KR101975752B1 - 문화재시료의 비파괴 표면 x-선 회절분석을 위한 시료 거치장치 - Google Patents

문화재시료의 비파괴 표면 x-선 회절분석을 위한 시료 거치장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 부정형의 문화재 시료를 오염과 훼손으로부터 안전하게 그리고 안정적으로 고정하여 X-선 회절분석기기 내에 거치시켜 비파괴 X-선 회절분석을 가능하게 하는 시료 거치 장치에 관한 것으로, 장치 전체의 균형과 무게 중심 조절 장치를 포함하는 하부지지대와 전후와 상하 위치를 조절하는 장치를 포함하는 상부지지대 및 삼중구조로 다양한 형태와 부피의 문화재 시료를 적재할 수 있는 시료 거치 상자가 일측면 상에 고정되어 분말 X-선 회절 분석법이 표준인 기존 분석법의 한계로 인하여 시도되지 않았던 문화재 시료의 비파괴 X-선 회절 분석을 통한 광물 조성 정보 획득을 목적으로 한다.

Description

문화재시료의 비파괴 표면 X-선 회절분석을 위한 시료 거치장치{Sample mounting device for non-destructive surface X-ray diffraction analysis of artefact}
본 발명은 X-선 회절분석을 위한 시료 거치장치에 관한 것으로 문화재의 비파괴 X-선 회절분석 시 문화재를 안전하게 관리하면서 정확한 분석결과를 도출할 수 있는 시료 거치장치에 관한 것이다.
문화재란 문화적 가치가 있다고 인정되는 인류 문화활동의 소산물로서 유형 또는 무형의 산물이 이에 속한다. 이 중 유형문화재는 재질에 따라 크게 금속, 석재, 도자기, 토기, 유리, 안료 등의 무기물과 종이, 섬유, 목재, 아교, 가죽, 염료 등의 유기물로 분류된다. 이러한 문화재를 대상으로 과학적 분석을 실시하여 구성 물질의 물리·화학적 특성을 연구하는 것은 문화재의 재질, 용도, 유적지의 성격, 물자의 교역 및 당시 생활상 등에 대한 중요한 정보를 제공한다.
문화재 분석은 비파괴분석을 원칙으로 하며 필요시 문화재 원형보존을 위해 최소한의 시료만을 채취하도록 되어 있다. 특히, 토제 및 석재 등 무기질 문화재는 광물 조성이 그 특성을 좌우하는 주요 인자이므로 광물 성분의 정확한 분석이 요구된다.
비파괴분석을 통한 원료 물질의 광물 조성 분석은 휴대용기기를 통한 화학분석이나 분광분석 등이 주로 수행되어 왔다. 휴대용기기를 이용한 화학분석은 획득된 화학조성 정보를 바탕으로 구성광물을 추정하는 간접적인 광물동정 방법이며, 분광분석은 광물을 구성하는 원소들의 결합구조를 나타내는 고유의 스펙트럼을 획득할 수 있지만 시료가 균질하지 못하거나 분석면에 이물질이 존재하는 경우 등에 의하여 스펙트럼이 교란되거나 중첩되어 직접적인 광물조성 파악에 어려움이 있는 경우가 발생할 수 있다.
이러한 이유로 현재까지 무기질 문화재의 광물조성을 동정하는 방법 중에는 X-선이 무기질입자의 결정면에서 일으키는 회절현상을 이용한 X-선 회절분석이 가장 직접적이고 유용한 방법이다.
