JP2024169664A5 - - Google Patents

Info

Publication number
JP2024169664A5
JP2024169664A5 JP2024166177A JP2024166177A JP2024169664A5 JP 2024169664 A5 JP2024169664 A5 JP 2024169664A5 JP 2024166177 A JP2024166177 A JP 2024166177A JP 2024166177 A JP2024166177 A JP 2024166177A JP 2024169664 A5 JP2024169664 A5 JP 2024169664A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
forming
resist pattern
pattern according
content
mass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2024166177A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2024169664A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2020538330A external-priority patent/JPWO2020040003A1/ja
Application filed filed Critical
Publication of JP2024169664A publication Critical patent/JP2024169664A/ja
Publication of JP2024169664A5 publication Critical patent/JP2024169664A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2024166177A 2018-08-21 2024-09-25 薬液、薬液収容体 Pending JP2024169664A (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018154496 2018-08-21
JP2018154496 2018-08-21
JP2020538330A JPWO2020040003A1 (ja) 2018-08-21 2019-08-13 薬液、薬液収容体
PCT/JP2019/031855 WO2020040003A1 (ja) 2018-08-21 2019-08-13 薬液、薬液収容体
JP2022171671A JP7836256B2 (ja) 2018-08-21 2022-10-26 薬液、薬液収容体

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022171671A Division JP7836256B2 (ja) 2018-08-21 2022-10-26 薬液、薬液収容体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2024169664A JP2024169664A (ja) 2024-12-05
JP2024169664A5 true JP2024169664A5 (https=) 2026-04-06

Family

ID=69592604

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020538330A Pending JPWO2020040003A1 (ja) 2018-08-21 2019-08-13 薬液、薬液収容体
JP2022171671A Active JP7836256B2 (ja) 2018-08-21 2022-10-26 薬液、薬液収容体
JP2024166177A Pending JP2024169664A (ja) 2018-08-21 2024-09-25 薬液、薬液収容体

Family Applications Before (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020538330A Pending JPWO2020040003A1 (ja) 2018-08-21 2019-08-13 薬液、薬液収容体
JP2022171671A Active JP7836256B2 (ja) 2018-08-21 2022-10-26 薬液、薬液収容体

Country Status (4)

Country Link
JP (3) JPWO2020040003A1 (https=)
KR (2) KR102901692B1 (https=)
TW (1) TWI875707B (https=)
WO (1) WO2020040003A1 (https=)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7691260B2 (ja) * 2021-04-01 2025-06-11 富士フイルム株式会社 収容体の製造方法、及び、樹脂組成物の保管方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009188333A (ja) * 2008-02-08 2009-08-20 Tokyo Electron Ltd パーティクル検出方法及び処理装置
US20160066581A1 (en) * 2014-09-08 2016-03-10 Michael N. Young Silver ion solution agricultural formulations
JP2015084122A (ja) 2015-01-08 2015-04-30 富士フイルム株式会社 化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液
CN108348327B (zh) * 2015-11-04 2021-10-01 克拉维斯塔医疗有限公司 模块化人工晶状体设计、工具和方法
WO2017169569A1 (ja) * 2016-03-30 2017-10-05 富士フイルム株式会社 保護膜形成用組成物、保護膜形成用組成物の製造方法、パターン形成方法、および、電子デバイスの製造方法
KR102245548B1 (ko) * 2016-03-31 2021-04-28 후지필름 가부시키가이샤 반도체 제조용 처리액, 그 제조 방법, 패턴 형성 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법
TWI725162B (zh) * 2016-04-08 2021-04-21 日商富士軟片股份有限公司 處理液、其製造方法、圖案形成方法及電子器件的製造方法
JPWO2018079449A1 (ja) * 2016-10-27 2019-09-19 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
WO2018142888A1 (ja) * 2017-02-01 2018-08-09 富士フイルム株式会社 薬液の製造方法、及び、薬液の製造装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2023101537A5 (ja) 半導体デバイスの製造方法
JP2024169664A5 (https=)
JP2013511502A (ja) フォトレジスト組成物
JP2603148B2 (ja) パターン形成方法
JPH05150459A (ja) レジストパターンの形成方法
JP2014182187A (ja) レジスト組成物及び半導体装置の製造方法
JP3410707B2 (ja) パターン形成材料及びパターン形成方法
DE10138105A1 (de) Fotolack und Verfahren zum Strukturieren eines solchen Fotolacks
JP2002311587A (ja) 化学増幅レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP2000089477A (ja) レジストパターンの形成方法
JP2002099076A (ja) 微細粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製造法
JP4625033B2 (ja) 厚膜ペーストと適合性のuv放射遮断保護層
JP2006323111A (ja) レジスト材料及びそれを用いたパターン形成方法
JP2003186195A5 (https=)
JPH0210824A (ja) 電子線レジスト現像方法
JP2621533B2 (ja) パターン形成方法
JPH07239558A (ja) 現像液及びパターン形成方法
JP2002305135A (ja) レジストパターンの形成方法
JPH04221814A (ja) パターン形成方法
JP2003084439A (ja) パターン形成材料及びパターン形成方法
CN1233022C (zh) 图形形成材料、水溶性材料及图形形成方法
TWI848228B (zh) 靈敏度增強型光阻劑
KR20000065754A (ko) 반도체소자의 미세패턴 제조방법
JP2616820B2 (ja) レジストパターンの形成方法
JPH02108053A (ja) パターン形成材料及びパターン形成方法