JPH0211101B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0211101B2 JPH0211101B2 JP55000577A JP57780A JPH0211101B2 JP H0211101 B2 JPH0211101 B2 JP H0211101B2 JP 55000577 A JP55000577 A JP 55000577A JP 57780 A JP57780 A JP 57780A JP H0211101 B2 JPH0211101 B2 JP H0211101B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- sample
- circuit
- detector
- ray detector
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- Expired - Lifetime
Links
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 8
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 3
- 230000010358 mechanical oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/207—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
多結晶試料の内部応力を測定するＸ線回折装
置、あるいは試料の物質同定等を行うためのＸ線
回折装置において、試料面を照射するＸ線ビーム
の径に比較して試料の結晶粒が大きいと、Ｘ線の
入射位置における結晶粒の状態によつて回折Ｘ線
の強度が変化するために測定誤差を生ずる。この
誤差を除くためには、試料またはＸ線源および回
折Ｘ線の検出器を微小角度範囲で揺動させる手段
がとられる。その場合、従来は検出器の出力パル
ス計数時間を揺動の周期より充分大きく選定して
それらを独立に設定していた。しかし機械的な揺
動の周期は、これを極めて小さくすることができ
ないから、計数時間の下限が制限されて測定時間
を短縮し得ない欠点があつた。かつ１回の測定中
における揺動の回数が著く多くなるために可動部
の機械的磨耗も大きく、装置の寿命が短かい等の
欠点もあつた。本発明はこのような欠点を除去し
たものである。
置、あるいは試料の物質同定等を行うためのＸ線
回折装置において、試料面を照射するＸ線ビーム
の径に比較して試料の結晶粒が大きいと、Ｘ線の
入射位置における結晶粒の状態によつて回折Ｘ線
の強度が変化するために測定誤差を生ずる。この
誤差を除くためには、試料またはＸ線源および回
折Ｘ線の検出器を微小角度範囲で揺動させる手段
がとられる。その場合、従来は検出器の出力パル
ス計数時間を揺動の周期より充分大きく選定して
それらを独立に設定していた。しかし機械的な揺
動の周期は、これを極めて小さくすることができ
ないから、計数時間の下限が制限されて測定時間
を短縮し得ない欠点があつた。かつ１回の測定中
における揺動の回数が著く多くなるために可動部
の機械的磨耗も大きく、装置の寿命が短かい等の
欠点もあつた。本発明はこのような欠点を除去し
たものである。
第１図は本発明実施例の構成を示した図で、試
料台１の上に紙面と直角な板状の試料２を載置
し、基台３に取付けたＸ線管４から該試料に細い
平行Ｘ線ビームを照射して、その回折Ｘ線を上記
基台に取付けたＸ線検出器５で検出する。Ｘ線管
４および検出器５は試料２のＸ線入射点を中心と
する円弧状の軌道６に沿つて、駆動装置７で駆動
されるもので、例えば図のように上記点を通る任
意の直線と入射Ｘ線との間の角度並びに検出器５
に入射する回折Ｘ線と上記直線との間の角度が何
れも所望の角度ηとなるように設定される。上記
Ｘ線検出器５の出力パルスはゲート回路８を介し
て計数回路９に加えられる。また試料台１は、試
料２のＸ線入射点を中心として図の紙面内すなわ
ちＸ線回折面内で基準位置から適当な微小の角度
範囲内において正および負方向へ揺動し得るよう
に保持されている。この試料台を駆動源のパルス
モータ１０に連結して±の角度範囲で揺動させ
る。更にクロツクパルス発生器１１を設け、スイ
ツチ１２および切換スイツチ１３を介してその出
力パルスを前記モータ１０の駆動回路１４に加え
ると共にスイツチ１２を通つたパルスを分周器１
５に加えてある。この分周器の出力を切換スイツ
チ１３の制御回路１６および前記ゲート回路８を
制御するゲート信号発生回路１７に加えてある。
料台１の上に紙面と直角な板状の試料２を載置
し、基台３に取付けたＸ線管４から該試料に細い
平行Ｘ線ビームを照射して、その回折Ｘ線を上記
基台に取付けたＸ線検出器５で検出する。Ｘ線管
４および検出器５は試料２のＸ線入射点を中心と
する円弧状の軌道６に沿つて、駆動装置７で駆動
されるもので、例えば図のように上記点を通る任
意の直線と入射Ｘ線との間の角度並びに検出器５
に入射する回折Ｘ線と上記直線との間の角度が何
れも所望の角度ηとなるように設定される。上記
Ｘ線検出器５の出力パルスはゲート回路８を介し
て計数回路９に加えられる。また試料台１は、試
料２のＸ線入射点を中心として図の紙面内すなわ
ちＸ線回折面内で基準位置から適当な微小の角度
範囲内において正および負方向へ揺動し得るよう
に保持されている。この試料台を駆動源のパルス
