JP2024046255A - ロータリードレッサ - Google Patents

Abstract

【課題】ドレス時の抵抗が少なく、切れ味のバラツキが少なく、安定したドレスを行うことができるロータリードレッサを提供する。【解決手段】円板状の台金１０の外周面１０ａにフランジ状に突設された環状の裏打ち層３０と、裏打ち層３０の回転面上に形成された環状の砥粒層２０を有するドレス部５０を備えたロータリードレッサ１００であって、砥粒層２０は、めっきにより固着されたダイヤモンド砥粒を含む砥粒部２３と、砥粒層２０の外周から内側に向かって延びるように形成されている溝２４とを有し、溝２４の幅が、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の１/４以上、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の１８倍以下である、ロータリードレッサ１００。【選択図】図１

Description

本発明は、一般砥石やＣＢＮ砥石などのドレスを行うために使用するロータリードレッサに関する。

ロータリードレッサについては、従来、様々な形状、機能を有するものが提案されているが、本発明に関連するものとして、例えば、特許文献１に記載された「ロータリードレッサ」がある。この「ロータリードレッサ」は、ダイヤモンド砥粒と無機物粒子を混合して母型内周面に充填し、電気メッキによって母型内周面に一層分を仮固定したのち余剰のダイヤモンド砥粒と無機物粒子を除去し、さらに電気メッキにより電鋳してダイヤモンド砥粒と無機物粒子を固着し、鉄芯金を母型中央部に固定し、母型を除去してなることを特徴とするものである。

前記「ロータリードレッサ」は、ダイヤモンド砥粒の集中度を任意に調整することができ、ダイヤモンド砥粒間隔を広げているので、研削砥石への切り込みがかかりやすく、ドレッシングの際の抵抗が減少し、砥石表面においても砥粒の間隔が広がり、被削材との間の研削抵抗が減少し、良好な研削を行うことができる、という長所を有している。

特開平８－１７４４２９号公報

特許文献１にされたロータリードレッサは、前述したような長所を有する反面、ドレッシング使用面における砥粒の分布状態にムラがあることや使用代方向に対して砥粒の耐摩耗方向が揃っていないことなどにより、切れ味にバラつきが生じ、ドレスされた砥石の表面状態が安定せず、ドレスされた砥石で切削された被削材の形状や表面粗さに不具合が発生することが多い。

一方で、ドレッサ表面の砥粒数を増やすと、接触面積が増えドレス時の抵抗が上がってしまう傾向にある。

そこで、本発明が解決しようとする課題は、ドレス時の抵抗が少なく、切れ味のバラツキが少なく、安定したドレスを行うことができるロータリードレッサを提供することにある。

本発明に係る第１のロータリードレッサは、砥粒層が設けられる被固着部と、めっきにより固着されたダイヤモンド砥粒を含む砥粒部および溝を含む溝部を有する前記砥粒層と、を有するドレス部を備えたロータリードレッサであり、前記溝の幅が、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の１/４以上、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の１８倍以下であり、前記被固着部が、円板状部を有する台金の外周面にフランジ状に突設された環状の裏打ち層であり、前記砥粒層が、前記裏打ち層の回転面上に形成された環状の砥粒層であり、前記溝が、前記砥粒層の外周から内側に向かって延びるように形成されている。

また、本発明に係る第２のロータリードレッサは、砥粒層が設けられる被固着部と、めっきにより固着されたダイヤモンド砥粒を含む砥粒部および溝を含む溝部を有する前記砥粒層と、を有するドレス部を備えたロータリードレッサであり、前記溝の幅が、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の１/４以上、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の１８倍以下であり、前記被固着部が、円筒状部を有する台金と同一の軸心を有し、前記台金の軸方向の一方に突出した円筒状の突出部であり、前記砥粒層が、前記突出部の外周面上に形成された円筒状の砥粒層であり、前記溝が、作用面から台金側に向かって延びるように形成されている。

前記第１のロータリードレッサや前記第２のロータリードレッサのような構成とすることで、ダイヤモンド砥粒数を密に配置させた場合にも、ドレス時の抵抗の増加を抑制できる。これにより、ドレス時の抵抗を低減させ、かつ、切れ味のバラつきが少ない安定したドレスを行うことができる。

第１のロータリードレッサおよび第２のロータリードレッサは、前記砥粒層の作用面の前記溝部を除いた領域の面積に対する前記ダイヤモンド砥粒の露出面積（投影面積）の合計が、７面積％以上７１面積％以下であることが好ましい。
このように、砥粒部におけるダイヤモンド砥粒を密にすることで、より切れ味のバラつきが少なく、ドレス部の表面状態を安定させることができる。

第１のロータリードレッサおよび第２のロータリードレッサは、使用代部分において、前記砥粒層の軸方向の最表面の層の前記溝部を除いて隣接する前記ダイヤモンド砥粒の砥粒間距離を求めたとき、その９０％以上の砥粒間距離が、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の２／３倍以上であり、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の３倍以下であり、使用代部分において、前記砥粒層の法線方向の最表面の層の前記溝部を除いて隣接する前記ダイヤモンド砥粒の砥粒間距離を求めたとき、その９０％以上の砥粒間距離が、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の２／３倍以上であり、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の３倍以下であることが好ましい。
このような砥粒間距離の構成とすることで、使用代の最後まで、切れ味のバラつきを抑え、ドレス部の表面状態を安定に保ちながら、ドレッシングすることができる。

第１のロータリードレッサおよび第２のロータリードレッサは、前記砥粒層において、前記溝部を除く外周面に沿って存在できるダイヤモンド砥粒の理論数をＸとし、前記溝部を除く外周面に沿って存在するダイヤモンド砥粒の数をＮとすると、０．６×Ｘ≦Ｎ≦Ｘであることが好ましい。
このように、砥粒部におけるダイヤモンド砥粒を密にすることで、より切れ味のバラつきが少なく、ドレス部の表面状態を安定させることができる。

第１のロータリードレッサおよび第２のロータリードレッサは、前記溝が、前記砥粒層の外周の接線方向に前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径以上の間隔を置いて設けられており、前記溝の前記砥粒層の作用面に対して垂直な方向の長さが、前記砥粒層の前記作用面に対して垂直な方向の長さの０．７倍以上であることが好ましい。
このように溝が形成されていることで、ドレス抵抗のさらなる低減と、より効率的な砥石側砥粒切刃の形成が可能である。

第１のロータリードレッサおよび第２のロータリードレッサは、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径が、７０μｍ以上１０００μｍ以下であり、前記ダイヤモンド砥粒の形状が、六・八面体形状および／または切頭八面体形状であることが好ましい。
このような形状のダイヤモンド砥粒は、砥粒層内にダイヤモンド砥粒が密に配列しやすいため好ましい。

第１のロータリードレッサおよび第２のロータリードレッサは、前記被固着部が、０．１ｍｍ以上２．０ｍｍ以下であり、前記ロータリードレッサの外径が、１０ｍｍ以上３００ｍｍ以下であることが好ましい。

