JPH0711429A

JPH0711429A - 金属蒸気発生方法および装置

Info

Publication number: JPH0711429A
Application number: JP15221593A
Authority: JP
Inventors: Yoshio Araki; 義雄荒木; Kazunori Shioda; 和則塩田
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1993-06-23
Filing date: 1993-06-23
Publication date: 1995-01-13

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】真空雰囲気中でるつぼ内の被蒸発物質の表面に
スポット的な電子ビームを２次元方向に移動させつつ照
射して、被蒸発物質の表面全体から金属蒸気を発生させ
る際、るつぼ内の蒸発面での温度分布の均一化ひいては
上方空間での蒸気密度の均一化を図るとともに、局所的
温度上昇に伴なう突沸現象を防止できる金属蒸気発生方
法とその装置を提供する。【構成】各偏向コイルエレメント１５ａ，１５ｂに供給
する偏向電流をそれぞれ発生させる１対の偏向電流発生
器１７，１８の一方１７で発生させる偏向電流を方形波
またはこれに類似する波形に設定するとともに、他方の
偏向電流発生器１８で発生させる偏向電流を三角波、正
弦波又は台形波に設定し、かつこれら両偏向電流周波数
を同一として互いに同期する波形に設定することによ
り、電子銃１２よりの電子ビームＥの照射軌跡を、被蒸
発物質１９の表面形状の輪殻に沿う閉ループ状に設定す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子ビームを被蒸発物質
に照射して加熱することにより金属蒸気を発生させる金
属蒸気発生方法および装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の金属蒸気発生方法および装置に
ついての従来技術を図９〜図１６によって説明する。

【０００３】図９は金属蒸気発生装置の基本構成を示し
ている。真空容器中に、被蒸発物質を収容したるつぼ１
と、このるつぼ１内の被蒸発物質の表面に電子ビームＥ
を照射する電子銃２とが設置される。

【０００４】電子銃２は電子を放出するカソード３、電
子加速用のアノード４、電子ビームの偏向コイル５等を
備えて構成される。即ち、カソード３およびアノード４
には高圧電源６から高電圧が印加されるようになってお
り、カソード３は負に、アノード４は正にそれぞれ荷電
される。そして、カソード３から放出された電子がアノ
ード４で加速され、アノード４にあけた開口部から電子
ビームＥとして放射される。

【０００５】この電子ビームＥは一点に向ってスポット
的に放射されるが、その進行経路途中に配置した偏向コ
イル５によって２次元的に偏向される。偏向コイル５は
１対のコイルエレメント５ａ，５ｂを備えており、この
各コイルエレメント５ａ，５ｂはそれぞれ電子ビーム偏
向用の偏向電流発生器７，８に接続されている。そし
て、各コイルエレメント５ａ，５ｂに流れる電流を偏向
電流発生器７，８でそれぞれ設定することにより、電子
ビームＥの照射方向を２次元的に変化させ、るつぼ１内
の被蒸発物質９表面で電子ビームＥを移動させながら、
その被蒸発物質９の表面全体を均等に加熱して金属蒸気
を発生させるようになっている。

【０００６】ところで、るつぼ１内の被蒸発物質９の表
面上に均等に電子ビームＥを照射する方法として、従来
では例えば図１０に示すように、るつぼ１が平面長方形
状である場合において電子ビームＥをジグザグ状に蛇行
する軌跡Ｇを描くように長手方向に往復させるようにし
ている。

【０００７】電子ビームＥをこのような軌跡で移動させ
る手段としては、偏向コイル５に供給する電流波形を例
えば図１１および図１２に示す如く設定することが行な
われている。

【０００８】図１１は一方のコイルエレメント５ａの偏
向電流発生器７に設定される電流波形を示し、長方形状
の被蒸発物質９の表面短手方向（図１０の上下方向）に
沿って電子ビームＥを偏向させるために三角波状の偏向
電流が設定される。また、図１２は他方のコイルエレメ
ント５ｂの偏向電流発生器８に設定される電流波形を示
し、被蒸発物質９の表面長手方向（図１０の左右方向）
に沿って電子ビームＥを偏向せさるために長周期の三角
波状の偏向電流が設定される。

