JP2022508795A - 光硬化性ポリマー、光硬化性ポリマー組成物及びそれを含むリソグラフィープロセス - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2018年10月10日出願の米国仮特許出願第62/743756号に対する優先権を主張するものであり、この出願の全内容は、あらゆる目的のために参照により本明細書に援用される。
(式中、
- Rは、H又はCH3であり、
- Xは、結合又はnが1~20の範囲である(CH2)nである)
の少なくとも1つの末端基を含み、
ポリマー(P)の数平均分子量(Mn)が、移動相としての塩化メチレン及びポリスチレン標準を使用するゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)によって測定されるように、40,000g/モル未満、35,000g/モル未満、30,000g/モル未満、25,000g/モル未満、20,000g/モル未満、15,000g/モル未満、又は10,000g/モル未満のものである
ポリマーを含むポリマー調合物(F)に関する。
- 本発明によるポリマー調合物(F)を提供する工程と、
- 3D物品の層をポリマー調合物(F)から印刷する工程と
を含む方法に関する。
(式中、
- Rは、H又はCH3であり、
- Xは、結合又はnが1~20、例えば1~10若しくは1~8の範囲である(CH2)nである)
の少なくとも1つの末端基を含む。
- 少なくとも1つの溶媒と、
- 少なくとも1つの光開始剤と、
- 少なくとも1つのブロッカーと
を含む。
一実施形態によれば、Pは、式(L):
の繰り返し単位(RPAES)を有するPAESであり、
- 各R1は、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、エーテル、チオエーテル、カルボン酸、エステル、アミド、イミド、アルカリ又はアルカリ土類金属スルホネート、アルキルスルホネート、アルカリ又はアルカリ土類金属ホスホネート、アルキルホスホネート、アミン及び四級アンモニウムからなる群から独立して選択され;
- 各iは、各芳香族サイクルについて独立して選択される0~4の整数であり;
- Tは、結合、-CH2-;-O-;-SO2-;-S-;-C(O)-;-C(CH3)2-;-C(CF3)2-;-C(=CCl2)-;-C(CH3)(CH2CH2COOH)-;-N=N-;-RaC=CRb-(ここで、各Ra及びRbは、互いに独立して、水素若しくはC1~C12アルキル、C1~C12アルコキシ、又はC6~C18アリール基である);mが1~6の整数である-(CH2)m-及び-(CF2)m-;6個以下の炭素原子の、線状若しくは分岐状の、脂肪族二価基;並びにそれらの組み合わせからなる群から選択され;
- Rは、H又はCH3である。
- 式(L):
の少なくとも繰り返し単位(RPAES)、
及び/又は
- 式(M):
の少なくとも1つの末端基
を含むことができ、
式中:
- 各R1は、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、エーテル、チオエーテル、カルボン酸、エステル、アミド、イミド、アルカリ又はアルカリ土類金属スルホネート、アルキルスルホネート、アルカリ又はアルカリ土類金属ホスホネート、アルキルホスホネート、アミン及び四級アンモニウムからなる群から独立して選択され;
- 各iは、各芳香族サイクルについて独立して選択される0~4の整数であり;
- Tは、結合、-CH2-;-O-;-SO2-;-S-;-C(O)-;-C(CH3)2-;-C(CF3)2-;-C(=CCl2)-;-C(CH3)(CH2CH2COOH)-;-N=N-;-RaC=CRb-(ここで、各Ra及びRbは、互いに独立して、水素若しくはC1~C12アルキル、C1~C12アルコキシ、又はC6~C18アリール基である);mが1~6の整数である-(CH2)m-及び-(CF2)m-;6個以下の炭素原子の、線状若しくは分岐状の、脂肪族二価基;並びにそれらの組み合わせからなる群から選択され;
- Rは、H又はCH3である。
- 繰り返し単位(RPAES)は、式(L’’):
の単位であり、
- ポリマー(P)の末端基は、式(M’’):
(式中、Tは、上述の通りである)
に従う。
(式中、R1及びiは、上述の通りである)
からなる群から選択される繰り返し単位を有するPAESである。
- 繰り返し単位の少なくとも50モル%(モル%は、ポリマー中の全モル数を基準とする)が、式(L-A):
(式中、R1及びiは、上述の通りである)
