JPH0344768A - 図形処理装置における図形描画方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、プリント基板設計装置などにおける図形パ
ターンの描画方法に関し、特に図形パターン相互の間隔
を所望の間隔で描くことのできる描画方法に関する。

〔従来の技術〕

中央処理装置と、これに接続される入力装置、デイスプ
レィ装置、出力装置、記憶装置等から構成され、対話型
処理によってプリント基板の設計をおこなうプリント基
板設計装置は既に知られている。

例えば、第４図囚のように、既に登録されている円弧パ
ターンＡ１の外側に同心の円弧パターンＢ１を作成する
場合、作業者は、オフセット命令を入力し、既登録図形
（すなわち円弧パターンＡｌ）を指定するとともにカー
ソルによって新たに作成するパターン（すなわち円弧パ
ターンＢｌ　）の方向を入力する。更に、作業者は、新
たに作成する円弧パターンＢ、の中心線ＮＢｔを想定し
、それと既登録図形パターン（円弧パターンＡｔ　）の
中心線ＮＡＩとの間隔ｄｉを入力する。すると、装置は
新たに円弧パターンＢｌを作成するのである。また、第
４図（６）のように既に登録されている直線パターンん
に平行に新たな直線パターンＢ２を作成する場合も同様
に１作業者は、オフセット命令入力、既登録図形（すな
わち直線−パターンＡ２）の指定、カーソルによる方向
入力を行う。更に、作業者は、新たに作成する直線パタ
ーンＢ２の中心線ＮＢ２を想定し、それと既登録図形パ
ターン（直線パターンＡ２　）の中心線Ｎ　Ａ２どの間
隔ｄ２を入力する。すると、装置は新たに直線パターン
Ｂ２を作成するのである。

さらに、第４図０のように、既に登録されている円形ラ
ンドんの外側に円パターンＢ３を作成する場合、作業者
がこの円パターンＢ３の中心線ＮＢ３の半径ＲＬＮを計
算しておき、円を作成する命令、計算した半径ＲＬＮ、
及び円パターンの巾Ｗｃを装置に入力すると、装置が円
パターンＢ３を作成するのである。

このように、従来の装置では配線パターンの中心線を求
めることが必要であり、そのために多くの工数を要し、
しかも作図後半用となる作業線を一旦描くという動作が
必要であるために、繁雑な作業となり作業効率の悪いも
のであった。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記のように、配線パターンの中心線の情報と線巾情報
に基いて設計するときは、繁雑な計算を必要とする。ま
た、中心線の間隔をあらかじめ定めておけば設計は容易
になるが、線巾の異なる配線パターンが含まれるときは
、パターン間隔が設計ルールよりも狭くなる場合が生じ
、これをさげるため中心線間隔を広めに設定すれば高密
度の設計ができないという欠点があった。

〔課題を解決するための手段〕

この発明は上記課題を解決するため、図形要素を描画す
る際に、図形要素の中心線を基準とするほか、図形要素
の外形線を基準とする描画方法を導入し、これらの描画
方法を選択可能としたものであって、中央処理装置と、
これに接続された入力装置、出力装置、表示装置及び記
憶装置を備え、表示装置上に図形情報を可視的に表示し
、これを観察しながら図形処理をおこなう図形処理装置
において、図形要素の中心線を基準とするか外形線を基
準とするかを決定し、入力された図形間隔な決定された
基準に基づいて既登録図形と新図形との中心線間隔もし
くは外形線間隔のいずれかと判断し、該間隔及び指定さ
れた既登録図形の演算処理をして描画する新図形の情報
を決定することを特徴とするものである。

〔作　用〕

図形要素の中心線を基準とする図形要素の設計のほか、
図形要素の外形線を基準とする図形要素設計を可能にす
るから、設計ルールの限界まで接近した高密度の図形要
素の設計が容易におこなえる。