【０００９】このように電子ビームＥによりるつぼ１内
の被蒸発物質９の表面に照射されるエネルギの密度は、
当該表面での電子ビームＥの軌跡の本数の密度と軌跡の
単位長さを電子ビームＥが通過するのに要する時間とに
比例するので、偏向コイル５の各コイルエレメント５
ａ，５ｂに流す電流の周波数を高めて、被蒸発物質９の
表面での電子ビームＥの蛇行ピッチを小さくすること
で、より均一にすることができる。

【００１０】図１３は、図１０における電子ビーム照射
範囲の被蒸発物質９の表面温度分布を示すグラフで、図
１０の長手方向両端部のＡ，Ｂ点間の状態を示す典型例
である。このデータは、るつぼ１の底部および周側部を
冷却している一般的な金属蒸気発生装置についてのもの
であり、この場合、るつぼ１の底部および周側部からの
熱伝導によって、加熱領域の中央部付近の表面温度が最
も高く（Ｔ₃）、周辺側の温度は次第に低下する
（Ｔ₂，Ｔ₁）ことが認められる。

【００１１】図１４は、図１３に対応して被蒸発物質９
の表面温度と蒸発速度との関係を例示したものである。
この図に示されるように、僅かな表面温度の差（Ｔ₁，
Ｔ₂，Ｔ₃）に対しても、蒸発速度は大きく異ることが
わかる。

【００１２】図１５は、このような蒸発速度の差に関連
して発生する、るつぼ上での各位置における、るつぼ上
方での蒸気密度の分布を示している。同図に示されるよ
うに、蒸気密度は、るつぼの中心部上方で最も高く、そ
こから離間するに従って急激に低下することがわかる。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】このような従来の金属
蒸気発生装置においては、比較的小型のるつぼを用いた
場合や、薄膜蒸着装置のように、るつぼ表面から被蒸着
物までの距離に比してるつぼ表面の加熱領域が十分小さ
い場合には、極端に高いエネルギ密度で電子ビームを照
射しない限りるつぼ表面での加熱集中がなく、安定な金
属蒸気発生が行えることが認められている。

【００１４】しかし、るつぼ表面から発生蒸気を利用す
る位置までの距離に対して、るつぼ表面の加熱領域の幅
や長さが十分小さくない場合、例えば大面積の対象に同
時に金属蒸着を行う場合等においては、前述した蒸気密
度の分布の不均一性が問題となることがある。

【００１５】一例として、図１６に示す金属薄膜蒸着装
置について説明する。同図の装置では、るつぼ１の上方
に被蒸着物１０が配置されており、るつぼ１内の被蒸発
物質９の斜め上方に電子銃２を構成するカソード３、ア
ノード４、電子ビーム偏向用の偏向コイル５等が配置さ
れている。この装置では、るつぼ１に対して斜め上方か
ら照射される電子ビームＥによって被蒸発物質９が加熱
され、発生する金属蒸気Ｖは上方の被蒸着物１０に向っ
て上昇し蒸着するが、この場合において被蒸着物１０の
蒸着面積が大きいと、その被蒸着物１０の蒸着面の中央
部分では蒸着膜厚が大きく、周辺部では蒸着膜厚が小さ
いなど、膜厚分布が不均一となる。この場合、るつぼ内
の蒸発面で表面温度の不均一が嵩じると、局所的温度上
昇等に伴う突沸現象、即ち原子状態での蒸発ではなく、
金属液滴や金属粒子あるいはクラスタ等の状態での飛
散、蒸発等が発生することもある。

【００１６】なお、電子ビームにより金属蒸気発生を行
う場合、照射された電子ビームが発生した金属蒸気中を
通過することになるので、電子ビームの加速電圧、電流
密度等の条件によっては電子と原子の相互作用により金
属蒸気がエネルギー励起され、蒸気中のかなりの原子が
電離する等不都合が発生することがある。

【００１７】その場合、高圧電源をパルス電源とし、電
子ビームが蒸気中を通過する時間を短縮させることによ
り電子と原子の相互作用の影響を低減させることができ
る。

【００１８】この方法によれば例えば電子ビームが出て
いる時間と割合を１％にすれば、金属蒸気のエネルギー
励起の影響を１％以下にすることができることになる。

【００１９】このように電子ビームが発射されている時
間が低い場合、パルスの繰り返し周波数を十分高くしな
いと、電子ビームを偏向させる場合に電子ビームの軌跡
が点の列となり、加熱の不均一が発生する等不都合があ
る。

