JP2551539Y2 - 磁気テープ用蒸着装置 - Google Patents
磁気テープ用蒸着装置Info
- Publication number
- JP2551539Y2 JP2551539Y2 JP1990103656U JP10365690U JP2551539Y2 JP 2551539 Y2 JP2551539 Y2 JP 2551539Y2 JP 1990103656 U JP1990103656 U JP 1990103656U JP 10365690 U JP10365690 U JP 10365690U JP 2551539 Y2 JP2551539 Y2 JP 2551539Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crucible
- electron beam
- magnetic material
- magnetic tape
- electron
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は、ベースフィルムに磁性材料を蒸着して磁気
テープを作製するための磁気テープ用蒸着装置に関す
る。
テープを作製するための磁気テープ用蒸着装置に関す
る。
（考案の概要） 本考案は、ベースフィルムに磁性材料を蒸着して磁気
テープを作製するための磁気テープ用蒸着装置におい
て、磁性材料を溶融、蒸発させるための電子ビームが当
該磁性材料の蒸気中を通過する距離を短縮することによ
り、前記磁性材料の蒸着レート（投入電力当たりの膜
厚）の向上を図ったものである。
テープを作製するための磁気テープ用蒸着装置におい
て、磁性材料を溶融、蒸発させるための電子ビームが当
該磁性材料の蒸気中を通過する距離を短縮することによ
り、前記磁性材料の蒸着レート（投入電力当たりの膜
厚）の向上を図ったものである。
（従来の技術） 一般の非磁性材料の蒸着装置の場合、偏向式の電子銃
を使用して電子ビームを180度や270度偏向してるつぼに
当てる構成を採用可能であったが、磁気テープ用蒸着装
置の如く磁性材料を蒸着する場合、磁性材料の蒸気の影
響及び磁性材料のキュリー点以下、以上で磁性材料の特
性が異なる等の理由で電子ビームを偏向しない直進式の
電子銃が採用されていた。
を使用して電子ビームを180度や270度偏向してるつぼに
当てる構成を採用可能であったが、磁気テープ用蒸着装
置の如く磁性材料を蒸着する場合、磁性材料の蒸気の影
響及び磁性材料のキュリー点以下、以上で磁性材料の特
性が異なる等の理由で電子ビームを偏向しない直進式の
電子銃が採用されていた。
直進式の電子銃を採用した従来の磁気テープ用蒸着装
置を第２図に示す。この図において、真空チャンバー１
内にるつぼ２が設置され、該るつぼ２内の磁性材料Ｍに
電子ビームEBを当てるための直進式の電子銃３が真空チ
ャンバー１の側壁上部に配設されている。また、磁性材
料の蒸着により磁気テープとなるべきベースフィルム４
を外周面で支持するために円筒支持体５がるつぼ２の上
方位置に配設されている。なお、図示は省略したが、ベ
ースフィルム４の繰り出し及び巻取り手段が設けられ、
円筒支持体５の回転により該支持体外周面下部側にてる
つぼ２に対面するベースフィルム面が移行するようにな
っている。また、第２図中角度θの範囲が磁性材料Ｍの
蒸気（分子）が高密度で蒸発する領域を示す。
置を第２図に示す。この図において、真空チャンバー１
内にるつぼ２が設置され、該るつぼ２内の磁性材料Ｍに
電子ビームEBを当てるための直進式の電子銃３が真空チ
ャンバー１の側壁上部に配設されている。また、磁性材
料の蒸着により磁気テープとなるべきベースフィルム４
を外周面で支持するために円筒支持体５がるつぼ２の上
方位置に配設されている。なお、図示は省略したが、ベ
ースフィルム４の繰り出し及び巻取り手段が設けられ、
円筒支持体５の回転により該支持体外周面下部側にてる
つぼ２に対面するベースフィルム面が移行するようにな
っている。また、第２図中角度θの範囲が磁性材料Ｍの
蒸気（分子）が高密度で蒸発する領域を示す。
（考案が解決しようとする課題） さて、真空中における蒸発源からの蒸気流の密度分布
は、一般に次式で表される。
は、一般に次式で表される。
Φ（α）＝Φ0 cosα ……（１） Φ（α）：蒸気流密度分布 Φ0：角度α＝０のときの蒸気流密度 α：蒸発表面の法線に対する角度 上記従来例の如く、直進式の電子銃３を用いて直進電
子ビームEBをるつぼ２に照射する場合、電子銃３はるつ
ぼ２の上方に配置することになるため、角度αの小さい
高密度の磁性材料蒸気流の中を電子ビームEBが長時間
