JP2019184610A - ビーム発散のハイブリッド制御を用いたx線分析のための装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
X線を生成するように構成されているX線源と、
試料を支持するように構成されている試料ステージであって、X線源及び試料ステージは、X線源によって発生されたX線が試料を照射する入射ビームを画定するように配置される、試料ステージと、
X線源と試料の間にある調節可能スリットと、
X線源と調節可能スリットの間又は調節可能スリットと試料の間にあるさらなるスリットと、
調節可能スリットの幅を制御するように構成されているコントローラと、含み、
コントローラは、第1の幅、第2の幅、及び第3の幅の間で調節可能スリットの幅を変更するように構成されており、第3の幅は第2の幅よりも大きく、第2の幅は第1の幅よりも大きく、第2の幅は第1の幅よりも大きく、
第1の幅では、
調節可能スリットが入射ビームの発散を第1の発散角に制限し、それによって試料の照射される領域を制限し、
さらなるスリットは、好ましくは、入射ビームの発散を制限せず、
第2の幅では、
調節可能スリットが入射ビームの発散を第2の発散角に制限し、それによって試料の照射される領域を制限し、
さらなるスリットは、好ましくは入射ビームの発散を制限せず、
第3の幅では、
調節可能スリットは入射ビームの発散を制限せず、
さらなるスリットが入射ビームの発散を第3の発散角に制限し、それによって試料の照射される面積を制限し、
第3の発散角は第2の発散角よりも大きく、第2の発散角は第1の発散角よりも大きい。
X線を生成するように構成されているX線源と、
試料を支持するように構成されている試料ステージであって、X線源及び試料ステージは、X線源によって生成されたX線が試料を照射する入射ビームを画定するように配置される、試料ステージと、
X線源と試料の間にある調節可能スリットと、
X線源と調節可能スリットの間又は調節可能スリットと試料との間にあるさらなるスリットと、
調節可能スリットの幅を制御するように構成されているコントローラと、を含み、
その方法は、
コントローラによって、調節可能スリットを第1の幅に設定し、第1の幅では、調節可能スリットが入射ビームの発散を第1の発散角に制限し、それによって試料の照射される領域を制限し、好ましくはさらなるスリットは入射ビームの発散を制限しない、設定することと、
コントローラによって、調節可能スリットを第2の幅に設定し、第2の幅では、調節可能スリットが入射ビームの発散を第2の発散角に制限し、それによって試料の照射される領域を制限し、好ましくはさらなるスリットは入射ビームの発散を制限しない、設定することと、
コントローラによって、調節可能スリットを第3の幅に設定し、第3の幅では、調節可能スリットは入射ビームの発散を制限せず、さらなるスリットが入射ビームの発散を第3の発散角に制限し、それによって試料の照射される領域を制限する、設定することと、を含み、
第3の幅は第2の幅よりも大きく、第2の幅は第1の幅よりも大きく、
第3の発散角は第2の発散角よりも大きく、第2の発散角は第1の発散角よりも大きい。
X線を生成するように構成されているX線源と、
試料を支持するように構成された試料ステージであって、X線源及び試料ステージは、X線源によって発生されたX線が試料を照射する入射ビームを画定するように配置される、試料ステージと、
X線源と試料の間にある調節可能スリットと、
ゴニオメータであって、X線源は、ゴニオメータの軸周りに回転可能となるようにゴニオメータに取り付けられ、異なる入射角の範囲で試料を照射する、ゴニオメータと、
ゴニオメータ及び調節可能スリットの幅を制御するように構成されているコントローラと、を含み、
その方法は、
ゴニオメータが第1の入射角に設定された状態で、コントローラによって、調節可能スリットを第1の幅に設定することであって、第1の幅では、調節可能スリットが入射ビームの発散を第1の発散角に制限し、それによって試料の照射される領域を制限する、設定することと、
ゴニオメータが第2の入射角に設定された状態で、コントローラによって、調節可能スリットを第2の幅に設定することであって、第2の幅では、調節可能スリットが入射ビームの発散を第2の発散角に制限し、それによって試料の照射される領域を制限する、設定することと、
ゴニオメータが第3の入射角に設定された状態で、コントローラによって、調節可能スリットを第3の幅に設定することであって、第3の幅では、調節可能スリットが入射ビームの発散を第3の発散角に制限し、それによって照射される試料の領域を制限する、設定することと、
ゴニオメータが第4の入射角に設定された状態で、コントローラによって、調節可能スリットを第3の幅に設定することと、を含み、
第3の幅は第2の幅よりも大きく、第2の幅は第1の幅よりも大きく、
第3の発散角は前記第2の発散角よりも大きく、第2の発散角は前記第1の発散角よりも大きく、
第4の入射角は第3の入射角よりも大きく、第3の入射角は第2の入射角よりも大きく、第2の入射角は第1の入射角よりも大きい。
X線を生成するように構成されているX線源と、
