JP2542527B2 - 図形処理装置における図形描画方法 - Google Patents
図形処理装置における図形描画方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、プリント基板設計装置などにおける図形
パターンの描画方法に関し、特に図形パターン相互の間
隔を所望の間隔で描くことのできる描画方法に関する。
パターンの描画方法に関し、特に図形パターン相互の間
隔を所望の間隔で描くことのできる描画方法に関する。
中央処理装置と、これに接続される入力装置、デイス
プレイ装置、出力装置、記憶装置等から構成され、対話
型処理によってプリント基板の設計をおこなうプリント
基板設計装置は既に知られている。
プレイ装置、出力装置、記憶装置等から構成され、対話
型処理によってプリント基板の設計をおこなうプリント
基板設計装置は既に知られている。
例えば、第４図（Ａ）のように、既に登録されている
円弧パターンA1の外側に同心の円弧パターンB1を作成す
る場合、作業者は、オフセツト命令を入力し、既登録図
形（すなわち円弧パターンA1）を指定するとともにカー
ソルによって新たに作成するパターン（すなわち円弧パ
ターンB1）の方向を入力する。更に、作業者は、新たに
作成する円弧パターンB1の中心線NB1を想定し、それと
既登録図形パターン（円弧パターンA1）の中心線NA1と
の間隔d1を入力する。すると、装置は新たに円弧パター
ンB1を作成するのである。また、第４図（Ｂ）のように
既に登録されている直線パターンA2に平行に新たな直線
パターンB2を作成する場合も同様に、作業者は、オフセ
ツト命令入力、既登録図形（すなわち直線パターンA2）
の指定、カーソルによる方向入力を行う。更に、作業者
は、新たに作成する直線パターンB2の中心線NB2を想定
し、それと既登録図形パターン（直線パターンA2）の中
心線NA2との間隔d2を入力する。すると、装置は新たに
直線パターンB2を作成するのである。
円弧パターンA1の外側に同心の円弧パターンB1を作成す
る場合、作業者は、オフセツト命令を入力し、既登録図
形（すなわち円弧パターンA1）を指定するとともにカー
ソルによって新たに作成するパターン（すなわち円弧パ
ターンB1）の方向を入力する。更に、作業者は、新たに
作成する円弧パターンB1の中心線NB1を想定し、それと
既登録図形パターン（円弧パターンA1）の中心線NA1と
の間隔d1を入力する。すると、装置は新たに円弧パター
ンB1を作成するのである。また、第４図（Ｂ）のように
既に登録されている直線パターンA2に平行に新たな直線
パターンB2を作成する場合も同様に、作業者は、オフセ
ツト命令入力、既登録図形（すなわち直線パターンA2）
の指定、カーソルによる方向入力を行う。更に、作業者
は、新たに作成する直線パターンB2の中心線NB2を想定
し、それと既登録図形パターン（直線パターンA2）の中
心線NA2との間隔d2を入力する。すると、装置は新たに
直線パターンB2を作成するのである。
さらに、第４図（Ｃ）のように、既に登録されている
円形ランドA3の外側に円パターンB3を作成する場合、作
業者がこの円パターンB3の中心線NB3の半径RLNを計算し
ておき、円を作成する命令、計算した半径RLN、及び円
パターンの巾WCを装置に入力すると、装置が円パターン
B3を作成するのである。
円形ランドA3の外側に円パターンB3を作成する場合、作
業者がこの円パターンB3の中心線NB3の半径RLNを計算し
ておき、円を作成する命令、計算した半径RLN、及び円
パターンの巾WCを装置に入力すると、装置が円パターン
B3を作成するのである。
このように、従来の装置では敗戦パターンの中心線を
求めることが必要であり、そのため多くの工数を要し、
しかも作図後不用となる作業線を一旦描くという動作が
必要であるために、繁雑な作業となり作業効率の悪いも
のであった。
求めることが必要であり、そのため多くの工数を要し、
しかも作図後不用となる作業線を一旦描くという動作が
必要であるために、繁雑な作業となり作業効率の悪いも
のであった。
上記のように、配線パターンの中心線の情報と線巾情
報に基いて設計するときは、繁雑な計算を必要とする。
また、中心線の間隔をあらかじめ定めておけば設計は容
易になるが、線巾の異なる配線パターンが含まれるとき
は、パターン間隔が設計ルールよりも狭くなる場合が生
じ、これをさけるため中心線間隔を広めに設定すれば高