（長距離）通過することになり、電子ビームEBと蒸発分
子の衝突確率が高く、るつぼ２に到達する前に電子ビー
ムEBの多くが散乱し、エネルギー損失が多くなり、電子
エネルギーを有効にるつぼ２に投入できない欠点があっ
た。また、電子銃の出力を上げると、さらに蒸気密度が
高くなって衝突確率も増加し、結果として蒸着レートは
上がらないという悪循環に陥る。
子ビームEBをるつぼ２に照射する場合、電子銃３はるつ
ぼ２の上方に配置することになるため、角度αの小さい
高密度の磁性材料蒸気流の中を電子ビームEBが長時間
（長距離）通過することになり、電子ビームEBと蒸発分
子の衝突確率が高く、るつぼ２に到達する前に電子ビー
ムEBの多くが散乱し、エネルギー損失が多くなり、電子
エネルギーを有効にるつぼ２に投入できない欠点があっ
た。また、電子銃の出力を上げると、さらに蒸気密度が
高くなって衝突確率も増加し、結果として蒸着レートは
上がらないという悪循環に陥る。
本考案は、上記の点に鑑み、電子ビームが蒸気中を通
過する時間（距離）を効果的に低減することによって蒸
着レートの向上を図った磁気テープ用蒸着装置を提供す
ることを目的とする。
過する時間（距離）を効果的に低減することによって蒸
着レートの向上を図った磁気テープ用蒸着装置を提供す
ることを目的とする。
（課題を解決するための手段） 上記目的を達成するために、本考案は、真空チャンバ
ー内にるつぼを設け、該るつぼの上方位置にベースフィ
ルムを外周面で支える円筒支持体を設け、前記るつぼ内
の磁性材料に電子銃で電子ビームを当てて溶融、蒸発さ
せる磁気テープ用蒸着装置において、前記るつぼを前記
真空チャンバー内の下部位置に配置し、前記るつぼの側
方位置で前記真空チャンバーの側壁下部に入力電力50kW
以上の電子銃を配設し、該電子銃を用いて水平方向の電
子ビームを発生するとともに、前記るつぼに向けて前記
電子ビームを下向きに略90度偏向させる磁界を発生する
偏向手段を設け、前記電子ビームが前記磁性材料の蒸気
中を通過する距離を短縮した構成としている。
ー内にるつぼを設け、該るつぼの上方位置にベースフィ
ルムを外周面で支える円筒支持体を設け、前記るつぼ内
の磁性材料に電子銃で電子ビームを当てて溶融、蒸発さ
せる磁気テープ用蒸着装置において、前記るつぼを前記
真空チャンバー内の下部位置に配置し、前記るつぼの側
方位置で前記真空チャンバーの側壁下部に入力電力50kW
以上の電子銃を配設し、該電子銃を用いて水平方向の電
子ビームを発生するとともに、前記るつぼに向けて前記
電子ビームを下向きに略90度偏向させる磁界を発生する
偏向手段を設け、前記電子ビームが前記磁性材料の蒸気
中を通過する距離を短縮した構成としている。
（作用） 本考案の磁気テープ用蒸着装置においては、るつぼの
側方位置の電子銃より水平方向に出た電子ビームを下向
きに略90度偏向させる偏向手段を設け、前記電子ビーム
が磁性材料の蒸気中を通過する距離を短縮したので、50
kW以上の高出力の電子銃を採用した場合でも電子ビーム
の散乱に起因するエネルギー損失を低減でき、蒸着レー
トの大幅向上を実現できる。
側方位置の電子銃より水平方向に出た電子ビームを下向
きに略90度偏向させる偏向手段を設け、前記電子ビーム
が磁性材料の蒸気中を通過する距離を短縮したので、50
kW以上の高出力の電子銃を採用した場合でも電子ビーム
の散乱に起因するエネルギー損失を低減でき、蒸着レー
トの大幅向上を実現できる。
（実施例） 以下、本考案に係る磁気テープ用蒸着装置の実施例を
図面に従って説明する。
図面に従って説明する。
第１図において、真空チャンバー１内下部位置にるつ
ぼ２が設置され、該るつぼ２内の磁性材料Ｍに電子ビー
ムEBを当てるための電子銃3A（入力電力50kW以上の高出
力のもの）が真空チャンバー１の側壁下部に配設されて
いる（るつぼ２の側方位置となっている。）。また、電
子銃3Aより水平方向に発射された電子ビームEBをるつぼ
２に向けて下向きに略90度偏向させる磁界を発生する偏
向ヨーク（マグネット）６が真空チヤンバー１内（又は
チヤンバー外部）に配設されている。なお、その他の構
成は従来の第２図と同様である。
ぼ２が設置され、該るつぼ２内の磁性材料Ｍに電子ビー
ムEBを当てるための電子銃3A（入力電力50kW以上の高出
力のもの）が真空チャンバー１の側壁下部に配設されて
いる（るつぼ２の側方位置となっている。）。また、電
子銃3Aより水平方向に発射された電子ビームEBをるつぼ
２に向けて下向きに略90度偏向させる磁界を発生する偏
向ヨーク（マグネット）６が真空チヤンバー１内（又は