また、第１のロータリードレッサは、前記溝は、平行な一対の側面と前記裏打ち層の前記回転面に平行な底面を有し、前記溝が、前記砥粒層の外周から前記台金の軸心を結ぶ線に沿って形成されているか、または、前記砥粒層の外周から前記台金の軸心を結ぶ線に対して傾斜して形成されていることが好ましい。
このような溝の構成とすることで、切粉の排出性が向上する。

また、第２のロータリードレッサは、前記溝は、平行な一対の側面と前記突出部の前記外周面に平行な底面を有し、前記溝が、前記軸心と平行な方向またはねじれの方向に延びるように形成されていることが好ましい。
このような溝の構成とすることで、切粉の排出性が向上する。

本発明により、ドレス時の抵抗が少なく、切れ味のバラツキが少なく、安定したドレスを行うことができるロータリードレッサを提供することができる。

本発明の実施形態である第１のロータリードレッサを示す一部省略斜視図である。 図１中の矢線Ｘ方向から見た第１のロータリードレッサの一部省略正面図である。 図２中のＹ－Ｙ線における断面の一部省略断面図である。 第１のロータリードレッサのドレス部の外周面を簡略化して示す模式図である。 第１のロータリードレッサのドレス部の外周面を簡略化して示す模式図である。 図２の一部を簡略化して示す拡大模式図である。 隣接するダイヤモンド砥粒の砥粒間距離を説明するための図である。 本発明のその他の実施形態である第１のロータリードレッサの一部省略正面図である。 本発明のその他の実施形態である第１のロータリードレッサの一部を簡略化して示す模式図である。 本発明のその他の実施形態である第１のロータリードレッサの一部を簡略化して示す模式図である。 本発明のその他の実施形態である第２のロータリードレッサを示す一部省略斜視図である。 図１１の第２のロータリードレッサの一部省略平面図である。 図１１の第２のロータリードレッサの一部省略正面図である。 図１２中のＹ２－Ｙ２線における断面の一部省略端面図である。る。 第２のロータリードレッサのドレス部の作用面を簡略化して示す模式図である。 ロータリードレッサを使用して砥石をドレスしている状態を示す模式図である。 ロータリードレッサによりドレスされた砥石で被削材を研削している状態を示す模式図である。 図１７に示す研削作業における被削材の研削過程を示す模式図である。

以下、図１～図１５に基づいて、本発明の実施形態であるロータリードレッサ１００～１０２，２００について説明する。なお、後述するロータリードレッサ１００～１０２，２００は、本発明に係るロータリードレッサを例示するものであり、本発明に係るロータリードレッサは、これらのロータリードレッサ１００～１０２，２００に限定されない。また、ロータリードレッサ１００～１０２，２００において共通する部分については同符号を付して説明を省略する。

また、本願においては、図１，図１１に示すように、ドレス部の外周面（砥粒層の外周面）の法線方向（単に、「法線方向」と記載する場合もある。）を矢印ａの方向とする。ドレス部の外周（砥粒層の外周）の接線方向（単に、「接線方向」と記載する場合もある。）を矢印ｂの方向とする。台金の軸心方向（単に、「軸方向」と記載する場合もある。）を矢印ｃの方向とする。

まず、本発明の第１のロータリードレッサについて、ロータリードレッサ１００～１０２を例として説明する。本発明の第１のロータリードレッサは、ドレス部の外周面が作用面となり、台金を回転させながら、ドレス部の外周面（作用面）をドレッシング対象（砥石）に押し当てて、ドレッシングするものである。また、ダイヤモンド砥粒の積層方向は軸方向である。

＜実施形態１＞
図１～図７に示すロータリードレッサ１００は、円板状の台金１０の外周面１０ａにフランジ状に突設された環状の裏打ち層３０と、裏打ち層３０の回転面３０ｂ上に形成された環状の砥粒層２０を有する環状のドレス部５０を備える（図１，図３参照）。ロータリードレッサ１００の外径（Ｄ）（軸方向（矢印ｃの方向）から見たときの径、図２参照）は、１０ｍｍ以上３００ｍｍ以下である。

［ドレス部］
ドレス部５０は、軸方向から見たとき環状である。軸方向から見たとき、ドレス部５０の外周から内周を引いた長さ（Ｌ₅₀）（図２参照）は、１～１４ｍｍであるが、これに限定されるものではない。なお、ロータリードレッサ１００の使用代は、ドレス部５０の外周から法線方向に５／７程度である。

また、ドレス部５０の厚みは、０．４５～３．００ｍｍである。砥粒をめっきにより固着するため、本発明では、ドレス部５０を、１．００ｍｍ未満（０．４５～０．９８ｍｍなど）の薄層とすることも可能である。

［裏打ち層］
裏打ち層３０は、円板状の台金１０の外周面１０ａにフランジ状に突設された部分であり、台金１０と一体成形されている。裏打ち層３０の厚み（Ｔ₃）は、ドレス部の態様等に応じて決定されるが、０．１ｍｍ～２.０ｍｍである（図５参照）。裏打ち層３０の厚みが厚いと切れ味が低下する傾向にある。仕様によって、裏打ち層３０の厚みは、０．１ｍｍ以上や、１ｍｍ以上、０．５ｍｍ以下などに適宜調整される。

［砥粒層］
図１～図４に示すように、砥粒層２０は、ニッケルめっきとダイヤモンド砥粒２３Ａを含み、裏打ち層３０の回転面３０ｂ上に形成される環状の層である。砥粒層２０は、ニッケルめっきにより固着されたダイヤモンド砥粒２３Ａを含む砥粒部２３と、溝２４からなる複数の溝部を有する。

（砥粒部）
砥粒部２３は、砥粒層２０の溝部（溝２４）以外の領域であり、ニッケルめっきにより固着されたダイヤモンド砥粒２３Ａを含む。また、砥粒部２３は、ニッケルめっきにより形成された下地領域２３Ｂを有し、ダイヤモンド砥粒２３Ａは下地領域２３Ｂの上に固着されている。下地領域２３Ｂを介してダイヤモンド砥粒２３Ａが裏打ち層３０に固着されることで、密着性が向上し、安定に固着させることができる。

（ダイヤモンド砥粒）
ロータリードレッサ１００においては、ダイヤモンド砥粒２３Ａは１層に配列してニッケルめっきにより固定されている。ダイヤモンド砥粒２３Ａの平均粒径（ｄ）は、７０μｍ～１０００μｍであるが、これに限定されるものではない。ダイヤモンド砥粒２３Ａの平均粒径（ｄ）は、任意のダイヤモンド砥粒の１００粒の粒径の平均値である。各ダイヤモンド砥粒の粒径は、砥粒径の長径および短径の平均値であり、例えば、画像測定機により撮影した作用面の画像から、ダイヤモンド砥粒の長径と短径（ダイヤモンド砥粒に外接する四角形の長辺と短辺）を求め、粒径を算出することができる。