の繰り返し単位(RPPSU)である繰り返し単位と、
- 式(M1)又は(M2):
(式中、
- Rは、H又はCH3であり、
- Xは、結合又はnが1~20、例えば1~10で変わる、好ましくは1又は2に等しい(CH2)nである)
の少なくとも1つの末端基と
を含むPPSUである。
(式中、R1及びiは、上述の通りである)
の繰り返し単位などでできていることができる。
- 繰り返し単位の少なくとも50モル%(モル%は、ポリマー中の全モル数を基準とする)が、式(L-B):
(式中、R1及びiは、上述の通りである)
の繰り返し単位(RPSU)である繰り返し単位と、
- 式(M1)又は(M2):
(式中、
- Rは、H又はCH3であり、
- Xは、結合又はnが1~20、例えば1~10で変わる、好ましくは1又は2に等しい(CH2)nである)
の少なくとも1つの末端基と
を含むPSUである。
- 繰り返し単位の少なくとも50モル%(モル%は、ポリマー中の全モル数を基準とする)が、式(L-C):
(式中、R1及びiは、上述の通りである)
の繰り返し単位(RPES)である繰り返し単位と、
- 式(M1)又は(M2):
(式中、
- Rは、H又はCH3であり、
- Xは、結合又はnが1~20、例えば1~10で変わる、好ましくは1又は2に等しい(CH2)nである)
の少なくとも1つの末端基と
を含むPESである。
一実施形態によれば、Pは、少なくとも1つの芳香環と、イミド基自体としての及び/又はそのアミド酸形態での、少なくとも1つのイミド基と、少なくとも1つのエーテル基とを含む繰り返し単位(RPEI)を有するPEIである。繰り返し単位(RPEI)は、イミド基のアミド酸形態では含まれない少なくとも1つのアミド基を任意選択的に更に含み得る。
[式中、
- Arは、四価の芳香族部分であり、5~50個の炭素原子を有する置換若しくは非置換の、飽和の、不飽和の又は芳香族の単環式及び多環式の基からなる群から選択され;
- Ar’は、三価の芳香族部分であり、5~50個のC原子を有する置換の、非置換の、飽和の、不飽和の、芳香族の単環式及び芳香族多環式の基からなる群から選択され;
- Rは、例えば、
(a)6~20個の炭素原子を有する芳香族炭化水素ラジカル及びそれらのハロゲン化誘導体;
(b)2~20個の炭素原子を有する直鎖若しくは分岐鎖のアルキレンラジカル;
(c)3~20個の炭素原子を有するシクロアルキレンラジカル、及び
(d)式(VI):
(式中、
- Yは、1~6個の炭素原子のアルキレン、例えば-C(CH3)2及び-CnH2n-(nは、1~6の整数である)、1~6個の炭素原子のパーフルオロアルキレン、例えば-C(CF3)2及び-CnF2n-(nは、1~6の整数である);
4~8個の炭素原子のシクロアルキレン;1~6個の炭素原子のアルキリデン;4~8個の炭素原子のシクロアルキリデン;-O-;-S-;-C(O)-;-SO2-;-SO-からなる群から選択され、
- R’’は、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、エーテル、チオエーテル、カルボン酸、エステル、アミド、イミド、アルカリ土類金属スルホネート、アルカリ土類金属スルホネート、アルキルスルホネート、アルカリ土類金属ホスホネート、アルカリ土類金属ホスホネート、アルキルホスホネート、アミン及び第四級アンモニウムからなる群から選択され、
- iは、各R’’について、独立して、ゼロ又は1~4の範囲の整数である)
の二価ラジカル
からなる群から選択される、置換及び非置換の二価有機ラジカルからなる群から選択され、
但し、Ar、Ar’及びRのうちの少なくとも1つは、少なくとも1つのエーテル基を含むこと、そのエーテル基はポリマー鎖主鎖中に存在することを条件とする]
からなる群から選択される。
[式中、
Xは、3,3’、3,4’、4,3’’若しくは4,4’位に二価の結合を有する、二価の部分であり、1~6個の炭素原子のアルキレン、例えば-C(CH3)2及び-CnH2n-(nは、1~6の整数である);1~6個の炭素原子のパーフルオロアルキレン、例えば-C(CF3)2及び-CnF2n-(nは、1~6の整数である);4~8個の炭素原子のシクロアルキレン;1~6個の炭素原子のアルキリデン;4~8個の炭素原子のシクロアルキリデン;-O-;-S-;-C(O)-;-SO2-;-SO-からなる群から選択されるか、
或いはXは、式-O-Ar’’-O-(式中、Ar’’は、5~50個の炭素原子を有する置換若しくは非置換の、飽和の、不飽和の又は芳香族の単環式及び多環式の基からなる群から選択される芳香族部分である)の基である]
