JP2516897B2 - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1057—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain
- C08G73/106—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain containing silicon
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/452—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing nitrogen-containing sequences
- C08G77/455—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing nitrogen-containing sequences containing polyamide, polyesteramide or polyimide sequences
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- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は新規な感光性組成物、特には保存安定性、解
像力、基体に対する接着性にすぐれたポリイミドパター
ンを形成させることのできる感光性ポリイミド前駆体組
成物に関するものである。
像力、基体に対する接着性にすぐれたポリイミドパター
ンを形成させることのできる感光性ポリイミド前駆体組
成物に関するものである。
ポリイミド前駆体に感光性を付与してなる。いわゆる
感光性ポリイミド前駆体を用いてポリイミドパターンを
形成する方法についての研究開発は従来から広く行なわ
れており、例えば特公昭49−17374、特開昭52−13315、
特開昭54−70820、特開昭54−145794、特開昭55−13513
9、特開昭56−38038、特開昭57−108158、特開昭57−21
2432、特開昭58−59440などの方法が知られている。し
かし、これらの組成物は保存安定性、形成されるポリイ
ミドパターンの解像力、基体への接着力などについて問
題があり、これらの解決が強く望まれている。
感光性ポリイミド前駆体を用いてポリイミドパターンを
形成する方法についての研究開発は従来から広く行なわ
れており、例えば特公昭49−17374、特開昭52−13315、
特開昭54−70820、特開昭54−145794、特開昭55−13513
9、特開昭56−38038、特開昭57−108158、特開昭57−21
2432、特開昭58−59440などの方法が知られている。し
かし、これらの組成物は保存安定性、形成されるポリイ
ミドパターンの解像力、基体への接着力などについて問
題があり、これらの解決が強く望まれている。
本発明は前記した問題点を解決した感光性組成物に関
するものであり、これはＡ）１）一般式 ［CH2＝CH−(CH2)d−］a［H2N−R2−］b （R1は１価の有機基、R2は２価の有機基、０＜ａ、ｂ≦
３、０≦ｃ≦２、０＜ａ＋ｂ＋ｃ≦４、ｄは０または
１）で示される有機けい素化合物、２）一般式 で示されるテトラカルボン酸二無水物、３）一般式 H2N−R4−NH2 および／または （R4は２価の有機基、R5は３価の有機基、R6はSO2また
はCO基）で示される−NH2基を含有する有機化合物を有
機溶媒中で反応させて得たポリアミド酸共重合体を主剤
としてなることを特徴とするものである。
するものであり、これはＡ）１）一般式 ［CH2＝CH−(CH2)d−］a［H2N−R2−］b （R1は１価の有機基、R2は２価の有機基、０＜ａ、ｂ≦
３、０≦ｃ≦２、０＜ａ＋ｂ＋ｃ≦４、ｄは０または
１）で示される有機けい素化合物、２）一般式 で示されるテトラカルボン酸二無水物、３）一般式 H2N−R4−NH2 および／または （R4は２価の有機基、R5は３価の有機基、R6はSO2また
はCO基）で示される−NH2基を含有する有機化合物を有
機溶媒中で反応させて得たポリアミド酸共重合体を主剤
としてなることを特徴とするものである。
本発明者らは感光性ポリイミド前駆体組成物の物性改
良について種々検討した結果、前記Ａ）１）〜３）成分
からポリアミド酸共重合体を作ったところ、この共重合
体自体またはこれに必要に応じＢ）分子中に少なくとも
２個のHS−を含有する、前記Ａ）１）の有機けい素化合
物に含有されるCH2＝CH−(CH2)d−のモル数に対し等モ
ル以下のHS−を与える量の有機化合物、およびＣ）前記
Ａ）、Ｂ）の固形分100重量部に対し、０〜５重量部の
感光剤を添加して得られる組成物が耐熱性、基体への接
着性、解像力、耐薬品性、絶縁特性、機械特性に優れた
膜面を与えるということを見出し、これら各成分の種
類、配合量などについての研究を進め本発明を完成させ
た。
良について種々検討した結果、前記Ａ）１）〜３）成分
からポリアミド酸共重合体を作ったところ、この共重合
体自体またはこれに必要に応じＢ）分子中に少なくとも
２個のHS−を含有する、前記Ａ）１）の有機けい素化合
物に含有されるCH2＝CH−(CH2)d−のモル数に対し等モ
ル以下のHS−を与える量の有機化合物、およびＣ）前記
Ａ）、Ｂ）の固形分100重量部に対し、０〜５重量部の
感光剤を添加して得られる組成物が耐熱性、基体への接
着性、解像力、耐薬品性、絶縁特性、機械特性に優れた
膜面を与えるということを見出し、これら各成分の種
類、配合量などについての研究を進め本発明を完成させ
た。
本発明の組成物を構成するＡ）成分としてのポリアミ
ド酸共重合体は前記した式で示される有機けい素化合
物、テトラカルボン酸二無水物および−NH2基含有有機
化合物を極性溶媒中で反応させて作られる。
ド酸共重合体は前記した式で示される有機けい素化合
物、テトラカルボン酸二無水物および−NH2基含有有機
化合物を極性溶媒中で反応させて作られる。