X-선 회절분석은 시료를 구성하고 있는 원소들의 조성이 아닌 이들이 결합된 구조, 즉 결정구조를 파악하여 궁극적으로는 구성 광물의 조성을 파악하는 분석 방법이다. 높은 정밀도의 결정 구조 분석을 위하여 분석대상 시료는 전처리 과정을 필요로 한다. 시료의 균질화 및 특정 방향으로 입자가 배열되는 것을 방지하기 위하여 분말 상태로 가공한 후 분석을 실시하는 것이 일반적이다. 이러한 과정을 거쳐 획득한 결정 구조의 정보가 포함된 회절패턴은 PDF (Powdered Diffraction File) 데이터 카드로 정의된 표준 광물 구조에 대비하여 광물동정이 수행된다. 이 때 활용되는 정보는 2-theta 도(degree)의 단위로 회전 운동을 하는 기기에서 획득된 회절 패턴 중 피크의 위치를 브래그의 식(Bragg's equation)을 통하여 환산되는 특정 결정면의 격자간 거리(저면간격)와 피크의 회절강도 비 등이다.
상기 내용과 같이 무기질 시료의 광물 조성을 가장 직접적으로 파악할 수 있는 분석법임에도 불구하고 시료를 채취하여 분말로 제작하는 전처리가 필요한 분석법이기 때문에 비파괴를 원칙으로 하는 문화재의 분석에는 적합하지 않아 일부 채취가 가능한 경우에만 제한적으로 활용되어 오고 있다.
그러나 최근 재료 가공 분야에서는 시료를 분말화하지 않고, 완성된 철강이나 합금 또는 특정 성분이 코팅된 제품 자체 또는 일부를 기기에 거치하여 X-선 회절분석을 실시한 후 획득된 특정 결정면의 회절 패턴을 해석하여 품질 관리와 생산 라인의 효율성을 평가하는 방법이 활용되고 있다(비특허문헌).
상기 분석법을 유형별 문화재 시료에 적용한다면 원형을 유지한 채 비파괴 X-선 회절 분석이 가능해진다. 이를 위해서는 X-선 회절 분석기 내에 분석대상인 문화재시료 자체를 훼손이나 오염의 위험 없이 안정적으로 거치하여 분석 대상면에 대한 X-선 회절 패턴 획득이 가능하게 하는 장치가 필요하다.
Silva, W.M., Carneiro, J.R.G., and Trava-Airoldi., 2013, XPS, XRD and Laser Raman Analysis of surface modified of 6150 steel substrates for the deposition of thick and adherent diamond-like carbon coatings. material research, 16(3), 603-608. Venkatakrishnan, R., Senthilvelan, T., and Vijayakumar, T., 2017, Characterization of Polyurethane coated aerospace aluminium alloy (7075) By DSC, XRD and adhesion test. Journal of Applied Mechanical Engineering, 6(6). Wienstroer, S., Fransen, M., Mittelstadt, H., Nazikkol, C., and Volker, M., 2003, Zinc/Iron phase transformation studies on galvannealed steel coatings by X-ray diffraction. International Centre for Diffraction Data 2003, Advances in X-ray Analysis, Volume 46, 291-296.
문화재의 형태와 크기는 매우 다양하고 분석하고자 하는 면이나 위치가 각각 달라 실제 문화재를 거치하여 분석하기에는 매우 어려우므로, 분석하고자 하는 면을 고정하여 거치할 수 있는 장치가 필요하며, 문화재 하중과 크기 등을 고려하여 안정적인 분석이 필요하다.
본 발명은 상기한 바와 같은 문화재 시료의 광물 조성 분석법 개선을 위하여 고안한 것으로, 부정형의 유형별 문화재 시료를 X-선 회절 분석 기기 내에 안정적으로 고정 및 거치하여 기존에 시도되지 못한 유형의 시료에 대한 광물 조성 분석을 가능하게 하는 시료 거치 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여,
본 발명의 일 측면에 따라, 수평 조절이 가능한 하부 지지대;
상기 하부 지지대의 상부에, 높이 조절과 세로 방향(y축 방향)의 위치 이동이 가능한 상부 지지대; 및
상기 상부 지지대의 상부에, 시료를 거치할 수 있는 거치 상자;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 X-선 회절분석용 시료 거치 장치가 제공된다.
