JPH0329770Y2 - - Google Patents
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- JPH0329770Y2 JPH0329770Y2 JP3156584U JP3156584U JPH0329770Y2 JP H0329770 Y2 JPH0329770 Y2 JP H0329770Y2 JP 3156584 U JP3156584 U JP 3156584U JP 3156584 U JP3156584 U JP 3156584U JP H0329770 Y2 JPH0329770 Y2 JP H0329770Y2
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- Japan
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- evaporation source
- base film
- electron
- electron beam
- cooling drum
- Prior art date
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- Expired
Links
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- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 33
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔考案の分野〕
この考案は、高分子フイルムからなるベースフ
イルム上に磁性金属を真空蒸着して磁性膜を作製
し、磁気記録媒体を製造する装置に関する。
イルム上に磁性金属を真空蒸着して磁性膜を作製
し、磁気記録媒体を製造する装置に関する。
この種の磁気記録媒体は、高密度媒体としてそ
の実用化が図られつゝあるが、この磁気記録媒体
の量産化のためには、特に生産性や信頼性の向上
の観点から、蒸着効率が高く、かつ均一な磁性膜
が作製可能な製造装置の開発が前提となる。
の実用化が図られつゝあるが、この磁気記録媒体
の量産化のためには、特に生産性や信頼性の向上
の観点から、蒸着効率が高く、かつ均一な磁性膜
が作製可能な製造装置の開発が前提となる。
量産を目的とした従来の製造装置は、冷却ドラ
ムの周面に密着されて走行せしめられるベースフ
イルムの下位にコバルトやコバルト合金等の強磁
性金属からなる蒸発源を配置し、これに斜め上方
から電子線を照射し、同蒸発源から発生した蒸気
をベースフイルムの表面に入射させて磁性膜を作
製するものである。しかしこの従来の装置では、
比較的大型の電子銃を使用できる反面、電子銃の
配置と電子線の照射径路による制約から、蒸発源
とベースフイルムの距離を近づけることが困難で
あり、蒸着効率の点で不利がある。また同様の制
約から、蒸発源とベースフイルム側を仕切り、蒸
気の発生によつて生じる真空雰囲気の変動をベー
スフイルム側にできるだけ及ぼさないようにする
ことができず、蒸着の安定性の維持といつた点で
も自ずと限度がある。
ムの周面に密着されて走行せしめられるベースフ
イルムの下位にコバルトやコバルト合金等の強磁
性金属からなる蒸発源を配置し、これに斜め上方
から電子線を照射し、同蒸発源から発生した蒸気
をベースフイルムの表面に入射させて磁性膜を作
製するものである。しかしこの従来の装置では、
比較的大型の電子銃を使用できる反面、電子銃の
配置と電子線の照射径路による制約から、蒸発源
とベースフイルムの距離を近づけることが困難で
あり、蒸着効率の点で不利がある。また同様の制
約から、蒸発源とベースフイルム側を仕切り、蒸
気の発生によつて生じる真空雰囲気の変動をベー
スフイルム側にできるだけ及ぼさないようにする
ことができず、蒸着の安定性の維持といつた点で
も自ずと限度がある。
そこで、本件考案者らは、いわゆるピアス形電
子銃を蒸発源の側方に配置し、これから収束され
た電子線を蒸発源に照射させるという製造装置を
提案した。これにより、同蒸発源とベースフイル
ムとの距離をできるだけ接近させることができる
と同時に、蒸発源側とベースフイルム側を仕切壁
によつて遮断し、同壁に設けた照射窓を通してベ
ースフイルムに蒸気を入射させるといつた構成を