このＡ）成分を作るために使用される１）成分として
の有機けい素化合物は、その分子中にCH2＝CH−(CH2)d
−基とH2N−R2−基とを少なくとも１個宛同時に含有す
るオルガノシランまたはオルガノシロキサンで、これは
前記した式 ［CH2＝CH−(CH2)d−］a［H2N−R2−］b で示されるものであり、R1はメチル基、エチル基、プロ
ピル基などのアルキル基、ビニル基、アリル基などのア
ルケニル基、フエニル基などのアリール基、メトキシ
基、エトキシ基などのアルコキシ基、さらにはこれらの
基の炭素原子に結合した水素原子の１部をハロゲン原
子、シアノ基などで置換した基などの１価の有機基から
選択される同一または異種の基である。また、このR2は
２価の有機基でこれには −(CH2)l−、 などが例示され、このａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０＜
ａ、ｂ≦３、０≦ｃ≦２、０＜ａ＋ｂ＋ｃ≦４、ｄは０
または１、ｌは整数で示される正数である。この有機け
い素化合物としては分子中に１個のH2N−R3−基を含
み、０＜ａ＋ｂ＋ｃ＜４であるオルガノポリシロキサン
が好ましいものとされるが、このオルガノシラン、オル
ガノシロキサンとしては、 などが例示される。
の有機けい素化合物は、その分子中にCH2＝CH−(CH2)d
−基とH2N−R2−基とを少なくとも１個宛同時に含有す
るオルガノシランまたはオルガノシロキサンで、これは
前記した式 ［CH2＝CH−(CH2)d−］a［H2N−R2−］b で示されるものであり、R1はメチル基、エチル基、プロ
ピル基などのアルキル基、ビニル基、アリル基などのア
ルケニル基、フエニル基などのアリール基、メトキシ
基、エトキシ基などのアルコキシ基、さらにはこれらの
基の炭素原子に結合した水素原子の１部をハロゲン原
子、シアノ基などで置換した基などの１価の有機基から
選択される同一または異種の基である。また、このR2は
２価の有機基でこれには −(CH2)l−、 などが例示され、このａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０＜
ａ、ｂ≦３、０≦ｃ≦２、０＜ａ＋ｂ＋ｃ≦４、ｄは０
または１、ｌは整数で示される正数である。この有機け
い素化合物としては分子中に１個のH2N−R3−基を含
み、０＜ａ＋ｂ＋ｃ＜４であるオルガノポリシロキサン
が好ましいものとされるが、このオルガノシラン、オル
ガノシロキサンとしては、 などが例示される。
なお、これらの有機けい素化合物はその２種以上を併
用してもよいが、これらは従来から知られている公知の
方法で製造することができる。
用してもよいが、これらは従来から知られている公知の
方法で製造することができる。
このＡ）成分を作る２）成分としてのテトラカルボン
酸二無水物は次式 で示されるものであり、このR3は４価の有機基でこれは
芳香族基から誘導されるか、芳香族基を有する基とする
ことが好ましく、このテトラカルボン酸二無水物として
はピロメリト酸二無水物、ベンゾフエノンテトラカルボ
ン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタリンテトラカルボン酸
二無水物、3,3′,4,4′−ジフエニルテトラカルボン酸
二無水物、2,2′,3,3′−ジフエニルテトラカルボン酸
二無水物、2,2−ビス（3,4−ジカルボキシフエニル）プ
ロパン二無水物などが例示されるが、これはこれらに限
定されるものではなく、他の芳香族環を有するテトラカ
ルボン酸二無水物も使用可能であり、これらはその２種
以上を併用してもよい。
酸二無水物は次式 で示されるものであり、このR3は４価の有機基でこれは
芳香族基から誘導されるか、芳香族基を有する基とする
ことが好ましく、このテトラカルボン酸二無水物として
はピロメリト酸二無水物、ベンゾフエノンテトラカルボ
ン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタリンテトラカルボン酸
二無水物、3,3′,4,4′−ジフエニルテトラカルボン酸
二無水物、2,2′,3,3′−ジフエニルテトラカルボン酸
二無水物、2,2−ビス（3,4−ジカルボキシフエニル）プ
ロパン二無水物などが例示されるが、これはこれらに限
定されるものではなく、他の芳香族環を有するテトラカ
ルボン酸二無水物も使用可能であり、これらはその２種
以上を併用してもよい。
また、このＡ）成分を作る３）成分としての有機化合
物は 一般式 H2N−R4−NH2 ………（III） で示されるジアミノ化合物および／または 一般式 で示されるジアミノアミド化合物で、このジアミノ化合
物におけるR5は２価の有機基であるが、これは炭化水素
基に限定されるものではなく、脂肪族系、芳香族系のほ
か硫黄原子、酸素原子などが入つたものであつてもよ
く、これにはフエニレンジアミン、4,4′−ジアミノジ
フエニルメタン、4,4′−ジアミノジフエニルプロパ
ン、4,4′−メチレンジアニリン、ベンジジン、4,4′−
ジアミノジフエニルスルフイド、4,4′−ジアミノジフ
エニルスルホン、4,4′−ジアミノジフエニルエーテ
ル、1,5−ジアミノナフタリン、3,3′−ジメチルベンジ
ジン、2,2−ビス〔４−（Ｎ−フエニルフタルイミド−
４−オキシ）フエニル〕プロパンなどが例示される。ま
た、このジアミノアミド化合物におけるR5は芳香族炭化
水素基、R6はSO2またはCO基であり、これには4,4′−ジ
アミノジフエニルエーテル−３−スルホンアミド、4,
4′−ジアミノジフエニルメタン−３−スルホンアミ
ド、4,4′−ジアミノジフエニルスルホン−３−スルホ
ンアミド、4,4′−ジアミノジフエニルサルフアイド−
３−スルホンアミド、1,4−ジアミノベンゼン−２−ス
ルホンアミド、4,4′−ジアミノジフエニルメタン−３
−カルボンアミド、4,4′−ジアミノジフエニルスルホ
ン−３−カルボンアミド、4,4′−ジアミノジフエニル
サルフアイド−３−カルボンアミドなどが例示される
が、これらはその２種以上を併用してもよい。