密度の設計ができないという欠点があった。
報に基いて設計するときは、繁雑な計算を必要とする。
また、中心線の間隔をあらかじめ定めておけば設計は容
易になるが、線巾の異なる配線パターンが含まれるとき
は、パターン間隔が設計ルールよりも狭くなる場合が生
じ、これをさけるため中心線間隔を広めに設定すれば高
密度の設計ができないという欠点があった。
この発明は上記課題を解決するため、図形要素を描画
する際に、図形要素の中心線を基準とするほか、図形要
素の外形線を基準とする描画方法を導入し、これらの描
画方法を選択可能としたものであって、中央処理装置
と、これに接続された入力装置、出力装置、表示装置及
び記憶装置を備え、表示装置上に図形情報を可視的に表
示し、これを観察しながら図形処理をおこなう図形処理
装置において、図形要素の中心線を基準とするか外形線
を基準とするかを決定し、入力された図形間隔を決定さ
れた基準に基づいて既登録図形と新図形との中心線間隔
もしくは外形線間隔のいずれかと判断し、該間隔及び指
定された既登録図形の演算処理をして描画する新図形の
情報を決定することを特徴とするものである。
する際に、図形要素の中心線を基準とするほか、図形要
素の外形線を基準とする描画方法を導入し、これらの描
画方法を選択可能としたものであって、中央処理装置
と、これに接続された入力装置、出力装置、表示装置及
び記憶装置を備え、表示装置上に図形情報を可視的に表
示し、これを観察しながら図形処理をおこなう図形処理
装置において、図形要素の中心線を基準とするか外形線
を基準とするかを決定し、入力された図形間隔を決定さ
れた基準に基づいて既登録図形と新図形との中心線間隔
もしくは外形線間隔のいずれかと判断し、該間隔及び指
定された既登録図形の演算処理をして描画する新図形の
情報を決定することを特徴とするものである。
図形要素の中心線を基準とする図形要素の設計のほ
か、図形要素の外形線を基準とする図形要素設計を可能
にするから、設計ルールの限界まで接近した高密度の図
形要素の設計が容易におこなえる。
か、図形要素の外形線を基準とする図形要素設計を可能
にするから、設計ルールの限界まで接近した高密度の図
形要素の設計が容易におこなえる。
以下、この発明の実施例について説明する。
第１図はこの発明を実施するに適したプリント基板設
計装置の全体構成を示すブロツク図であって、１は中央
処理装置、２はキーボード、３はデジタイザ、４はシス
テムプログラムの格納された外部記憶装置、５は設計さ
れたプリント基板の設計データの格納された設計データ
フアイル、６はプリンタ、７はCRTなどを使用した表示
装置、８は設計データフアイル５に格納された設計デー
タのうち必要なデータを作業のために一時記憶するメモ
リである。
計装置の全体構成を示すブロツク図であって、１は中央
処理装置、２はキーボード、３はデジタイザ、４はシス
テムプログラムの格納された外部記憶装置、５は設計さ
れたプリント基板の設計データの格納された設計データ
フアイル、６はプリンタ、７はCRTなどを使用した表示
装置、８は設計データフアイル５に格納された設計デー
タのうち必要なデータを作業のために一時記憶するメモ
リである。
プリント基板設計装置による基板設計は次のようにし
て行われる。まず、キーボード２からシステムプログラ
ムのロードを指令し、外部記憶装置４に格納されている
プログラムをCPU1にロードして装置を起動する。設計デ
ータフアイル５に格納されている設計データの中から所
望のプリント基板設計データを読み出して表示装置７上
に基板図形を表示し、表示された図形を見ながら対話処
理により図形に修正を加え、あるいは新たに図形を設計
してゆく。
て行われる。まず、キーボード２からシステムプログラ
ムのロードを指令し、外部記憶装置４に格納されている
プログラムをCPU1にロードして装置を起動する。設計デ
ータフアイル５に格納されている設計データの中から所
望のプリント基板設計データを読み出して表示装置７上
に基板図形を表示し、表示された図形を見ながら対話処
理により図形に修正を加え、あるいは新たに図形を設計
してゆく。
次に、本発明の実施例にかかる図形描画方法について
第２図及び第３図を用いて説明する。第２図は本発明の
図形描画方法に従って作成される図形を示し、第３図は
これを実現するための第１図図示のCPU1及び作業者の動
作を示すフローチヤートである。まず、このフローチヤ
ートの動作は、作業者が「オフセツト」のコマンドを入