また、ダイヤモンド砥粒２３Ａは、六・八面体形状および／または切頭八面体形状であることが好ましい。このような形状であれば、砥粒部において密に配列させることができる。なお、切頭八面体形状とは、正八面体形状のダイヤモンド砥粒における６個の頂点付近が四角錐形状で切除され、四角形状をした６個の平面部が形成された形状であり、６個の四角形状の面と８個の六角形状の面とからなるものである。また、六・八面体形状とは、切頭八面体形状における四角形状をした６個の平面部を、隣り合って位置する四角形状の平面部の頂点同士が一致する所まで、それぞれ均等に拡張したような形状であり、六・八面体は、６個の四角形状の面と、８個の三角形状の面とからなるものである。また、裏打ち層３０に固着されるダイヤモンド砥粒２３Ａは、ダイヤモンド砥粒２３Ａの平面部が裏打ち層３０の回転面３０ｂと平行をなすように固着されていると、より安定したドレスを行うことができるため、このように固着されているダイヤモンド砥粒２３Ａが多いほど（例えば、全砥粒数の５０％以上など）好ましい。特に、ダイヤモンド砥粒２３Ａの外面において最大面積を有する平面部が、裏打ち層３０の回転面３０ｂと平行をなすように固着されたダイヤモンド砥粒２３Ａが多いほど好ましい。すなわち、ダイヤモンド砥粒２３Ａが六・八面体形状の場合は、四角形の面と裏打ち層３０の回転面３０ｂとが平行をなすように、切頭八面体形状の場合は、六角形の面と裏打ち層３０の回転面３０ｂとが平行をなすように固着されたダイヤモンド砥粒２３Ａが多いほど好ましい。

図５に示すように、ロータリードレッサ１００において、軸方向における、ダイヤモンド砥粒２３Ａを固着するニッケルめっきの厚さ（Ｔ_N）の平均値（Ｔ_Na）は、裏打ち層３０からダイヤモンド砥粒２３Ａの先端までの厚さ（Ｔ_D）の平均値（Ｔ_Da）の９５％である。ここで、ニッケルめっきの厚さ（Ｔ_N）の平均値（Ｔ_Na）は、外周面２０ａにおいて、砥粒部２３のニッケルめっきの厚さ（Ｔ_N）を、８点測定して平均した値である。裏打ち層３０からダイヤモンド砥粒２３Ａの先端までの厚さ（Ｔ_D）の平均値（Ｔ_Da）は、外周面２０ａにおいて、裏打ち層３０からダイヤモンド砥粒２３Ａの先端までの厚さ（Ｔ_D）を８点測定して平均した値である。各Ｔ_NやＴ_Dは、デジタルマイクロスコープなどの顕微鏡を用いて測定することができる。

なお、ニッケルめっきは、ダイヤモンド砥粒２３Ａを固着することができれば任意の厚さに調整可能であるが、ニッケルめっきが薄すぎるとダイヤモンド砥粒２３Ａの固定が不安定になる方向である。そのため、ダイヤモンド砥粒２３Ａの平均粒径をｄ、ダイヤモンド砥粒２３Ａの積層数をｎとすると、ニッケルめっきの厚さ（Ｔ_N）の平均値（Ｔ_Na）は、ｎ×ｄ×０．９５以上が好ましい。ロータリードレッサ１００は、積層数が１であるので、ニッケルめっきの厚さ（Ｔ_N）の平均値（Ｔ_Na）は、ｄ×０．９５以上であることが好ましい。

砥粒部２３においてダイヤモンド砥粒２３Ａは密に配置されていることが好ましい。そのため、砥粒部２３の外周面（砥粒層２０の溝２４の部分を除く外周面）に沿って存在できるダイヤモンド砥粒２３Ａの理論数をＸ、砥粒部２３の外周に沿って存在するダイヤモンド砥粒２３Ａの数をＮとすると、０．６×Ｘ≦Ｎ≦Ｘが好ましい。このＮは、ダイヤモンド砥粒２３Ａの粒径に応じて、０．９９×Ｘ以下や、０．９７×Ｘ以下、０．７×Ｘ以上、０．８×Ｘ以上、０．８５×Ｘ以上などと任意に調整してよい。理論数Ｘは、砥粒層２０の外周の長さ（円周）をＬ_C、ダイヤモンド砥粒２３Ａの平均粒径をｄ、溝２４の幅Ｗ₂₄の合計をＷ_24tとすると、Ｘ＝（Ｌ_C－Ｗ_24t）／ｄ＝（π×Ｄ－Ｗ_24t）／ｄで表される。溝の幅、ダイヤモンド砥粒２３Ａの数は、例えば、デジタルマイクロスコープなどの顕微鏡を用いて測定することができる。

また、砥粒層２０の作用面（外周面２０ａ）の溝２４の部分を除いた領域の面積（砥粒部２３の外周面の合計面積）に対するダイヤモンド砥粒２３Ａの露出面積（投影面積）の合計は、７％以上７１％以下であることが好ましく、３５％以上６８％以下や、５０％以上６５％以下などであってもよい。例えば、デジタルマイクロスコープなどの顕微鏡で砥粒層２０の溝２４を除いた外周面２０ａ全体を撮影し、撮影した画像を二値化処理した処理画像から算出することができる。

また、使用代部分において、砥粒層の軸方向の最表面の層の溝部を除いて隣接するダイヤモンド砥粒の砥粒間距離（Ｌ_X）（図７参照）を求めたとき、その９０％以上の砥粒間距離（Ｌ_X）が、ダイヤモンド砥粒の平均粒径（ｄ）の２／３倍以上であり、ダイヤモンド砥粒の平均粒径（ｄ）の３倍以下（すなわち、ｄ×２／３～ｄ×３）であることが好ましい。ｄ×２／３～ｄ×３である砥粒間距離（Ｌ）の割合が多いほど、持続して安定した研削ができる。砥粒層の軸方向の最表面の層とは、砥粒層におけるダイヤモンド砥粒の積層数がｎ（例えば、１≦ｎ≦５）であるとき、ｎ層目の層である。ロータリードレッサ１００は、ダイヤモンド砥粒２３Ａの積層数が１であるので、使用代部分において、砥粒層２０の１層目の溝２４の部分を除いて隣接するダイヤモンド砥粒２３Ａの砥粒間距離（Ｌ_X）を求めたとき、その９０％以上の砥粒間距離（Ｌ_X）が、ダイヤモンド砥粒２３Ａの平均粒径の２／３倍以上であり、ダイヤモンド砥粒２３Ａの平均粒径の３倍以下であることが好ましい。

また、使用代部分において、砥粒層の法線方向の最表面の層（ロータリードレッサ１００においては外周面２０ａ）の溝部を除いて隣接するダイヤモンド砥粒の砥粒間距離（Ｌ_X）を求めたとき、その９０％以上の砥粒間距離（Ｌ_X）が、ダイヤモンド砥粒の平均粒径の２／３倍以上であり、ダイヤモンド砥粒の平均粒径の３倍以下であることが好ましい。ｄ×２／３～ｄ×３である砥粒間距離（Ｌ）の割合が多いほど、多くのダイヤモンド砥粒２３Ａで研削ができる。