物は 一般式 H2N−R4−NH2 ………（III） で示されるジアミノ化合物および／または 一般式 で示されるジアミノアミド化合物で、このジアミノ化合
物におけるR5は２価の有機基であるが、これは炭化水素
基に限定されるものではなく、脂肪族系、芳香族系のほ
か硫黄原子、酸素原子などが入つたものであつてもよ
く、これにはフエニレンジアミン、4,4′−ジアミノジ
フエニルメタン、4,4′−ジアミノジフエニルプロパ
ン、4,4′−メチレンジアニリン、ベンジジン、4,4′−
ジアミノジフエニルスルフイド、4,4′−ジアミノジフ
エニルスルホン、4,4′−ジアミノジフエニルエーテ
ル、1,5−ジアミノナフタリン、3,3′−ジメチルベンジ
ジン、2,2−ビス〔４−（Ｎ−フエニルフタルイミド−
４−オキシ）フエニル〕プロパンなどが例示される。ま
た、このジアミノアミド化合物におけるR5は芳香族炭化
水素基、R6はSO2またはCO基であり、これには4,4′−ジ
アミノジフエニルエーテル−３−スルホンアミド、4,
4′−ジアミノジフエニルメタン−３−スルホンアミ
ド、4,4′−ジアミノジフエニルスルホン−３−スルホ
ンアミド、4,4′−ジアミノジフエニルサルフアイド−
３−スルホンアミド、1,4−ジアミノベンゼン−２−ス
ルホンアミド、4,4′−ジアミノジフエニルメタン−３
−カルボンアミド、4,4′−ジアミノジフエニルスルホ
ン−３−カルボンアミド、4,4′−ジアミノジフエニル
サルフアイド−３−カルボンアミドなどが例示される
が、これらはその２種以上を併用してもよい。
Ａ）成分としてのポリアミド酸共重合体はこの１）、
２）および３）成分をこれらの所定量を例えばＮ−メチ
ル−２−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N
−ジメチルホルムアミドなどの極性溶媒中で反応させる
ことによつて得られるが、通常は１）、３）成分を前記
した溶媒に適当な濃度で溶解し、こゝに２）成分として
のテトラカルボン酸二無水物の所定量を徐々に加えると
いう方法で行なうのがよく、この反応が一般には発熱反
応であることから冷却によつて反応温度を制御する必要
があるが、これは反応温度が上がりすぎるとポリイミド
結合が生じるので、100℃以下、特には50℃以下とする
ことがよい。なお、この場合におけるテトラカルボン酸
二無水物の添加量は上記した１）、３）成分中の全−NH
2基のモル数に対しテトラカルボン酸二無水物がモル比
で0.4〜0.6の範囲、好ましくはほゞ0.5となる量とすれ
ばよい。この反応で得られるＡ）成分の代表例として
は、 で示される構造のポリアミド酸共重合体があげられる。
２）および３）成分をこれらの所定量を例えばＮ−メチ
ル−２−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N
−ジメチルホルムアミドなどの極性溶媒中で反応させる
ことによつて得られるが、通常は１）、３）成分を前記
した溶媒に適当な濃度で溶解し、こゝに２）成分として
のテトラカルボン酸二無水物の所定量を徐々に加えると
いう方法で行なうのがよく、この反応が一般には発熱反
応であることから冷却によつて反応温度を制御する必要
があるが、これは反応温度が上がりすぎるとポリイミド
結合が生じるので、100℃以下、特には50℃以下とする
ことがよい。なお、この場合におけるテトラカルボン酸
二無水物の添加量は上記した１）、３）成分中の全−NH
2基のモル数に対しテトラカルボン酸二無水物がモル比
で0.4〜0.6の範囲、好ましくはほゞ0.5となる量とすれ
ばよい。この反応で得られるＡ）成分の代表例として
は、 で示される構造のポリアミド酸共重合体があげられる。
つぎに本発明の感光性組成物を構成するＢ）成分とし
てのメルカプト基含有有機化合物は、その分子中に少な
くとも２個のHS−を含有する有機化合物であり、このHS
−含有基としてはHS−(CH2)p−（ｐは整数）、 などが例示される。
てのメルカプト基含有有機化合物は、その分子中に少な
くとも２個のHS−を含有する有機化合物であり、このHS
−含有基としてはHS−(CH2)p−（ｐは整数）、 などが例示される。
この有機化合物としては特に、 で示される有機けい素化合物が好ましいものとされ、こ
れには次式 CH3−Si〔−(CH2)3−SH〕3、 (CH3)2Si〔−(CH2)3−SH〕2 （ｑ、ｒ、ｔ、ｕ、ｖ、ｗ、ｙ、ｚは０または整数、
ｓ、ｘは整数）、 CH3−SiO3/2単位60モル％、 HS−(CH2)3−SiO3/2単位20モル％、 (CH3-)2SiO単位20モル％からなるオルガノポリシロキサ
ンなどが例示されるが、これらは低分子状のものから固
体状の高重合度のもののいずれであつてもよい。さら
に、このメルカプト基含有有機けい素化合物は平均分子
式 （R10は１価の有機基、R11は２価の有機基、ｇ、ｈ、ｋ
は０＜ｇ≦３、０≦ｈ≦２、０＜ｋ≦３、０＜ｇ＋ｈ＋
ｋ≦４の正数、ｐは前記に同じ）で示される、好ましく
は分子中にH2N−R11−基を１個含有するオルガノシラン
またはオルガノポリシロキサンとＡ）成分について記載
した一般式（II）で示されるテトラカルボン酸二無水
物、一般式（III）で示されるジアミノ化合物および／
または一般式（IV）で示されるジアミノアミド化合物と
を、Ａ）成分合成時において式（Ｉ）で示される化合物
の代わりに式（IV）で示される化合物を使用するほかは
全く同様にして製造することができる。
れには次式 CH3−Si〔−(CH2)3−SH〕3、 (CH3)2Si〔−(CH2)3−SH〕2 （ｑ、ｒ、ｔ、ｕ、ｖ、ｗ、ｙ、ｚは０または整数、
ｓ、ｘは整数）、 CH3−SiO3/2単位60モル％、 HS−(CH2)3−SiO3/2単位20モル％、 (CH3-)2SiO単位20モル％からなるオルガノポリシロキサ
ンなどが例示されるが、これらは低分子状のものから固
体状の高重合度のもののいずれであつてもよい。さら
に、このメルカプト基含有有機けい素化合物は平均分子
式 （R10は１価の有機基、R11は２価の有機基、ｇ、ｈ、ｋ
は０＜ｇ≦３、０≦ｈ≦２、０＜ｋ≦３、０＜ｇ＋ｈ＋