チヤンバー外部）に配設されている。なお、その他の構
成は従来の第２図と同様である。
この実施例の構成の場合、電子銃3Aはるつぼ２の側方
に位置し、電子ビームEBは前記（１）式の角度αの大き
な蒸気流密度の小さい領域を短い距離で通過するため、
電子ビームEBのエネルギー損失は少なく、電子ビームEB
のエネルギーを有効にるつぼ２に投入できる。
に位置し、電子ビームEBは前記（１）式の角度αの大き
な蒸気流密度の小さい領域を短い距離で通過するため、
電子ビームEBのエネルギー損失は少なく、電子ビームEB
のエネルギーを有効にるつぼ２に投入できる。
とくにこの効果は、入力電子50kW以上の高出力電子銃
を使用する場合に著しい。例えば、第２図の従来例で
は、電子銃の入力電子が60kWでベースフィルムからるつ
ぼまでの距離が300mmである場合、蒸着レートは約5000
Å/secであったのが、本実施例では同一条件で約28,800
Å/secとなり、５倍以上の改善となる。
を使用する場合に著しい。例えば、第２図の従来例で
は、電子銃の入力電子が60kWでベースフィルムからるつ
ぼまでの距離が300mmである場合、蒸着レートは約5000
Å/secであったのが、本実施例では同一条件で約28,800
Å/secとなり、５倍以上の改善となる。
さらに、蒸発物質による電子銃3Aへの悪影響も実施例
の構成の方が少なくなる。
の構成の方が少なくなる。
なお、電子銃の電気的制御により、磁性蒸発物質によ
る電子ビームの軌跡への影響は補償できる。
る電子ビームの軌跡への影響は補償できる。
（考案の効果） 以上説明したように、本考案の磁気テープ用蒸着装置
は、電子銃から出た電子ビームが蒸気中を通過する時間
（距離）を短縮することによって蒸着レートを大幅に向
上させることができる。
は、電子銃から出た電子ビームが蒸気中を通過する時間
（距離）を短縮することによって蒸着レートを大幅に向
上させることができる。
第１図は本考案に係る磁気テープ用蒸着装置の実施例の
構成図、第２図は従来の磁気テープ用蒸着装置の構成図
である。 １……真空チャンバー、２……るつぼ、3,3A……電子
銃、４……ベースフィルム、５……円筒支持体、６……
偏向ヨーク。
構成図、第２図は従来の磁気テープ用蒸着装置の構成図
である。 １……真空チャンバー、２……るつぼ、3,3A……電子
銃、４……ベースフィルム、５……円筒支持体、６……
偏向ヨーク。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 角田 栄蔵 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 テ ィーディーケイ株式会社内 (72)考案者 宮内 栄作 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 テ ィーディーケイ株式会社内 (72)考案者 小林 康二 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 テ ィーディーケイ株式会社内 (72)考案者 矢頭 潔 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 テ ィーディーケイ株式会社内 (72)考案者 高井 充 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 テ ィーディーケイ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−121629（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−196368（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】真空チャンバー内にるつぼを設け、該るつ
ぼの上方位置にベースフィルムを外周面で支える円筒支
持体を設け、前記るつぼ内の磁性材料に電子銃で電子ビ
ームを当てて溶融、蒸発させる磁気テープ用蒸着装置に
おいて、前記るつぼを前記真空チャンバー内の下部位置
に配置し、前記るつぼの側方位置で前記真空チャンバー
の側壁下部に入力電力50kW以上の電子銃を配設し、該電
子銃を用いて水平方向の電子ビームを発生するととも
に、前記るつぼに向けて前記電子ビームを下向きに略90
度偏向させる磁界を発生する偏向手段を設け、前記電子
ビームが前記磁性材料の蒸気中を通過する距離を短縮し