からなる群から選択される。
[式中、
Xは、3,3’、3,4’、4,3’’若しくは4,4’位に二価の結合を有する、二価の部分であり、1~6個の炭素原子のアルキレン、例えば-C(CH3)2及び-CnH2n-(nは、1~6の整数である);1~6個の炭素原子のパーフルオロアルキレン、例えば-C(CF3)2及び-CnF2n-(nは、1~6の整数である);4~8個の炭素原子のシクロアルキレン;1~6個の炭素原子のアルキリデン;4~8個の炭素原子のシクロアルキリデン;-O-;-S-;-C(O)-;-SO2-;-SO-からなる群から選択されるか;
或いはXは、式-O-Ar’’-O-(式中、Ar’’は、5~50個の炭素原子を有する置換若しくは非置換の、飽和の、不飽和の又は芳香族の単環式及び多環式の基からなる群から選択される芳香族部分である)の基である]
からなる群から選択される。
[式中、
- Rは、例えば、
(a)6~20個の炭素原子を有する芳香族炭化水素ラジカル及びそれらのハロゲン化誘導体;
(b)2~20個の炭素原子を有する直鎖若しくは分岐鎖のアルキレンラジカル;
(c)3~20個の炭素原子を有するシクロアルキレンラジカル、及び
(d)式(VI):
(式中、
- Yは、1~6個の炭素原子のアルキレン、例えば-C(CH3)2及び-CnH2n-(nは、1~6の整数である);1~6個の炭素原子のパーフルオロアルキレン、例えば-C(CF3)2及び-CnF2n-(nは、1~6の整数である);
4~8個の炭素原子のシクロアルキレン;1~6個の炭素原子のアルキリデン;4~8個の炭素原子のシクロアルキリデン;-O-;-S-;-C(O)-;-SO2-;-SO-からなる群から選択され、
- R’’は、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、エーテル、チオエーテル、カルボン酸、エステル、アミド、イミド、アルカリ土類金属スルホネート、アルカリ土類金属スルホネート、アルキルスルホネート、アルカリ土類金属ホスホネート、アルカリ土類金属ホスホネート、アルキルホスホネート、アミン及び第四級アンモニウムからなる群から選択され、
- iは、各R’’について、独立してゼロ又は1~4の範囲の整数であり、
但し、Ar、Ar’及びRのうちの少なくとも1つは、少なくとも1つのエーテル基を含むこと、そのエーテル基はポリマー鎖主鎖中に存在することを条件とする)
の二価ラジカルからなる群から選択される、置換及び非置換の二価有機ラジカルからなる群から選択され、
- Tは、
-O-又は-O-Ar’’-O-
(ここで、-O-又は-O-Ar’’-O-基の二価の結合は、3,3’、3,4’、4,3’、又は4,4’位にあり、
ここで、Ar’’は、5~50個の炭素原子を有する置換若しくは非置換の、飽和の、不飽和の又は芳香族の単環式及び多環式基、例えば、置換若しくは非置換フェニレン、置換若しくは非置換ビフェニル基、置換若しくは非置換ナフタレン基、又は2つの置換若しくは非置換フェニレンを含む部分からなる群から選択される芳香族部分である)のどちらかであることができる]
の繰り返し単位(RPEI)を有するPEIである。
(式中、Tは、前に定義された通りである)
の任意の芳香族ビス(エーテル酸無水物)との反応を含む当業者に周知の方法のいずれかによって調製され得る。
2,2-ビス[4-(2,3-ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物;
4,4’-ビス(2,3-ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルエーテル二無水物;
1,3-ビス(2,3-ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物;
4,4’-ビス(2,3-ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド二無水物;
1,4-ビス(2,3-ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物;
4,4’-ビス(2,3-ジカルボキシフェノキシ)ベンゾフェノン二無水物;
4,4’-ビス(2,3-ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホン二無水物;
2,2-ビス[4-(3,4-ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物;
4,4’-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルエーテル二無水物;