또한,
a) 분석 대상면이 수평으로 평행하도록 시료를 거치 상자에 거치하는 단계;
b) 상기 시료가 거치된 거치 상자의 빈 공간을 실리카볼로 채우는 단계;
c) 상기 시료가 적치된 시료 거치 장치를 X-선 회절분석 기기에 도입하는 단계; 및
d) 조절 수단을 이용하여 위치 및 높이를 X-선 회절 분석에 적합하도록 조절하는 단계;
를 포함하는 제4항에 기재된 X-선 회절분석용 시료 거치 장치를 이용한, X-선 회절분석 방법이 제공된다.
본 발명에 따른 비파괴 표면 X-선 회절 분석을 위한 시료 거치장치를 이용하면, 부정형의 문화재 시료를 손상으로부터 안정적으로 고정하여 분석 대상면에 대한 X-선 회절 분석 패턴을 획득할 수 있다. 특히 분말화 작업과 같은 파괴적 전처리를 요하는 기존 분석법의 한계로 인하여 그동안 시도되지 못했던 유형별 문화재 시료의 광물 조성 분석 결과 등의 새로운 정보를 제공할 수 있다.
도 1 은 본 발명의 일 실시예에 따른 시료 거치 장치를 도시한 측면도이다.
도 2 는 본 발명의 일 실시예에 따른 시료 거치 장치를 도시한 사시도이다.
도 3 은 높이 방향(z축 방향)으로 긴 형태의 시료를 거치한 경우의 측면도이다.
도 4 는 가로(y축 방향) 또는 세로(x축 방향)로 긴 형태의 시료를 거치한 경우의 측면도이다.
도 5 는 본 발명의 시료 거치 장치를 사용하지 않은 비파괴 표면 X-선 회절 분석을 수행한 사진이다.
도 6 은 시료 거치 장치의 일 실시예에 따라 문화재 시료를 거치시킨 후 비파괴 X-선 회절 분석을 수행한 사진이다.
도 7a 는 본 발명의 일 실시예에 따른 시료 거치 장치를 활용하여 비파괴 X-선 회절 분석을 수행한 후 획득한 X-선 회절 패턴이다.
도 7b 는 상기 도 7a 에서와 동일한 시료의 일부를 파괴한 분말 X-선 회절 분석 후 획득한 X-선 회절 패턴이다.
이하, 본원에 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 본원에 기재된 실시예 및 도면을 통해 본 발명의 기술적 사상이 명확하게 이해될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술적 사상의 범위 내에서 다양한 형태로 변형될 수 있다.
본 발명의 일 측면에서,
수평 조절이 가능한 하부 지지대;
상기 하부 지지대의 상부에, 높이 조절과 세로 방향(y축 방향)의 위치 이동이 가능한 상부 지지대; 및
상기 상부 지지대의 상부에, 시료를 거치할 수 있는 거치 상자;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 X-선 회절분석용 시료 거치 장치가 제공된다.
상기 X-선 회절분석용 시료 거치 장치의 하부 지지대는 수평 조절이 가능하며, 무게중심 역할을 제공한다. 특히, 상기 하부 지지대는 거치 장치 전체의 무게 중심 역할이 가능하며, X-선 회절 분석 기기의 내부 공간에 비치가 가능한 규격을 제공한다. 또한, 하부 지지대의 다리에는 거치 장치 전체의 수평 및 무게 중심을 조절하기 위한 수단을 더 포함할 수 있으며, 이를 조절하기 위한 수단으로 그 종류가 별도로 한정되지는 않으나, 그 일례로서는 가변지지굽 등을 들 수 있다.
한편, 상기 X-선 회절분석용 시료 거치 장치의 하부 지지대의 상부에는 상부 지지대가 형성될 수 있다.