モータ１０に連結して±の角度範囲で揺動させ
る。更にクロツクパルス発生器１１を設け、スイ
ツチ１２および切換スイツチ１３を介してその出
力パルスを前記モータ１０の駆動回路１４に加え
ると共にスイツチ１２を通つたパルスを分周器１
５に加えてある。この分周器の出力を切換スイツ
チ１３の制御回路１６および前記ゲート回路８を
制御するゲート信号発生回路１７に加えてある。
第２図は上述の装置の動作を示したタイムチヤ
ートで、Ｘ線管４および回折Ｘ線の検出器５を例
えば前述のように設定したのち、起動信号ａによ
つて第１図のスイツチ１２を閉成すると、パルス
発生器１１から送出されるクロツクパルスｂが分
周器１５および切換スイツチ１３に加わつて、該
分周器からｃのようなパルスが送出される。制御
回路１６はこのパルスｃにより第２図ｄのような
矩形波を発生して切換スイツチ１３を制御する。
従つて時刻t0からt1まではパルスモータ駆動回路
１４における正転入力端ｐにクロツクパルスｂが
加わり、t1からt2までは逆転入力端ｑに加わる。
更に時刻t2からt8までは再び正転入力端ｐにクロ
ツクパルスが加わる。パルスが駆動回路１４の正
転入力端に加わると、パルスモータ１０が該パル
スの周期に逆比例した速度で例えば右回転し、逆
転入力端に加わると左回転する。従つて上記モー
タに連結された試料台１の傾斜角が第２図ｅのよ
うに一定の移動速度をもつて変化する。またゲー
ト信号発生回路１７は分周器１５の出力パルスを
更に４分周して、第２図ｆのようなゲート信号を
送出し、ゲート回路８はこの信号によつて開放す
る。
ートで、Ｘ線管４および回折Ｘ線の検出器５を例
えば前述のように設定したのち、起動信号ａによ
つて第１図のスイツチ１２を閉成すると、パルス
発生器１１から送出されるクロツクパルスｂが分
周器１５および切換スイツチ１３に加わつて、該
分周器からｃのようなパルスが送出される。制御
回路１６はこのパルスｃにより第２図ｄのような
矩形波を発生して切換スイツチ１３を制御する。
従つて時刻t0からt1まではパルスモータ駆動回路
１４における正転入力端ｐにクロツクパルスｂが
加わり、t1からt2までは逆転入力端ｑに加わる。
更に時刻t2からt8までは再び正転入力端ｐにクロ
ツクパルスが加わる。パルスが駆動回路１４の正
転入力端に加わると、パルスモータ１０が該パル
スの周期に逆比例した速度で例えば右回転し、逆
転入力端に加わると左回転する。従つて上記モー
タに連結された試料台１の傾斜角が第２図ｅのよ
うに一定の移動速度をもつて変化する。またゲー
ト信号発生回路１７は分周器１５の出力パルスを
更に４分周して、第２図ｆのようなゲート信号を
送出し、ゲート回路８はこの信号によつて開放す
る。
すなわち計数回路９が回折Ｘ線検出器５の出力
パルスを計数し始めると同時に試料台１が例えば
正方向へ定速度で傾斜し始めて、この傾斜角が微
小な適当な値＋に達すると該試料台は負方向へ
回転し始める。その傾斜角が−に達すると再び
正方向へ回転して、傾斜角が０に戻つたとき試料
台の揺動が停止すると同時に前記計数動作も終了
する。従つて時刻t0からt2までの計数時間が試料
２の揺動周期と一致する。なお上記実施例は計数
時間を揺動の１周期と一致させたものであるが、
例えば第１図のゲート信号発生回路１７における
分周率を８分の１、12分の１等とすることによ
り、計数時間を揺動周期の２倍、３倍等整数比の
関係とすることもできる。また第１図の装置は基
台３を固定して、試料２を揺動させてあるが、逆
に試料を固定して基台３を揺動させることも可能
である。
パルスを計数し始めると同時に試料台１が例えば
正方向へ定速度で傾斜し始めて、この傾斜角が微
小な適当な値＋に達すると該試料台は負方向へ
回転し始める。その傾斜角が−に達すると再び
正方向へ回転して、傾斜角が０に戻つたとき試料
台の揺動が停止すると同時に前記計数動作も終了
する。従つて時刻t0からt2までの計数時間が試料
２の揺動周期と一致する。なお上記実施例は計数
時間を揺動の１周期と一致させたものであるが、
例えば第１図のゲート信号発生回路１７における
分周率を８分の１、12分の１等とすることによ
り、計数時間を揺動周期の２倍、３倍等整数比の
関係とすることもできる。また第１図の装置は基
台３を固定して、試料２を揺動させてあるが、逆
に試料を固定して基台３を揺動させることも可能
である。
以上実施例について説明したように本発明の装
置は所望の回折角のＸ線を検出する場合に、試料
またはＸ線源および回折Ｘ線検出器の基台をＸ線
回折面内の微小角度範囲において一定の移動速度
で揺動させると共に上記検出器の出力パルスを計
数する時間を揺動周期の整数倍となしたものであ
る。従つてＸ線の回折に寄与する結晶の数が増大
する。かつ回折に寄与する結晶がＸ線で均一に走
査されて、その入射時間が結晶により相違するよ
うなおそれがないもので、このため正確で再現性
の高い測定を行うことができる。しかも計数時間
を揺動の周期と等しい値まで短縮し得るから、測
定の能率が著しく向上すると共に装置の機械的磨
耗等も軽減される。
置は所望の回折角のＸ線を検出する場合に、試料
またはＸ線源および回折Ｘ線検出器の基台をＸ線
回折面内の微小角度範囲において一定の移動速度
で揺動させると共に上記検出器の出力パルスを計
数する時間を揺動周期の整数倍となしたものであ
る。従つてＸ線の回折に寄与する結晶の数が増大
する。かつ回折に寄与する結晶がＸ線で均一に走
査されて、その入射時間が結晶により相違するよ
うなおそれがないもので、このため正確で再現性