力することによって開始される。すると、ステツプ＃１
で作業者は新たに作成する図形のために参照されるべき
既に登録されている図形を指定する。さらに、ステツプ
＃２では、作業者が、「既に登録されている図形の中心
線と新たに作成する図形の中心線との間隔として間隔デ
ータｄを入力する」という設計ルール（以下これを中心
基準という）を用いるか、「既に登録されている図形の
外形線と新たに作成する図形の外形線との間隔として間
隔データｄを入力する」という設計ルール（以下これを
エツジ基準という）を用いるかを指定する。すると、CP
U1は、ステツプ＃３で、この指定された設計ルールが中
心基準かエツイ基準かを判別する。この判別によって中
心基準と判別されればステツプ＃４に進んでフラグＦを
“0"にセツトし、エツジ基準と判別されればステツプ＃
５に進んでフラグＦを“1"にセツトする。そして、ステ
ツプ＃６では、作業者が間隔データｄと線巾データWdと
を入力する。すると、ステツプ＃７に進んで、CPU1はス
テツプ＃１で指定された図形が直線であるか、円弧であ
るか、ランドであるかを判別する。
第２図及び第３図を用いて説明する。第２図は本発明の
図形描画方法に従って作成される図形を示し、第３図は
これを実現するための第１図図示のCPU1及び作業者の動
作を示すフローチヤートである。まず、このフローチヤ
ートの動作は、作業者が「オフセツト」のコマンドを入
力することによって開始される。すると、ステツプ＃１
で作業者は新たに作成する図形のために参照されるべき
既に登録されている図形を指定する。さらに、ステツプ
＃２では、作業者が、「既に登録されている図形の中心
線と新たに作成する図形の中心線との間隔として間隔デ
ータｄを入力する」という設計ルール（以下これを中心
基準という）を用いるか、「既に登録されている図形の
外形線と新たに作成する図形の外形線との間隔として間
隔データｄを入力する」という設計ルール（以下これを
エツジ基準という）を用いるかを指定する。すると、CP
U1は、ステツプ＃３で、この指定された設計ルールが中
心基準かエツイ基準かを判別する。この判別によって中
心基準と判別されればステツプ＃４に進んでフラグＦを
“0"にセツトし、エツジ基準と判別されればステツプ＃
５に進んでフラグＦを“1"にセツトする。そして、ステ
ツプ＃６では、作業者が間隔データｄと線巾データWdと
を入力する。すると、ステツプ＃７に進んで、CPU1はス
テツプ＃１で指定された図形が直線であるか、円弧であ
るか、ランドであるかを判別する。
ここで、まず、第２図（Ａ）（Ｂ）のように、予め設
計データフアイル５に既に登録されている直線パタンA1
を参照して新たに別の直線パターンB1を作成する場合に
ついて説明する。この場合には、ステツプ＃１で直線が
指定されているので、ステツプ＃７からステツプ＃８に
進む。ステツプ＃８では、作業者が新たに作成する図形
の配置方向をカーソルによって指定する。すると、ステ
ツプ＃９でCPU1がこの指定された座標（XE,YE）を取得
する。さらに、CPU1は、ステツプ＃10で、設計データフ
アイル５から直線パターンA1に関する情報を取り出して
メモリ８に格納する。この情報には、直線パターンA1の
始点座標（X1,Y1）、終点座標（X2,Y2）、及び線巾W1が
含まれる。更に、ステツプ＃11で、CPU1は取り出された
始点座標及び終点座標から角度θを算出する。CPU1は、
ステツプ＃12で、これらの情報と取得された座標（XE,Y
E）とから新たに作成される直線パターンB1の配置方向
を示す情報Ｃを算出する。ここで、配置方向情報Ｃは、
座標（XE,YE）が既に登録されている直線パターンA1の
上方向の位置を示す場合“＋1"となり、下方向の位置を
示す場合“−1"となる。そして、ステツプ＃13に進み、
CPU1は新たに作成されるべき直線パターンB1の始点座標
（XN1,YN1）、終点座標（XN2,YN2）、角度θＮ、及び線
巾WNを算出する。ここで、直線パターンB1に関する情報
は以下のように算出される。
計データフアイル５に既に登録されている直線パタンA1
を参照して新たに別の直線パターンB1を作成する場合に
ついて説明する。この場合には、ステツプ＃１で直線が
指定されているので、ステツプ＃７からステツプ＃８に
進む。ステツプ＃８では、作業者が新たに作成する図形
の配置方向をカーソルによって指定する。すると、ステ