【００２０】しかし、高圧電源の繰り返し周波数には技
術的な制約等による上限があるので、加熱均一化に必要
な繰り返し周波数を実現できないことがある。

【００２１】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、るつぼ内の蒸発面での温度分布の均一化ひいて
はるつぼ上方空間での蒸気密度の均一化が図れるととも
に、局所的温度上昇に伴なう突沸現象が防止でき、しか
もパルス高圧電源を使用してパルス電子ビームを照射す
る場合において、パルスの繰返し周波数を高くした場合
の加熱の均一化が図れる金属蒸気発生方法および装置を
提供することを目的とする。

【００２２】

【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに、本発明に係る金属蒸気発生方法は、真空雰囲気中
でるつぼ内の被蒸発物質の表面にスポット的な電子ビー
ムを２次元方向に移動させつつ照射して、前記被蒸発物
質の表面全体から金属蒸気を発生させる金属蒸気発生方
法において、前記電子ビームの照射軌跡を、前記被蒸発
物質の表面形状の輪殻に沿う閉ループ状に設定すること
を特徴とする。

【００２３】本発明では、被蒸発物質のビーム照射面の
形状が略四角形状である場合において、電子ビームの照
射軌跡を略四角形状、楕円形状またはこれらに類似する
閉ループ状に設定することが望ましい。

【００２４】また、本発明に係る金属蒸気発生装置は、
真空容器中に、被蒸発物質を収容したるつぼと、前記被
蒸発物質の表面に電子ビームを照射して加熱し金属蒸気
を発生させる電子銃とを設置した金属蒸気発生装置であ
って、前記電子銃はスポット的に電子を放出するカソー
ドと、このカソードから放出される電子を加速して電子
ビームとするアノードと、このアノードから出た電子ビ
ームを前記被蒸発物質の表面上に沿って２次元的に偏向
させる１対のコイルエレメントからなる偏向コイルと、
前記カソードおよびアノードを励起させる高圧電源と、
前記偏向コイルの各コイルエレメントに供給する偏向電
流をそれぞれ発生させる１対の偏向電流発生器とを備え
たものにおいて、前記偏向電流発生器の一方で発生させ
る偏向電流を方形波またはこれに類似する波形に設定す
るとともに、前記偏向電流発生器の他方で発生させる偏
向電流を三角波、正弦波または台形波に設定し、かつこ
れら両偏向電流周波数を同一として互いに同期する波形
に設定してなることを特徴とする。

【００２５】本発明の望ましい実施の態様として、電子
ビーム加速用の高圧電源がパルス高圧電源であることが
挙げられる。

【００２６】また、他の望ましい実施の態様として、高
圧電源の電圧および偏向電流発生器の電流波形は可変と
されており、これら高圧電源および偏向電流発生器を運
転条件に応じて制御する制御装置を備えたことが挙げら
れる。

【００２７】

【作用】本発明に係る金属蒸気発生方法によれば、電子
ビームの照射軌跡を被蒸発物質の表面形状の輪殻に沿う
閉ループ状に設定することで、同軌跡である閉ループの
外側と内側とに熱エネルギの伝導量を区分して、被蒸発
物質の表面温度を管理することが可能となる。したがっ
て、例えばるつぼの底部および側部が冷却される場合、
低温化し易い被蒸発物質の外周側と、熱エネルギの集中
によって高温化し易い同物質の中心側との加熱範囲を考
慮して照射軌跡の位置および形状を設定すれば、被蒸発
物質の表面全体の温度分布が均一化できるとともに、発
生する蒸気密度をるつぼの上方空間で均一化できるよう
になる。また、るつぼの表面温度の均一化により、局所
的温度上昇等に伴う突沸現象の発生も防止して、金属粒
子、クラスタ状態での飛散等が防止できるようになり、
これにより原子状態の蒸気発生の効率向上が図れるもの
となる。

【００２８】特に被蒸発物質のビーム照射面の形状が略
四角形状で、電子ビームの照射軌跡を略四角形状、楕円
形状またはこれらに類似する閉ループ状に設定する場合
には、既存の汎用タイプへの適用によって、実用的に大
きい効果が得られる。

【００２９】また、本発明に係る金属蒸気発生装置によ
れば、電子ビームを２次元的に偏向させる偏向コイルと
しての１対のコイルエレメントに偏向電流を供給するた
めの各偏向電流発生器のうち、一方では方形波またはこ
れに類似する波形の電流を発生させ、他方では三角波、
正弦波または台形波を発生させることにより、被蒸発物
質表面に照射する電子ビームの軌跡を略四角形状、楕円
形状等の閉ループ状に設定することができ、前記の方法
を有効的に実施することができる。