ｋ≦４の正数、ｐは前記に同じ）で示される、好ましく
は分子中にH2N−R11−基を１個含有するオルガノシラン
またはオルガノポリシロキサンとＡ）成分について記載
した一般式（II）で示されるテトラカルボン酸二無水
物、一般式（III）で示されるジアミノ化合物および／
または一般式（IV）で示されるジアミノアミド化合物と
を、Ａ）成分合成時において式（Ｉ）で示される化合物
の代わりに式（IV）で示される化合物を使用するほかは
全く同様にして製造することができる。
ここで式（VI）で示される化合物としては具体的に
は、 などで示されるものが例示される。
は、 などで示されるものが例示される。
なお、この（II）、（III）、（IV）の化合物にはＡ）
成分について記載したものと全く同じものを利用するこ
とができ、この（VI）、（II）、（III）および／また
は（IV）からの反応生成物はポリアミド酸共重合体にメ
ルカプトアルキル基を付与したものとなるが、この典型
的なものを例示すれば、 をあげることができる。
成分について記載したものと全く同じものを利用するこ
とができ、この（VI）、（II）、（III）および／また
は（IV）からの反応生成物はポリアミド酸共重合体にメ
ルカプトアルキル基を付与したものとなるが、この典型
的なものを例示すれば、 をあげることができる。
しかし、このＢ）成分は本組成物において必須成分と
されるものではなく、Ａ）成分中のポリアミド酸共重合
体が一分子中にSi原子に直結するCH2＝CH−(CH2)d−基
を２個以上有するものである場合は、特にこのＢ）成分
は必須とされない。なお、このＢ）成分を使用する場合
のＡ）成分に対する配合量はＡ）成分中のCH2＝CH−(CH
2)d−基のモル数に対しＢ）成分中のHS−のモル数が等
モル以下となるようにすることが好ましい。
されるものではなく、Ａ）成分中のポリアミド酸共重合
体が一分子中にSi原子に直結するCH2＝CH−(CH2)d−基
を２個以上有するものである場合は、特にこのＢ）成分
は必須とされない。なお、このＢ）成分を使用する場合
のＡ）成分に対する配合量はＡ）成分中のCH2＝CH−(CH
2)d−基のモル数に対しＢ）成分中のHS−のモル数が等
モル以下となるようにすることが好ましい。
また、本発明の感光性組成物を構成するＣ）成分とし
ての感光剤は公知のものでよく、これには各種の有機過
酸化物、光増感剤などが挙げられる。この有機過酸化物
としては1,1−ビス（tert−ブチルパーオキシ）−3,3,5
−トリメチルシクロヘキサン、2,2−ビス（tert−ブチ
ルパーオキシ）ブタンなどのパーオキシケタール系有機
過酸化物、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、tert−ブ
チルジクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイ
ド、2,5−ジメチル−2,5−ジ（tert−ブチルパーオキ
シ）ヘキサンなどのジアルキル系有機過酸化物、tert−
ブチルパーオキシベンゾエート、tert−ブチルパーオキ
シイソプロピルカーボネートなどのエステル系過酸化
物、イソブチルパーオキサイド、オクタノイルパーオキ
サイド、ベンゾイルパーオキサイドなどのジアシル系有
機過酸化物などが例示され、光増感剤としてはアセトフ
エノン、ベンゾフエノン、ベンゾイルエチルエーテル、
ベンゾイルイソプロピルエーテル、ベンゾイルブチルエ
ーテルのような芳香族ケトンや、アゾビスイソブチロニ
トリルのようなアゾ化合物などが例示されるが、この
Ｃ）成分は上記した有機過酸化物と光増感剤との併用で
あつてもよい。
ての感光剤は公知のものでよく、これには各種の有機過
酸化物、光増感剤などが挙げられる。この有機過酸化物
としては1,1−ビス（tert−ブチルパーオキシ）−3,3,5
−トリメチルシクロヘキサン、2,2−ビス（tert−ブチ
ルパーオキシ）ブタンなどのパーオキシケタール系有機
過酸化物、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、tert−ブ
チルジクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイ
ド、2,5−ジメチル−2,5−ジ（tert−ブチルパーオキ
シ）ヘキサンなどのジアルキル系有機過酸化物、tert−
ブチルパーオキシベンゾエート、tert−ブチルパーオキ
シイソプロピルカーボネートなどのエステル系過酸化
物、イソブチルパーオキサイド、オクタノイルパーオキ
サイド、ベンゾイルパーオキサイドなどのジアシル系有
機過酸化物などが例示され、光増感剤としてはアセトフ
エノン、ベンゾフエノン、ベンゾイルエチルエーテル、
ベンゾイルイソプロピルエーテル、ベンゾイルブチルエ
ーテルのような芳香族ケトンや、アゾビスイソブチロニ
トリルのようなアゾ化合物などが例示されるが、この
Ｃ）成分は上記した有機過酸化物と光増感剤との併用で
あつてもよい。
なお、このＣ）成分の感光剤は必要に応じて添加され
るものであるが、これは前記したＡ）成分とＢ）成分と
の総固形量またはこの反応生成物の固形量100重量部に
対し０〜５重量部の範囲、一般的には0.1〜５重量部、
好ましくは0.2〜1.0重量部を添加すればよい。
るものであるが、これは前記したＡ）成分とＢ）成分と
の総固形量またはこの反応生成物の固形量100重量部に
対し０〜５重量部の範囲、一般的には0.1〜５重量部、
好ましくは0.2〜1.0重量部を添加すればよい。
本発明の感光性組成物は上記したＡ）、Ｂ）および
Ｃ）成分の所定量を均一に混合することによつて得るこ
とができるが、これにはさらに必要に応じ各種の添加剤
を加えてもよく、例えば本発明の組成物の酸化による劣
化を防止するためにピロカテコール、ハイドロキノンま
たはそれらのモノエーテル類、あるいはそれらをアルキ
ル置換したものを本組成物に対し0.001〜10％、好まし
くは、0.002〜１％添加したり、この組成物から形成さ
れる皮膜の物性改良のために光反応を阻害しない範囲で