ツプ＃９でCPU1がこの指定された座標（XE,YE）を取得
する。さらに、CPU1は、ステツプ＃10で、設計データフ
アイル５から直線パターンA1に関する情報を取り出して
メモリ８に格納する。この情報には、直線パターンA1の
始点座標（X1,Y1）、終点座標（X2,Y2）、及び線巾W1が
含まれる。更に、ステツプ＃11で、CPU1は取り出された
始点座標及び終点座標から角度θを算出する。CPU1は、
ステツプ＃12で、これらの情報と取得された座標（XE,Y
E）とから新たに作成される直線パターンB1の配置方向
を示す情報Ｃを算出する。ここで、配置方向情報Ｃは、
座標（XE,YE）が既に登録されている直線パターンA1の
上方向の位置を示す場合“＋1"となり、下方向の位置を
示す場合“−1"となる。そして、ステツプ＃13に進み、
CPU1は新たに作成されるべき直線パターンB1の始点座標
（XN1,YN1）、終点座標（XN2,YN2）、角度θＮ、及び線
巾WNを算出する。ここで、直線パターンB1に関する情報
は以下のように算出される。
XN1＝X1−Ｃ・Ｄ・sinθ YN1＝Y1＋Ｃ・Ｄ・cosθ XN2＝X2−Ｃ・Ｄ・sinθ YN2＝Y2＋Ｃ・Ｄ・cosθ 但し、Ｄ＝ｄ＋［（W1/2）＋（Wd/2）］×Ｆ θＮ＝θ WN＝Wd ここで、第２図（Ａ）のように中心基準の場合はフラ
グＦ＝０であるからＤ＝ｄとなり、第２図（Ｂ）のよう
にエツジ基準の場合はフラグＦ＝１であるから、Ｄ＝ｄ
＋［（W1/2）＋（Wd/2）］となるので、エツジ基準によ
つて設定された間隔データｄは中心基準の間隔データＤ
に変換され、いずれの場合でも同様に新図形に関するデ
ータが算出される。
グＦ＝０であるからＤ＝ｄとなり、第２図（Ｂ）のよう
にエツジ基準の場合はフラグＦ＝１であるから、Ｄ＝ｄ
＋［（W1/2）＋（Wd/2）］となるので、エツジ基準によ
つて設定された間隔データｄは中心基準の間隔データＤ
に変換され、いずれの場合でも同様に新図形に関するデ
ータが算出される。
次に第２図（Ｃ）（Ｄ）のように、予め設計データフ
アイル５に既に登録されている円弧パターンA2を参照し
て新たに別の円弧パターンB2を作成する場合について説
明する。この場合には、ステツプ＃１で円弧が指定され
ているので、ステツプ＃７からステツプ＃14に進む。ス
テツプ＃14では、作業者が新たに作成する図形の配置方
向をカーソルによって指定する。すると、ステツプ＃15
でCPU1がこの指定された座標（XE,YE）を取得する。さ
らに、CPU1はステツプ＃16で、設計データフアイル５か
ら円弧パターンA2に関する情報を取り出してメモリ８に
格納する。この情報には、円弧パターンA2の中心座標
（XC,YC）、中心線の半径RC、始角θ1,終角θ2,及び線
巾WCが含まれる。
アイル５に既に登録されている円弧パターンA2を参照し
て新たに別の円弧パターンB2を作成する場合について説
明する。この場合には、ステツプ＃１で円弧が指定され
ているので、ステツプ＃７からステツプ＃14に進む。ス
テツプ＃14では、作業者が新たに作成する図形の配置方
向をカーソルによって指定する。すると、ステツプ＃15
でCPU1がこの指定された座標（XE,YE）を取得する。さ
らに、CPU1はステツプ＃16で、設計データフアイル５か
ら円弧パターンA2に関する情報を取り出してメモリ８に
格納する。この情報には、円弧パターンA2の中心座標
（XC,YC）、中心線の半径RC、始角θ1,終角θ2,及び線
巾WCが含まれる。
更に、ステツプ＃17で、CPU1はこれらの情報と取得さ
れた座標（XE,YE）とから新たに作成される円弧パター
ンB2の配置方向を示す情報Ｃを算出する。ここで、配置
方向情報Ｃは、座標（XE,YE）が既に登録されている円
弧パターンA2の内側の位置を示す場合“−1"となり、外
側の位置を示す場合“＋1"となる。そして、ステツプ＃
18に進み、CPU1は新たに作成されるべき円弧パターンB2
の中心座標（XCN,YCN）、中心線の半径RCN,始角θN1,終
角θN2,及び線巾WCNを算出する。ここで、円弧パターン
B2に関する情報は以下のように算出される。
れた座標（XE,YE）とから新たに作成される円弧パター
ンB2の配置方向を示す情報Ｃを算出する。ここで、配置
方向情報Ｃは、座標（XE,YE）が既に登録されている円
弧パターンA2の内側の位置を示す場合“−1"となり、外
側の位置を示す場合“＋1"となる。そして、ステツプ＃