【００３０】この場合、電子ビーム加速用の高圧電源を
パルス電源とし、パルス電子ビーム照射によりビーム軌
跡を閉ループ状とすれば、被蒸発物質表面での電子ビー
ムの軌跡の長さが従来に比して短くなることから、電子
ビームの軌跡が点状になることによる表面温度不均一の
防止に必要なパルスの繰返し周波数は従来より低くても
良くなり、したがって最適条件実現への技術的制約を小
さくすることが可能となる。

【００３１】さらに、電子ビーム加速用高圧電源の電圧
および偏向コイル用偏向電流発生器の電流波形を可変と
し、これら高圧電源および偏向電流発生器を運転条件に
応じて制御する制御装置を備えた構成の場合には、るつ
ぼ内の被蒸発物質の液面変動や、必要とする蒸気密度と
その分布の変化等、運転条件の変化に応じた最適な状態
で金属蒸気発生用運転が行えるようになる。

【００３２】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。

【００３３】図１〜図６は第１実施例を示している。

【００３４】まず、図１によって装置構成を説明する。
真空容器中に、被蒸発物質を収容したるつぼ１１と、こ
のるつぼ１１内の被蒸発物質の表面に電子ビームＥを照
射する電子銃１２とが設置される。

【００３５】電子銃１２は電子を放出するカソード１
３、電子加速用のアノード１４、電子ビームの偏向コイ
ル１５等を備えて構成される。即ち、カソード１３およ
びアノード１４には高圧電源１６から高電圧が印加され
るようになっており、カソード１３は負に、アノード１
４は正にそれぞれ荷電される。そして、カソード１３か
ら放出された電子がアノード１４で加速され、アノード
１４にあけた開口部から電子ビームＥとして放射され
る。

【００３６】この電子ビームＥは一点に向ってスポット
的に放射されるが、その進行経路途中に配置した偏向コ
イル１５によって２次元的に偏向される。偏向コイル１
５は１対のコイルエレメント１５ａ，１５ｂを備えてお
り、この各コイルエレメント１５ａ，１５ｂはそれぞれ
電子ビーム偏向用の偏向電流発生器１７，１８に接続さ
れている。そして、各コイルエレメント１５ａ，１５ｂ
に流れる電流を偏向電流発生器１７，１８でそれぞれ設
定することにより、電子ビームＥの照射方向を２次元的
に変化させ、るつぼ１１内の被蒸発物質１９表面で電子
ビームＥを移動させながら、その被蒸発物質１９の表面
全体を均等に加熱して金属蒸気を発生させるようになっ
ている。

【００３７】そして、るつぼ１１内の被蒸発物質１９の
表面上に均等に電子ビームＥを照射する方法として、本
実施例では例えば図２に示すように、るつぼ１１が平面
長方形状である場合において、電子ビームＥの照射軌跡
Ｇが被蒸発物質１９の表面形状の輪殻に沿う閉ループ
状、即ち角が丸くなった四角形状に設定されている。

【００３８】このような電子ビームＥの照射軌跡Ｇを設
定するために、本実施例では偏向コイル１５の一方のコ
イルエレメント１５ａに偏向電流を供給する一方の偏向
電流発生器１７において、例えば図３に示すように、方
形波またはこれに類似する波形の偏向電流を発生させる
ようになっている。

【００３９】また、他方のコイルエレメント１５ｂに偏
向電流を供給するための他方の偏向電流発生器１８にお
いては、例えば図４に示すように、台形波すなわち頂部
が平らな三角波形の偏向電流を発生させるようになって
いる。

【００４０】さらに、両偏向電流発生器１７，１８に同
期信号発生器２０が接続され、この同期信号発生器２０
により、両偏向電流発生器１７，１８の偏向電流周波数
を同一にするとともに、互いに同期する波形に設定する
ようになっている。

【００４１】このように、偏向電流の波形設定によって
電子ビームの照射軌跡Ｇを被蒸発物質の表面輪殻に沿う
略四角形状とした場合には、同軌跡である閉ループの外
側と内側とに熱エネルギの伝導量を区分して、被蒸発物
質１９の表面温度を管理することが可能となる。したが
って、例えばるつぼ１１の底部および側部が冷却される
場合、低温化し易い被蒸発物質１９の外周側と、熱エネ
ルギの集中によって高温化し易い同物質の中心側との加
熱範囲を考慮して照射軌跡の位置および形状を設定すれ
ば、被蒸発物質１９の表面全体の温度分布が均一化でき
るとともに、発生する蒸気密度をるつぼ１１の上方空間
で均一化できるようになる。

