JPS60205243A - Ｘ線回折装置 - Google Patents
Ｘ線回折装置Info
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- JPS60205243A JPS60205243A JP59062522A JP6252284A JPS60205243A JP S60205243 A JPS60205243 A JP S60205243A JP 59062522 A JP59062522 A JP 59062522A JP 6252284 A JP6252284 A JP 6252284A JP S60205243 A JPS60205243 A JP S60205243A
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- JP
- Japan
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- slit
- ray
- angle
- sample
- diffraction
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- Pending
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/207—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ットや散乱スリットのスリット幅を自動的に調整し得る
Ｘ線回折装置に関する。
Ｘ線回折装置に関する。
一般的なＸ線回折計のＸ線分光系として、例えば第１図
に示されたＸ線分光系が従来から知られている。第１図
において、１は所定の対陰極２を有するＸ線管球、３は
入射側ソーラースリット、４は発散スリット、５は試料
、６ｆ′ｉ散乱スリツト、７は受光側ソーラースリノト
、８は受光スリット、９はＸ線検出器である０第１図に
おいて、Ｘ線管球１の対陰極２表面上から発生したＸ線
１０は、入射側ソーラースリット３、発散スリット４を
通り試料５表面に照射される。試料５表面で回折された
回折Ｘ線１ノは、更に散乱スリット６、受光側ソーラー
スリット７、受光スリット８を通りＸ線検出器９に到達
する。このとき、対陰極２−Ａ面のＸ線発生位置、試料
５表面の中心、受光スリット８社ローランド円１２の円
周上にあり、試料５表面はローランド円１２に接する方
向に調整され、この試料５面に対する入射Ｘ線の入射角
θと回折Ｘ線の反射角θが等しくなるように保たれる。
に示されたＸ線分光系が従来から知られている。第１図
において、１は所定の対陰極２を有するＸ線管球、３は
入射側ソーラースリット、４は発散スリット、５は試料
、６ｆ′ｉ散乱スリツト、７は受光側ソーラースリノト
、８は受光スリット、９はＸ線検出器である０第１図に
おいて、Ｘ線管球１の対陰極２表面上から発生したＸ線
１０は、入射側ソーラースリット３、発散スリット４を
通り試料５表面に照射される。試料５表面で回折された
回折Ｘ線１ノは、更に散乱スリット６、受光側ソーラー
スリット７、受光スリット８を通りＸ線検出器９に到達
する。このとき、対陰極２−Ａ面のＸ線発生位置、試料
５表面の中心、受光スリット８社ローランド円１２の円
周上にあり、試料５表面はローランド円１２に接する方
向に調整され、この試料５面に対する入射Ｘ線の入射角
θと回折Ｘ線の反射角θが等しくなるように保たれる。
従って試料５に含まれる様々な結晶の面間隔をｄ，Ｘ線
の波長をλ、ｎを整数とすると次のブラッグの回折条件
が満足される０ 。λ＝２ｄ画θ ここで、Ｘ線の波長λが既知の対陰極２を用い、入射角
θを様々に変化させて回折Ｘ線ＩＩの強度を測定する。
の波長をλ、ｎを整数とすると次のブラッグの回折条件
が満足される０ 。λ＝２ｄ画θ ここで、Ｘ線の波長λが既知の対陰極２を用い、入射角
θを様々に変化させて回折Ｘ線ＩＩの強度を測定する。
このようにして得られたθすなわちｄ値と回折Ｘ線強度
の情報から、試料５中に含まれる結晶性物質を同定する
ものである。
の情報から、試料５中に含まれる結晶性物質を同定する
ものである。
上記第１図に示された構成において、発散スリット４は
対陰極２から発生したＸ線の水平面内の発散角を制限す
るものであり、散乱スリット６ケ」空気散乱などの試料
５以外のところからの散乱Ｘ線がＸ線検出器９に入るの
を防ぐものである。まノ辷入射１１！ｌソーラースリッ
ト３と受光側ソーラースリット７は薄い金属板を等間隔
に績み重ねだもので、それぞれ入射Ｘ線および回折Ｘ線
のｊ（ｑ ｉ１′（方向への発散を制限するものである
。
対陰極２から発生したＸ線の水平面内の発散角を制限す
るものであり、散乱スリット６ケ」空気散乱などの試料
５以外のところからの散乱Ｘ線がＸ線検出器９に入るの