상기 상부 지지대 및 하부 지지대와의 사이에는 위치 조절 또는 높이 조절이 가능한 하나 이상의 조절 수단을 포함할 수 있으며, 이러한 하나 이상의 조절 수단으로 인하여, 상기 상부 지지대는 높이 조절과 세로 방향(y축 방향)의 위치 이동이 가능하다.
상기 하나 이상의 조절 수단은 그 개수는 크게 제한되지는 않으나, 예를 들어, 위치 조절이 가능한 제 1 조절 수단 및 높이 조절이 가능한 제 2 조절 수단을 포함할 수 있다.
상기 위치 조절은 특히 세로 방향(y축 방향)의 위치 조절이 가능한 것이며, 회절 분석 기기 부품과의 충돌을 야기할 수 있기 때문에 가로 방향(x축 방향)의 위치 이동은 조절되지 않는 것일 수 있다.
또한, 상기 상부 지지대는 상기 거치 상자와 동일한 규격을 갖는 것일 수 있다.
아울러, 본 발명의 일 실시예에 따른 X-선 회절분석용 시료 거치 장치는 상기 상부 지지대의 상부에 거치 상자를 포함할 수 있으며, 상기 거치 상자는 다양한 형태와 부피의 문화재 시료를 적재할 수 있도록 X-선 회절분석 기기 내에 수용 가능한 범위 내 최대한 넓고 깊은 규격을 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 거치 상자의 세로 방향(y축 방향) 또는 가로 방향(x축 방향) 길이는 각각 300 (±100)mm 일 수 있으며, 300 (±100)mm 일 수 있다. 상기 거치 상자의 깊이는 400 mm 이하일 수 있고, 300 mm 이하일 수 있으며, 200 mm 일 수 있으나, X-선회절 분석 기기에 수용될 수 있고, 시료를 거치할 수 있는 크기의 거치 상자이면 크게 제한되지는 않는다.
나아가, 상기 X-선 회절분석용 시료 거치 장치의 거치 상자는 높이 방향으로 하나 이상 분리되어 조립될 수 있으며, 이는 분석 대상이 되는 문화재 시료의 다양한 높이에 대응하기 위하여 높이 방향(상하 방향)으로 분리되는 것이며, 적재 순서에 관계없이 조립될 수 있다. 다만, 거치 상자를 이루는 분리된 거치 상자들 중 최하단에 위치한 거치 상자는 하부가 막혀 있는 것이 바람직하다.
상기 분리되는 거치 상자의 수는 하나 이상이면 특별히 제한되지는 않으며, 2 개 이상, 3 개 이상 또는 5 개 이상으로 분리될 수 있다.
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 X-선 회절분석용 시료 거치 장치의 거치 상자 내부에는 빈 공간을 적재하는 실리카볼을 더 포함할 수 있다.
상기 실리카볼의 모양은 크게 한정되어있지는 않으며, 상기 실리카볼의 충전으로 인해 문화재 시료의 안정적인 고정과 추락에 대비한 완충제 역할이 수행 가능하다. 나아가, 이러한 완충제 역할을 수행함과 동시에 안정적인 고정이 가능한 것이라면 실리카볼 이외의 물질을 사용 가능하다.
본 발명의 다른 측면에서는,
a) 분석 대상면이 수평으로 평행하도록 시료를 거치 상자에 거치하는 단계;
b) 상기 시료가 거치된 거치 상자의 빈 공간을 실리카볼로 채우는 단계;
c) 상기 시료가 적치된 시료 거치 장치를 X-선 회절분석 기기에 도입하는 단계; 및
d) 조절 수단을 이용하여 위치 및 높이를 X-선 회절 분석에 적합하도록 조절하는 단계;
를 포함하는 상기 X-선 회절분석용 시료 거치 장치를 이용한 X-선 회절분석 방법이 제공된다.