たことを特徴とする磁気テープ用蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990103656U JP2551539Y2 (ja) | 1990-10-03 | 1990-10-03 | 磁気テープ用蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990103656U JP2551539Y2 (ja) | 1990-10-03 | 1990-10-03 | 磁気テープ用蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0463114U JPH0463114U (ja) | 1992-05-29 |
| JP2551539Y2 true JP2551539Y2 (ja) | 1997-10-22 |
Family
ID=31848620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1990103656U Expired - Lifetime JP2551539Y2 (ja) | 1990-10-03 | 1990-10-03 | 磁気テープ用蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2551539Y2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59121629A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-13 | Sharp Corp | 高透磁率合金膜の製造方法 |
| JPS59178626A (ja) * | 1983-03-29 | 1984-10-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製法 |
| JPS62196368A (ja) * | 1986-02-20 | 1987-08-29 | Fujitsu Ltd | パ−マロイ膜の蒸着方法 |
-
1990
- 1990-10-03 JP JP1990103656U patent/JP2551539Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0463114U (ja) | 1992-05-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5418348A (en) | Electron beam source assembly | |
| JP2551539Y2 (ja) | 磁気テープ用蒸着装置 | |
| JPH0711429A (ja) | 金属蒸気発生方法および装置 | |
| US3526206A (en) | Coating apparatus including electron beam evaporating means | |
| JPH04231458A (ja) | 電子ビーム蒸発源 | |
| JPS63472A (ja) | 真空成膜装置 | |
| JP3172588B2 (ja) | 真空蒸着における原料金属溶融方法 | |
| JP3961158B2 (ja) | 電子ビーム蒸発装置 | |
| JPH0329770Y2 (ja) | ||
| JP2864692B2 (ja) | 蒸着装置 | |
| JPS6199670A (ja) | イオンプレ−テイング装置 | |
| JPS6331550B2 (ja) | ||
| JPH0124837Y2 (ja) | ||
| JPS592108Y2 (ja) | フラツシユガン | |
| JPS61194172A (ja) | 蒸着装置用電子ビ−ム加熱装置 | |
| JPH01255663A (ja) | 真空蒸着方法及び真空蒸着装置 | |
| JPH01161259U (ja) | ||
| JPH0794708B2 (ja) | イオンプレーティング装置 | |
| JPH0617240A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPS6029942A (ja) | 垂直磁気記録体の製造法並に装置 | |
| JPH03226569A (ja) | イオンプレーティング装置 | |
| JPH051974B2 (ja) | ||
| JPH10152769A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPH0762240B2 (ja) | 電子ビーム蒸着用電子銃 | |
| JPH05182621A (ja) | リニア電子銃 |