試料を支持するように構成されている試料ステージであって、X線源及び試料ステージは、X線源によって発生されたX線が試料を照射する入射ビームを画定するように配置される、試料ステージと、
X線源と試料の間にある調節可能スリットと、
ゴニオメータであって、X線源が異なる入射角の範囲で試料を照射するようにゴニオメータに取り付けられる、ゴニオメータと、
ゴニオメータ及び調節可能スリットの幅を制御するように構成されているコントローラと、を含み、
コントローラは、第1の幅、第2の幅、及び第3の幅の間で調節可能スリットの幅を変更するように構成されており、第3の幅は第2の幅よりも大きく、第2の幅は第1の幅よりも大きく、第2の幅は第1の幅よりも大きく、
第1の幅では、
調節可能スリットは入射ビームの発散を第1の発散角に制限し、それによって試料の照射される領域を制限し、
第2の幅では、
調節可能スリットは入射ビームの発散を第2の発散角に制限し、それによって試料の照射される領域を制限し、
第3の幅では、
調節可能スリットは入射ビームの発散を第3の発散角に制限し、それによって試料の照射される領域を制限し、
第3の発散角が第2の発散角よりも大きく、第2の発散角は第1の発散角よりも大きく、
コントローラは、
ゴニオメータが第1の入射角に設定された状態で、調節可能スリットが第1の幅に設定され、
ゴニオメータが第2の入射角に設定された状態で、調節可能スリットが第2の幅に設定され、
ゴニオメータが第3の入射角に設定された状態で、調節可能スリットが第3の幅に設定され、
ゴニオメータが第4の入射角に設定された状態で、調節可能スリットが第3の幅に設定されるように、ゴニオメータ及び調節可能スリットを制御するように構成されており、
第4の入射角は第3の入射角よりも大きく、第3の入射角は第2の入射角よりも大きく、第2の入射角は第1の入射角よりも大きい。
Claims (15)
- X線を生成するように構成されているX線源と、
試料を支持するように構成されている試料ステージであって、前記X線源及び該試料ステージは、前記X線源によって生成されたX線が該試料を照射する入射ビームを画定するように配置される、試料ステージと、
前記X線源と前記試料の間にある調節可能スリットと、
前記X線源と前記調節可能スリットの間、又は前記調節可能スリットと前記試料の間にあるさらなるスリットと、
前記調節可能スリットの幅を制御するように構成されているコントローラと、を含み、
前記コントローラは、第1の幅、第2の幅、及び第3の幅の間で前記調節可能スリットの幅を変更するように構成されており、該第3の幅は該第2の幅よりも大きく、該第2の幅は該第1の幅よりも大きく、
前記第1の幅では、前記調節可能スリットが前記入射ビームの発散を第1の発散角に制限し、それによって前記試料の照射される領域を制限し、
前記第2の幅では、前記調節可能スリットが前記入射ビームの発散を第2の発散角に制限し、それによって前記試料の照射される領域を制限し、
前記第3の幅では、
前記調節可能スリットは前記入射ビームの発散を制限せず、
前記さらなるスリットが前記入射ビームの発散を第3の発散角に制限し、それによって前記試料の照射される領域を制限し、
前記第3の発散角は前記第2の発散角よりも大きく、前記第2の発散角は第1の発散角よりも大きい、X線分析装置。 - 前記さらなるスリットは調節不可能スリットである、請求項1に記載のX線分析装置。
- 前記さらなるスリットは調節可能である、請求項1に記載のX線分析装置。
- ゴニオメータをさらに含み、前記X線源は該ゴニオメータの軸周りに回転可能となるように該ゴニオメータに取り付けられて、異なる入射角の範囲で前記試料を照射する、請求項1から3のいずれか一項に記載のX線分析装置。
- 前記コントローラは、
前記ゴニオメータが第1の入射角に設定された状態で、前記調節可能スリットが前記第1の幅に設定され、
前記ゴニオメータが第2の入射角に設定された状態で、前記調節可能スリットが前記第2の幅に設定され、
前記ゴニオメータが第3の入射角に設定された状態で、前記調節可能スリットが前記第3の幅に設定される、
ように前記ゴニオメータ及び前記調節可能スリットを制御するように構成されており、
前記第3の入射角は前記第2の入射角よりも大きく、前記第2の入射角は前記第1の入射角よりも大きい、請求項4に記載のX線分析装置。 - 前記コントローラは、前記ゴニオメータの入射角の範囲にわたって、前記入射ビームが前記試料の一定領域を照射するように、前記調節可能スリットの幅を制御するように構成されている、請求項4又は5に記載のX線分析装置。
- 前記試料からのX線を受けるように配置され、受けた該X線の強度を測定する出力信号を生成するように構成されているX線検出器をさらに含み、
前記コントローラは、前記X線検出器から前記出力信号を受信するように構成されており、
前記調節可能スリットが前記第1の幅又は前記第2の幅に設定されるとき、前記調節可能スリットの幅に基づいて第1の正規化計算を実行し、
前記調節可能スリットが前記第3の幅に設定されるとき、前記さらなるスリットの幅に基づいて第2の正規化計算を実行する、