〔実　施　例〕

以下、この発明の実施例について説明する。

第１図はこの発明を実施するに適したプリント基板設計
装置の全体構成を示すブロック図であって、ｌは中央処
理装置、２はキーボード、３はデジタイザ、４はシステ
ムプログラムの格納された外部記憶装置、５は設計され
たプリント基板の設計データの格納された設計データフ
ァイル、６はプリンタ、７はＣＲＴなどを使用した表示
装置、８は設計データファイル５に格納された設計デー
タのうち必要なデータを作業のために一時記憶するメモ
リである。

プリント基板設計装置による基板設計は次のようにして
行われる。まず、キーボード２からシステムプログラム
のロードを指令し、外部記憶装置４に格納されているプ
ログラムをＣＰＵ１にロードして装置を起動する。設計
データファイル５に格納されている設計データの中から
所望のプリント基板設計データを読み出して表示装置７
上に基板図形を表示し、表示された図形を見ながら対話
処理により図形に修正を加え、あるいは新たに図形を設
計してゆく。

次に、本発明の実施例にかかる図形描画方法について第
２図及び第３図を用いて説明する。第２図は本発明の図
形描画方法に従って作成される図形を示し、第３図はこ
れを実現するための第１図図示のＣＰＵ１及び作業者の
動作を示すフローチャートである。まず、このフローチ
ャートの動作は、作業者が「オフセット」のコマンドを
入力するととによって開始される。すると、ステップ＃
１で作業者は新たに作成する図形のために参照されるべ
き既に登録されている図形を指定する。さらに、ステッ
プ＃２では、作業者が、「既に登録されている図形の中
心線と新たに作成する図形の中心線との間隔として間隔
データｄを入力する」という設計ルール（以下これを中
心基準という）を用いるか、「既に登録されている図形
の外形線と新たに作成する図形の外形線との間隔として
間隔データｄを入力する」という設計ルール（以下これ
をエツジ基準という）を用いるかを指定する。すると、
ＣＰＵＩは、ステップ＃３で、この指定された設計ルー
ルが中心基準かエツジ基準かを判別する。

この判別によって中心基準と判別されればステップ＃４
に進んでフラグＦをＭ□ｎにセットし、エツジ基準と判
別されればステップ＃５に進んでフラグＦをｎ　Ｉ　Ｉ
＋にセットする。そして、ステップ＃６では、作業者が
間隔データｄと線巾データＷｄとを入力する。すると、
ステップ＃７に進んで、ＣＰＵ１はステップ＃１で指定
された図形が直線であるか、円弧であるか、ランドであ
るかを判別する。

ここで、まず、第２図（Ａ）＠のように、予め設計デー
タファイル５に既に登録されている直線パタンＡ１を参
照して新たに別の直線パターンＢｌを作成する場合につ
いて説明する。この場合には、ステップ＃１で直線が指
定されているので、ステップ＃７からステップ＃８に進
む。ステップ＃８では、作業者が新たに作成する図形の
配置方向をカーソルによって指定する。すると、ステッ
プ＃９でＣＰＵＩがこの指定された座標（ＸＥ、Ｙｇ）
を取得する。さらに、ＣＰＵＩは、ステップ＃１０で、
設計データファイル５から直線パターンＡｌに関する情
報を取り出してメモリ８に格納する。この情報には、直
線パターンＡ１の始点座標（ＸＩ、Ｙｌ）、終点座標（
Ｘ１２．Ｙ２）　、及び線巾Ｗｌが含まれる。更に、ス
テップ＃１１で、ＣＰＵＩは取り出された始点座標及び
終点座標から角度θを算出する。ＣＰＵ１は、ステップ
＃１２で、これらの情報と取得された座標（Ｘｇ、ＹＥ
）とから新たに作成される直線パターンＢｌの配置方向
を示す情報Ｃを算出する。ここで、配置方向情報Ｃは、
座標（ＸＥ、ＹＥ）が既に登録されている直線パターン
ＡＩの上方向の位置を示す場合＋１＋１１１となり、下
方向の位置を示す場合＋１１１１となる。そして、ステ
ップ＃１３に進み、ＣＰＵＩは新たに作成されるべき直
線パターンＢｌの始点座標（ＸＮＩ　、ＹＮｌ）　、終
点座標（ＸＮ２．ＹＮ２）、角度θＮ。

