体の位置検知分析を行うこと、即ち比較的小さい表面積
当たりの分析を行うことに対する需要が高まりつつあ
る。
【０００３】このことに対する解決策はドイツ特許第３
８３９９９０号に記載されている。その明細書に記載さ
れた装置は複合スリットコリメーターシステムと２元位
置検知検出器とを利用することによって位置検知測定を
行うことができる。この装置は分析すべき物体の表面
を、同時に照射するが、別個に分析する多数の副区域に
分割する。スリットコリメーターシステムによって第１
方向の分割を行い、位置検知検出器によって第２方向の
分割を行うから、同時に照射する表面を２元に分割する
ことができる。この２元位置検知検出器の第２の次元に
よってこの装置での希望する２θの角度設定が可能であ
る。
８３９９９０号に記載されている。その明細書に記載さ
れた装置は複合スリットコリメーターシステムと２元位
置検知検出器とを利用することによって位置検知測定を
行うことができる。この装置は分析すべき物体の表面
を、同時に照射するが、別個に分析する多数の副区域に
分割する。スリットコリメーターシステムによって第１
方向の分割を行い、位置検知検出器によって第２方向の
分割を行うから、同時に照射する表面を２元に分割する
ことができる。この２元位置検知検出器の第２の次元に
よってこの装置での希望する２θの角度設定が可能であ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし２元位置検知検
出器は比較的高価であり、その解像度は多くの分析用途
に対して不十分である。この既知の装置のスリットコリ
メーターシステムは比較的複雑で、複数個の分析方法を
使用できる自由度に欠ける欠点がある。
出器は比較的高価であり、その解像度は多くの分析用途
に対して不十分である。この既知の装置のスリットコリ
メーターシステムは比較的複雑で、複数個の分析方法を
使用できる自由度に欠ける欠点がある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】これ等従来の技術の欠点
を除去しようとする本発明の目的を達成するため本発明
Ｘ線分析装置は、物体の瞬間照射部の同時の位置検知分
析を達成するよう前記回転機構と、１元位置検知検出器
と、検出コリメーターシステムとを構成して互に相対的
に配置したことを特徴とする。
を除去しようとする本発明の目的を達成するため本発明
Ｘ線分析装置は、物体の瞬間照射部の同時の位置検知分
析を達成するよう前記回転機構と、１元位置検知検出器
と、検出コリメーターシステムとを構成して互に相対的
に配置したことを特徴とする。
【０００６】本発明装置は１元位置検知検出器を利用し
ているため、著しく安価であり、解像度が高く、検出器
読取りシステムの構造をも著しく簡単にすることができ
る。更に、非常に簡単化したコリメーターシステムを使
用することができる利点がある。
ているため、著しく安価であり、解像度が高く、検出器
読取りシステムの構造をも著しく簡単にすることができ
る。更に、非常に簡単化したコリメーターシステムを使
用することができる利点がある。
【０００７】本発明の好適な実施例では、１元位置検知
検出器の位置検知方向が２θ回転機構に合致する。この
ような構成を使用することによって、２θの角度方向に
角度による読取りのために位置検知検出器を使用するこ
とができ、従来の２θ回転機構の代わりに使用すること
ができる。
検出器の位置検知方向が２θ回転機構に合致する。この
ような構成を使用することによって、２θの角度方向に
角度による読取りのために位置検知検出器を使用するこ
とができ、従来の２θ回転機構の代わりに使用すること
ができる。
【０００８】本発明装置の好適な実施例では１元位置検
知検出器の位置検知方向に合致する縦方向の細長い検出
スリットを設ける。これにより、例えば分析すべき試料
の粒子が粗いことに起因する検出スリットの縦方向の回
折線の変化を、コリメーターが無くとも、簡単に測定す
ることができる。この検出スリットの縦方向は回折平面
に垂直に指向する。この回折平面は分析ビームの中心を
通り線焦点を横切って延在する平面である。
知検出器の位置検知方向に合致する縦方向の細長い検出
スリットを設ける。これにより、例えば分析すべき試料
の粒子が粗いことに起因する検出スリットの縦方向の回
折線の変化を、コリメーターが無くとも、簡単に測定す
ることができる。この検出スリットの縦方向は回折平面
に垂直に指向する。この回折平面は分析ビームの中心を
通り線焦点を横切って延在する平面である。
【０００９】本発明の更に好適な実施例では検出スリッ
トの縦方向に延在する１元位置検知検出器と、分析すべ
き物体の位置検知分析のためのスリットコリメーターシ
ステムとを具える。このような構造を採用することによ
って、比較的簡単に２元位置検知測定を行うことができ