4,4’-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド二無水物;
1,3-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物;
1,4-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物;
4,4’-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシ)ベンゾフェノン二無水物;
4-(2,3-ジカルボキシフェノキシ)-4’-(3,4-ジカルボキシフェノキシ)ジフェニル-2,2-プロパン二無水物;及びそのような二無水物の混合物
が挙げられる。
の繰り返し単位(RPEI)を、イミド形態、又はそれらの対応するアミド酸形態及びそれらの混合物で含むPEIである。
溶媒の濃度は、調合物(F)の総重量を基準として、1~80重量%、例えば2~75重量%、5~70重量%又は10~65重量%であり得る。
本発明によれば、光開始剤は、吸収された光エネルギー、UV又は可視光を、開始化学種、例えばフリーラジカル又はカチオンの形態での化学エネルギーに変換するために調合物にとりわけ添加される化合物である。開始ラジカルが形成されるメカニズムに基づいて、光開始剤は、一般に、2つのクラスに分けられる:
- タイプI光開始剤は、照射時に単分子結合開裂を受けてフリーラジカルを生成し、
- タイプII光開始剤は、励起状態の光開始剤が第2分子(共開始剤)と相互作用する二分子反応を受けてフリーラジカルを発生させる。
- アセトフェノン
- アニソイン
- アントラキノン
- アントラキノン-2-スルホン酸、ナトリウム塩一水和物
- (ベンゼン)トリカルボニルクロム
- ベンジル
- ベンゾイン
- ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル及びベンゾフェノン
- 3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
- 4-ベンゾイルビフェニル
- 2-ベンジル-2-(ジメチルアミノ)-4’-モルホリノブチロフェノン
- 4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
- 4,4’-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン
- カンファーキノン
- 2-クロロチオキサンテン-9-オン
- (クメン)シクロペンタジエニル鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート
- ジベンゾスベレノン
- 2,2-ジエトキシアセトフェノン
- 4,4’-ジヒドロキシベンゾフェノン
- 2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン
- 4-(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン
- 4,4’-ジメチルベンジル
- 2,5-ジメチルベンゾフェノン
- 3,4-ジメチルベンゾフェノン
- ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン及びブレンド(例えば50/50ブレンド)
- 4’-エトキシアセトフェノン
- 2-エチルアントラキノン
- フェロセン
- 3’-ヒドロキシアセトフェノン、4’-ヒドロキシアセトフェノン、3-ヒドロキシベンゾフェノン及び4-ヒドロキシベンゾフェノン
- 1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
- 2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン
- 2-メチルベンゾフェノン又は3-メチルベンゾフェノン
- メチルベンゾイルホルメート
- 2-メチル-4’-(メチルチオ)-2-モルホリノプロピオフェノン
- フェナントレンキノン
- 4’-フェノキシアセトフェノン
- フェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド
- チオキサンテン-9-オン
- トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート塩、混合された、プロピレンカーボネート中50%
- トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート塩、混合された、プロピレンカーボネート中50%、並びに
- それらの混合物
からなる群から選択される。
本発明によれば、ブロッカーは、(i)UV光によって照射される間に光開始剤によって形成された所定量のラジカルを捕捉する、(ii)UV照射源がスイッチを切られた後に存在し得る未使用ラジカルを捕捉する、及び/又は(iii)UV照射中にシステムに配送されるエネルギーの一部を吸収するために調合物に添加される化合物である。
- 2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン(オキシベンゼン)
- 1-(4-メトキシフェニル)-3-(4-tert-ブチルフェニル)プロパン-1,3-ジオン(アヴォベンゾン)
- 二ナトリウム2,2’-(1,4-フェニレン)ビス(6-スルホ-1H-ベンズイミダゾール-4-スルホネート)(ビスジスルゾール二ナトリウム)
- ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)
- メンチル-o-アミノベンゾエート(メンチルアントラニレート)
- 2,2’-[6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイル]ビス{5-[(2-エチルヘキシル)オキシ]フェノール}(ベモトリジノール)
- 2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン
- 2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン
- 4-ヒドロキシ-2-メトキシ-5-(オキソ-フェニルメチル)ベンゼンスルホン酸(スリソベンゾン)
- 2,2’-ジヒドロキシ-4,4’-ジメトキシベンゾフェノン
- 5-クロロ-2-ヒドロキシベンゾフェノン
- (2-ヒドロキシ-4-メトキシフェニル)-(2-ヒドロキシフェニル)メタノン(ジオキシベンゾン)
- 2,5-ビス(5-tert-ブチル-ベンゾオキサゾール-2-イル)チオフェン
- ナトリウム2,2’-ジヒドロキシ-4,4’-ジメトキシベンゾフェノン-5,5’-ジスルホネート
- (2-ヒドロキシ-4-メトキシフェニル)(4-メチルフェニル)メタノン(メキセノン)
- (2-ヒドロキシ-4-オクトキシ-フェニル)-フェニル-メタノン(オクタベンゾン)
- 2-(1,2,3-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-(2,2,4,6,6-ペンタメチル-3,5-ジオキサ-2,4,6-トリシラヘプタン-4-イル)プロピル]フェノール(ドロメトリゾールトリシロキサン)
- テレフタリリデンジカンファースルホン酸(エカムスル)
- 2-エチルヘキシル2-シアノ-3,3-ジフェニル-2-プロペノエート(オクトクリレン)
- ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン(イスコトリジノール)
- 2-エトキシエチル3-(4-メトキシフェニル)プロペノエート(シノキサート)
- イソペンチル4-メトキシシンナメート(アミロキサート)
- 2,2’-メタンジイルビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(2,4,4-トリメチルペンタン-2-イル)フェノール](ビスオクトリゾール)
- 2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール
- 2,2’-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール]
- 2-ヒドロキシ-4-(オクチルオキシ)ベンゾフェノン
- 2-エチル-,2-[4-(4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン-2-イル)-3-ヒドロキシフェノキシ]エチルエステル
- 2-tert-ブチル-6-(5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチルフェノール
- 2-(2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
- 2,4-ジニトロフェニルヒドラジン
- N-(4-エトキシカルボニルフェニル)-N’-メチル-N’-フェニルホルムアミジン