及び線巾ｗＮを算出する。ここで、直線パターンＢ１に
関する情報は以下のように算出される。

ＸＮＩ　＝　ＸＩ　−Ｃ−Ｄ−ｓｉｎθＹＮＩ　＝　Ｙ
ｌ　＋　Ｃ−Ｄ−ｃｏｓθＸＮ２　＝　Ｘｇ　−Ｃ−Ｄ
−ｓｉｎθＹＮ２　：　Ｙ２　＋　Ｃ−Ｄ−ｃｏｓθ但
し、Ｄ＝ｄ＋［（Ｗｘ／２）＋（Ｗｄ／２）］ｘＦθＮ
二〇 ＷＮ＝Ｗｄ ここで、第２図囚のように中心基準の場合はフラグＦ＝
０であるからＤ＝ｄとなり、第２図■のようにエツジ基
準の場合は７ラグＦ＝１であるから、Ｄ　＝ｄ＋［：　
（Ｗｌ／２　）　＋（Ｗｄ／２　）コとなるので、エツ
ジ基準によって設定された間隔データｄは中心基準の間
隔データＤに変換され、いずれの場合でも同様に新色形
に関するデータが算出される。

次に第２図（Ｑ（［）のように、予め設計データファイ
ル５に既に登録されている円弧パターンＡ２を参照して
新たに別の円弧パターンＢ２を作成する場合について説
明する。この場合には、ステップ＃１で円弧が指定され
ているので、ステップ＃７からステップ＃１４に進む。

ステップ＃１４では、作業者が新たに作成する図形の配
置方向をカーソルによって指定する。すると、ステップ
＃１５でＣＰＵＩがこの指定された座標（ＸＥ、ＹＥ）
を取得する。さらに、ＣＰＵＩはステップ＃１６で、設
計データファイル５から円弧パターンＡ２に関する情報
を取り出してメモリ８に格納する。この情報には、円弧
パタ＝　７　Ａ２の中心座標（ＸＯＩＹＯ）、中心線の
半径Ｒｅ。

始角θｌ、終角θ２．及び線巾Ｗｃが含まれる。

更に、ステップ＃１７で、ＣＰＵＩはこれらの情報と取
得された座標（ＸＥ、ＹＥ）とから新たに作成される円
弧パターンＢ２の配置方向を示す情報Ｃを算出する。こ
こで、配置方向情報Ｃは、座標（ＸＥ　、　ＹＥ　）が
既に登録されている円弧パターンＡ２の内側の位置を示
す場合ｎ−Ｉｎとなり、外側の位置を示す場合”＋１１
となる。そして、ステップ＃１８に進み、ＣＰＵ１は新
たに作成されるべき円弧パターンＢ２の中心座標（ＸＯ
Ｎ　、　ＹＯＮ）、中心線の半径ＲａＮ＋始角θＮ１＋
終角θＮ２．及び線巾ｗＯＮを算出する。ここで、円弧
パターンＢ２に関する情報は以下のように算出される。

ＲＯＮ　＝　Ｒｃ＋　Ｃ−Ｄ 但し、Ｄ　二ｄ＋［（Ｗｃ／　２）＋（Ｗｄ／　２）　
］ＸＦＸＯＮ”Ｘｏ ＹＯＮ　：　ｙ。

ＷＣＮ＝Ｗｄ θ１ＩＪｌ＝０１．θＮ２＝θ２ 尚、ここで、作業者が新たに作成されるべき円弧パター
ンＢ２の始角θＢ、終角θＦ　を設定できるようにして
、円弧パターンＢ２の始角θＮ１＋終角θＮ２を θＮ１　＝　θＢ、　　θＮ２　＝　θＦと算出するよ
うにしてもよい。