を防ぐものである。まノ辷入射１１！ｌソーラースリッ
ト３と受光側ソーラースリット７は薄い金属板を等間隔
に績み重ねだもので、それぞれ入射Ｘ線および回折Ｘ線
のｊ（ｑ ｉ１′（方向への発散を制限するものである
。
第２図に回折角（入射角θの２倍）と試料表面パ・のＸ
線照射径との関係を示す。これによると回折角２θが高
角度側に近づくに従って試料４（面のＸ線照射面積が小
さくなる。このため、高角度側では回折線強度を上げる
ために発散スリットの幅を広くし、Ｘ線照射面積を広げ
て測・ 定し、低角度側ではＸ線が試料面からはみだし
、周囲の試料板に照射されて試料板物質からの回折線が
現われるおそれがあるため、逆に発散スリットの幅を狭
くして測定する必要がある。しかし実務上は、測定の途
中で発散スリットを入れ換えることが面倒であるため、
測定回折角の範囲内で試料面のみを照射するような発散
スリットを用いて測定する。例えば９０°から１０゜の
回折角度範囲で、試料面の径が２０１１である場合、２
ｄ＝％０の発散スリットが用いられる。
線照射径との関係を示す。これによると回折角２θが高
角度側に近づくに従って試料４（面のＸ線照射面積が小
さくなる。このため、高角度側では回折線強度を上げる
ために発散スリットの幅を広くし、Ｘ線照射面積を広げ
て測・ 定し、低角度側ではＸ線が試料面からはみだし
、周囲の試料板に照射されて試料板物質からの回折線が
現われるおそれがあるため、逆に発散スリットの幅を狭
くして測定する必要がある。しかし実務上は、測定の途
中で発散スリットを入れ換えることが面倒であるため、
測定回折角の範囲内で試料面のみを照射するような発散
スリットを用いて測定する。例えば９０°から１０゜の
回折角度範囲で、試料面の径が２０１１である場合、２
ｄ＝％０の発散スリットが用いられる。
このため、高角度側の測定では試料の一部分からの測定
情報となり、更にＸ線強度も低くなるという欠点がある
。
情報となり、更にＸ線強度も低くなるという欠点がある
。
本発明は上記の事情に鑑みて提案されたもので、その目
的とするところは、Ｘ線回折法において、試料全体から
の平均した測定情報を得るとともに、全回折角度範囲に
わたって効率的に回折Ｘ線強度を検出し、精度の高いデ
ータを得ることができるＸ線回折装置を提供することに
ある。
的とするところは、Ｘ線回折法において、試料全体から
の平均した測定情報を得るとともに、全回折角度範囲に
わたって効率的に回折Ｘ線強度を検出し、精度の高いデ
ータを得ることができるＸ線回折装置を提供することに
ある。
本発明によるＸ線回折装置ケよ、Ｘ線管球、発散スリッ
ト、試料保持台、散乱スリット、受光スリット、Ｘ線検
出器等からなるＸ線回折装置に１・Ｓい゛Ｃ１発故スリ
ット幅ＦＡ整（真横および散乱スリノＩ・幅調整機構と
、それらを駆動するだめのパルスモータや駆動回路と、
測定回折角度を７７７”Ｃｔ取り該１駆動１０１路に１
５号を送る制御演算装置とをイ」加されたことを特倣と
し、Ｘ線回折法にＪｄい〔回ｊ）？角度の走査に応じて
発散スリットおよび！ｉ！ｆ、乱スリットスリットト幅
を自動的に変化さｄることにより、試第１全体からの平
均した測定１１旨°ｋを効′４・的（・ｊ 、ｉｌｌる
ようにして、Ｍｉｔ記従来の欠点をｉＪイ萌し由るよう
にしたものである。
ト、試料保持台、散乱スリット、受光スリット、Ｘ線検
出器等からなるＸ線回折装置に１・Ｓい゛Ｃ１発故スリ
ット幅ＦＡ整（真横および散乱スリノＩ・幅調整機構と
、それらを駆動するだめのパルスモータや駆動回路と、
測定回折角度を７７７”Ｃｔ取り該１駆動１０１路に１
５号を送る制御演算装置とをイ」加されたことを特倣と
し、Ｘ線回折法にＪｄい〔回ｊ）？角度の走査に応じて
発散スリットおよび！ｉ！ｆ、乱スリットスリットト幅
を自動的に変化さｄることにより、試第１全体からの平
均した測定１１旨°ｋを効′４・的（・ｊ 、ｉｌｌる
ようにして、Ｍｉｔ記従来の欠点をｉＪイ萌し由るよう
にしたものである。
本発明の一実施例を添伺図向を参照して詳細に説明する
。
。
２９３図は、・１り光切の一人施例装置の構成を示す１
１１２２図である。
１１２２図である。
第３図において、）は所定の対陰極２を有するＸ線管球
、３け入射側ソーラースリット、４は発散スリット、５
は試料、６６１に乱スリント、７は受光側ソーラースリ
ノｌ−、８１Ｊ受光スリット、９はＸ線検出器、Ｊ３ｆ
−、−シ高′心Ｔ発生器、１４は増幅器、Ｉ５は波高分
析器、１６（ま削数装置、１７れレコーダー、１８ｆ−
１発；１タスリノト幅調整ｍ構、１９９−ｌパルスモー
タ、２ｏはバく動回路、２）は試料面調整機構、２２は
パルスモータ、２３け駆動回路、２４は散乱スリット幅
調整機構、２５はパルスモータ、２６け駆動量ｒδ、２
７けＸ線検出器移動機構、２８はパルスモータ、２９は
駆動回路、３０＃−ｉ制御演算装置であ１ハ上記の各ｔ