とることが可能となる。
子銃を蒸発源の側方に配置し、これから収束され
た電子線を蒸発源に照射させるという製造装置を
提案した。これにより、同蒸発源とベースフイル
ムとの距離をできるだけ接近させることができる
と同時に、蒸発源側とベースフイルム側を仕切壁
によつて遮断し、同壁に設けた照射窓を通してベ
ースフイルムに蒸気を入射させるといつた構成を
とることが可能となる。
この装置では、電子線をマグネツト等の電磁偏
向手段によつて蒸発源に掃引照射させるが、この
ときの掃引幅は、少なくともベースフイルムの幅
以上であることが必要である。換言すると、幅の
広いベースフイルムに磁性膜を作製する場合は、
それだけ電子線を広い幅で掃引することが必要と
なる。
向手段によつて蒸発源に掃引照射させるが、この
ときの掃引幅は、少なくともベースフイルムの幅
以上であることが必要である。換言すると、幅の
広いベースフイルムに磁性膜を作製する場合は、
それだけ電子線を広い幅で掃引することが必要と
なる。
ところが、この電子線の掃引幅は、ベースフイ
ルムの上に作製される磁性膜の均一性に大きな影
響を与え、その幅が広くなればなる程磁性膜の均
一性が悪化する。特にこの現象は、ベースフイル
ムと蒸発源間の距離を小さくした場合に顕著にな
ることから、ベースフイルムと蒸発源間の距離を
小さくした場合は、これによつて蒸着効率が向上
する反面、磁性膜の均一性が低下し、幅の広い磁
気記録媒体を製造することが困難になる。
ルムの上に作製される磁性膜の均一性に大きな影
響を与え、その幅が広くなればなる程磁性膜の均
一性が悪化する。特にこの現象は、ベースフイル
ムと蒸発源間の距離を小さくした場合に顕著にな
ることから、ベースフイルムと蒸発源間の距離を
小さくした場合は、これによつて蒸着効率が向上
する反面、磁性膜の均一性が低下し、幅の広い磁
気記録媒体を製造することが困難になる。
この考案は、こうした問題点に鑑みてなされた
ものであつて、幅の広いベースフイルムでもより
均一性の高い磁性膜を作製できる装置を提供せん
とするものである。
ものであつて、幅の広いベースフイルムでもより
均一性の高い磁性膜を作製できる装置を提供せん
とするものである。
以下、この考案の構成を図示の実施例に基づ
き、詳細に説明すると、第１図で示すように、真
空槽（図示せず、以下同じ）の中には、冷却ドラ
ム４が設けられ、一方のリール９から繰り出され
たベースフイルム５がこの冷却ドラム４の周面に
密着状態で添えられた後、他方のリール１０に巻
き取られるようになつている。
き、詳細に説明すると、第１図で示すように、真
空槽（図示せず、以下同じ）の中には、冷却ドラ
ム４が設けられ、一方のリール９から繰り出され
たベースフイルム５がこの冷却ドラム４の周面に
密着状態で添えられた後、他方のリール１０に巻
き取られるようになつている。
冷却ドラム４の下位にはコバルト或いはコバル
ト合金等の強磁性金属からなる蒸発源３が配置さ
れており、同蒸発源３は、第２図で示すようにベ
ースフイルム５の幅方向に細長い形状を持ち、そ
の長さはベースフイルム５の幅より長く設定され
ている。この蒸発源５は、仕切壁６によつてベー
スフイルム５側と区画された蒸発室１１の中に収
められており、この仕切壁６に開設された照射窓
７を介してベースフイルム５側に臨んでいる。さ
らにこの蒸発源３とベースフイルム５の間には蒸
気の入射角を規制するマスク８が設けられてい
る。
ト合金等の強磁性金属からなる蒸発源３が配置さ
れており、同蒸発源３は、第２図で示すようにベ
ースフイルム５の幅方向に細長い形状を持ち、そ
の長さはベースフイルム５の幅より長く設定され
ている。この蒸発源５は、仕切壁６によつてベー
スフイルム５側と区画された蒸発室１１の中に収
められており、この仕切壁６に開設された照射窓
７を介してベースフイルム５側に臨んでいる。さ
らにこの蒸発源３とベースフイルム５の間には蒸
気の入射角を規制するマスク８が設けられてい
る。
上記蒸発源３の側方には、その長手方向、即ち
ベースフイルム５の幅方向に間隔をおいて数基の
電子銃１，１…が何れも蒸発源３へ向けて配置さ
れている。そしてこれら電子銃１，１…から発射
される電子線EBの照射径路上には、それぞれマ
グネツト等の電子偏向手段２，２…が配置され、
これによつて上記電子線EBが蒸発源３に掃引照
射される。
ベースフイルム５の幅方向に間隔をおいて数基の