ここで、第２図（Ｑのように中心基準である場合はフラ
グＦ＝０であるから、Ｄ二ｄとなり、第２図■のように
エツジ基準である場合はフラグＦ＝１であるから、Ｄ＝
　ｄ　＋　［（ＷＯ／２）　＋　（Ｗｄ／２）コとなる
ので、エツジ基準によって設定された間隔データｄは中
心基準の間隔データＤに変換され、いずれの場合でも同
様に新図形に関するデータが算出される。

次に第２図＠［Ｆ］のように、予め設計データファイル
５に既に登録されているランドパターンＡ３を参照して
新たに円弧パターンＢ３を作成する場合について説明す
る。この場合には、ステップ＃１でランドが指定されて
いるので、ステップ＃７からステップ＃１９に進む。ス
テップ＃１９では、設計データファイル５からランドパ
ターンＡ３に関する情報を取り出してメモリ８に格納す
る。この情報には、ランドパターンんの中心座標（Ｘｔ
、ｔＹＬ）及び半径ＲＬが含まれる。そして、ステップ
＃加に進み、ＣＰＵ１に新たに作成されるべき円弧パタ
ーンＢ３の中心座標（Ｘｃ、Ｙｃ）、半径ＲＯ，及び線
巾Ｗ。

を算出する。ここで、円弧パターンＢ３に関する情報は
以下のように算出される。

Ｒｅ　＝　ｄ＋［ＲＬ＋（Ｗｄ／２）］ｘＦＸｏ　＝　
ｘＬ ｙｏ　＝　ｙ、。

Ｗｅ　＝−Ｗｄ 尚、ここで、作業者が新たに作成されるべき円弧パター
ンＢ３の始角θＢ、終角θＦを設定できるよ５にして、
円弧パターンＢ３の始角θＮ１＋終角θＮ２を θＮ１＝θＢν　　θＮ２＝θＦ と算出するようにしてもよい。

ここで、第２図■のように中心基準の場合はフラグＦ＝
０であるから、ＲＱ＝ｄとなり、第２図［Ｆ］のように
エツジ基準の場合は７ラグＦ＝１であるから、Ｒｃ−ｄ
＋［Ｒｔ、＋（Ｗｄ　／　２　）　］となるので、エツ
ジ基準によって設定された間隔データｄは中心基準の半
径データＲＯに変換され、いずれの場合でも同様の新図
形に関するデータが算出される。

そして、ステップ＃１３、＃１８及び＃加のいずれから
でもステップ＃２１に進んで、各ステップで算出された
データがメモリ８に格納され、ステップ＃汐において新
たに作成された図形Ｂ１〜Ｂ３が既に登録されている図
形に１−Ａ３とともに表示される。

〔発明の効果〕

以上説明したように、この発明によれば既登録の図形を
参照しつつ新たな図形要素を設計する場合、既登録図形
要素の中心線を基準とする設計手法のほか、既登録図形
要素の外形線を基準とする設計手法を選択可能としたも
ので、特に外形線を基準とする図形要素の設計では繁雑
な計算をおこなう必要がなく、また設計ルールで定めら
れた限界までパターン間隔をつめた高密度のパターン設
計が容易におこなえる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明を実施するに適したプリント基板設計
装置のブロック図、第２図は本発明にょる図形描画方法
の説ａＡ図、第３図は図形描画処理の概略を示す７０−
チャート、第４図は従来の図形描画方法の説明図である
。 ｌ：中央処理装置、２：入力装置、３：出力装置、４：
外部記憶装置、５：設計データファイル、６：表示装置
。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 中央処理装置と、これに接続された入力装置、出力装置
   、表示装置及び記憶装置を備え、表示装置上に図形情報
   を可視的に表示し、これを観察しながら図形処理をおこ
   なう図形処理装置において、図形要素の中心線を基準と
   するか外形線を基準とするかを決定し、入力された図形
   間隔を決定された基準に基づいて既登録図形と新図形と
   の中心線間隔もしくは外形線間隔のいずれかと判断し、
   該間隔及び指定された既登録図形を演算処理して描画す
   る新図形の情報を決定することを特徴とする図形処理装
   置における図形描画方法。