ｌ’ｌ成要素ｔ、Ｉ、それぞれ第３図に示すように配設
されている。
、３け入射側ソーラースリット、４は発散スリット、５
は試料、６６１に乱スリント、７は受光側ソーラースリ
ノｌ−、８１Ｊ受光スリット、９はＸ線検出器、Ｊ３ｆ
−、−シ高′心Ｔ発生器、１４は増幅器、Ｉ５は波高分
析器、１６（ま削数装置、１７れレコーダー、１８ｆ−
１発；１タスリノト幅調整ｍ構、１９９−ｌパルスモー
タ、２ｏはバく動回路、２）は試料面調整機構、２２は
パルスモータ、２３け駆動回路、２４は散乱スリット幅
調整機構、２５はパルスモータ、２６け駆動量ｒδ、２
７けＸ線検出器移動機構、２８はパルスモータ、２９は
駆動回路、３０＃−ｉ制御演算装置であ１ハ上記の各ｔ
ｌ’ｌ成要素ｔ、Ｉ、それぞれ第３図に示すように配設
されている。
上記本発明の一実施例の作用について説明する０
第３図図示の装置構成において、高電圧発生器１３によ
り高電圧を負荷されたＸ線管球Ｊはその対陰極２表面か
らＸ線１ｏを発生する。こ（ＤＸ線１０（Ｄ 一部は入
射側ソーラースリント３、慎重１１．スリノ１４を】ｍ
１ハ試料５面に照射される。
り高電圧を負荷されたＸ線管球Ｊはその対陰極２表面か
らＸ線１ｏを発生する。こ（ＤＸ線１０（Ｄ 一部は入
射側ソーラースリント３、慎重１１．スリノ１４を】ｍ
１ハ試料５面に照射される。
試別５ｆｉへの１射Ｘ線１０は更に試料５面て回ｖ１さ
ｔ’ｓｎＸ乱スリットスリット６ソーラースリット７、
受９Ｙ４スリット８を通り、Ｘ線検出器９に導かれる。
ｔ’ｓｎＸ乱スリットスリット６ソーラースリット７、
受９Ｙ４スリット８を通り、Ｘ線検出器９に導かれる。
Ｘ線検出８：；９の検出信号は増幅器１４で１１７幅さ
れ、波に！１匁析Ｒユ１５で波高選別され、更に計数装
置１６でＢｉ数されて記録計１７に出力室れる。またＸ
線分光系において線１入射Ｘ線１０に対して試料５Ｕ＋
１がθの角度を有するとき、Ｘ線検出器９は試料５７ｆ
＋ｉを中心にして入射Ｘ線１０に対し２θ（倍角の関係
）を保つように構成されている。このため、試料５目、
試料面ＰＡ整磯粁１２１、パルスモータ２２、駆動回路
２３で、Ｘ線検出器９、散乱スリット６、受光側ソーラ
ースリット７、受光スリット８＃′ｉＸ線相出器移動ぜ
ｋＭ：２７、パルスモータ２８、駆動回路２９でそれぞ
れ駆動される。更に発散スリット４１１Ｊ、、発散スリ
ット幅調整機構ノ８、パルスモータ１９、駆動回路２０
で、散乱スＩＪ ツト６１１：ｉ、散乱スリット幅調整
機構２４、パルスモータ２５、駆動回路２６でそれぞれ
スリット幅が調整される。すなわち、測定回折角度に応
じて、高角度側では幅の広いスリットに、低角度側では
幅の狭いスリットになるように調節される。更に試料面
調整機構２１、Ｘ線検出器移動機構２７、発散スリット
幅調整機構１８、散乱スリット幅調整機構２４は、それ
ぞれのパルスモータや駆動回路を介して制御され、計数
装置１６やレコーダー１７は直接に制御演算装置３０に
より制御される。
れ、波に！１匁析Ｒユ１５で波高選別され、更に計数装
置１６でＢｉ数されて記録計１７に出力室れる。またＸ
線分光系において線１入射Ｘ線１０に対して試料５Ｕ＋
１がθの角度を有するとき、Ｘ線検出器９は試料５７ｆ
＋ｉを中心にして入射Ｘ線１０に対し２θ（倍角の関係
）を保つように構成されている。このため、試料５目、
試料面ＰＡ整磯粁１２１、パルスモータ２２、駆動回路
２３で、Ｘ線検出器９、散乱スリット６、受光側ソーラ
ースリット７、受光スリット８＃′ｉＸ線相出器移動ぜ
ｋＭ：２７、パルスモータ２８、駆動回路２９でそれぞ
れ駆動される。更に発散スリット４１１Ｊ、、発散スリ
ット幅調整機構ノ８、パルスモータ１９、駆動回路２０
で、散乱スＩＪ ツト６１１：ｉ、散乱スリット幅調整
機構２４、パルスモータ２５、駆動回路２６でそれぞれ
スリット幅が調整される。すなわち、測定回折角度に応
じて、高角度側では幅の広いスリットに、低角度側では
幅の狭いスリットになるように調節される。更に試料面
調整機構２１、Ｘ線検出器移動機構２７、発散スリット
幅調整機構１８、散乱スリット幅調整機構２４は、それ
ぞれのパルスモータや駆動回路を介して制御され、計数
装置１６やレコーダー１７は直接に制御演算装置３０に
より制御される。
以上により本発明によれば、Ｘ線回折装置を上記のよう
に構成することにより、測定回折角度に応じて発散スリ
ットと散乱スリットのスリット幅を自動的に調節してい
くため、常に試料のほぼ一定面積から測定情報が得られ
るとともに、特に高角度側では従来より幅の広いスリッ
トを使えるので効率的な回折Ｘ線強度の測定が可能であ
る等の優れた効果が奏せられるものである０
に構成することにより、測定回折角度に応じて発散スリ
ットと散乱スリットのスリット幅を自動的に調節してい
くため、常に試料のほぼ一定面積から測定情報が得られ
るとともに、特に高角度側では従来より幅の広いスリッ