【００４２】即ち、図２における軌跡Ｇの長手方向両端
部Ｇ₁，Ｇ₂は、図３および図４に示す電流の通電時刻
ｔ₁，ｔ₂にそれぞれ対応しており、この時刻ｔ₁，ｔ
₂付近で偏向電流が水平となっているため、るつぼ１１
上の電子ビームの軌跡Ｇの端部Ｇ₁，Ｇ₂付近で高く、
中央部で低い分布となっている。したがって、るつぼ１
１上での長手方向の表面温度分布は図５に示すように、
端部で幾らか高く、中央部がほぼ水平な分布となる。

【００４３】そして、このような表面温度分布が達成さ
れた場合、るつぼ１１上方での金属蒸気密度の分布は図
６に示すように、長手方向の蒸気密度の低下が少なくな
り、蒸気密度の均一化が達成される。

【００４４】また、るつぼ１１の表面温度の均一化によ
り、局所的温度上昇等に伴う突沸現象の発生も防止し
て、金属粒子、クラスタ状態での飛散等が防止できるよ
うになり、これにより原子状態の蒸気発生の効率向上が
図れるものとなる。

【００４５】図７は本発明の第２実施例の構成を示して
いる。本実施例では、電子ビーム加速用高圧電源がパル
ス高圧電源３０となっており、それに伴い同期信号発生
器３１からパルス高圧電源３０に供給される構成とした
ものである。但し、各電子ビーム偏向電流発生器１７，
１８へ供給する同期信号は互いに同一周波数の信号であ
るが、パルス高圧電源３０へ供給される同期信号はその
整数倍の周波数である。

【００４６】本実施例によれば、パルス高圧電源３０の
電圧印加時の時間比率を下げ、同電源３０のパルス繰り
返しを十分高くとることにより、るつぼ１１内の蒸発物
質１９から発生する金属蒸気中を電子ビームＥが通過し
て金属蒸気中の原子がエネルギー励起されて電離する不
都合を回避することが出来る。同時に、るつぼ１１表面
温度の不均一を低減でき、金属蒸発に伴う総合的な効率
を向上させることが出来る。

【００４７】図８は本発明の第３実施例を示している。
本実施例では、制御装置３２を設け、同期信号および偏
向電流の振幅を制御する信号を電子ビーム偏向電流発生
器１７，１８、パルス高圧電源３０へ供給するととも
に、カソード加熱電源３３の加熱用電流の制御信号も供
給する構成となっている。

【００４８】本実施例によれば、るつぼ１１内の蒸発物
質１９の液面レベルの変動や、必要とする蒸気密度とそ
の分布に応じて、制御装置３２により、カソード加熱電
源３３を制御し、カソード温度を変えて電子ビームの電
流を変更すること、パルス高圧電源３０を制御し、その
電圧やパルスの繰り返し、高電圧が印加されている時間
幅等の条件を変更すること、電子ビーム偏向電流発生器
１７，１８を制御し、その電流波形や振幅、繰り返し周
波数を変更すること等が可能であり、運転条件の変化に
伴い、最適な状態で金属蒸気発生装置を運転することが
できる。

【００４９】例えば、金属蒸気密度低下時にパルス高圧
電源３０の加速電圧を上げて加熱電力を上昇させ、蒸気
密度を一定に維持するとともに、加速電圧変更に伴い電
子ビーム軌道が変化するので電子ビーム偏向コイルの電
流波形を変化させ、一定の電子ビームの軌跡を維持する
等の制御が統括的に可能となる。

【００５０】なお、以上の各実施例では、アノード１４
およびカソード１３をるつぼ１１の上方に配置したが、
実際の蒸着装置に適用する場合には、図１６に示したよ
うに電子ビームを斜め方向から照射する横方向に変位さ
せてもよい。

【００５１】また、図示しないが、るつぼから発生した
金属蒸気が電子銃内部に進入しカソードの摩耗、絶縁低
下等の不都合が起こるのを防ぐため、アノードおよびカ
ソードをるつぼから直接見えない位置に設置できるよう
もう１組の電子ビーム偏向用磁場発生装置を備えた構成
としてもよい。