なお、隣接するダイヤモンド砥粒の砥粒間距離（Ｌ_X）は、砥粒層の溝部を除いた部分において隣接するダイヤモンド砥粒間の距離であり、溝など砥粒部以外の領域を介して隣接するダイヤモンド砥粒間の距離は含まない。具体的には、図７に示すように、砥粒間距離（Ｌ_X）は、隣接する２つのダイヤモンド砥粒２３Ａ－１、２３Ａ－２における、一方のダイヤモンド砥粒２３Ａ－１に外接する外接円の中心位置と、ダイヤモンド砥粒２３Ａ－１に隣接する他方のダイヤモンド砥粒２３Ａ－２に外接する外接円の中心位置とを結んだ距離として定義される。砥粒間距離（Ｌ_X）は、例えば、砥粒層の軸方向または法線方向のｎ層目のダイヤモンド砥粒が見える状態で、デジタルマイクロスコープなどの顕微鏡を用いて使用代部分の全領域を撮影し、撮影した画像を二値化処理した処理画像から算出することができる。

（溝）
図２に示すように、砥粒層２０は、外周から内側に向かって延びる溝２４を複数有する。それぞれの溝２４は、平行な一対の側面と裏打ち層３０の回転面３０ｂに平行な底面を有し、同じ形状で形成されており、砥粒層２０の外周（ドレス部５０の外周）の接線方向にダイヤモンド砥粒２３Ａの平均粒径（ｄ）以上の間隔を置いて、等間隔で設けられている。溝２４の間隔は任意に調整可能であるが、溝２４の間隔が狭すぎるとダイヤモンド砥粒２３Ａの数が少なくなるため、使用条件や使用環境によってはロータリードレッサの寿命が短くなる。そのため、砥粒部２３の幅をＷ₂₃、溝２４の幅をＷ₂₄とすると、ｄ≦Ｗ₂₃≦（π×Ｄ－８×Ｗ₂₄）/８であることが好ましい（図５参照）。溝２４の形状（幅、長さ、厚さ）や溝２４の間隔（砥粒部２３の幅）は、デジタルマイクロスコープなどの顕微鏡を用いて測定することができる。

溝２４の幅（Ｗ₂₄）は、ダイヤモンド砥粒２３Ａの平均粒径（ｄ）の１／４以上、ダイヤモンド砥粒２３Ａの平均粒径（ｄ）の１８倍以下である（図５参照）。溝２４の幅（Ｗ₂₄）が、ダイヤモンド砥粒２３Ａの平均粒径（ｄ）の１／４よりも小さいとドレス抵抗が増加し、本発明の効果が得られない。また、溝の幅（Ｗ₂₄）が、ダイヤモンド砥粒２３Ａの平均粒径（ｄ）の１８倍より大きいと、ダイヤモンド砥粒を含む砥粒部が少なくなり、被研削材のドレッシング後の被研削材の表面粗さが粗くなるなど安定したドレスを行うことができず、ロータリードレッサの寿命も短くなる。

溝２４の幅（Ｗ₂₄）は、ダイヤモンド砥粒２３Ａの平均粒径（ｄ）の１／３倍以上１５倍以下が好ましく、ダイヤモンド砥粒２３Ａの平均粒径（ｄ）の１／２倍以上１０倍以下がより好ましく、ダイヤモンド砥粒２３Ａの平均粒径（ｄ）の３／４倍以上５倍以下がさらに好ましい。

また、溝２４は、砥粒層２０の外周から台金１０の軸心Ｒを結ぶ線Ｚに沿って、放射状に形成されている（図２参照）。溝２４の砥粒層２０の作用面に対して垂直な方向の長さ（すなわち、法線方向における溝２４の長さ（Ｌ₂₄）、図６参照）は、使用代以上が好ましい。具体的には、砥粒層２０の作用面に対して垂直な方向の長さ（Ｌ₂₀）（すなわち、ドレス部５０（砥粒層２０）の外周から内周までの長さ（Ｌ₅₀））の０．７倍以上（Ｌ₂₄≧０．７×Ｌ₂₀）が好ましい。

軸方向においは、図４，図５に示すように、溝２４は、裏打ち層３０まで延在するように形成されている。法線方向（矢印ａの方向）から見たときの溝２４の形状は、長方形である。なお、後述する図９や図１０のように、溝は、裏打ち層まで延在しておらず、溝部は、溝の下側にニッケルめっきにより形成された溝下領域を有してもよく、溝の深さ（軸方向における溝の長さ，Ｔ₂₄）は、ニッケルめっきの厚さ（Ｔ_N）の平均値（Ｔ_Na）の０倍超１倍以下、例えば、０．１～１倍や０．５～１倍などとしてもよい。また、法線方向から見たときの溝の形状は、正方形や台形のような長方形以外の四角形であってもよい。

なお、法線方向から見たときの砥粒部２３や溝２４の形状が長方形および正方形でない場合（一対の側面が平行でない場合）は、それぞれの幅（Ｗ₂₃，Ｗ₂₄）は、接線方向において最大の長さとする。また、厚さ（軸方向の長さ）が一定でない場合は、砥粒部２３のニッケルめっき厚さ（Ｔ_N）、裏打ち層３０からダイヤモンド砥粒２３Ａの先端までの厚さ（Ｔ_D）および溝２４の深さ（Ｔ₂₄）は、軸方向において最大の長さとし、溝２４の長さ（法線方向の長さ）が一定でない場合は、溝２４の長さ（Ｌ₂₄）は法線方向において最大の長さとする。

ロータリードレッサ１００は、例えば、裏打ち層３０上の溝２４を形成する位置にめっき金属が析出しないようにマスキングした後に、下地領域２３Ｂを形成し、下地領域２３Ｂ上に振動を加えながらダイヤモンド砥粒２３Ａを配列させてめっき処理を行う方法や、裏打ち層３０上に下地領域２３Ｂを形成し、溝２４を形成する位置にめっき金属が析出しないようにマスキングした後に、下地領域２３Ｂ上に振動を加えながらダイヤモンド砥粒２３Ａを配列させてめっき処理を行う方法、裏打ち層３０上に下地領域２３Ｂを形成し、次いで振動を加えながらダイヤモンド砥粒２３Ａを配列させてめっき処理を行った後に、溝２４を形成する方法などを利用して製造することができる。振動を与えながらダイヤモンド砥粒２３Ａを裏打ち層３０上に下地領域２３Ｂを介して配列（充填）させることで密に配列させやすく、さらに、ダイヤモンド砥粒２３Ａの稜線でなく平面部（特に、最大面積を有する平面部）が裏打ち層３０の回転面３０ｂと平行となる状態で配列しやすい。なお、ロータリードレッサ１００の製造方法はこれらに限定されるものではない。