のシリカなどの充填剤を少量添加してもよい。
Ｃ）成分の所定量を均一に混合することによつて得るこ
とができるが、これにはさらに必要に応じ各種の添加剤
を加えてもよく、例えば本発明の組成物の酸化による劣
化を防止するためにピロカテコール、ハイドロキノンま
たはそれらのモノエーテル類、あるいはそれらをアルキ
ル置換したものを本組成物に対し0.001〜10％、好まし
くは、0.002〜１％添加したり、この組成物から形成さ
れる皮膜の物性改良のために光反応を阻害しない範囲で
のシリカなどの充填剤を少量添加してもよい。
本発明の感光性組成物の応用範囲は極めて広いが電子
材料関連の用途に使用する場合、各種原料はNa,Kなどま
たは塩素などのハロゲン原子の含有量が数ppm以下とな
るように充分に精製されたものを選択する必要がある。
材料関連の用途に使用する場合、各種原料はNa,Kなどま
たは塩素などのハロゲン原子の含有量が数ppm以下とな
るように充分に精製されたものを選択する必要がある。
本発明の感光性ポリイミド前駆体組成物を用いて基板
上にポリイミドパターンを形成させる場合、この形成に
当つては イ）基板上に感光性ポリイミド前駆体の膜を形成する、 ロ）これに所定のパターン状の光を照射し、ついで現像
する、 ハ）現像で得たポリイミド前駆体のパターンを加熱する
ことによつてポリイミド結合を形成させる という方法を採ればよい。
上にポリイミドパターンを形成させる場合、この形成に
当つては イ）基板上に感光性ポリイミド前駆体の膜を形成する、 ロ）これに所定のパターン状の光を照射し、ついで現像
する、 ハ）現像で得たポリイミド前駆体のパターンを加熱する
ことによつてポリイミド結合を形成させる という方法を採ればよい。
このイ）工程によるポリイミド前駆体の膜の形成は、
この組成物を必要に応じ溶剤で稀釈し、スピンナなどを
用いてこれを基板上に回転塗布するか、浸漬、噴霧、印
刷などの適宜な方法で行なえばよいが、塗布後の溶剤の
除去に当つては、温度が高すぎるとポリイミド結合の形
成化が一部生じるので、この温度は100〜150℃のような
比較的低い温度とすることがよい。
この組成物を必要に応じ溶剤で稀釈し、スピンナなどを
用いてこれを基板上に回転塗布するか、浸漬、噴霧、印
刷などの適宜な方法で行なえばよいが、塗布後の溶剤の
除去に当つては、温度が高すぎるとポリイミド結合の形
成化が一部生じるので、この温度は100〜150℃のような
比較的低い温度とすることがよい。
ロ）工程のパターン状の光照射に使用される化学線とし
ては紫外線、電子線、Ｘ線などが例示されるが、これは
水銀ランプなどの紫外線照射とすることが好ましい。つ
ぎの工程の現像は未感光部を現像液で溶解除去すること
によつて行なえばよい。この現像液としてはＮ−メチル
−２−ピロリドン、Ｎ−アセチル−２−ピロリドン、N,
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルトリ
アミド、ジメチルイミダゾリジノン、Ｎ−ベンジル−２
−ピロリドンなどの非プロトン性極性溶剤を単独あるい
はメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、
ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルセロソルブなど
との混合液として用いることができる。この現像によつ
て形成したレリーフ・パターンはついで必要に応じリン
ス液によつて洗浄して現像溶媒を除去するのであるが、
リンス液としてはメタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチル
セロソルブなどが好適な例として挙げられる。
ては紫外線、電子線、Ｘ線などが例示されるが、これは
水銀ランプなどの紫外線照射とすることが好ましい。つ
ぎの工程の現像は未感光部を現像液で溶解除去すること
によつて行なえばよい。この現像液としてはＮ−メチル
−２−ピロリドン、Ｎ−アセチル−２−ピロリドン、N,
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルトリ
アミド、ジメチルイミダゾリジノン、Ｎ−ベンジル−２
−ピロリドンなどの非プロトン性極性溶剤を単独あるい
はメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、
ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルセロソルブなど
との混合液として用いることができる。この現像によつ
て形成したレリーフ・パターンはついで必要に応じリン
ス液によつて洗浄して現像溶媒を除去するのであるが、
リンス液としてはメタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチル
セロソルブなどが好適な例として挙げられる。
このようにして得られたレリーフ・パターンはついで
上記におけるハ）工程にしたがつて加熱処理されるが、
このレリーフ・パターンを形成するポリイミド前駆体は
150〜450℃に加熱処理することによつてポリイミド結合
をもつ耐熱性ポリマーのレリーフ・パターンとなる。こ
の加熱処理時間は５分〜４時間とすればよく、単一温度
で行なつてもよいが、通常は段階的に、あるいは連続的
に昇温しながら行なうのが好ましい。この熱処理で得ら
れたポリイミドレリーフ・パターンは必要に応じエツチ
ングされるが、このエツチング剤としてはヒドラジン
（ヒドラジンヒドラートを含む）、ヒドラジンとエチレ
ンジアミンまたはアミノアルコール、オクチルアルコー
ル、エチレングリコール、グリセリンなどのヒドロキシ
化合物との混合物などが例示されるが、ヒドラジンとエ
チレンジアミンの混合物が好ましいものとされる。
上記におけるハ）工程にしたがつて加熱処理されるが、
このレリーフ・パターンを形成するポリイミド前駆体は
150〜450℃に加熱処理することによつてポリイミド結合
をもつ耐熱性ポリマーのレリーフ・パターンとなる。こ
の加熱処理時間は５分〜４時間とすればよく、単一温度