상기 X-선 회절분석 방법에 사용되는 X-선 회절분석용 시료 거치 장치는 앞서 상술한 X-선 회절분석용 시료 거치 장치의 구성을 모두 포함할 수 있으며, 특히, 하부 지지대와 상부 지지대와의 사이에 위치 조절, 높이 조절 또는 이들 모두 조절이 가능한 하나 이상의 조절 수단을 더 포함하는 것일 수 있다.
아울러, 상기 X-선 회절분석 방법에 있어서, 상기 단계 a) 이전에, 상기 시료와 실리카볼의 접촉하는 부분을 비닐로 씌우는 단계를 더 포함할 수 있으며, 이를 통해 문화재 등의 시료와 실리카볼의 직접적인 접촉으로 인한 오염이나 문화재의 훼손을 미리 방지할 수 있다. 이러한 직접적인 접촉을 막는 재료로는 상기 비닐에만 한정되지는 않고, 문화재 시료의 훼손이나 마모를 방지할 수 있고, X-선 회절분석을 실시하는데 방해가 되지 않는 것이라면 그 종류에 크게 제한되지 않는다.
상기와 같은 X-선 회절분석용 시료 거치 장치를 이용하여, 분석 기기 내 안정적으로 거치된 문화재 시료를 대상으로 X-선 회절분석을 수행하는 경우, 도 7 에서와 같이 기존의 분말회절법의 회절패턴과 차이가 없거나, 스캔되는 분석면에 드러난 광물결정면에 따라 일부 중첩된 영역이 발생할지라도 광물 조성 동정을 위한 해석이 가능한 회절 패턴을 얻을 수 있는 바, 보다 안정적이고 간편한 X-선 회절 분석이 가능하다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다. 이 때 도면 내 규격은 mm 단위이며, Panalytical 사의 Empyrean X-선 회절 분석기에 적재 시 확보 가능한 공간 기준을 나타낸다.
< 실시예 >
본 발명의 일 실시예에 따른 문화재 시료 거치 장치는 도 1 및 도 2 에 나타낸 바와 같이, 하부 지지대(11)과 상부 지지대(12) 및 거치 상자(13)의 순으로 일측면 상에 고정된다. 복수의 가변지지굽(111)들이 분석기기 내에 적재 시 거치 장치 전체의 수평과 중심을 지지한다.
상부 지지대(12)는 하부 지지대(11)와의 사이에 분석기기 규격 기준 세로 방향(y축 방향)의 위치 이동이 가능한 제 1 조절 수단(121)과 높이 조절이 가능한 제 2 조절 수단(122)으로 연결된다. 이 때 가로 방향(x축 방향)의 위치 이동을 제공하는 조절 수단은 분석기기 부품과의 충돌을 방지하기 위하여 제공하지 않는다.
상기 제1 조절 수단(121)과 제 2 조절 수단(122)은 탄성적으로 고정되기 때문에 기계식이 아닌 수동식으로 제작한다. 이 때, '탄성적으로 고정'된다는 용어는 분석기기의 X-선이 분석면에 발사되는 지점의 규격은 일정하나 문화재 시료 내 분석면의 규격과 높이는 불균질하므로 일정 단위로 운동하는 기계식 조절 장치에 비하여 불특정 지점에서 유연하게 고정 위치를 조절할 수 있는 수동 장치를 의미한다.
거치 상자(13)는 상부 지지대(12)의 상부에 고정되고 아래가 막힌 제 1 거 치 상자(131)와 아래가 열린 제 2 거치 상자(132)와 제 3 거치 상자(133)로 구성되며, 이들은 순서에 상관없이 일측면 상에 고정이 가능하다. 그에 따라 도 3 및 도 4 와 같이 부정형의 문화재 시료 형태와 분석 대상면의 높이에 따라 아래가 막힌 제 1 거치 상자(131)의 고정 위치를 유연하게 조절하면서 전체적인 장치의 높이를 조절한다. 이 때, 제 1 조절 수단(121)과 제 2 조절 수단(122)을 각각 사용하여, 미세한 범위의 위치와 높이를 조절한다.