＜実施形態２＞
図８，図９に示すロータリードレッサ１０１は、裏打ち層３０と、裏打ち層３０の回転面３０ｂ上に形成された環状の砥粒層２１を有する環状のドレス部５１を備える。砥粒層２１は、ニッケルめっきにより形成された下地領域２３Ｂおよびニッケルめっきにより固着されたダイヤモンド砥粒２３Ａを含む砥粒部２３と、溝２５Ａおよび溝下領域２５Ｂからなる複数の溝部２５を有する。溝下領域２５Ｂは、溝２５Ａの軸方向（矢印ｃの方向）において下側の領域であり、ニッケルめっきにより形成されている。

それぞれの溝２５Ａは、同じ形状で形成されており、外周から台金１０の軸心を結ぶ線Ｚに対して傾斜して、らせん状に形成されている。溝２５Ａの間隔（砥粒部２３の幅（Ｗ₂₃））および幅（Ｗ₂₅）は、溝２４と同様である。溝２５Ａの法線方向の長さ（Ｌ₂₅）は、使用代以上が好ましく、例えば、砥粒層２１の外周から内周までの長さ（Ｌ₂₁）の０．７倍以上である。また、溝２５Ａの深さ（Ｔ₂₅）は、ニッケルめっきの厚さ（Ｔ_N）の平均値（Ｔ_Na）より小さく、軸方向において溝２５Ａは裏打ち層３０まで貫通して開口しておらず、例えば、Ｔ_Na×０．１～Ｔ_Na×０．９５倍である。

砥粒層２１は、ダイヤモンド砥粒２３Ａを固着するニッケルめっきの厚さ（Ｔ_N）の平均値（Ｔ_Na）が、裏打ち層３０からダイヤモンド砥粒２３Ａの先端までの厚さ（Ｔ_D）の平均値（Ｔ_Da）より厚い。例えば、Ｔ_Da＜Ｔ_Na≦１．５×Ｔ_Daや、１．１×Ｔ_Da≦Ｔ_Na≦１．４×Ｔ_Daである。すなわち、ロータリードレッサ１０１では、ダイヤモンド砥粒２３Ａを軸方向において完全に覆うようにニッケルめっきが施されている。ダイヤモンド砥粒２３Ａを完全に覆うようにニッケルめっきを施すことでダイヤモンド砥粒２３Ａをより安定に固着できる。一方で、ニッケルめっきが厚すぎると切味が低下する傾向にある。そのため、ダイヤモンド砥粒２３Ａの平均粒径をｄ、ダイヤモンド砥粒２３Ａの積層数をｎとすると、ニッケルめっきの厚さ（Ｔ_N）の平均値（Ｔ_Na）は、ｎ×ｄ＋０．５×ｄ以下が好ましい。ロータリードレッサ１０１は、積層数が１であるので、ニッケルめっきの厚さ（Ｔ_N）の平均値（Ｔ_Na）は、ｄ×１．５以下であることが好ましい。

＜実施形態３＞
図１０に示すロータリードレッサ１０２は、裏打ち層３０と、裏打ち層３０の回転面３０ｂ上に形成された環状の砥粒層２２を有する環状のドレス部５２を備える。

砥粒層２２は、砥粒部２７と、溝２８Ａおよび溝下領域２８Ｂからなる複数の溝部２８を有する。溝下領域２８Ｂは、溝２８Ａの軸方向下側の領域であり、ニッケルめっきにより形成されている。砥粒部２７は、下地領域２７Ｂを介して、ダイヤモンド砥粒２３Ａが軸方向に５層配列し、ニッケルめっきにより固着されている以外は、砥粒部２３と同じである。積層構造とすることで、耐摩耗性が向上する。ニッケルめっきの厚さ（Ｔ_N）の平均値（Ｔ_Na）は、裏打ち層３０から５層目のダイヤモンド砥粒２３Ａの先端までの厚さ（Ｔ_D）の平均値（Ｔ_Da）より厚くなっている（すなわち、Ｔ_Da＜Ｔ_Na）がこれに限定されず、ニッケルめっきの厚さ（Ｔ_N）の平均値（Ｔ_Na）は、５ｄ×０．９５～５．５×ｄ程度である。また、溝２８Ａは、砥粒層２２の外周から台金１０の軸心Ｒを結ぶ線Ｚに沿って、放射状に形成されている。溝部２８において、溝２８Ａは裏打ち層３０まで延在しておらず、溝下領域２８Ｂを有する構成であるが、溝２８Ａは裏打ち層３０まで延在してもよく、溝２８Ａの深さ（Ｔ₂₈）や、幅（Ｗ₂₈）、長さは、溝２４と同様である。

なお、ダイヤモンド砥粒の積層数（ｎ）は５に限定されず、積層数は１～５とすることができる。

次に、本発明の第２のロータリードレッサについて説明する。本発明の第２のロータリードレッサは、ドレス部の軸方向に垂直な端面が作用面となり、台金を回転させながら、ドレス部の軸方向に垂直な端面をドレッシング対象（砥石）に押し当てて、ドレッシングする、いわゆるカップ型のドレッサである。また、ダイヤモンド砥粒の積層方向は法線方向である。

＜実施形態４＞
図１１～図１５に示すロータリードレッサ２００は、台金６０と、台金６０の軸方向の一端部に円筒状のドレス部６２を備える。ロータリードレッサ２００の外径（Ｄ）は、１０～３００ｍｍである。

［ドレス部］
ドレス部６２は、突出部８０と、突出部８０の外周面８０ａ上に形成された円筒状の砥粒層７０を有する。ドレス部６２の軸方向の長さ（作用面から台金までの距離，Ｌ₆₂）は、１～１４ｍｍであるが、これに限定されるものではない。ロータリードレッサ２００の使用代は、ドレス部６２の５／７程度である。また、ドレス部６２の厚み（法線方向の長さ，Ｔ₆₂）は、０．４５～３．００ｍｍである。砥粒をめっきにより固着するため、本発明では、ドレス部６２の厚みを、１．００ｍｍ未満（０．４５～０．９８ｍｍなど）の薄層とすることも可能である

［突出部］
突出部８０は、台金６０の軸方向の一方向に突出した円筒状の部分であり、台金６０と一体成形されており、台金６０と同一の軸心Ｒを有している。台金６０は、図１４に示すように、外周面が円筒状の円筒状部６０Ｂと円筒状部６０Ｂの一方の端面に突出した凸部６０Ａを有する。突出部８０は、凸部６０Ａ上（円筒状部６０Ｂと反対側）の外周側に形成され、凸部６０Ａの外周面６０ａと突出部８０の外周面８０ａは同一面上に位置している。突出部８０の厚み（法線方向の長さ，Ｔ₈₀）は、ドレス部の態様等に応じて決定されるが、０．１ｍｍ～２.０ｍｍである。突出部８０の厚みが厚いと切れ味が低下する傾向にある。仕様によって、突出部８０の厚みは、０．１ｍｍ以上や、１ｍｍ以上、０．５ｍｍ以下などに適宜調整される。