18に進み、CPU1は新たに作成されるべき円弧パターンB2
の中心座標（XCN,YCN）、中心線の半径RCN,始角θN1,終
角θN2,及び線巾WCNを算出する。ここで、円弧パターン
B2に関する情報は以下のように算出される。
RCN＝RC＋Ｃ・Ｄ 但し、Ｄ＝ｄ＋［（WC/2）＋（Wd/2）］×Ｆ XCN＝XC YCN＝YC WCN＝Wd θN1＝θ1,θN2＝θ２ 尚、ここで作業者が新たに作成されるべき円弧パター
ンB2の始角θB,終角θＦを設定できるようにして、円弧
パターンB2の始角θN1,終角θN2を θN1＝θB,θN2＝θＦ と算出するようにしてもよい。
ンB2の始角θB,終角θＦを設定できるようにして、円弧
パターンB2の始角θN1,終角θN2を θN1＝θB,θN2＝θＦ と算出するようにしてもよい。
ここで、第２図（Ｃ）のように中心基準である場合は
フラグＦ＝０であるから、Ｄ＝ｄとなり、第２図（Ｄ）
のようにエツジ基準である場合はフラグＦ＝１であるか
ら、Ｄ＝ｄ＋［（Wc/2）＋（Wd/2）］となるので、エツ
ジ基準によって設定された間隔データｄは中心基準の間
隔データＤに変換され、いずれの場合でも同様に新図形
に関するデータが算出される。
フラグＦ＝０であるから、Ｄ＝ｄとなり、第２図（Ｄ）
のようにエツジ基準である場合はフラグＦ＝１であるか
ら、Ｄ＝ｄ＋［（Wc/2）＋（Wd/2）］となるので、エツ
ジ基準によって設定された間隔データｄは中心基準の間
隔データＤに変換され、いずれの場合でも同様に新図形
に関するデータが算出される。
次に第２図（Ｅ）（Ｆ）のように、予め設定データフ
アイル５に既に登録されているランドパターンA3を参照
して新たに円弧パターンB3を作成する場合について説明
する。この場合には、ステツプ＃１でランドが指定され
ているので、ステツプ＃７からステツプ＃19に進む。ス
テツプ＃19では、設計データフアイル５からランドパタ
ーンA3に関する情報を取り出してメモリ８に格納する。
この情報には、ランドパターンA3の中心座標（XL,YL）
及び半径RLが含まれる。そして、ステツプ＃20に進み、
CPU1に新たに作成されるべき円弧パターンB3の中心座標
（XC,YC）、半径RC、及び線巾WCを算出する。ここで、
円弧パターンB3に関する情報は以下のように算出され
る。
アイル５に既に登録されているランドパターンA3を参照
して新たに円弧パターンB3を作成する場合について説明
する。この場合には、ステツプ＃１でランドが指定され
ているので、ステツプ＃７からステツプ＃19に進む。ス
テツプ＃19では、設計データフアイル５からランドパタ
ーンA3に関する情報を取り出してメモリ８に格納する。
この情報には、ランドパターンA3の中心座標（XL,YL）
及び半径RLが含まれる。そして、ステツプ＃20に進み、
CPU1に新たに作成されるべき円弧パターンB3の中心座標
（XC,YC）、半径RC、及び線巾WCを算出する。ここで、
円弧パターンB3に関する情報は以下のように算出され
る。
RC＝ｄ＋［RL＋（Wd/2）］×Ｆ XC＝XL YC＝YL WC＝Wd 尚、ここで、作業者が新たに作成されるべき円弧パタ
ーンB3の始角θB,終角θＦを設定できるようにして、円
弧パターンB3の始角θN1,終角θN2を θN1＝θB,θN2＝θＦ と算出するようにしてもよい。
ーンB3の始角θB,終角θＦを設定できるようにして、円
弧パターンB3の始角θN1,終角θN2を θN1＝θB,θN2＝θＦ と算出するようにしてもよい。
ここで、第２図（Ｅ）のように中心基準の場合はフラ
グＦ＝０であるから、RC＝ｄとなり、第２図（Ｆ）のよ
うにエツジ基準の場合はフラグＦ＝１であるから、RC＝
ｄ＋［RL＋（Wd/2）］となるので、エツジ基準によって
設定された間隔データｄは中心基準の半径データRCに変
換され、いずれの場合でも同様の新図形に関するデータ
が算出される。
グＦ＝０であるから、RC＝ｄとなり、第２図（Ｆ）のよ
うにエツジ基準の場合はフラグＦ＝１であるから、RC＝
ｄ＋［RL＋（Wd/2）］となるので、エツジ基準によって
設定された間隔データｄは中心基準の半径データRCに変
換され、いずれの場合でも同様の新図形に関するデータ
が算出される。
そして、ステツプ＃13、＃18及び＃20のいずれからで
もステツプ＃21に進んで、各ステツプで算出されたデー
タがメモリ８に格納され、ステツプ＃22において新たに
作成された図形B1〜B3が既に登録されている図形A1〜A3