도 3, 도 4 및 도 6 에서와 같이 거치 상자(13)에 문화재 시료를 분석 대상면이 평행하게 비치한 후 나머지 공간을 실리카볼로 채운다. 그에 따라 부정형의 문화재 시료를 쉽고 견고하게 지지할 수 있으며, 도 6 에서와 같이 비닐을 이용하여 문화재 시료와 실리카볼의 직접적인 접촉으로 인한 오염과 훼손이 발생하지 않도록 한다. 또한, 문화재 시료의 부피에 비하여 넓은 거치 상자 내에서 문화재 시료가 지지력을 잃는 경우가 발생하더라도 실리카볼의 완충작용으로 훼손을 일차적으로 방지할 수 있다.
이렇게 구성되는 시료 거치 장치 전체를 분석 장비 내로 도입시킨 후, 상기와 같이 시료(S)를 거치시키고, 미세한 위치와 높이 조절을 통하여 시료(S)의 분석 대상면이 일반적인 분석 모드와 큰 차이가 없도록 비치하여 비파괴적인 방법으로 부정형의 문화재 시료에 대한 X-선 회절분석 수행이 가능할 수 있다.
< 비교예 >
일반적인 분석모드의 X-선 회절분석은 규격화된 재물대에 전처리 과정을 거친 분말 시료 적정량을 적재하여 세부 조건 입력 후 분석을 수행한다.
부정형의 문화재 시료를 비파괴로 X-선 회절분석하기 위해 분석 기기에 부착된 재물대를 탈착하여 생긴 공간에 문화재 시료의 분석 대상면을 규격화된 재물대의 높이와 범위에 위치시킨다.
도 5 에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 시료 거치 장치를 사용하지 않고 X-선 회절분석을 실시하는 경우, 분석기기의 규격에 가까운 높이와 위치 조절이 불편해지며, 고정력이 불안정하여 문화재 시료의 오염과 파손의 위험에 노출될 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명은, 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 명확히 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술적 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
11 : 하부지지대
12 : 상부지지대
13 : 거치상자
111 : 가변지지굽
121 : 제 1 조절수단
122 : 제 2 조절수단
131 : 제 1 거치상자
132 : 제 2 거치상자
133 : 제 3 거치상자

Claims (12)

  1. 수평 조절이 가능한 하부 지지대;
    상기 하부 지지대의 상부에, 높이 조절과 세로 방향(y축 방향)의 위치 이동이 가능한 상부 지지대; 및
    상기 상부 지지대의 상부에, 원형 그대로의 문화재를 거치할 수 있는 거치 상자; 를 포함하는 X-선 회절분석용 문화재 거치 장치에 있어서,
    상기 거치 상자는 높이방향으로 하나 이상으로 분리되어 조립될 수 있고, 거치 상자를 이루는 분리된 거치 상자들 중 최하단에 위치한 거치 상자는 하부가 막혀 있고,
    상기 거치 상자에, 상기 원형 그대로의 문화재를 거치할 때 발생하는 거치 상자 내부의 빈 공간을 적재하는 실리카볼을 더 포함하며,
    문화재의 원형을 유지한 채 X-선 회절 분석이 가능한 것을 특징으로 하는 X-선 회절분석용 문화재 거치 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 하부 지지대의 다리에는 거치 장치의 수평 및 무게중심을 조절하기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 X-선 회절분석용 문화재 거치 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 수평 및 무게중심을 조절하기 위한 수단은 지지굽을 포함하는 것을 특징으로 하는 X-선 회절분석용 문화재 거치 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 하부 지지대와 상부 지지대와의 사이에 위치 조절, 높이 조절 또는 이들 모두 조절이 가능한 하나 이상의 조절 수단을 더 갖는 것을 특징으로 하는 X-선 회절분석용 문화재 거치 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 조절 수단은 위치 조절이 가능한 제 1 조절 수단과, 높이 조절이 가능한 제 2 조절 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 X-선 회절분석용 문화재 거치 장치.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 위치 조절은 세로 방향(y축 방향)의 위치 조절이 가능하고, 가로 방향(x축 방향)으로 위치 조절은 가능하지 않는 것을 특징으로 하는 X-선 회절분석용 문화재 거치 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 상부 지지대는 상기 거치 상자와 동일한 규격을 갖는 것을 특징으로 하는 X-선 회절분석용 문화재 거치 장치.