［砥粒層］
砥粒層７０は、図１１に示すように、突出部８０の外周面８０ａ上に形成される円筒状の層である。砥粒層７０の外周面７０ａには、作用面７０ｂ（軸心に垂直な面）から台金側に向かって延びる溝７４が形成されており、砥粒層７０は、ニッケルめっきにより固着されたダイヤモンド砥粒７３Ａを含む砥粒部７３と、溝７４からなる複数の溝部を有する。また、砥粒層７０は、図１４に示すように、突出部８０の外周面８０ａから台金６０の凸部６０Ａの外周面６０ａにかけて形成されている。

（砥粒部）
砥粒部７３は、砥粒層７０の溝部（溝７４）以外の領域であり、ニッケルめっきにより固着されたダイヤモンド砥粒７３Ａを含む（図１５参照）。また、砥粒部７３は、ニッケルめっきにより形成された下地領域７３Ｂを有し、ダイヤモンド砥粒７３Ａは下地領域７３Ｂの上に固着されている。

（ダイヤモンド砥粒）
ダイヤモンド砥粒７３Ａは、突出部８０の外周に沿って下地領域７３Ｂを介して１層に配列してニッケルめっきにより固定されているが、ダイヤモンド砥粒７３Ａの積層数は１層に限定されず、積層数ｎは１～５とすることができる。ダイヤモンド砥粒７３Ａは、砥粒部７３において密に配置されていることが好ましい。ダイヤモンド砥粒７３Ａは、第１のロータリードレッサのダイヤモンド砥粒２３Ａと同様のものを用いることができ、平均粒径（ｄ）が７０μｍ～１０００μｍであり、六・八面体形状および／または切頭八面体形状であることが好ましい。

ロータリードレッサ２００において、法線方向における、ダイヤモンド砥粒７３Ａを固着するニッケルめっきの厚さ（Ｔ_N）の平均値（Ｔ_Na）は、突出部８０からダイヤモンド砥粒７３Ａの先端までの厚さ（Ｔ_D）の平均値（Ｔ_Da）の９５％～１５０％である。

また、ダイヤモンド砥粒７３Ａを固着するニッケルめっきの厚さ（Ｔ_N）の平均値（Ｔ_Na）は、任意に調整可能であるが、ニッケルめっきが薄すぎるとダイヤモンド砥粒７３Ａの固定が不安定になる方向であり、厚すぎると切れ味が低下する方向である。そのため、ダイヤモンド砥粒７３Ａの平均粒径をｄ、法線方向のダイヤモンド砥粒７３Ａの積層数をｎとすると、ニッケルめっきの厚さ（Ｔ_N）の平均値（Ｔ_Na）は、ｎ×ｄ×０．９５以上が好ましく、ｎ×ｄ＋ｄ×０．５以下であることが好ましい。ロータリードレッサ２００は、積層数が１であるので、ニッケルめっきの厚さ（Ｔ_N）の平均値は、ｄ×０．９５以上、ｄ×１．５以下であることが好ましい。

砥粒部７３の外周面（砥粒層７０の溝７４の部分を除く外周面）に沿って存在するダイヤモンド砥粒７３Ａの数をＮ、砥粒層７０の外周の長さ（円周）をＬ_c、ダイヤモンド砥粒７３Ａの平均粒径をｄ、溝７４の幅Ｗ₇₄の合計をＷ_74tとすると、０．６×（Ｌ_c－Ｗ_74t）／ｄ≦Ｎ≦（Ｌ_c－Ｗ_74t）／ｄが好ましい。（Ｌ_c－Ｗ_74t）／ｄは、砥粒部７３の外周面に沿って存在できるダイヤモンド砥粒７３Ａの理論数（Ｘ）である。ダイヤモンド砥粒７３Ａの平均粒径や溝７４の幅に応じて、Ｎ／Ｘは、０．９９以下や、０．９７以下、０．７以上、０．８以上、０．８５以上など任意に調整してよい。

砥粒層７０の作用面７０ｂの溝７４を除いた領域の面積に対するダイヤモンド砥粒７３Ａの露出面積の合計は７面積％以上７１面積％以下であることが好ましく、３５～６８面積％や５０～６５面積％などとしてもよい。

使用代部分において、砥粒層の軸方向の最表層の層（ロータリードレッサ２００においては作用面７０ｂ）の溝部を除いて隣接するダイヤモンド砥粒の砥粒間距離（砥粒部での隣接するダイヤモンド砥粒の砥粒間距離）を求めたとき、その９０％以上の砥粒間距離が、ダイヤモンド砥粒の平均粒径（ｄ）の２／３倍以上であり、ダイヤモンド砥粒の平均粒径（ｄ）の３倍以下（すなわち、ｄ×２／３～ｄ×３）であることが好ましい。ｄ×２／３～ｄ×３である砥粒間距離（Ｌ）の割合が多いほど仕事をするダイヤモンド砥粒７３Ａが多くなるため、切味のバラつきがより低減される。

使用代部分において、砥粒層の法線方向の最表面の層の溝部を除いて隣接するダイヤモンド砥粒の砥粒間距離（砥粒部での隣接するダイヤモンド砥粒の砥粒間距離）を求めたとき、その９０％以上の砥粒間距離が、ダイヤモンド砥粒の平均粒径の２／３倍以上であり、ダイヤモンド砥粒の平均粒径の３倍以下であることが好ましい。ｄ×２／３～ｄ×３である砥粒間距離（Ｌ）の割合が多いほど持続して安定した研削ができるため、より長時間にわたって安定した研削ができる。砥粒層の法線方向の最表面の層とは、砥粒層におけるダイヤモンド砥粒の積層数がｎ（例えば、１≦ｎ≦５）であるとき、ｎ層目の層である。

（溝）
図１１，図１３に示すように、砥粒層７０は、作用面７０ｂから台金側に向かって延びる溝７４を複数有する。それぞれの溝７４は、平行な一対の側面と突出部８０の外周面８０ａに平行な底面を有し、同じ形状で形成されており、砥粒部７３の幅（接線方向の長さ）をＷ₇₃とすると、砥粒層７０（ドレス部６２）の外周の接線方向に、ｄ≦Ｗ₇₃≦（π×Ｄ－８×Ｗ₇₄）/８の間隔を置いて、等間隔で設けられている。

溝７４の幅（接線方向の長さ，Ｗ₇₄）は、ダイヤモンド砥粒７３Ａの平均粒径（ｄ）の１／４以上、ダイヤモンド砥粒７３Ａの平均粒径（ｄ）の１８倍以下である（図１５参照）。溝７４の幅（Ｗ₇₄）がｄ×１／４未満である場合は、ドレス抵抗が増加し、溝７４の幅（Ｗ₇₄）がｄ×１８超である場合は、被研削材のドレッシング後の被研削材の表面粗さが粗くなるなど安定したドレスを行うことができないため、本発明の効果が得られない。溝７４の幅は、ダイヤモンド砥粒７３Ａの平均粒径（ｄ）の１／３倍以上１５倍以下が好ましく、ダイヤモンド砥粒７３Ａの平均粒径（ｄ）の１／２倍以上１０倍以下がより好ましく、ダイヤモンド砥粒７３Ａの平均粒径（ｄ）の３／４倍以上５倍以下がさらに好ましい。