で行なつてもよいが、通常は段階的に、あるいは連続的
に昇温しながら行なうのが好ましい。この熱処理で得ら
れたポリイミドレリーフ・パターンは必要に応じエツチ
ングされるが、このエツチング剤としてはヒドラジン
（ヒドラジンヒドラートを含む）、ヒドラジンとエチレ
ンジアミンまたはアミノアルコール、オクチルアルコー
ル、エチレングリコール、グリセリンなどのヒドロキシ
化合物との混合物などが例示されるが、ヒドラジンとエ
チレンジアミンの混合物が好ましいものとされる。
本発明の感光性組成物から上記の方法で形成されるポ
リイミドパターンは耐熱性、基板への接着性、耐薬品
性、絶縁特性、機械特性、解像力にもすぐれているの
で、各種用途に広く使用することができるが、特に半導
体のパツシベーシヨン膜、集積回路の多層回路の絶縁膜
あるいはプリント回路の半田付保護膜などの形成に適用
されるほか、高耐熱性のフオトレジストとして金属付着
やドライ・エツチング・プロセスへの応用も可能であ
り、さらにはその耐薬品性を生かして一般のフオトレジ
ストの分野への応用も可能である。
リイミドパターンは耐熱性、基板への接着性、耐薬品
性、絶縁特性、機械特性、解像力にもすぐれているの
で、各種用途に広く使用することができるが、特に半導
体のパツシベーシヨン膜、集積回路の多層回路の絶縁膜
あるいはプリント回路の半田付保護膜などの形成に適用
されるほか、高耐熱性のフオトレジストとして金属付着
やドライ・エツチング・プロセスへの応用も可能であ
り、さらにはその耐薬品性を生かして一般のフオトレジ
ストの分野への応用も可能である。
つぎに本発明の実施例をあげる。
合成例1. 反応器にＮ−メチル−２−ピロリドン600g、4,4′−
ジアミノジフエニルメタン49.3g（0.25モル）、1,1,3−
トリメチル−１−γ−アミノプロピル−3,3−ジビニル
−ジシロキサン24.8g（0.11モル）を仕込み、２〜３℃
に冷却してからここに3,3′−4,4′−ベンゾフエノンテ
トラカルボン酸二無水物98.2g（0.305モル）を25℃に維
持しながらゆつくりと添加し、添加終了後室温で５時間
熟成し、ついでこの反応生成物を１μのミリポアフイル
ター（FALP）〔ミリポア・コーポレイシヨン社製〕で
過して反応生成物Ｉを得た。
ジアミノジフエニルメタン49.3g（0.25モル）、1,1,3−
トリメチル−１−γ−アミノプロピル−3,3−ジビニル
−ジシロキサン24.8g（0.11モル）を仕込み、２〜３℃
に冷却してからここに3,3′−4,4′−ベンゾフエノンテ
トラカルボン酸二無水物98.2g（0.305モル）を25℃に維
持しながらゆつくりと添加し、添加終了後室温で５時間
熟成し、ついでこの反応生成物を１μのミリポアフイル
ター（FALP）〔ミリポア・コーポレイシヨン社製〕で
過して反応生成物Ｉを得た。
なお、この反応および操作はすべて乾燥窒素気流中で
行ない、空気中の水分には充分注意した。
行ない、空気中の水分には充分注意した。
合成例2. 反応器にＮ−メチル−２−ピロリドン178g、Ｎ−ジメ
チルアミド170g、1,1,3−トリメチル−１−γ−アミノ
プロピル−3,3−ジビニル−ジシロキサン8.23g、4,4′
−ジアミノジフエニルエーテル−３−カルボンアミド1
4.56gおよび4,4′−ジアミノジフエニルエーテル4.80g
を仕込み、２〜３℃に冷却したのち、ここにピロメリツ
ト酸二無水物14.52gと3,3′−4,4′−ベンゾフエノンテ
トラカルボン酸二無水物19.32gを25℃以下に保ちながら
徐々に添加し、添加終了後１時間熟成してから１μミリ
ポアフイルター（FALP）で過して反応生成物IIを製造
した。
チルアミド170g、1,1,3−トリメチル−１−γ−アミノ
プロピル−3,3−ジビニル−ジシロキサン8.23g、4,4′
−ジアミノジフエニルエーテル−３−カルボンアミド1
4.56gおよび4,4′−ジアミノジフエニルエーテル4.80g
を仕込み、２〜３℃に冷却したのち、ここにピロメリツ
ト酸二無水物14.52gと3,3′−4,4′−ベンゾフエノンテ
トラカルボン酸二無水物19.32gを25℃以下に保ちながら
徐々に添加し、添加終了後１時間熟成してから１μミリ
ポアフイルター（FALP）で過して反応生成物IIを製造
した。
合成例3. 前記した合成例１における1,1,3−トリメチル−１−
γ−アミノプロピル−3,3−ジビニル−ジシロキサンの
代わりに1,1,3,3−テトラメチル−１−γ−アミノプロ
ピル−３−ビニル−ジシロキサン23.5gを使用したほ
か、合成例１と同様に処理して反応生成物IIIを作り、
また同様に1,1,3,3−テトラメチル−１−γ−アミノプ
ロピル−３−γ−メルカプトプロピル−ジシロキサン2
8.7gを使用して合成例１と同様に処理して反応生成物IV
を作つた。
γ−アミノプロピル−3,3−ジビニル−ジシロキサンの
代わりに1,1,3,3−テトラメチル−１−γ−アミノプロ
ピル−３−ビニル−ジシロキサン23.5gを使用したほ
か、合成例１と同様に処理して反応生成物IIIを作り、
また同様に1,1,3,3−テトラメチル−１−γ−アミノプ
ロピル−３−γ−メルカプトプロピル−ジシロキサン2
8.7gを使用して合成例１と同様に処理して反応生成物IV
を作つた。
比較合成例 反応器にＮ−メチル−２−ピロリドン600g、4,4′−
ジアミノジフェニルメタン49.3g、1,3−ビス（γ−アミ
ノプロピル）−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン12.
4gを仕込み、２〜３℃に冷却してからここに3,3′,4,
4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物96.7gを
反応温度が25℃を超えないようにしながらゆっくり添加
し、添加終了後室温で５時間熟成させてポリアミック酸
を合成した。
ジアミノジフェニルメタン49.3g、1,3−ビス（γ−アミ
ノプロピル）−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン12.