【００５２】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば従来の技
術に比較して、るつぼ内の蒸発面での表面温度分布の均
一化またはるつぼ上方の空間での蒸気密度分布の均一化
が図れ、るつぼ上方の広い範囲を有効に利用でき、金属
蒸気発生装置の総合的な効率を向上させることができ
る。また、るつぼ内の蒸発面での表面温度均一化によ
り、局所的温度上昇等に伴う突沸現象の発生を防止する
ことにより、原子状態の蒸気発生の効率を向上でき、さ
らに、パルス高圧電源を使用したパルス電子ビーム照射
による金属蒸気発生において、パルスの繰り返し周波数
を高くした場合の加熱の均一化が図れ、総合的な効率を
向上できる等の優れた効果が奏される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例を示す構成図。

【図２】同実施例による電子ビーム軌跡を示す平面図。

【図３】同実施例による一方の偏向電流の波形を示す
図。

【図４】同実施例による他方の偏向電流の波形を示す
図。

【図５】同実施例による被蒸発物質表面の温度分布を示
す図。

【図６】同実施例による被蒸発物質上方の温度分布を示
す図。

【図７】本発明の第２実施例を示す構成図。

【図８】本発明の第３実施例を示す構成図。

【図９】従来例を示す構成図。

【図１０】従来例による電子ビーム軌跡を示す平面図。

【図１１】従来例による一方の偏向電流の波形を示す
図。

【図１２】従来例による他方の偏向電流の波形を示す
図。。

【図１３】従来例による被蒸発物質表面の温度分布を示
す図。

【図１４】従来例による蒸発速度を示す図。

【図１５】従来例による被蒸発物質上方の温度分布を示
す図。

【図１６】金属蒸着装置の構成例を示す図。

【符号の説明】

１１るつぼ１２電子銃１３カソード１４電子加速用のアノード１５偏向コイル１６高圧電源１７，１８偏向電流発生器１９被蒸発物質２０同期信号発生器３０パルス高圧電源３２制御装置３３カソード加熱電源Ｅ電子ビームＧ電子ビームの照射軌跡

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】真空雰囲気中でるつぼ内の被蒸発物質の
表面にスポット的な電子ビームを２次元方向に移動させ
つつ照射して、前記被蒸発物質の表面全体から金属蒸気
を発生させる金属蒸気発生方法において、前記電子ビー
ムの照射軌跡を、前記被蒸発物質の表面形状の輪殻に沿
う閉ループ状に設定することを特徴とする金属蒸気発生
方法。
【請求項２】被蒸発物質のビーム照射面の形状が略四
角形状である場合において、電子ビームの照射軌跡を略
四角形状、楕円形状またはこれらに類似する閉ループ状
に設定することを特徴とする請求項１に記載の金属蒸気
発生方法。
【請求項３】真空容器中に、被蒸発物質を収容したる
つぼと、前記被蒸発物質の表面に電子ビームを照射して
加熱し金属蒸気を発生させる電子銃とを設置した金属蒸
気発生装置であって、前記電子銃はスポット的に電子を
放出するカソードと、このカソードから放出される電子
を加速して電子ビームとするアノードと、このアノード
から出た電子ビームを前記被蒸発物質の表面上に沿って
２次元的に偏向させる１対のコイルエレメントからなる
偏向コイルと、前記カソードおよびアノードを励起させ
る高圧電源と、前記偏向コイルの各コイルエレメントに
供給する偏向電流をそれぞれ発生させる１対の偏向電流
発生器とを備えたものにおいて、前記偏向電流発生器の
一方で発生させる偏向電流を方形波またはこれに類似す
る波形に設定するとともに、前記偏向電流発生器の他方
で発生させる偏向電流を三角波、正弦波または台形波に
設定し、かつこれら両偏向電流周波数を同一として互い
に同期する波形に設定してなることを特徴とする金属蒸
気発生装置。
【請求項４】電子ビーム加速用の高圧電源がパルス高
圧電源であることを特徴とする請求項３に記載の金属蒸
気発生装置。
【請求項５】高圧電源の電圧および偏向電流発生器の
電流波形は可変とされており、これら高圧電源および偏
向電流発生器を運転条件に応じて制御する制御装置を備
えたことを特徴とする請求項３または４に記載の金属蒸
気発生装置。