また、溝７４は、軸心Ｒ（回転中心軸）と平行な方向に延びるように形成されている。軸方向における溝７４の長さ（Ｌ₇₄）は、使用代以上が好ましい。具体的には、溝７４の長さ（Ｌ₇₄）は、ドレス部６２の作用面７０ｂから台金までの長さ（Ｌ₆₂）の０．７倍以上（０．７×Ｌ₆₂≦Ｌ₇₄）が好ましい。

法線方向においは、図１５に示すように、溝７４は、突出部８０まで延在するように形成されている。軸方向から見たときの溝７４の形状は、略長方形である。なお、溝は、突出部まで延在しておらず、溝部は、溝の下にニッケルめっきにより形成された溝下領域を有する構成としてもよく、溝の深さ（法線方向における溝の長さ，Ｔ₇₄）は、ニッケルめっきの厚さ（Ｔ_N）の平均値（Ｔ_Na）の０倍超１倍以下、例えば、０．１～１倍や０．５～１倍などとしてもよい。また、軸方向から見たときの溝の形状は、溝の幅に応じて、略正方形や略台形のような略長方形以外の略四角形や扇形であってもよい。

軸方向から見たときの砥粒部７３や溝７４の形状が略長方形および略正方形でない場合（一対の側面が平行でない場合）は、それぞれの幅（Ｗ₇₃，Ｗ₇₄）は、接線方向において最大の長さとする。また、厚さ（法線方向の長さ）が一定でない場合は、砥粒部７３のニッケルめっき厚さ（Ｔ_N）、突出部８０からダイヤモンド砥粒７３Ａの先端までの厚さ（Ｔ_D）および溝７４の深さ（Ｔ₇₄）は、法線方向において最大の長さとし、溝７４の長さ（軸方向の長さ）が一定でない場合は、溝７４の長さ（Ｌ₇₄）は軸方向において最大の長さとする。

なお、ロータリードレッサ２００においては、台金６０が、円筒状部６０Ｂと凸部６０Ａを有するが、台金の形状はこれに限定されず、円筒状やカップ状であってもよい。また、溝７４は、軸心Ｒ（回転中心軸）とねじれ方向に延びるように形成されてもよい。また、砥粒部７３の構成（幅、厚さ、ダイヤモンド砥粒７３Ａの投影面積の割合、砥粒間距離など）や溝７４の形状（幅、厚さ、長さなど）の測定方法は、ロータリードレッサ１００と同様である。

ロータリードレッサ２００の製造方法は特に限定されないが、例えば、突出部８０上の溝７４を形成する位置にめっき金属が析出しないようにマスキングした後に、下地領域７３Ｂを形成し、下地領域７３Ｂ上に振動を加えながらダイヤモンド砥粒７３Ａを配列させてめっき処理を行う方法や、突出部８０の外周面８０ａ上に下地領域７３Ｂを形成し、溝７４を形成する位置にめっき金属が析出しないようにマスキングした後に、振動を加えながらダイヤモンド砥粒７３Ａを配列させてめっき処理を行う方法、突出部８０の外周面８０ａ上に下地領域７３Ｂを形成し、次いで振動を加えながらダイヤモンド砥粒７３Ａを配列させてめっき処理を行った後に、溝７４を形成する方法が挙げられる。

＜使用したロータリードレッサ＞
円板状の台金の外周面にフランジ状に突設された裏打ち層の回転面上に砥粒層が形成されたロータリードレッサ（ホイール型のロータリードレッサ）を用いた。溝の数は同じにして、溝の幅を変えて、幅が異なる溝が等間隔で設けられた、実施例１～５、比較例１，２のロータリードレッサを作製した。また、溝のない従来のロータリードレッサを比較例３とした。

実施例１～５、比較例１，２のロータリードレッサの製造は、まず、裏打ち層と一体形成された台金に所定の幅の溝形状をマスキングにて等間隔で形成した。次いで、マスキングが無い部分に、下地のニッケルめっきを施した後、ダイヤモンド砥粒を散布し振動を加えて充填することで、ダイヤモンド砥粒を１層に配列させた。さらに、ニッケルめっき処理を行い、ダイヤモンド砥粒を電着固定した。

比較例３のロータリードレッサの製造は、裏打ち層の回転面上に下地のニッケルめっきを施した。下地のニッケルめっきの上にダイヤモンド砥粒を散布してダイヤモンド砥粒を１層に配列させた後、ニッケルめっき処理を行い、ダイヤモンド砥粒を電着固定した。

作製したロータリードレッサの形状等は以下の通りである。
・ロータリードレッサの形状：ホイール形状
・ロータリードレッサ外径：Ｄ（Φ）１００ｍｍ
・ドレス部の長さ：７ｍｍ
・ドレス部の厚さ：０．９５ｍｍ
・ニッケルめっきの厚さ：０．８５ｍｍ
・溝の長さ：５ｍｍ
・溝の幅：表１に示す。
・ダイヤモンド砥粒：平均粒径６５０μｍ、六・八面体

（ダイヤモンド砥粒の投影面積の割合（％））
実施例１～５，比較例１～３のロータリードレッサの砥粒層の外周面をデジタルマイクロスコープで撮影した。撮影した画像を二値化処理し、ダイヤモンド砥粒を含む砥粒部の面積とダイヤモンド砥粒の合計面積（露出面積）を求めた。砥粒部の面積に対する、ダイヤモンド砥粒の合計面積の割合（％）を求め、ダイヤモンド砥粒の投影面積の割合（％）とした。結果を表１に示す。

（砥粒間距離Ｌの割合（％））
デジタルマイクロスコープを用いて、実施例１～５，比較例１～３のロータリードレッサの砥粒層を矢印ａの方向（法線方向）から観察し、外周面の砥粒部において２個のダイヤモンド砥粒が隣接している部分の砥粒間距離（Ｌ_X）を求めた。砥粒間距離（Ｌ_X）の中から、ダイヤモンド砥粒の平均粒径（ｄ）の２／３倍以上３倍以下を満たす砥粒間距離Ｌを有する部分の数を求めた。砥粒間距離（Ｌ_X）を求めた部分の数に対する、砥粒間距離Ｌを有する部分の数の割合（％）を求め、外周面の砥粒間距離Ｌの割合（％）とした。
また、デジタルマイクロスコープを用いて、実施例１～５，比較例１～３のロータリードレッサの砥粒層を矢印ｃの方向（軸方向）から観察し、使用代部分について、軸方向に垂直な面の砥粒部において２個のダイヤモンド砥粒が隣接している部分の砥粒間距離（Ｌ_X）を求めた。砥粒間距離（Ｌ_X）の中から、ダイヤモンド砥粒の平均粒径（ｄ）の２／３倍以上３倍以下を満たす砥粒間距離Ｌを有する部分の数を求めた。砥粒間距離（Ｌ_X）を求めた部分の数に対する、砥粒間距離Ｌを有する部分の数の割合（％）を求め、軸と垂直な面の砥粒間距離Ｌの割合（％）とした。
それぞれの結果を表１に示す。