る。更に、応力測定、位相分析、及び組織測定を嵩高な
材料について行うことができる。
トの縦方向に延在する１元位置検知検出器と、分析すべ
き物体の位置検知分析のためのスリットコリメーターシ
ステムとを具える。このような構造を採用することによ
って、比較的簡単に２元位置検知測定を行うことができ
る。更に、応力測定、位相分析、及び組織測定を嵩高な
材料について行うことができる。
【００１０】位置検知測定の場合、分析すべき物体の表
面は測定チャネル当たり小さくなると考えられる。従っ
て、測定チャネルでの計数統計量は比較的少ないものに
なる。これを改善するため、本発明の好適な実施例では
Ｘ線源と検出システムとに対しθ軸線の周りに物体を振
動させる。この振動は例えば最大で４度程度の角度にわ
たる振動に過ぎない。測定方法を切り換えるため、本発
明の好適な実施例におけるコリメーターシステムは装置
内の検出スリットと交換できるように構成されている。
従って本発明装置は位置検知位相測定、位置検知組織測
定、位置検知応力測定等に簡単に適合させることができ
る。特に、希望する解像度に検出スリットの幅を適合さ
せることができる。同様に、位置検知検出器自身の解像
度を分散方向の装置の希望する解像度に適合させること
ができる。次に、本発明の幾つかの実施例を図面につき
説明する。
面は測定チャネル当たり小さくなると考えられる。従っ
て、測定チャネルでの計数統計量は比較的少ないものに
なる。これを改善するため、本発明の好適な実施例では
Ｘ線源と検出システムとに対しθ軸線の周りに物体を振
動させる。この振動は例えば最大で４度程度の角度にわ
たる振動に過ぎない。測定方法を切り換えるため、本発
明の好適な実施例におけるコリメーターシステムは装置
内の検出スリットと交換できるように構成されている。
従って本発明装置は位置検知位相測定、位置検知組織測
定、位置検知応力測定等に簡単に適合させることができ
る。特に、希望する解像度に検出スリットの幅を適合さ
せることができる。同様に、位置検知検出器自身の解像
度を分散方向の装置の希望する解像度に適合させること
ができる。次に、本発明の幾つかの実施例を図面につき
説明する。
【００１１】
【実施例】図面に示す本発明Ｘ線分析装置は図面に陽極
１のみを示したＸ線源を具え、この陽極１は図面の紙面
の平面を横切る方向に延在する線焦点１０を有する。線
焦点１０から放射するＸ線ビ−ムは発散スリットとも称
する入射スリット１６を通過した後、ゴニオメーター２
２上に取り付けた物体２０の表面１８上に入射する。こ
の物体の区域ではＸ線ビ−ム１５は長方形の横断面を有
するから、物体の同様の長方形の副区域２３がＸ線によ
って照射される。物体に照射して回折したビーム２５は
検出スリット２４を通過した後、検出装置２６に入射す
る。ここでこの検出スリット２４は検出コリメーターシ
ステムとしての役割を果たす。この検出装置２６は物体
から発したＸ線の強さの位置検知測定のための直線位置
検知検出器即ち１元位置検知検出器２８を有する。簡明
のため、この検出器２８の縦方向、即ち検出器２８の位
置検知方向を図１の紙面の平面に垂直な方向にする。記
録、処理、又は表示の信号を検出する信号検出装置２９
を検出装置２６に関連させる。ゴニオメーター２２は例
えばｘ、ｙ、ｚ方向に並進運動するのに適するようにす
るが、通常はｘ、ｙ方向のみに並進運動できるようにす
る。また、ｘ軸又はｙ軸の周りに物体を傾けるため、及
び上述したように物体を振動させるためｚ軸の周りに物
体を回転させるのに適するようゴニオメーターを構成し
てもよい。
１のみを示したＸ線源を具え、この陽極１は図面の紙面
の平面を横切る方向に延在する線焦点１０を有する。線
焦点１０から放射するＸ線ビ−ムは発散スリットとも称
する入射スリット１６を通過した後、ゴニオメーター２
２上に取り付けた物体２０の表面１８上に入射する。こ
の物体の区域ではＸ線ビ−ム１５は長方形の横断面を有
するから、物体の同様の長方形の副区域２３がＸ線によ
って照射される。物体に照射して回折したビーム２５は
検出スリット２４を通過した後、検出装置２６に入射す
る。ここでこの検出スリット２４は検出コリメーターシ
ステムとしての役割を果たす。この検出装置２６は物体
から発したＸ線の強さの位置検知測定のための直線位置
検知検出器即ち１元位置検知検出器２８を有する。簡明
のため、この検出器２８の縦方向、即ち検出器２８の位
置検知方向を図１の紙面の平面に垂直な方向にする。記
録、処理、又は表示の信号を検出する信号検出装置２９
を検出装置２６に関連させる。ゴニオメーター２２は例
えばｘ、ｙ、ｚ方向に並進運動するのに適するようにす
るが、通常はｘ、ｙ方向のみに並進運動できるようにす
る。また、ｘ軸又はｙ軸の周りに物体を傾けるため、及
び上述したように物体を振動させるためｚ軸の周りに物