4gを仕込み、２〜３℃に冷却してからここに3,3′,4,
4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物96.7gを
反応温度が25℃を超えないようにしながらゆっくり添加
し、添加終了後室温で５時間熟成させてポリアミック酸
を合成した。
ついで、このポリアミック酸溶液にグリシジルメタク
リレート 82.5gとトリエチルベンジルアンモニウムクロリド2.0g
とを加え、70℃で12時間反応させたのち、重合禁止剤と
してのヒドロキノンモノメチルエーテル0.05gを添加
し、さらにこの生成物を１μｍのミリポアフィルターで
ろ過したところ、反応生成物が得られた。
リレート 82.5gとトリエチルベンジルアンモニウムクロリド2.0g
とを加え、70℃で12時間反応させたのち、重合禁止剤と
してのヒドロキノンモノメチルエーテル0.05gを添加
し、さらにこの生成物を１μｍのミリポアフィルターで
ろ過したところ、反応生成物が得られた。
実施例1. 合成例１、２で得た反応生成物ＩとIIのそれぞれ50g
にジクミルパーオキサイド0.1gを添加し、均一に混合し
て得た感光性ポリイミド前駆体溶液をアルミニウム板上
にスピンナーコーテイング（3,000r.p.m.40秒）したの
ち、120℃で10分間乾燥した。
にジクミルパーオキサイド0.1gを添加し、均一に混合し
て得た感光性ポリイミド前駆体溶液をアルミニウム板上
にスピンナーコーテイング（3,000r.p.m.40秒）したの
ち、120℃で10分間乾燥した。
つぎにこの感光性ポリイミド前駆体膜上に巾10μ、20
μ、50μのパターンをもつフオトマスクを置き、これに
高圧水銀灯（80W/cm）を用いて15cmの距離から紫外線を
２分間照射し、ついでこれを常温でＮ−メチル−２−ピ
ロリドン溶液に５分間浸漬し、現像によつてポリイミド
前駆体のパターンを作り、このパターンに150℃/1時間
＋200℃/1時間＋250℃/1時間の熱処理を行ない、このパ
ターンを顕微鏡で観察したところ、10μの巾まできれい
に形成されており、これは80℃、湿度80％の高温高湿試
験機中で1,000時間後も剥離などの現象はなく、きわめ
て接着性のすぐれたものであつた。
μ、50μのパターンをもつフオトマスクを置き、これに
高圧水銀灯（80W/cm）を用いて15cmの距離から紫外線を
２分間照射し、ついでこれを常温でＮ−メチル−２−ピ
ロリドン溶液に５分間浸漬し、現像によつてポリイミド
前駆体のパターンを作り、このパターンに150℃/1時間
＋200℃/1時間＋250℃/1時間の熱処理を行ない、このパ
ターンを顕微鏡で観察したところ、10μの巾まできれい
に形成されており、これは80℃、湿度80％の高温高湿試
験機中で1,000時間後も剥離などの現象はなく、きわめ
て接着性のすぐれたものであつた。
実施例2. 合成例３で得た反応生成物III25g、反応生成物IV23g
およびベンゾインイソブチルエーテル0.1gとを均一に混
合して得た感光性ポリイミド前駆体溶液を、シリコンウ
エーハ上にスピンナーコーテイング（3,000r.p.m.40
秒）したのち、実施例１と同じ方法で60秒紫外線照射
し、現像してポリイミド前駆体のパターンを作り、実施
例１と同様の熱処理を行い形成されているパターンを顕
微鏡で観察したところ、10μまできれいに形成されてお
り、これは接着性も実施例１と同様にすぐれているもの
であつた。
およびベンゾインイソブチルエーテル0.1gとを均一に混
合して得た感光性ポリイミド前駆体溶液を、シリコンウ
エーハ上にスピンナーコーテイング（3,000r.p.m.40
秒）したのち、実施例１と同じ方法で60秒紫外線照射
し、現像してポリイミド前駆体のパターンを作り、実施
例１と同様の熱処理を行い形成されているパターンを顕
微鏡で観察したところ、10μまできれいに形成されてお
り、これは接着性も実施例１と同様にすぐれているもの
であつた。
実施例3. 合成例３で得た反応生成物III50gに1,1,3,3−テトラ
メチル−1,3−ジ−γ−メルカプトプロピル−ジシロキ
サン2.04gとベンゾインイソブチルエーテル0.1gを均一
に混合して得た感光性ポリイミド前駆体組成物を、実施
例１と同様に処理したところ、実施例１とほぼ同様のポ
リイミドのパターンを得た。
メチル−1,3−ジ−γ−メルカプトプロピル−ジシロキ
サン2.04gとベンゾインイソブチルエーテル0.1gを均一
に混合して得た感光性ポリイミド前駆体組成物を、実施
例１と同様に処理したところ、実施例１とほぼ同様のポ
リイミドのパターンを得た。
合成例4. 反応器にＮ−メチル−２−ピロリドン469g、4,4′−
ジアミノジフエニルメタン40.1g（0.202モル）、1,1−
ジメチル−１−γ−アミノプロピル−3,3,3−トリビニ
ル−ジシロキサン20.8g（0.0864モル）を仕込み、２〜
３℃に冷却してから、これに3,3′,4,4′−ベンゾフエ
ノンテトラカルボン酸二無水物78.95g（0.245モル）を2
5℃に維持しながらゆつくり添加し、添加終了後室温で
５時間熟成し、ついでこの反応生成物を実施例１と同様
に１μのミリポアフイルター（FALP）で過して反応生
成物Ｖを得た。
ジアミノジフエニルメタン40.1g（0.202モル）、1,1−
ジメチル−１−γ−アミノプロピル−3,3,3−トリビニ
ル−ジシロキサン20.8g（0.0864モル）を仕込み、２〜
３℃に冷却してから、これに3,3′,4,4′−ベンゾフエ
ノンテトラカルボン酸二無水物78.95g（0.245モル）を2
5℃に維持しながらゆつくり添加し、添加終了後室温で
５時間熟成し、ついでこの反応生成物を実施例１と同様
に１μのミリポアフイルター（FALP）で過して反応生
成物Ｖを得た。
実施例4. 合成例４で得た反応生成物V100gにジクミルパーオキ
サイド0.1gと1,2,3,4−テトラ−γ−メルカプトプロピ
ル−1,2,3,4−テトラメチル−テトラシロキサン2.0gを
均一に混合して得た感光性ポリイミド前駆体組成物を、
アルミニウム板上にスピンナーコーテイング（3,000r.