ことによって、測定された前記強度を正規化するように構成されている、請求項1から6のいずれか一項に記載のX線分析装置。 - 前記X線分析装置は、蛍光X線測定のために構成されている、請求項1から7のいずれかに一項に記載のX線分析装置。
- 前記X線分析装置は、回折計である、請求項1から8のいずれか一項に記載のX線分析装置。
- 装置を用いたX線分析の方法であって、該装置は、
X線を生成するように構成されているX線源と、
試料を支持するように構成されている試料ステージであって、前記X線源及び該試料ステージは、前記X線源によって生成されたX線が該試料を照射する入射ビームを画定するように配置される、試料ステージと、
前記X線源と前記試料の間にある調節可能スリットと、
前記X線源と前記調節可能スリットの間、又は前記調節可能スリットと前記試料の間にあるさらなるスリットと、
前記調節可能スリットの幅を制御するように構成されているコントローラと、を含み、
当該方法は、
前記コントローラによって、前記調節可能スリットを第1の幅に設定することであって、該第1の幅では、前記調節可能スリットが前記入射ビームの発散を第1の発散角に制限し、それによって前記試料の照射される領域を制限する、設定することと、
前記コントローラによって、前記調節可能スリットを第2の幅に設定することであって、該第2の幅では、前記調節可能スリットが前記入射ビームの発散を第2の発散角に制限し、それによって前記試料の照射される領域を制限する、設定することと、
前記コントローラによって、前記調節可能スリットを第3の幅に設定することであって、該第3の幅では、前記調節可能スリットは前記入射ビームの発散を制限せず、前記さらなるスリットが前記入射ビームの発散を第3の発散角に制御して、それによって前記試料の照射される試料の領域を制限する、設定することと、を含み、
前記第3の幅は前記第2の幅よりも大きく、前記第2の幅は前記第1の幅よりも大きく、
前記第3の発散角は前記第2の発散角よりも大きく、前記第2の発散角は前記第1の発散角よりも大きい、方法。 - 装置を用いたX線分析の方法であって、該装置は、
X線を生成するように構成されているX線源と、
試料を支持するように構成されている試料ステージであって、前記X線源及び該試料ステージは、前記X線源によって生成されたX線が該試料を照射する入射ビームを画定するように配置される、試料ステージと、
前記X線源と前記試料の間にある調節可能スリットと、
ゴニオメータであって、前記X線源が該ゴニオメータの軸周りに回転可能となるように該ゴニオメータに取り付けられ、異なる入射角の範囲で前記試料を照射する、ゴニオメータと、
前記ゴニオメータ及び前記調節可能スリットの幅を制御するように構成されているコントローラと、を含み、
当該方法は、
前記ゴニオメータが第1の入射角に設定された状態で、前記コントローラによって、前記調節可能スリットを第1の幅に設定することであって、該第1の幅では、前記調節可能スリットが前記入射ビームの発散を第1の発散角に制限し、それによって前記試料の照射される領域を制限する、設定することと、
前記ゴニオメータが第2の入射角に設定された状態で、前記コントローラによって、前記調節可能スリットを第2の幅に設定することであって、該第2の幅では、前記調節可能スリットが前記入射ビームの発散を第2の発散角に制限し、それによって前記試料の照射される領域を制限する、設定することと、
前記ゴニオメータが第3の入射角に設定された状態で、前記コントローラによって、前記調節可能スリットを第3の幅に設定することであって、該第3の幅では、前記調節可能スリットが前記入射ビームの発散を第3の発散角に制限し、それによって前記試料の照射される領域を制限する、設定することと、
前記ゴニオメータが第4の入射角に設定された状態で、前記コントローラによって、前記調節可能スリットを前記第3の幅に設定することと、を含み、
前記第3の幅は前記第2の幅よりも大きく、前記第2の幅は前記第1の幅よりも大きく、
前記第3の発散角は前記第2の発散角よりも大きく、前記第2の発散角は前記第1の発散角よりも大きく、
前記第4の入射角は前記第3の入射角よりも大きく、前記第3の入射角は前記第2の入射角よりも大きく、前記第2の入射角は前記第1の入射角よりも大きい、方法。 - 前記コントローラは、前記第1の入射角から前記第2の入射角までの入射角の範囲にわたって、前記入射ビームが前記試料の一定領域を照射するように、前記調節可能スリットの幅を制御する、請求項11に記載の方法。
- 前記装置は、前記入射ビームがさらなるスリットを通過するが、該さらなるスリットが前記入射ビームの発散を制限しないように、前記調節可能スリットと前記試料との間に配置された該さらなるスリットを含む、請求項11又は12に記載の方法。
- コンピュータプログラムであって、当該コンピュータプログラムが前記コントローラ上で実行されるとき、X線分析装置のコントローラに請求項10から13のいずれか一項に記載の方法のすべてのステップを行わせるように構成されているコンピュータプログラムコードを含む、コンピュータプログラム。
- 非一時的なコンピュータ読み取り可能媒体に具現化されている、請求項14に記載のコンピュータプログラム。
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