体を回転させるのに適するようゴニオメーターを構成し
てもよい。
【００１２】線焦点１０と物体との間のビームの通路内
に、入射ソラースリットシステム２と、放射グリッド４
とを設けてもよい。検出装置２６は検出ソラースリット
システム６と散乱放射グリッド８とを具えることができ
る。図１には焦点円、即ちローランド円３０を示す。線
焦点１０、物体の中心、及び検出スリット２４はあらゆ
る測定点に対してもこの焦点円上に位置する。回折円３
２は２θ回転中の検出スリット２４の運動通路を示して
いる。この場合の回折平面は図面の紙面の平面に合致し
ており、ビーム１５、２５の中心を通り、線焦点１０を
横切る方向に延在する。
に、入射ソラースリットシステム２と、放射グリッド４
とを設けてもよい。検出装置２６は検出ソラースリット
システム６と散乱放射グリッド８とを具えることができ
る。図１には焦点円、即ちローランド円３０を示す。線
焦点１０、物体の中心、及び検出スリット２４はあらゆ
る測定点に対してもこの焦点円上に位置する。回折円３
２は２θ回転中の検出スリット２４の運動通路を示して
いる。この場合の回折平面は図面の紙面の平面に合致し
ており、ビーム１５、２５の中心を通り、線焦点１０を
横切る方向に延在する。
【００１３】一般的に述べれば、例えば０．１×１０ｍ
ｍ2 の線焦点と、２θの軸線に平行に配置した直線位置
検知検出器とを有するＸ線管により位置検知測定を行う
ことができる。２θ軸線を横切る方向、即ち検出器の縦
方向を横切る方向に関しては、検出スリット２４によっ
て位置検知を行うことができる。コリメーターシステム
６の寸法は２θの方向に例えば最大５ｍｍであり、例え
ば０．１〜１０ｍｍのピッチに配置した厚さ、例えば５
０〜１００μｍの厚さの板から成る。使用すべきコリメ
ーターシステムが限定した寸法にあるため、比較的簡単
に交換、又は調整できる構造にすることができ、関連す
る方向の解像度を調整することができる。他の方向の解
像度は位置検知検出器２８の検出素子の寸法によって完
全に決定される。この寸法は、直線位置検知検出器の場
合、前記方向に比較的小さくすることができ、例えば約
５０〜１５０μｍである。２θの回転に対して、使用す
べき検出スリットの幅を光学的に調整することができ
る。また、図２はビームの通路に配置した入射放射フィ
ルタと検出放射フィルタ５とを示す。
ｍ2 の線焦点と、２θの軸線に平行に配置した直線位置
検知検出器とを有するＸ線管により位置検知測定を行う
ことができる。２θ軸線を横切る方向、即ち検出器の縦
方向を横切る方向に関しては、検出スリット２４によっ
て位置検知を行うことができる。コリメーターシステム
６の寸法は２θの方向に例えば最大５ｍｍであり、例え
ば０．１〜１０ｍｍのピッチに配置した厚さ、例えば５
０〜１００μｍの厚さの板から成る。使用すべきコリメ
ーターシステムが限定した寸法にあるため、比較的簡単
に交換、又は調整できる構造にすることができ、関連す
る方向の解像度を調整することができる。他の方向の解
像度は位置検知検出器２８の検出素子の寸法によって完
全に決定される。この寸法は、直線位置検知検出器の場
合、前記方向に比較的小さくすることができ、例えば約
５０〜１５０μｍである。２θの回転に対して、使用す
べき検出スリットの幅を光学的に調整することができ
る。また、図２はビームの通路に配置した入射放射フィ
ルタと検出放射フィルタ５とを示す。
【図１】図面の紙面が回折平面になるように本発明装置
の構造を線図的に示す図である。
の構造を線図的に示す図である。
【図２】図１の装示を斜視図として示す図である。
１ 陽極 ２ 入射ソラースリットシステム ４ 放射グリッド ５ 検出放射フィルタ ６ 検出ソラースリットシステム、コリメーターシステ
ム ８ 散乱放射グリッド １０ 線焦点 １５ Ｘ線ビーム １６ 入射スリット １８ 表面 ２０ 物体 ２２ ゴニオメーター、物体ホルダー ２３ 副区域 ２４ 検出スリット、検出コリメーターシステム ２５ ビーム ２６ 検出装置 ２８ 直線位置検知検出器、１元位置検知検出器 ２９ 信号検出装置 ３０ ローランド円 ３２ 回折円
ム ８ 散乱放射グリッド １０ 線焦点 １５ Ｘ線ビーム １６ 入射スリット １８ 表面 ２０ 物体 ２２ ゴニオメーター、物体ホルダー ２３ 副区域 ２４ 検出スリット、検出コリメーターシステム ２５ ビーム ２６ 検出装置 ２８ 直線位置検知検出器、１元位置検知検出器 ２９ 信号検出装置 ３０ ローランド円 ３２ 回折円
Claims (9)
- 【請求項１】 分析すべき物体（２０）を照射するＸ線
ビーム（１５）を発生するＸ線源（１）と、物体を位置
決めするための物体ホルダー（２２）と、物体から放射
するＸ線（２５）の検出のための検出装置（２６）と、
回転機構とを具えるＸ線分析装置において、前記物体の
