JPS592108Y2 - フラツシユガン - Google Patents

フラツシユガン

Info

Publication number
JPS592108Y2
JPS592108Y2 JP14476980U JP14476980U JPS592108Y2 JP S592108 Y2 JPS592108 Y2 JP S592108Y2 JP 14476980 U JP14476980 U JP 14476980U JP 14476980 U JP14476980 U JP 14476980U JP S592108 Y2 JPS592108 Y2 JP S592108Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nozzle
evaporation
wire
gun
flash gun
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP14476980U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5769858U (ja
Inventor
実 亀谷
昭夫 佐々木
Original Assignee
ティーディーケイ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ティーディーケイ株式会社 filed Critical ティーディーケイ株式会社
Priority to JP14476980U priority Critical patent/JPS592108Y2/ja
Publication of JPS5769858U publication Critical patent/JPS5769858U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPS592108Y2 publication Critical patent/JPS592108Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、金属等の蒸着に使用されるフラッシュガン(
電子銃)に係り、とくにそのノズル部分の構造の改良に
関する。
従来より蒸着においては、金属等の蒸発物質を蒸発させ
るためにるつぼを有する蒸発源が使用されていた。
しかし、るつぼを使用した蒸発源では、蒸着すべきサブ
ストレート(基板)の位置はるつぼの上方に限定される
一方、フラッシュガンは蒸着方向を任意の方向に設定で
きる利点があり、最近るつぼを有する蒸発源の代りに使
用されるようになってきている。
第1図及び第2図にそのようにフラッシュガンの基本的
構成を示す。
これらの図において、本体1の先端面中央には水冷式の
ノズル2が設けられ、このノズル2に蒸発線材供給機構
部の供給ローラー3を介して蒸発物質の蒸発線材4が供
給されるようになっている。
一方、本体1には電子ビームBを放出するタングステン
フィラメント5と、電子ビームBをノズル2に照射させ
るように270°偏向させるための偏向コイル及びマグ
ネット部6とが設けられ、さらに本体1に一体に電子ビ
ーム集束作用を果す電極7が形成されている。
なお、前記フィラメント5には高圧端子8を介して高電
圧が印加され、偏向コイル及びマグネット部6には低圧
端子9を介して低圧電源が接続される。
以上の場合、蒸発物質の蒸発線材4は、蒸発線材用リー
ルより引出されて供給ローラー3に挟持された状態でノ
ズル2に送り込まれる。
ノズル2に送り込まれた蒸発線材4はタングステンフィ
ラメント5より放出された電子ビームBによって溶融し
、さらに陽イオンとなって蒸発する。
このとき、サブストレート10側を負電位とすれば、蒸
発した蒸発物質はサブストレー)10に引かれて蒸着す
る。
このとき、周囲の圧力は10−3乃至10 torrに
保たれている。
ところで、ノズル2の先端面の形状は丸形であるため、
サブストレート10の蒸着膜厚はCOSθに略比例した
分布となる。
(但し、θはノズル軸線を基準とした蒸着方向の角度で
ある。
)このため、角形マスク使用の場合には第3図の如く中
心部が膜厚大で、中心から離れるに従って膜厚が薄くな
る。
従って、隅部Xは極度に膜が薄くなり、実用上蒸着が困
難となる。
本考案は、上記の点に鑑み、ノズル先端面の形状を複数
の円弧を有する画形に構成することにより、角形マスク
使用時の隅部の蒸着分布の改善を図ったフラッシュガン
を提供しようとするものである。
以下、本考案に係るフラッシュガンの実施例を図面に従
って説明する。
第4図において、ノズル2Aは複数の円弧を有する画形
の先端面20を有しており、中心部には蒸発線材4を挿
通するための蒸発線材挿通穴11が形成されている。
この場合、従来よりも電子ビームスポットを拡げ、パワ
ーを上げて蒸発線材4の溶融金属が先端面20の全面を
覆いかつ先端面20より安定した蒸着が行われるように
する。
この結果、蒸着分布は第5図の如くなり、方形の分布に
近ずくから角形マスクを使用した場合の隅部の蒸着分布
の改善を図ることができる。
なお、ノズル2Aの形状以外は従来と同様の構造を採用
可能である。
叙上のように、本考案によれば、ノズル先端面を画形に
形成することにより、蒸着分布の改善を図ることが可能
なフラッシュガンを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はフラッシュガンの基本的構成を示す正面図、第
2図は同平面図、第3図は従来の場合の蒸着分布を示す
説明図、第4図は本考案に係るフラッシュガンの実施例
であってノズル部分を示す平面図、第5図は実施例の場
合の蒸着分布を示す説明図で゛ある。 1・・・・・・本体、2,2A・・・・・・ノズル、4
・・・・・・蒸着線材、10・・・・・・サブストレー
ト、11・・・・・・蒸発線材挿通穴、20・・・・・
・先端面。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 蒸発線材の供給を受けるノズルに電子ビームを当てて該
    ノズルにて前記蒸発線材を溶融蒸発させるフラッシュガ
    ンにおいて、前記ノズルの先端面の形状を複数の円弧を
    有する画形に構成したことを特徴とするフラッシュガン
JP14476980U 1980-10-13 1980-10-13 フラツシユガン Expired JPS592108Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14476980U JPS592108Y2 (ja) 1980-10-13 1980-10-13 フラツシユガン

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14476980U JPS592108Y2 (ja) 1980-10-13 1980-10-13 フラツシユガン

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5769858U JPS5769858U (ja) 1982-04-27
JPS592108Y2 true JPS592108Y2 (ja) 1984-01-20

Family

ID=29504454

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14476980U Expired JPS592108Y2 (ja) 1980-10-13 1980-10-13 フラツシユガン

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS592108Y2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5769858U (ja) 1982-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2168233C2 (ru) Катод для распыления или электродугового испарения (варианты) и устройство для покрытия или ионной имплантации подложек
EP0334204A2 (de) Verfahren und Anlage zur Beschichtung von Werkstücken
JPS592108Y2 (ja) フラツシユガン
JP2968800B2 (ja) 電解コンデンサ用電極材料の製造方法
JP3143801B2 (ja) イオンプレーティング装置
US5905753A (en) Free-standing rotational rod-fed source
KR20010021341A (ko) 아크형 이온 플레이팅 장치
JP2946387B2 (ja) イオンプレーティング装置
JPH0641727A (ja) 物質の真空蒸発方法および装置、プラズマアーク点火方法、およびこれらの方法の応用
JP4019457B2 (ja) アーク式蒸発源
JPH089776B2 (ja) イオンプレーティング方法および装置
JP3961158B2 (ja) 電子ビーム蒸発装置
JPS6348931Y2 (ja)
JP3554030B2 (ja) 小型熱電子真空アーク蒸発源
JPH05339719A (ja) 真空蒸着における原料金属溶融方法
JPH0232683Y2 (ja)
JP2689929B2 (ja) 蒸発源
JP4073158B2 (ja) 電子ビーム装置
US9840765B2 (en) Systems and method of coating an interior surface of an object
JPH04346664A (ja) 電子ビーム加熱式蒸着装置
JPH09263933A (ja) 蒸着装置におけるるつぼ部機構
DE4105014A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum ionenbeschichten oder reaktivverdampfen
JP2551539Y2 (ja) 磁気テープ用蒸着装置
JP2000282223A (ja) 成膜装置及び方法
JPS6147221B2 (ja)