トを使えるので効率的な回折Ｘ線強度の測定が可能であ
る等の優れた効果が奏せられるものである０
第１図りＸ線回折ｎ１のＸ線分光系を示す図、第２図ｅ
ま回折角と試料表面のＸ線照射径との関係を示す図、第
３図ｔよ本発明の一実施例の構成を示すブロックＲ′Ｉ
である。 Ｉ８・・・発散スリット幅調整機構、１９，２２゜２５
、２ ／ｌ ・・・パルスモーク、２０，２３．２６
゜２９・・駆動回路、２４・・・散乱スリット幅調整機
構、３０・・・制御演算装置。 １．１漬１１人史代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１
図
ま回折角と試料表面のＸ線照射径との関係を示す図、第
３図ｔよ本発明の一実施例の構成を示すブロックＲ′Ｉ
である。 Ｉ８・・・発散スリット幅調整機構、１９，２２゜２５
、２ ／ｌ ・・・パルスモーク、２０，２３．２６
゜２９・・駆動回路、２４・・・散乱スリット幅調整機
構、３０・・・制御演算装置。 １．１漬１１人史代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１
図
Claims (1)
- Ｘ線管球、発散スリット、試料保持台、散乱スリット、
受光スリット、Ｘ線検出器等からなるＸ線回折装置にお
いて、発散スリット幅調整機構および散乱スリット幅調
整機構と、それらを駆動するだめのパルスモータや駆動
回路と、測定回折角度を読み取り該駆動回路に信号を送
る制御演算装置とを付加されたことを特徴とするＸ線回
折装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59062522A JPS60205243A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | Ｘ線回折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59062522A JPS60205243A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | Ｘ線回折装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60205243A true JPS60205243A (ja) | 1985-10-16 |
Family
ID=13202599
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59062522A Pending JPS60205243A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | Ｘ線回折装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60205243A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005127817A (ja) * | 2003-10-23 | 2005-05-19 | Rigaku Corp | Ｘ線回折装置の微小部ｘ線照射装置及び微小部ｘ線照射方法 |
| JP2019184610A (ja) * | 2018-04-13 | 2019-10-24 | マルバーン パナリティカル ビー ヴィ | ビーム発散のハイブリッド制御を用いたｘ線分析のための装置及び方法 |
-
1984
- 1984-03-30 JP JP59062522A patent/JPS60205243A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005127817A (ja) * | 2003-10-23 | 2005-05-19 | Rigaku Corp | Ｘ線回折装置の微小部ｘ線照射装置及び微小部ｘ線照射方法 |
| JP2019184610A (ja) * | 2018-04-13 | 2019-10-24 | マルバーン パナリティカル ビー ヴィ | ビーム発散のハイブリッド制御を用いたｘ線分析のための装置及び方法 |
| CN110376231A (zh) * | 2018-04-13 | 2019-10-25 | 马尔文帕纳科公司 | 具有对光束发散度的混合控制的x射线分析装置及方法 |
| EP3553506A3 (en) * | 2018-04-13 | 2020-02-12 | Malvern Panalytical B.V. | Apparatus and method for x-ray analysis with hybrid control of beam divergence |
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