瞬間照射部の同時の位置検知分析を達成するよう前記回
転機構と、１元位置検知検出器（２８）と、検出コリメ
ーターシステム（２４）とを構成して互に相対的に配置
したことを特徴とするＸ線分析装置。 - 【請求項２】 回折平面を横切る方向に１元位置検知検
出器の位置検知方向を延在した請求項１に記載のＸ線分
析装置。 - 【請求項３】 １元位置検知検出器の位置検知方向に延
在するよう縦検出スリット（２４）を配置した請求項２
に記載のＸ線分析装置。 - 【請求項４】 検出スリットの縦方向に延在する１元位
置検知検出器（２８）と、分析すべき物体上の位置を選
択するコリメーターシステム（６）とを設けた請求項１
に記載のＸ線分析装置。 - 【請求項５】 約±２°までの傾き角を有する傾動装置
を設けた前記請求項のいずれか１項に記載のＸ線分析装
置。 - 【請求項６】 前記検出スリットの幅を希望する解像度
に適合させた前記請求項のいずれか１項に記載のＸ線分
析装置。 - 【請求項７】 前記コリメーターシステムを調整自在に
構成した前記請求項のいずれか１項に記載のＸ線分析装
置。 - 【請求項８】 前記１元位置検知検出器を位置検知方向
に小さい寸法の複数個の検出素子で構成した前記請求項
のいずれか１項に記載のＸ線分析装置。 - 【請求項９】 位置検知位相測定のため、位置検知組織
測定のため、及び／又は位置検知応力測定のため適する
前記請求項のいずれか１項に記載のＸ線分析装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP92200208 | 1992-01-27 | ||
| NL92200208:4 | 1992-01-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05264479A true JPH05264479A (ja) | 1993-10-12 |
Family
ID=8210383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5010112A Pending JPH05264479A (ja) | 1992-01-27 | 1993-01-25 | Ｘ線分析装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5446777A (ja) |
| EP (1) | EP0553911A1 (ja) |
| JP (1) | JPH05264479A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6769138B2 (en) | 2002-12-23 | 2004-08-03 | Safe Lites, Llc | Safety vest and other clothing articles |
| US7144127B2 (en) | 2002-12-23 | 2006-12-05 | Safe Lites, Llc | Single assembly EL lighting for garments |
| US7690049B2 (en) | 2002-12-23 | 2010-04-06 | Safe Lites, Llc | EL power unit |
Families Citing this family (10)
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| US6269144B1 (en) | 1998-03-04 | 2001-07-31 | William P. Dube | Method and apparatus for diffraction measurement using a scanning x-ray source |
| US6751287B1 (en) | 1998-05-15 | 2004-06-15 | The Trustees Of The Stevens Institute Of Technology | Method and apparatus for x-ray analysis of particle size (XAPS) |
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| AU2003292643A1 (en) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Technos Institute Co., Ltd. | Equipment for measuring distribution of void or particle size |
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