の高い測定を行うことができる。しかも計数時間
を揺動の周期と等しい値まで短縮し得るから、測
定の能率が著しく向上すると共に装置の機械的磨
耗等も軽減される。
第１図は本発明実施例の構成を示した図、第２
図は第１図の装置の動作を説明するためのタイム
チヤートである。なお図において、１は試料台、
２は試料、３は基台、４はＸ線管、５はＸ線検出
器、６は案内軌道、７は駆動装置、８はゲート回
路、９は計数回路、１０はパルスモータ、１１は
クロツクパルス発生器、１２はスイツチ、１３は
切換スイツチ、１４は駆動回路、１５は分周器、
１６は制御回路、１７はゲート信号発生回路であ
る。
図は第１図の装置の動作を説明するためのタイム
チヤートである。なお図において、１は試料台、
２は試料、３は基台、４はＸ線管、５はＸ線検出
器、６は案内軌道、７は駆動装置、８はゲート回
路、９は計数回路、１０はパルスモータ、１１は
クロツクパルス発生器、１２はスイツチ、１３は
切換スイツチ、１４は駆動回路、１５は分周器、
１６は制御回路、１７はゲート信号発生回路であ
る。
Claims (1)
- １ 試料面に所定の角度をもつて細いＸ線ビーム
を入射させるＸ線源と、上記試料面で回折したＸ
線を検出するＸ線検出器と、ゲート回路を介して
上記Ｘ線検出器の出力パルスを加えられる計数回
路と、前記試料またはＸ線源およびＸ線検出器を
取付けた基台の一方をＸ線回折面内の微小角度範
囲において一定の移動速度で揺動させる駆動源
と、前記ゲート回路を開放させるゲート信号の時
間幅を上記駆動源による揺動周期の整数倍にする
制御回路とよりなることを特徴とするＸ線回折装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57780A JPS5698641A (en) | 1980-01-09 | 1980-01-09 | X-ray diffraction device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57780A JPS5698641A (en) | 1980-01-09 | 1980-01-09 | X-ray diffraction device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5698641A JPS5698641A (en) | 1981-08-08 |
| JPH0211101B2 true JPH0211101B2 (ja) | 1990-03-12 |
Family
ID=11477559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57780A Granted JPS5698641A (en) | 1980-01-09 | 1980-01-09 | X-ray diffraction device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5698641A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05264479A (ja) * | 1992-01-27 | 1993-10-12 | Philips Gloeilampenfab:Nv | Ｘ線分析装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2572040B2 (ja) * | 1986-03-29 | 1997-01-16 | 株式会社島津製作所 | 試料振動型ｘ線回折装置 |
| JP2904055B2 (ja) * | 1995-05-30 | 1999-06-14 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線回折装置 |
| JP6256152B2 (ja) * | 2014-03-28 | 2018-01-10 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線測定装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4866893A (ja) * | 1971-12-16 | 1973-09-13 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6123786Y2 (ja) * | 1976-02-28 | 1986-07-16 |
-
1980
- 1980-01-09 JP JP57780A patent/JPS5698641A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4866893A (ja) * | 1971-12-16 | 1973-09-13 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05264479A (ja) * | 1992-01-27 | 1993-10-12 | Philips Gloeilampenfab:Nv | Ｘ線分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5698641A (en) | 1981-08-08 |
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