p.m.40秒）したのち、105℃で５分間乾燥した。
サイド0.1gと1,2,3,4−テトラ−γ−メルカプトプロピ
ル−1,2,3,4−テトラメチル−テトラシロキサン2.0gを
均一に混合して得た感光性ポリイミド前駆体組成物を、
アルミニウム板上にスピンナーコーテイング（3,000r.
p.m.40秒）したのち、105℃で５分間乾燥した。
つぎにこれに実施例１と同じフオトマスクおよび高圧
水銀灯を使用し、照射距離を10cmとして紫外線を18秒間
照射し、ついで実施例１と同様に処理したところ、実施
例１とほぼ同様のポリイミドパターンが得られた。
水銀灯を使用し、照射距離を10cmとして紫外線を18秒間
照射し、ついで実施例１と同様に処理したところ、実施
例１とほぼ同様のポリイミドパターンが得られた。
比較実施例 前記した合成例１および比較合成例で得た反応生成物
を用いてそれぞれの溶液での保存安定性および露光後に
熱処理（150℃/1時間＋200℃/1時間＋250℃/1時間）を
行なったのちの皮膜の膜減り、さらにこの熱処理後の皮
膜の耐熱性（N2中での熱分解開始温度）をしらべたとこ
ろ、第１表に示したとおりの結果が得られた。
を用いてそれぞれの溶液での保存安定性および露光後に
熱処理（150℃/1時間＋200℃/1時間＋250℃/1時間）を
行なったのちの皮膜の膜減り、さらにこの熱処理後の皮
膜の耐熱性（N2中での熱分解開始温度）をしらべたとこ
ろ、第１表に示したとおりの結果が得られた。
なお、この評価にあたっては以下の手順を用いた。
保存安定性：サンプル25℃/6ケ月後の粘度／初期粘度、 膜減り ：熱処理後の膜厚／プリベーク後の膜厚、 耐熱性 ：熱処理後の皮膜のN2中での重量減少開始温
度。
度。
以上の結果から本発明によれば感光基を導入すること
によって保存安定性、膜減り、耐熱性のいずれについて
も良好な結果の得られることが確認された。
によって保存安定性、膜減り、耐熱性のいずれについて
も良好な結果の得られることが確認された。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柏木 努 安中市磯部２丁目13番１号 信越化学工 業株式会社シリコーン電子材料技術研究 所内 (56)参考文献 特開 昭55−45746（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−201573（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−78737（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−88116（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−89623（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−44012（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−25329（ＪＰ，Ａ) 特公 昭55−39261（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭59−37495（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (4)
- 【請求項１】Ａ）１）平均分子式が ［CH2＝CH−（CH2）d−］a［H2N−R2−］b （R1は１価の有機基、R2は２価の有機基、０＜ａ、ｂ≦
３、０≦ｃ≦２、０＜ａ＋ｂ＋ｃ≦４、ｄは０または
１）で示される有機けい素化合物 ２）一般式 で示されるテトラカルボン酸二無水物 ３）一般式 H2N−R4−NH2および／または （R4は２価の有機基、R5は３価の有機基、R6はSO2また
はCO基） で示される−NH2基を含有する有機化合物 を有機溶媒中で反応させて得たポリアミド酸共重合体を
主剤としてなることを特徴とする感光性組成物。 - 【請求項２】Ａ）成分としてのポリアミド酸共重合体に
Ｂ）分子中に少なくとも２個のHS−を含有する、前記
Ａ）１）の有機けい素化合物に含有される CH2＝CH−(CH2)d− のモル数に対して等モル以下のHS−を与える量のメルカ
プト基含有有機化合物とＣ）前記Ａ）、Ｂ）の固形分10
0重量部に対し０〜５重量部の感光剤を添加してなる特
許請求の範囲第１項記載の感光性組成物。 - 【請求項３】Ｂ）成分が平均分子式 （R7はメルカプトアルキル基、R8は１価の有機基、ｅ＝
0.004〜4.0、ｆ＝０〜2.5、1.1＜ｅ＋ｆ≦4.0）で示さ
れるオルガノシランまたはオルガノポリシロキサンであ
る特許請求の範囲第１項記載の感光性組成物。 - 【請求項４】Ｂ）成分が （R9はメルカプトアルキル基、R10は１価の有機基、R11
は２価の有機基、０＜ｇ≦３、０≦ｈ≦２、０＜ｋ≦
３、０＜ｇ＋ｈ＋ｋ≦４） で示される有機けい素化合物 ｂ）一般式 で示されるテトラカルボン酸二無水物 ｃ）一般式 H2N−R4 −NH2および／または （R4、R5、R6は前記に同じ）で示される−NH2基を有す
る有機化合物を有機溶媒中で反応させて得たポリアミド
酸共重合体である特許請求の範囲第１項記載の感光性組
成物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58197129A JP2516897B2 (ja) | 1983-10-21 | 1983-10-21 | 感光性組成物 |
| US06/727,359 US4650849A (en) | 1983-10-21 | 1985-04-25 | Photosensitive curable resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58197129A JP2516897B2 (ja) | 1983-10-21 | 1983-10-21 | 感光性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6088939A JPS6088939A (ja) | 1985-05-18 |
| JP2516897B2 true JP2516897B2 (ja) | 1996-07-24 |
Family
ID=16369222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58197129A Expired - Lifetime JP2516897B2 (ja) | 1983-10-21 | 1983-10-21 | 感光性組成物 |
Country Status (2)
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|---|---|
| US (1) | US4650849A (ja) |
| JP (1) | JP2516897B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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