電子銃１，１…が何れも蒸発源３へ向けて配置さ
れている。そしてこれら電子銃１，１…から発射
される電子線EBの照射径路上には、それぞれマ
グネツト等の電子偏向手段２，２…が配置され、
これによつて上記電子線EBが蒸発源３に掃引照
射される。
図示の実施例では、第２図で示すように蒸発源
３の長手方向に等間隔で３つの電子銃１，１…が
配置されており、これらは電磁偏向手段２，２…
によつて蒸発源３の長さの概ね３分の１程度の幅
をもつて掃引される。
３の長手方向に等間隔で３つの電子銃１，１…が
配置されており、これらは電磁偏向手段２，２…
によつて蒸発源３の長さの概ね３分の１程度の幅
をもつて掃引される。
以上説明した通り、この考案では、各電子線
EBの掃引幅を小さくすることができることから、
ベースフイルム５と蒸発源３の距離が短い場合で
も、均一な磁性膜を作製することができ、高い蒸
着効率を維持したまゝ、比較的幅の広い磁気記録
媒体の製造にも対応できるようになる。
EBの掃引幅を小さくすることができることから、
ベースフイルム５と蒸発源３の距離が短い場合で
も、均一な磁性膜を作製することができ、高い蒸
着効率を維持したまゝ、比較的幅の広い磁気記録
媒体の製造にも対応できるようになる。
第１図は、この考案の実施例を示す側面説明
図、第２図は、同実施例における蒸発源、電子銃
及び電磁偏向手段の位置関係を示す要部平面説明
図である。 １……電子銃、２……電磁偏向手段、３……蒸
発源、４……冷却ドラム、５……ベースフイル
ム、６……仕切壁、７……照射窓、EB……電子
線。
図、第２図は、同実施例における蒸発源、電子銃
及び電磁偏向手段の位置関係を示す要部平面説明
図である。 １……電子銃、２……電磁偏向手段、３……蒸
発源、４……冷却ドラム、５……ベースフイル
ム、６……仕切壁、７……照射窓、EB……電子
線。
Claims (1)
- 真空槽内にベースフイルムが密着走行される冷
却ドラムと、磁性金属からなる蒸発源を配置し、
真空槽内にこれら冷却ドラム側と蒸発源側を仕切
る仕切壁を設けると共に、同壁に開設した照射窓
を介して蒸発源を冷却ドラム側に臨ませ、蒸発源
の側方に、収束された電子線を発射させるピアス
形電子銃と同電子線を蒸発源に掃引照射させる電
磁偏向手段を配置し、同電子線の照射により蒸発
源から発生した磁性金属の蒸気をベースフイルム
上に入射させて磁性膜を作製するようにした磁気
記録媒体の製造装置において、ベースフイルムの
幅方向に互いに間隔をおいて数基のピアス形電子
銃を配置し、これら電子銃の電子線照射径路上に
同電子線を蒸発源に掃引照射させる電磁偏向手段
をそれぞれ配置してなることを特徴とする磁気記
録媒体の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3156584U JPS60146919U (ja) | 1984-03-05 | 1984-03-05 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3156584U JPS60146919U (ja) | 1984-03-05 | 1984-03-05 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60146919U JPS60146919U (ja) | 1985-09-30 |
| JPH0329770Y2 true JPH0329770Y2 (ja) | 1991-06-25 |
Family
ID=30532288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3156584U Granted JPS60146919U (ja) | 1984-03-05 | 1984-03-05 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60146919U (ja) |
-
1984
- 1984-03-05 JP JP3156584U patent/JPS60146919U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60146919U (ja) | 1985-09-30 |
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