（Ｎ／Ｘ）
デジタルマイクルスコープを用いて、実施例１～５，比較例１～３のロータリードレッサの砥粒層の溝の部分を除く外周に沿って存在するダイヤモンド砥粒の数（Ｎ）を求めた。溝幅とドレッサの外径とダイヤモンド砥粒の平均粒径から、砥粒層の溝の部分を除く外周に沿って存在できるダイヤモンド砥粒の理論数（Ｘ）を求めた。ＮをＸで除し、Ｎ／Ｘを算出した。結果を表１に示す。

＜ドレス性能比較試験＞
まず、ロータリードレッサ１（実施例１～５、比較例１～３のロータリードレッサ）を用いて、以下のドレッシング方法で砥石２をドレッシングした。次いで、ドレッシングされた砥石２を用いて、以下の研削方法で被削材４を研削し、研削作業時の切味（消費電力）、面粗さ、安定性を評価した。

（ドレッシング方法）
図１６は、ロータリードレッサ１を使用して砥石２をドレスしている状態を模式的に示している。ドレス作業は横軸平面研削盤を使用し、研削液供給手段３から研削液を供給しながら、湿式にて行った。ドレス条件は次の通りである。
周速度比：０．５（砥石２の周速４０ｍ／ｓｅｃ、ドレッサの周速２０ｍ／ｓｅｃ）
ドレスリード：０．２ｍｍ／ｒeｖ
切込量：０．０１０ｍｍ
砥石粒度：＃８０

（研削方法）
図１７は、ロータリードレッサ１（図１６参照）によりドレスされた砥石２で被削材４を研削している状態を模式的に示している。図１８は図１７に示す研削作業における被削材の研削過程を模式的に示しており、複数の矢線はそれぞれ１ｐaｓｓを示している。研削作業は横軸平面研削盤を使用し、研削液供給手段３から研削液を供給しながら、湿式にて行った。研削条件は次の通りである。
砥石２の周速：４０ｍ／ｓｅｃ
送り速度：１０ｍ／ｍｉｎ
切込量：０．０１０ｍｍ／ｐaｓｓ
被削材４（材質ＳＣＭ４３５、焼入れ硬さ：ＨＲＣ５０）

上記研削作業を行ったときの切味（消費電力）、面粗さ、安定性（初期と終期の面粗さの変化率）を、表２の基準で評価した。表３に、評価結果を示す。

本発明に係るロータリードレッサは、一般砥石やＣＢＮ砥石などのドレス手段として各種製造業の分野において広く利用することができる。

１０、６０ 台金
１０ａ、２０ａ、３０ａ、６０ａ、７０ａ、８０ａ 外周面
２０、２１、２２、７０ 砥粒層
２３、２７、７３ 砥粒部
２３Ａ、７３Ａ ダイヤモンド砥粒
２３Ｂ、７３Ｂ 下地領域
２４、２５Ａ、２８Ａ、７４ 溝
２５Ｂ、２８Ｂ 溝下領域
２５、２８ 溝部
３０ 裏打ち層
３０ｂ 回転面
５０、５１、５２、６２ ドレス部
６０Ａ 凸部
６０Ｂ 円筒状部
８０ 突出部
１００、１０１、１０２、２００ ロータリードレッサ

Claims (10)

1. 砥粒層が設けられる被固着部と、めっきにより固着されたダイヤモンド砥粒を含む砥粒部および溝を含む溝部を有する前記砥粒層と、を有するドレス部を備えたロータリードレッサであり、
   前記溝の幅が、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の１/４以上、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の１８倍以下であり、
   前記被固着部が、円板状部を有する台金の外周面にフランジ状に突設された環状の裏打ち層であり、
   前記砥粒層が、前記裏打ち層の回転面上に形成された環状の砥粒層であり、
   前記溝が、前記砥粒層の外周から内側に向かって延びるように形成されている、ロータリードレッサ。
2. 砥粒層が設けられる被固着部と、めっきにより固着されたダイヤモンド砥粒を含む砥粒部および溝を含む溝部を有する前記砥粒層と、を有するドレス部を備えたロータリードレッサであり、
   前記溝の幅が、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の１/４以上、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の１８倍以下であり、
   前記被固着部が、円筒状部を有する台金と同一の軸心を有し、前記台金の軸方向の一方に突出した円筒状の突出部であり、
   前記砥粒層が、前記突出部の外周面上に形成された円筒状の砥粒層であり、
   前記溝が、作用面から台金側に向かって延びるように形成されている、ロータリードレッサ。
3. 前記砥粒層の作用面の前記溝部を除いた領域の面積に対する前記ダイヤモンド砥粒の露出面積（投影面積）の合計が、７面積％以上７１面積％以下である、請求項１または２に記載のロータリードレッサ。
4. 使用代部分において、前記砥粒層の軸方向の最表面の層の前記溝部を除いて隣接する前記ダイヤモンド砥粒の砥粒間距離を求めたとき、その９０％以上の砥粒間距離が、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の２／３倍以上であり、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の３倍以下であり、
   使用代部分において、前記砥粒層の法線方向の最表面の層の前記溝部を除いて隣接する前記ダイヤモンド砥粒の砥粒間距離を求めたとき、その９０％以上の砥粒間距離が、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の２／３倍以上であり、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径の３倍以下である、請求項１または２に記載のロータリードレッサ。
5. 前記砥粒層において、前記溝部を除く外周面に沿って存在できるダイヤモンド砥粒の理論数をＸとし、前記溝部を除く外周面に沿って存在するダイヤモンド砥粒の数をＮとすると、０．６×Ｘ≦Ｎ≦Ｘである、請求項１または２に記載のロータリードレッサ。
6. 前記溝は、前記砥粒層の外周の接線方向に前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径以上の間隔を置いて設けられており、
   前記溝の前記砥粒層の作用面に対して垂直な方向の長さが、前記砥粒層の前記作用面に対して垂直な方向の長さの０．７倍以上である、請求項１または２に記載のロータリードレッサ。
7. 前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径が、７０μｍ以上１０００μｍ以下であり、
   前記ダイヤモンド砥粒の形状が、六・八面体形状および／または切頭八面体形状である、請求項１または２に記載のロータリードレッサ。
8. 前記被固着部が、０．１ｍｍ以上２．０ｍｍ以下であり、
   前記ロータリードレッサの外径が、１０ｍｍ以上３００ｍｍ以下である、請求項１または２に記載のロータリードレッサ。
9. 前記溝は、平行な一対の側面と前記裏打ち層の前記回転面に平行な底面を有し、
   前記溝が、前記砥粒層の外周から前記台金の軸心を結ぶ線に沿って形成されているか、または、前記砥粒層の外周から前記台金の軸心を結ぶ線に対して傾斜して形成されている、請求項１に記載のロータリードレッサ。
10. 前記溝は、平行な一対の側面と前記突出部の前記外周面に平行な底面を有し、
    前記溝が、前記軸心と平行な方向またはねじれの方向に延びるように形成されている、請求項２に記載のロータリードレッサ。

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