- ヘキサデシル3,5-ビス-tert-ブチル-4-ヒドロキシベンゾエート
- 2-エチル-2’-エトキシ-オキサラニリド、及び
- それらの混合物
からなる群から選択される。
本発明の調合物は、シリカなどの充填材、酸化防止剤、抗菌性化合物及び帯電防止化合物からなる群から例えば選択される、少なくとも1つの添加剤を含み得る。添加剤は、例えば、カーボンブラック、シリカ(例えばマイクロシリカ粒子)及びカーボンナノチューブなどの化学的に不活性の化学種であり得る。
本発明はまた、3D物品を付加製造システムで製造する方法であって、
- 上に記載されたようなポリマー調合物(F)を提供する工程、
- 3D物品の層をポリマー調合物(F)から印刷する工程
を含む方法に関する。
- 上に記載されたようなポリマー調合物(F)を提供する工程、
- 3D物品の層をポリマー調合物(F)から
a)調合物(F)の層を表面上へコートすること、
b)層にUV光を照射すること、c)調合物(F)の層を前の照射された層上へコートすること、
d)層にUV光を照射すること、及び
e)工程c)及びd)を、3D物品を製造するのに十分な回数繰り返すこと
によって印刷する工程
を含む。
本発明はまた、3D物体/物品の製造のための、本発明のポリマー(P)の又は本発明のポリマー調合物(F)の使用に関する。
原材料
4-(ジメチルアミノ)ピリジン(DMAP)(Sigma-Aldrich、≧99%)、アクリロイルクロリド(Sigma-Aldrich、≧97%)、トリエチルアミン(TEA)(Sigma-Aldrich、≧99%)、炭酸カリウム(Fisher Chemical)、トルエン(Fisher Chemical)、N,N-ジメチルアセトアミド無水(DMAc)(Acros Organics、99.5%)、塩化ナトリウム(Fisher Chemical)、硫酸マグネシウム(Spectrum)、ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド(97%、Sigma Aldrich)、重炭酸ナトリウム(Spectrum)、塩酸(Fisher Scientific)及びクロロホルム無水(Sigma-Aldrich、≧99%)は、受け取ったまま使用した。ビス(4-クロロフェニル)スルホン(98%)及びビスフェノールA(≧99%)は、Sigma-Aldrichから購入し、トルエンで再結晶した。窒素ガス(99.999%)は、Praxairから購入した。全ての原材料は、特に明記しない限り受け取ったまま使用した。
1H核磁気共鳴(NMR)分光法は、400MHzでのVarian Unity 400を用いて23℃で行った。重水素化クロロホルム(CDCl3)が全てのポリマー用の溶媒としての機能を果たした。
1H NMR分光法は、アクリレート末端PSUへのヒドロキシル末端PSUの定量的な変換を確認した。バックボーン共鳴に対して、6~7ppmのアクリレートプロトンの観察及び積分は、定量的ターミネーションの明らかな指標であった。
ターゲットMn:6,000g/モル
GPC Mn:5,700g/モル
PDI:2.41
滴定Mn:7,260g/モル
工程1-調合物の調製
成分及び調合物の総重量に対する各成分の重量%を表1に示す。
調合物をガラスビーカーに移し、投射機の焦点と同じ高さにした。フィラメント押出によって製作された、ULTEM(登録商標)ビルドプラットフォームを樹脂ビーカー中へ挿入した。ビルドプラットフォームを樹脂表面でフラッシュし、次いで100μmだけ樹脂中へ下げた。試験検体のSTLファイルを、100μmスライスへ薄く切り、モノクロームビットマップ画像へ変換した。部品の第1層に対応する、ビットマップ画像を、15W/cm2の強度に設定された365nm光源を用いて8秒間樹脂表面上に投影した。ビルドプラットフォームを次に、樹脂の新鮮な層で再コートするために樹脂中へ下げた。後続の層を、8秒/層の露光時間、引き続く再コーティング工程を用いて製作した。このプロセスを、完全な部品が製作されるまで続行した。製作された3D部品を、ビルドプラットフォームから抜き出し、NMPでリンスしていかなる残存未硬化樹脂をも除去した。部品を次いで、Kim WipesTMで拭いて乾燥させ、測定のためにガラススライド上へ移した。
図2に示されるように、比較調合物1で製作された部品は、計画された多孔性を全く示さない。細孔は、完全に閉じているかそれとも部分的に閉じている。これは、過剰硬化に帰することができる。この調合物は、不十分な特徴解像度の部品の製作をもたらす。
Claims (12)
- 調合物(F)の総重量を基準として:
- Fの総重量を基準として、1~50重量%の、ポリ(アリールエーテルスルホン)(PAES)ポリマー及びポリエーテルイミド(PEI)ポリマーからなる群から選択される少なくとも1つのポリマー(P)であって、ポリマー(P)が、式(M1)又は(M2):
(式中、
- Rは、H又はCH3であり、
- Xは、結合又はnが1~20の範囲である(CH2)nである)
の少なくとも1つの末端基を含み、
ポリマー(P)の数平均分子量(Mn)が、移動相としての塩化メチレン及びポリスチレン標準を使用するゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)によって測定されるように、40,000g/モル未満のものであるポリマー(P)と、
- 少なくとも1つの溶媒と、
- 少なくとも1つの光開始剤と、
- 少なくとも1つのブロッカーと
を含むポリマー調合物(F)。 - Pが、式(L):
の繰り返し単位(RPAES)を含むPAESであり、
- 各R1が、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、エーテル、チオエーテル、カルボン酸、エステル、アミド、イミド、アルカリ又はアルカリ土類金属スルホネート、アルキルスルホネート、アルカリ又はアルカリ土類金属ホスホネート、アルキルホスホネート、アミン及び四級アンモニウムからなる群から独立して選択され;
- 各iが、各芳香族サイクルについて独立して選択される0~4の整数であり;
- Tが、結合、-CH2-;-O-;-SO2-;-S-;-C(O)-;-C(CH3)2-;-C(CF3)2-;-C(=CCl2)-;-C(CH3)(CH2CH2COOH)-;-N=N-;-RaC=CRb-(ここで、各Ra及びRbは、互いに独立して、水素若しくはC1~C12アルキル、C1~C12アルコキシ、又はC6~C18アリール基である);mが1~6の整数である-(CH2)m-及び-(CF2)m-;6個以下の炭素原子の、線状若しくは分岐状の、脂肪族二価基;並びにそれらの組み合わせからなる群から選択される、
請求項1に記載の調合物。 - Tが、結合、-SO2-、及び-C(CH3)2-からなる群から選択される、請求項2に記載の調合物。
- PAESポリマーが、(ポリマー中の全モル数を基準として)少なくとも50モル%の式(L)の繰り返し単位を含む、請求項2又は3に記載の調合物。
- Pが、少なくとも1つの芳香環と、イミド基自体としての及び/又はそのアミド酸形態での、少なくとも1つのイミド基と、少なくとも1つのエーテル基とを含む繰り返し単位(RPEI)を含むPEIである、請求項1に記載の調合物。
- - 溶媒が、N-メチルピロリドン(NMP)、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミド(DMAC)、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、テトラヒドロフラン(THF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)及びスルホランからなる群から選択され、
- 光開始剤が、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン(DMPA)、ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド及びフェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシドからなる群から選択され、並びに/又は
- ブロッカーが、アヴォベンゾン及び2,5-ビス(5-tert-ブチル-ベンゾオキサゾール-2-イル)チオフェンからなる群から選択される、
請求項1~6のいずれか一項に記載の調合物。 - 3D物品を付加製造システムで製造する方法であって、
- 請求項1~7のいずれか一項に記載のポリマー調合物(F)を提供する工程と、
- 3D物品の層をポリマー調合物(F)から印刷する工程と
を含む方法。 - 印刷の工程が、ポリマー組成物にUV光を照射することを含む、請求項8のいずれか一項に記載の方法。
- UV光がレーザー光である、請求項9に記載の方法。
- 請求項8~10のいずれか一項に記載の方法によって、少なくとも部分的に、得られる3D物品。
- ステレオリソグラフィーによる3D物体の製造のための請求項1~7のいずれか一項に記載のポリマー調合物(F)の使用。
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