  8. 삭제
  9. 제1항에 있어서,
    상기 거치 상자는 X-선 회절분석 기기 내에 수용 가능하도록 가로 방향(x축 방향) 및 세로 방향(y축 방향) 길이가 각각 200 내지 400 mm 이고, 깊이가 400 mm 이하인 것을 특징으로 하는 X-선 회절분석용 문화재 거치 장치.
  10. 삭제
  11. a) 분석 대상면이 수평으로 평행하도록 원형 그대로의 문화재를 거치 상자에 거치하는 단계;
    b) 상기 원형 그대로의 문화재가 거치된 거치 상자의 빈 공간을 실리카볼로 채우는 단계;
    c) 상기 원형 그대로의 문화재가 적치된 문화재 거치 장치를 X-선 회절분석 기기에 도입하는 단계; 및
    d) 조절 수단을 이용하여 위치 및 높이를 X-선 회절 분석에 적합하도록 조절하는 단계;
    를 포함하는 제4항에 기재된 X-선 회절분석용 문화재 거치 장치를 이용한, X-선 회절분석 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 단계 a) 이전에, 상기 원형 그대로의 문화재와 실리카볼의 접촉하는 부분을 비닐로 씌우는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 X-선 회절분석 방법.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0635958U (ja) * 1992-10-16 1994-05-13 理学電機工業株式会社 蛍光ｘ線分析用の試料ホルダ
JPH0894550A (ja) * 1994-09-20 1996-04-12 Mac Sci:Kk 微小角入射ｘ線装置のｘ線入射角設定方法及びその機構
KR20120078413A (ko) * 2010-12-31 2012-07-10 주식회사 신코 휴대용 엑스레이 형광 분석기를 위한 시료 거치 장치
KR20150115421A (ko) * 2014-04-04 2015-10-14 전북대학교산학협력단 엑스선 회절분석용 시료 지지 스탠드 장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0635958U (ja) * 1992-10-16 1994-05-13 理学電機工業株式会社 蛍光ｘ線分析用の試料ホルダ
JPH0894550A (ja) * 1994-09-20 1996-04-12 Mac Sci:Kk 微小角入射ｘ線装置のｘ線入射角設定方法及びその機構
KR20120078413A (ko) * 2010-12-31 2012-07-10 주식회사 신코 휴대용 엑스레이 형광 분석기를 위한 시료 거치 장치
KR20150115421A (ko) * 2014-04-04 2015-10-14 전북대학교산학협력단 엑스선 회절분석용 시료 지지 스탠드 장치

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Silva, W.M., Carneiro, J.R.G., and Trava-Airoldi., 2013, XPS, XRD and Laser Raman Analysis of surface modified of 6150 steel substrates for the deposition of thick and adherent diamond-like carbon coatings. material research, 16(3), 603-608.
Venkatakrishnan, R., Senthilvelan, T., and Vijayakumar, T., 2017, Characterization of Polyurethane coated aerospace aluminium alloy (7075) By DSC, XRD and adhesion test. Journal of Applied Mechanical Engineering, 6(6).
Wienstroer, S., Fransen, M., Mittelstadt, H., Nazikkol, C., and Volker, M., 2003, Zinc/Iron phase transformation studies on galvannealed steel coatings by X-ray diffraction. International Centre for Diffraction Data 2003, Advances in X-ray Analysis, Volume 46, 291-296.

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