とともに表示される。
もステツプ＃21に進んで、各ステツプで算出されたデー
タがメモリ８に格納され、ステツプ＃22において新たに
作成された図形B1〜B3が既に登録されている図形A1〜A3
とともに表示される。
以上説明したように、この発明によれば既登録の図形
を参照しつつ新たな図形要素を設計する場合、既登録図
形要素の中心線を基準とする設計手法のほか、既登録図
形要素の外形線を基準とする設計手法を選択可能とした
もので、特に外形線を基準とする図形要素の設計では繁
雑な計算をおこなう必要がなく、また設計ルールで定め
られた限界までパターン間隔をつめた高密度のパターン
設計が容易におこなえる。
を参照しつつ新たな図形要素を設計する場合、既登録図
形要素の中心線を基準とする設計手法のほか、既登録図
形要素の外形線を基準とする設計手法を選択可能とした
もので、特に外形線を基準とする図形要素の設計では繁
雑な計算をおこなう必要がなく、また設計ルールで定め
られた限界までパターン間隔をつめた高密度のパターン
設計が容易におこなえる。
第１図はこの発明を実施するに適したプリント基板設計
装置のブロツク図、第２図は本発明による図形描画方法
の説明図、第３図は図形描画処理の概略を示すフローチ
ヤート、第４図は従来の図形描画方法の説明図である。 1:中央処理装置、2:入力装置、3:出力装置、4:外部記憶
装置、5:設計データフアイル、6:表示装置。
装置のブロツク図、第２図は本発明による図形描画方法
の説明図、第３図は図形描画処理の概略を示すフローチ
ヤート、第４図は従来の図形描画方法の説明図である。 1:中央処理装置、2:入力装置、3:出力装置、4:外部記憶
装置、5:設計データフアイル、6:表示装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山元 廣治 大阪府大阪市中央区安土町２丁目３番13 号 大阪国際ビル ミノルタカメラ株式 会社内 (72)発明者 香和 美加 大阪府大阪市中央区安土町２丁目３番13 号 大阪国際ビル ミノルタカメラ株式 会社内 (72)発明者 波戸場 靖夫 大阪府守口市京阪本通２丁目18番地 三 洋電機株式会社内 (72)発明者 市川 英彦 大阪府守口市京阪本通２丁目18番地 三 洋電機株式会社内 (72)発明者 尾澤 光浩 大阪府守口市京阪本通２丁目18番地 三 洋電機株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】中央処理装置と、これに接続された入力装
置、出力装置、表示装置及び記憶装置を備え、表示装置
上に図形情報を可視的に表示し、これを観察しながら図
形処理をおこなう図形処理装置において、図形要素の中
心線を基準とするか外形線を基準とするかを決定し、入
力された図形間隔を決定された基準に基づいて既登録図
形と新図形との中心線間隔もしくは外形線間隔のいずれ
かと判断し、該間隔及び指定された既登録図形を演算処
理して描画する新図形の情報を決定することを特徴とす
る図形処理装置における図形描画方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1179102A JP2542527B2 (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | 図形処理装置における図形描画方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1179102A JP2542527B2 (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | 図形処理装置における図形描画方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0344768A JPH0344768A (ja) | 1991-02-26 |
| JP2542527B2 true JP2542527B2 (ja) | 1996-10-09 |
Family
ID=16060066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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1989
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